度Θ為60°?90°的環(huán)狀區(qū)域D內(nèi)的整個(gè)區(qū)域。此時(shí)，薄膜層17的軸向的長(zhǎng)度在將焦點(diǎn)F設(shè)為下端時(shí)為2 δ (ζ = 3?1)。
[0140]因而，成為黃色環(huán)的產(chǎn)生原因的角度Θ為60°?90°的范圍的反射光通過薄膜層17來散射。由此，能夠使得波長(zhǎng)不同的光的配光特性接近而抑制照明光向黃色側(cè)的色偏移，并且降低該范圍的光強(qiáng)度的峰值。因此，能夠抑制黃色環(huán)的產(chǎn)生。
[0141]根據(jù)本實(shí)施方式，由金屬形成的基材11的光反射部13的內(nèi)周面13a被形成為拋物面，在內(nèi)周面13a上設(shè)置使光散射的薄膜層17。薄膜層17被形成在相對(duì)于從形成內(nèi)周面13a的拋物面的焦點(diǎn)F朝向光出射口 14的方向的對(duì)稱軸(ζ軸)而角度Θ為60°?90°的環(huán)狀區(qū)域D的整個(gè)區(qū)域。此時(shí)，在將從形成內(nèi)周面13a的拋物面的焦點(diǎn)F至頂點(diǎn)為止的距離設(shè)為S時(shí)，環(huán)狀區(qū)域D的軸向的長(zhǎng)度為2 δ。
[0142]由此，在焦點(diǎn)F的附近配置了光源3時(shí)，能夠抑制從光出射口 14出射的照明光的黃色環(huán)的產(chǎn)生，降低照明光的顏色不均。
[0143]此外，由于薄膜層17含陶瓷，因此能夠提高反射率，能夠抑制薄膜層17所引起的光吸收損耗。而且，由于陶瓷的耐熱性、耐光性優(yōu)異，因此即便在高輸出的光源3的發(fā)熱、發(fā)光所引起的苛刻的條件下也能夠利用具有薄膜層17的反射器10。
[0144]此外，在光反射部13的內(nèi)周面13a上，在比形成薄膜層17的環(huán)狀區(qū)域D更靠光出射口 14側(cè)的整體，設(shè)置薄膜層17的非形成部18。由此，非形成部18上的反射光的光吸收損耗小，能夠提高反射器10的聚光性。
[0145]此外，由于陶瓷的靜電耐壓性高，因此若在開口部15的周緣形成薄膜層17，則能夠防止接近開口部15的光源3和反射器10的短路。
[0146]此外，通過將薄膜層17的膜厚形成為10 μπι以上，從而能夠可靠地降低照明光的顏色不均。
[0147]此外，若薄膜層17包含玻璃的粘合劑，并以陶瓷以及玻璃為主成分，則能夠在低溫下形成薄膜層17，能夠利用熔點(diǎn)低的基材11。
[0148]此時(shí)，若將含陶瓷粒子以及玻璃原料的陶瓷涂料涂覆在基材11上并通過溶膠-凝膠法合成玻璃，則能夠以更低溫來形成薄膜層17。因此，能夠降低反射器10的精度劣化、氧化等的熱所引起的損傷。此外，能夠以廉價(jià)且加工容易的鋁系材料來形成反射器10的基材11。因此，能夠削減反射器10以及照明裝置1的成本。
[0149]此外，若將含有陶瓷的粒子的熱固化性樹脂涂覆在基材11之后使之干燥、固化來形成薄膜層17，則能夠降低反射器10的熱所引起的損傷，并且能夠進(jìn)一步削減反射器10以及照明裝置1的成本。
[0150]此外，由于設(shè)置了對(duì)除薄膜層17之外的內(nèi)周面13a進(jìn)行覆蓋的光透過部件或高反射率部件的絕緣體的保護(hù)層19，因此能夠防止內(nèi)周面13a的氧化所引起的反射率、聚光性能的下降，并且確保反射器10的靜電耐壓性。
[0151]此外，若通過對(duì)由鋁系材料構(gòu)成的基材11進(jìn)行了鋁陽極化處理后的陽極氧化覆膜來形成保護(hù)膜19，則能夠形成硬質(zhì)且耐久性優(yōu)異的保護(hù)層19。此時(shí)，若在形成薄膜層17之后形成保護(hù)膜19，則能夠削減反射器10的制造工時(shí)。
[0152]〈第2實(shí)施方式〉
[0153]接下來，圖16是表示第2實(shí)施方式的照明裝置1的光反射部13的內(nèi)周面13a的形狀的正面剖視圖。為了便于說明，對(duì)于與前述的圖1?圖10所示的第1實(shí)施方式相同的部分賦予相同的符號(hào)。本實(shí)施方式相對(duì)于第1實(shí)施方式而不同之處在于薄膜層17的形成區(qū)域。其他部分與第1實(shí)施方式相同。
[0154]圖16與前述的圖10同樣，基于式⑵來表不內(nèi)周面13a的坐標(biāo)，將形成內(nèi)周面13a的拋物面的頂點(diǎn)配置為原點(diǎn)。
[0155]薄膜層17被形成在相對(duì)于從形成內(nèi)周面13a的拋物面的焦點(diǎn)F朝向光出射口 14的軸向而角度Θ為60°?90°的環(huán)狀區(qū)域D內(nèi)的整個(gè)區(qū)域。此外，薄膜層17從環(huán)狀區(qū)域D向光出射口 14側(cè)被延伸設(shè)置了距離ε。
[0156]相對(duì)于薄膜層17而光出射口 14側(cè)的整個(gè)內(nèi)周面13a成為薄膜層17的非形成部18。由此，在內(nèi)周面13a上的至少光出射口 14側(cè)的端部設(shè)置非形成部18。在非形成部18上設(shè)置保護(hù)層19(參照?qǐng)D2)。此時(shí)，環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于0%，環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率為100%，因此大于外側(cè)。
[0157]由此，與第1實(shí)施方式同樣，能夠降低從光出射口 14出射的照明光的顏色不均。此夕卜，由于薄膜層17被延伸設(shè)置至環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)，因此與第1實(shí)施方式相比，反射器10的聚光性下降，但卻能夠增大從光出射口 14出射的照明光的光點(diǎn)直徑。
[0158]此外，由于環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于外側(cè)，因此能夠抑制聚光性的下降來降低照明光的顏色不均。
[0159]另外，也可以將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的膜厚形成得薄于內(nèi)側(cè)。由此，能夠降低環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17所引起的光吸收損耗，抑制反射器10的聚光性的下降。
[0160]〈第3實(shí)施方式〉
[0161]接下來，圖17是表示第3實(shí)施方式的照明裝置1的光反射部13的內(nèi)周面13a的形狀的正面剖視圖。為了便于說明，對(duì)于與前述的圖1?圖10所示的第1實(shí)施方式相同的部分賦予相同的符號(hào)。本實(shí)施方式相對(duì)于第1實(shí)施方式而不同之處在于薄膜層17的形成區(qū)域。其他部分與第1實(shí)施方式相同。
[0162]圖17與前述的圖10同樣，基于式⑵來表示內(nèi)周面13a的坐標(biāo)，將形成內(nèi)周面13a的拋物面的頂點(diǎn)配置為原點(diǎn)。
[0163]薄膜層17被形成在相對(duì)于從形成內(nèi)周面13a的拋物面的焦點(diǎn)F朝向光出射口 14的軸向而角度Θ為60°?90°的環(huán)狀區(qū)域D內(nèi)，并且從環(huán)狀區(qū)域D向光出射口 14側(cè)被延伸設(shè)置了距離ε。此外，薄膜層17在軸向上被形成為并排設(shè)置的多個(gè)帶狀。
[0164]相對(duì)于薄膜層17而光出射口 14側(cè)的整個(gè)內(nèi)周面13a以及各薄膜層17間成為薄膜層17的非形成部18。在非形成部18上設(shè)置保護(hù)層19 (參照?qǐng)D2)。由此，在內(nèi)周面13a上的至少光出射口 14側(cè)的端部設(shè)置非形成部18。此時(shí)，環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于0%，環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率小于100%，但卻大于環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)。
[0165]由此，與第1實(shí)施方式同樣，能夠降低照明光的顏色不均。此外，由于薄膜層17被延伸設(shè)置至環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)，因此能夠增大從光出射口 14出射的照明光的光點(diǎn)直徑。
[0166]此外，由于環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于外側(cè)，因此能夠抑制聚光性的下降來降低照明光的顏色不均。
[0167]另外，也可以僅在環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)形成多個(gè)帶狀的薄膜層17，將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率設(shè)為0%。此外，也可以將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的膜厚形成得薄于內(nèi)側(cè)。
[0168]〈第4實(shí)施方式〉
[0169]接下來，圖18是表示第4實(shí)施方式的照明裝置1的光反射部13的內(nèi)周面13a的形狀的正面剖視圖。為了便于說明，對(duì)于與前述的圖1?圖10所示的第1實(shí)施方式相同的部分賦予相同的符號(hào)。本實(shí)施方式相對(duì)于第1實(shí)施方式而不同之處在于薄膜層17的形成區(qū)域。其他部分與第1實(shí)施方式相同。
[0170]圖18與前述的圖10同樣，基于式⑵來表示內(nèi)周面13a的坐標(biāo)，將形成內(nèi)周面13a的拋物面的頂點(diǎn)配置為原點(diǎn)。
[0171]薄膜層17被形成在相對(duì)于從形成內(nèi)周面13a的拋物面的焦點(diǎn)F朝向光出射口 14的軸向而角度Θ為60°?90°的環(huán)狀區(qū)域D內(nèi)，并且從環(huán)狀區(qū)域D向光出射口 14側(cè)被延伸設(shè)置了距離ε。此外，薄膜層17被形成為在周向上并排設(shè)置的多個(gè)帶狀。
[0172]相對(duì)于薄膜層17而光出射口 14側(cè)的整個(gè)內(nèi)周面13a以及各薄膜層17間成為薄膜層17的非形成部18。由此，在內(nèi)周面13a上的至少光出射口 14側(cè)的端部設(shè)置非形成部18。在非形成部18上設(shè)置保護(hù)層19 (參照?qǐng)D2)。此時(shí)，環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于0%，環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率小于100%，但大于環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)。
[0173]由此，與第1實(shí)施方式同樣，能夠降低照明光的顏色不均。此外，由于薄膜層17被延伸設(shè)置至環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)，因此能夠增大從光出射口 14出射的照明光的光點(diǎn)直徑。
[0174]此外，由于環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于外側(cè)，因此能夠抑制聚光性的下降從而降低照明光的顏色不均。
[0175]另外，也可以僅在環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)形成多個(gè)帶狀的薄膜層17，將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率設(shè)為0%。此外，也可以將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的膜厚形成得薄于內(nèi)側(cè)。
[0176]〈第5實(shí)施方式〉
[0177]接下來，圖19是表示第5實(shí)施方式的照明裝置1的光反射部13的內(nèi)周面13a的形狀的正面剖視圖。為了便于說明，對(duì)于與前述的圖1?圖10所示的第1實(shí)施方式相同的部分賦予相同的符號(hào)。本實(shí)施方式相對(duì)于第1實(shí)施方式而不同之處在于薄膜層17的形成區(qū)域。其他部分與第1實(shí)施方式相同。
[0178]圖19與前述的圖10同樣，基于式⑵來表示內(nèi)周面13a的坐標(biāo)，將形成內(nèi)周面13a的拋物面的頂點(diǎn)配置為原點(diǎn)。
[0179]薄膜層17被形成在相對(duì)于從形成內(nèi)周面13a的拋物面的焦點(diǎn)F朝向光出射口 14的軸向而角度Θ為60°?90°的環(huán)狀區(qū)域D內(nèi)，并且從環(huán)狀區(qū)域D向光出射口 14側(cè)被延伸設(shè)置了距離ε。此外，薄膜層17被形成為多個(gè)點(diǎn)狀。
[0180]相對(duì)于薄膜層17而光出射口 14側(cè)的整個(gè)內(nèi)周面13a以及各薄膜層17間成為薄膜層17的非形成部18。由此，在內(nèi)周面13a上的至少光出射口 14側(cè)的端部設(shè)置非形成部18。在非形成部18上設(shè)置保護(hù)層19 (參照?qǐng)D2)。此時(shí)，環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于0%，環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率小于100%，但大于環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)。
[0181]由此，與第1實(shí)施方式同樣，能夠降低照明光的顏色不均。此外，由于薄膜層17被延伸設(shè)置至環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)，因此能夠增大從光出射口 14出射的照明光的光點(diǎn)直徑。
[0182]此外，由于環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)的薄膜層17的面積占有率大于外側(cè)，因此能夠抑制聚光性的下降從而降低照明光的顏色不均。
[0183]另外，也可以僅在環(huán)狀區(qū)域D的內(nèi)側(cè)形成多個(gè)點(diǎn)狀的薄膜層17，將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的面積占有率設(shè)為0%。此外，也可以將環(huán)狀區(qū)域D的外側(cè)的薄膜層17的膜厚形成得薄于內(nèi)側(cè)。
[0184]〈第6實(shí)施方式〉
[0185]接下來，圖20是表示第6實(shí)施方式的照明裝置1的光反射部13的內(nèi)周面13a的形狀的正面剖視圖。為了便于說明，對(duì)于與前述的圖1?圖10所示的第1實(shí)施方式相同的部分賦予相同的符號(hào)。本實(shí)施方式相對(duì)于第1實(shí)施方式的不同之處在于薄膜層17的形成區(qū)域。其他部分與第1實(shí)施方式相同。
[0186]圖