專利名稱：蔭罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于在彩色陰極射線管的熒光面上形成大致矩形狀的電子束光點(diǎn)的蔭罩。
背景技術(shù)：
如圖12所示，蔭罩1是與彩色陰極射線管101的熒光面102對(duì)置配置地使用的裝置。在彩色陰極射線管101中，從電子槍103射出并由偏轉(zhuǎn)線圈104的磁場(chǎng)偏轉(zhuǎn)了的電子束105通過蔭罩1后，準(zhǔn)確地落在熒光面102上的預(yù)定位置上。
這里對(duì)蔭罩1進(jìn)行詳細(xì)說明。圖8是用于說明在蔭罩1的各部位形成的槽縫的位置關(guān)系的示意俯視圖。如圖8所示，蔭罩1具有呈大致矩形的蔭罩主體1a，在該蔭罩主體1a上，具有沿厚度方向貫通的呈大致矩形狀的通孔的槽縫2(包括槽縫2a、2b、2c、2d)在俯視圖中的水平方向X以及垂直方向Y上排列有多個(gè)。另外，在本說明書中，將由通孔和形成該通孔的正面?zhèn)瓤撞恳约胺疵鎮(zhèn)瓤撞繕?gòu)成的單位結(jié)構(gòu)稱為[槽縫]。還有，在圖8中，附圖標(biāo)記6表示由兩個(gè)對(duì)角軸5、5的交點(diǎn)所標(biāo)示的中心(也稱為中心點(diǎn))，所述兩個(gè)對(duì)角軸5、5以連結(jié)蔭罩本體1a的對(duì)置角部的方式沿面內(nèi)延伸于對(duì)角方向，附圖標(biāo)記3表示通過中心點(diǎn)6沿面內(nèi)在水平方向X上延伸的水平軸，附圖標(biāo)記4表示通過中心點(diǎn)6沿面內(nèi)在垂直方向Y上延伸的垂直軸。進(jìn)而，在圖8中，槽縫2a是蔭罩主體1a的中心點(diǎn)6處的槽縫，槽縫2b是垂直軸4的外周部的槽縫，槽縫2c是水平軸3的外周部的槽縫，槽縫2d是對(duì)角軸5的外周部的槽縫。此外，圖8只不過是示意圖，將槽縫放大表示了。
當(dāng)將這種蔭罩1配置成與圖12所示的彩色陰極射線管101的熒光面102對(duì)置時(shí)，自電子槍103射出的電子束105，相對(duì)于蔭罩1的中央部的槽縫2a來說筆直地射入，而相對(duì)于遠(yuǎn)離該中央部的各軸(水平軸3、垂直軸4以及對(duì)角軸5)的外側(cè)區(qū)域即外周部的槽縫2b、2c、2d來說以入射角θ傾斜射入。因而，在蔭罩1中，與槽縫位置相應(yīng)地，調(diào)整構(gòu)成槽縫的正面?zhèn)瓤撞亢头疵鎮(zhèn)瓤撞康男纬晌恢谩?br> 圖9A、圖9B、圖9C以及圖9D表示形成在蔭罩1的蔭罩主體1a各部位上的槽縫2(槽縫2a、2b、2c、2d)形狀的示意俯視圖。在圖9A、圖9B、圖9C以及圖9D中，附圖標(biāo)記11是指槽縫2所具有的通孔，該通孔11是將通過對(duì)金屬薄板進(jìn)行蝕刻而形成的正面?zhèn)瓤撞?2和反面?zhèn)瓤撞?3連通起來而形成的。反面?zhèn)瓤撞?3形成于電子束7射入的一側(cè)，正面?zhèn)瓤撞?2形成于電子束7射出的一側(cè)。反面?zhèn)瓤撞?3以及正面?zhèn)瓤撞?2形成為大致矩形狀，正面?zhèn)瓤撞?2形成為較大的面積以便電子束7通過時(shí)不會(huì)造成妨礙。
其中，蔭罩主體1a中央部位的槽縫2a，如圖9A所示，電子束正對(duì)著入射，故形成為通孔11(反面?zhèn)瓤撞?3)位于正面?zhèn)瓤撞?2的大致中央。圖9B表示位于垂直軸4的外周部的槽縫2b，圖9C表示位于水平軸3的外周部的槽縫2c，圖9D表示位于對(duì)角軸5的外周部的槽縫2d。對(duì)于蔭罩主體1a的外周部的各槽縫2b、2c、2d，由于電子束7是傾斜射入，故形成為正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?3)的位置來說向蔭罩主體1a的外周側(cè)偏移，以便不會(huì)對(duì)穿過通孔11而通過的電子束7造成妨礙。
然而，即使進(jìn)行如圖9A、圖9B、圖9C及圖9D所示方案的偏移配置[指根據(jù)蔭罩主體1a上槽縫2的位置，使構(gòu)成槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2的形成位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?3)的形成位置偏移的配置]，在形成于蔭罩主體1a的外周部的槽縫2b、2c、2d中的、特別是形成于水平軸3的外周部和對(duì)角軸5的外周部的槽縫2c、2d處，存在下述問題，即、相對(duì)于槽縫2c、2d傾斜射入的電子束7的一部分被正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)部遮斷，從而不能使電子束7以由所希望的矩形形狀構(gòu)成的電子束光點(diǎn)落于陰極射線管的熒光面上。
對(duì)于這種問題，在特開平1-320738號(hào)公報(bào)以及特開平5-6741號(hào)公報(bào)中提出了下述結(jié)構(gòu)的蔭罩關(guān)于形成于蔭罩主體上的槽縫的大致矩形狀通孔的兩條長(zhǎng)邊中遠(yuǎn)離蔭罩主體的中央的一側(cè)的長(zhǎng)邊，使該長(zhǎng)邊的上下兩端中的至少一端或兩端向遠(yuǎn)離垂直軸的方向突出。
圖10A以及圖10B是表示這些專利文獻(xiàn)中所記載的現(xiàn)有蔭罩上的槽縫的形狀的俯視圖。圖10A中所示的槽縫2c，表示在對(duì)圖8所示的蔭罩主體1a進(jìn)行俯視的情況下、位于水平軸3的右側(cè)外周部的槽縫的形態(tài)；圖10B中所示的槽縫2d，表示在對(duì)圖8所示的蔭罩主體1a進(jìn)行俯視的情況下、位于向右上升的對(duì)角軸5的右上方外周部的槽縫的形態(tài)。圖10A所示的槽縫2c，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?3)的位置向右側(cè)即外周側(cè)偏移，并且，形成通孔11的兩條長(zhǎng)邊中外周側(cè)即右側(cè)的長(zhǎng)邊的上部以及下部具有向外周方向突出的突出部11a。另一面，圖10B所示的槽縫2d，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?3)的位置向右上方即外周側(cè)偏移，并且，形成通孔11的兩條長(zhǎng)邊中作為外周側(cè)即右側(cè)的長(zhǎng)邊的下部具有向外周方向突出的突出部11a。
另外，圖11A表示從通過圖10A所示槽縫2c的電子束的路徑方向遠(yuǎn)看該槽縫2c時(shí)的XIA方向視圖，圖11B是圖11A的沿XIB-XIB線的剖視圖。如圖11A及圖11B所示，槽縫2c的正面?zhèn)瓤撞?2由側(cè)壁14、15形成，反面?zhèn)瓤撞?3由側(cè)壁16、17形成，形成通孔11作為連通這些正面?zhèn)瓤撞?2與反面?zhèn)瓤撞?3的孔。由于具有突出部11a的通孔11，通過其突出部11a使側(cè)壁16、17之間分離，故如圖11B所示可使以預(yù)定角度α射入槽縫2c的電子束7不被遮斷地通過。
然而，近年的陰極射線管其進(jìn)深正如圖12所示的薄型彩色陰極射線管那樣薄型化。為此，在這種薄型彩色陰極射線管中，電子束7向形成于蔭罩1上的槽縫2射入的入射角θ特別是在外周部明顯變大，例如以如圖11B所示的角度β射入的電子束8，即使是例如形成有突出部11a的槽縫2，也會(huì)產(chǎn)生電子束8的一部分由靠近突出部11a的部位上的反面?zhèn)瓤撞?3的側(cè)壁17或正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁15遮斷的現(xiàn)象。這種現(xiàn)象是基于下述情況產(chǎn)生的，即，靠近突出部11a的部位上的反面?zhèn)瓤撞?3的側(cè)壁17或正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁15，與位于不靠近突出部11a的通孔11的大致中央部的側(cè)壁(圖11B中的虛線)相比，呈所謂立起的形狀，由于靠近于突出部11a的部位上的立起的側(cè)壁15、17，使得電子束8的一部分被擋住而產(chǎn)生部分缺失，不能使希望大小的大致矩形狀的電子束光點(diǎn)落于陰極射線管的熒光面上。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于這樣的問題開發(fā)而成，其目的在于提供一種具有下述槽縫結(jié)構(gòu)的蔭罩，即、使得即使是在電子束的入射角變大的情況下，也可極力抑制電子束的缺失，能夠使希望大小和形狀的電子束光點(diǎn)落于陰極射線管的熒光面上。
本發(fā)明，作為其第1解決方案，提供一種蔭罩，其在蔭罩主體的水平方向及垂直方向上排列有多個(gè)槽縫，在陰極射線管的熒光面上形成大致矩形狀的電子束光點(diǎn)，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫具有電子束射入側(cè)的大致矩形狀的反面?zhèn)瓤撞?、電子束射出?cè)的大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞?、以及通過連通前述反面?zhèn)瓤撞考扒笆稣鎮(zhèn)瓤撞慷纬傻耐祝磺笆鍪a罩主體具有位于該蔭罩主體面內(nèi)的中心的中心點(diǎn)、和通過該中心點(diǎn)沿面內(nèi)延伸的水平軸、垂直軸以及兩個(gè)對(duì)角軸；形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫的前述正面?zhèn)瓤撞恳约扒笆龇疵鎮(zhèn)瓤撞渴峭ㄟ^蝕刻形成的；在形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫中，至少位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部以及前述對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的通孔具有通孔伸出部，所述通孔伸出部是使大致矩形空間中距前述水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊向前述垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分；前述通孔伸出部，從位于前述蔭罩主體的前述垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于前述蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。
另外，在上述第1解決方案中，優(yōu)選的是，位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部的通孔，具有一對(duì)伸出部作為前述通孔伸出部，所述一對(duì)伸出部是從該通孔的大致矩形空間中距前述水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊這兩條邊向前述垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分。
另外，在上述第1解決方案中，優(yōu)選的是，位于前述蔭罩主體的前述對(duì)角軸的外周部的通孔，具有伸出部作為前述通孔伸出部，所述伸出部是從該通孔的大致矩形空間中距前述水平軸較近一側(cè)的邊向前述垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分。
另外，在上述第1解決方案中，優(yōu)選的是，在前述通孔伸出部處，從前述伸出起始端至前述伸出末端的伸出量(前述垂直軸方向上的距離)至少為10μm以上。
另外，在上述第1解決方案中，優(yōu)選的是，形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫的通孔所具有的通孔伸出部的擴(kuò)開程度，隨著該各槽縫的位置從前述蔭罩主體的中心點(diǎn)移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
另外，在上述第1解決方案中，優(yōu)選的是，前述槽縫的通孔還具有突出部，所述突出部是使該大致矩形空間中距前述垂直軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊的上下兩端中的至少一端向遠(yuǎn)離前述垂直軸的方向突出的部分，該突出部和前述伸出空間部連續(xù)設(shè)置。
進(jìn)而還有，在上述第1解決方案中，優(yōu)選的是，在前述各槽縫中沿前述垂直軸方向鄰接的槽縫之間，形成有未被蝕刻掉而殘留下來的橋接部；在形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫中，至少位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部以及前述對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的正面?zhèn)瓤撞烤哂姓鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，所述正面?zhèn)瓤撞可斐霾渴鞘咕嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠郑磺笆稣鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，從位于前述蔭罩主體的前述垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于前述蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。這里，優(yōu)選的是，位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞浚哂幸粚?duì)伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，所述一?duì)伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊這兩條邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠?。另外，?yōu)選的是，位于前述蔭罩主體的前述對(duì)角軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞?，具有伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾浚錾斐霾渴鞘乖撜鎮(zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧＿M(jìn)而，優(yōu)選的是，在前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾刻帲瑥那笆錾斐銎鹗级酥辽斐瞿┒说纳斐隽?前述垂直軸方向上的距離)至少為10μm以上。進(jìn)而，優(yōu)選的是，形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫的正面?zhèn)瓤撞克哂械恼鎮(zhèn)瓤撞可斐霾康臄U(kuò)開程度，隨著該各槽縫的位置從前述蔭罩主體的中心點(diǎn)移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
本發(fā)明，作為其第2解決方案，提供一種蔭罩，在蔭罩主體的水平方向及垂直方向上排列有多個(gè)槽縫，在陰極射線管的熒光面上形成大致矩形狀的電子束光點(diǎn)，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫具有電子束射入側(cè)的大致矩形狀的反面?zhèn)瓤撞俊㈦娮邮涑鰝?cè)的大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞?、以及通過連通前述反面?zhèn)瓤撞考扒笆稣鎮(zhèn)瓤撞慷纬傻耐祝磺笆鍪a罩主體具有位于該蔭罩主體面內(nèi)的中心的中心點(diǎn)、和通過該中心點(diǎn)沿面內(nèi)延伸的水平軸、垂直軸以及兩個(gè)對(duì)角軸；形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫的前述正面?zhèn)瓤撞恳约扒笆龇疵鎮(zhèn)瓤撞渴峭ㄟ^蝕刻形成的，而且，在前述各槽縫中沿前述垂直軸方向鄰接的槽縫之間，形成有未被蝕刻掉而殘留下來的橋接部；在形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫中，至少位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部以及前述對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的正面?zhèn)瓤撞烤哂姓鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，所述正面?zhèn)瓤撞可斐霾渴鞘咕嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠?；前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾浚瑥奈挥谇笆鍪a罩主體的前述垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于前述蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。
另外，在上述第2解決方案中，優(yōu)選的是，位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞?，具有一?duì)伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，所述一?duì)伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊這兩條邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧?br> 另外，在上述第2解決方案中，優(yōu)選的是，位于前述蔭罩主體的前述對(duì)角軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞浚哂猩斐霾孔鳛榍笆稣鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，所述伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧?br> 進(jìn)而，在上述第2解決方案中，優(yōu)選的是，在前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾刻?，從前述伸出起始端至伸出末端的伸出?前述垂直軸方向上的距離)至少為10μm以上。
進(jìn)而，在上述第2解決方案中，優(yōu)選的是，形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫的正面?zhèn)瓤撞克哂械恼鎮(zhèn)瓤撞可斐霾康臄U(kuò)開程度，隨著該各槽縫的位置從前述蔭罩主體的中心點(diǎn)移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
根據(jù)本發(fā)明的蔭罩，在形成于蔭罩主體上的多個(gè)槽縫中，至少位于蔭罩主體的水平軸的外周部以及對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的通孔具有通孔伸出部，所述通孔伸出部是使大致矩形空間中距水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊向垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分，而且，通孔伸出部，從位于蔭罩主體的垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀(末端擴(kuò)大狀)，故使靠近突出部的部位上的反面?zhèn)瓤撞康膫?cè)壁和正面?zhèn)瓤撞康膫?cè)壁后退，可呈現(xiàn)所謂使側(cè)壁放平的形狀。因此，可極力抑制如以往那樣、電子束的一部分被靠近突出部的立起的側(cè)壁擋住而部分缺失的問題。其結(jié)果是，具有這種槽縫結(jié)構(gòu)的蔭罩，即使是在電子束的入射角變大的情況下，也可極力抑制通過槽縫的通孔的電子束被正面?zhèn)瓤撞空跀嗟膯栴}，可在具有良好輝度的狀態(tài)下使希望大小和形狀的光點(diǎn)落于陰極射線管的熒光面上。
另外，根據(jù)本發(fā)明的蔭罩，位于水平軸的外周部的槽縫的通孔所具有的通孔伸出部，向存在于垂直方向的上下橋接部的這兩者的方向伸出，而且，位于對(duì)角軸的外周部的槽縫的通孔所具有的通孔伸出部向存在于水平軸一側(cè)的橋接部的方向伸出，這樣，可適應(yīng)的近年來特別有需求的高偏轉(zhuǎn)角的薄型彩色陰極射線管。
進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明的蔭罩，在形成于蔭罩主體上的多個(gè)槽縫中，至少位于蔭罩主體的水平軸的外周部以及對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的正面?zhèn)瓤撞烤哂姓鎮(zhèn)瓤撞可斐霾浚稣鎮(zhèn)瓤撞可斐霾渴鞘勾笾戮匦慰臻g中距水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊朝鄰接的橋接部沿垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠?，而且，正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，從位于蔭罩主體的垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀(末端擴(kuò)大狀)，這樣，使正面?zhèn)瓤撞康膫?cè)壁后退，可呈現(xiàn)出所謂使側(cè)壁進(jìn)一步放平的形狀。因此，可極力抑制如以往那樣、電子束的一部分被靠近橋接部的部位的側(cè)壁擋住而部分缺失的問題。其結(jié)果是，可達(dá)到與上述同樣的作用效果。
進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明的蔭罩，在形成于槽縫的通孔中的通孔伸出部或形成于正面?zhèn)瓤撞康恼鎮(zhèn)瓤撞可斐霾恐?，將從伸出起始端至伸出末端的伸出量設(shè)定為至少10μm以上，從而可可靠地防止電子束被遮斷。


圖1A是表示本發(fā)明一實(shí)施方式的蔭罩的一例的俯視圖。
圖1B是表示形成于圖1A所示蔭罩的水平軸的外周部的槽縫的形狀的一例的放大俯視圖。
圖2是表示形成于圖1A所示蔭罩的對(duì)角軸的外周部的槽縫的形狀的一例的放大俯視圖。
圖3是表示圖1B所示槽縫的寬度方向的剖視圖(沿III-III線的剖視圖)。
圖4是表示形成于圖1A所示蔭罩的水平軸的外周部的槽縫的形狀的其他例的放大俯視圖。
圖5是表示形成于圖1A所示蔭罩的對(duì)角軸的外周部的槽縫的形狀的其他例子的示意俯視圖。
圖6是表示圖5所示槽縫的寬度方向的剖視圖(沿VI-VI線的剖視圖)。
圖7A、圖7B、圖7C、圖7D是表示形成于圖1A所示蔭罩上的槽縫的形狀的又一其他例的放大俯視圖。
圖8是用于說明形成于蔭罩各部位的各槽縫的位置關(guān)系的示意剖視圖。
圖9A、圖9B、圖9C、圖9D是表示形成于蔭罩各部位的槽縫的形狀的示意俯視圖。
圖10A及圖10B是表示現(xiàn)有蔭罩上的槽縫的形狀的俯視圖。
圖11A是表示從通過圖10A所示槽縫2c的電子束的路徑方向遠(yuǎn)看該槽縫時(shí)的XIA方向視圖。
圖11B是沿圖11A的XIB-XIB線的剖視圖。
圖12是表示組裝蔭罩的薄型彩色陰極射線管的概略構(gòu)造的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。另外，本發(fā)明并非限定于以下所說明的實(shí)施方式，還包括含有本發(fā)明的技術(shù)思想的各種首先，根據(jù)圖1A、圖1B以及圖2，對(duì)本發(fā)明一實(shí)施方式的蔭罩的整體結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。
如圖1A所示，本實(shí)施方式的蔭罩201具有大致矩形狀的蔭罩主體201a，該蔭罩主體201a具有多個(gè)槽縫2(包括槽縫20、30)，所述槽縫2具有沿厚度方向貫通的大致矩形狀的通孔。這里，槽縫2如圖1B及圖2所示，具有通孔11和形成該通孔11的正面?zhèn)瓤撞?2與反面?zhèn)瓤撞?1。另外，槽縫2的通孔11，是通過將蝕刻金屬薄板形成的正面?zhèn)瓤撞?2和反面?zhèn)瓤撞?1連通起來而形成的。而且，如圖1A所示，槽縫2在蔭罩主體201a上沿俯視圖中的水平方向X以及垂直方向Y排列有多個(gè)。這種蔭罩201，通過安裝于陰極射線管而進(jìn)行磁密封，并且用于在陰極射線管的熒光面上形成大致矩形狀的電子束光點(diǎn)。另外，在圖1A中，附圖標(biāo)記6表示由兩個(gè)對(duì)角軸5、5的交點(diǎn)標(biāo)示的中心點(diǎn)，所述兩個(gè)對(duì)角軸5、5以連結(jié)蔭罩本體201a的對(duì)置角部的方式沿面內(nèi)延伸，附圖標(biāo)記3表示通過中心點(diǎn)6并沿面內(nèi)延伸的水平軸，附圖標(biāo)記4表示通過中心點(diǎn)6并沿面內(nèi)延伸的垂直軸。還有，圖1A僅是示意圖，將槽縫放大表示了。
并且，在本實(shí)施方式的蔭罩201中，在形成于蔭罩主體201a上的多個(gè)槽縫2中，至少位于上述蔭罩主體201a的水平軸3的外周部與對(duì)角軸5的外周部中的任一部位的槽縫2(20、30)的通孔11，如圖1B及圖2所示具有突出部21a(21b)，其是使大致矩形狀的空間中距垂直軸4較遠(yuǎn)一側(cè)的邊的上下兩端中的至少一端向遠(yuǎn)離垂直軸4的方向突出而成的；伸出空間部(通孔伸出部)25，其是使前述空間中距水平軸3較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和較近的一側(cè)的邊中的至少一邊向垂直軸4的方向伸出，而使該通孔11的俯視形狀變大的部分。此外，伸出空間部25，從位于蔭罩主體201a的垂直軸4一側(cè)的伸出起始端25a至位于蔭罩主體201a的外周側(cè)的伸出末端25b，擴(kuò)開成錐狀(末端擴(kuò)大狀)。
另外，具有這種通孔11的槽縫2(20、30)，如上所述，具有通過對(duì)金屬薄板蝕刻而形成的正面?zhèn)瓤撞?2和反面?zhèn)瓤撞?1。反面?zhèn)瓤撞?1形成于電子束入射的一側(cè)，正面?zhèn)瓤撞?2形成于電子束射出的一側(cè)。這些反面?zhèn)瓤撞?1以及正面?zhèn)瓤撞?2形成為大致矩形狀。
這里，構(gòu)成槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2由圖3所示的側(cè)壁26、27構(gòu)成，以較大面積形成以便電子束8通過時(shí)不會(huì)造成妨礙。并且，如圖1B以及圖2所示，關(guān)于垂直軸4方向即垂直方向Y鄰接的槽縫2(20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2，經(jīng)由未被蝕刻掉而殘留下來的寬度窄的橋接部23排列。蔭罩主體201a具有未被蝕刻掉而殘留下來的橋接部23，這樣具有蔭罩主體201a的蔭罩201有良好的機(jī)械強(qiáng)度，故具有沖壓成形時(shí)變形不良較少?gòu)亩细衿仿侍岣叩膬?yōu)點(diǎn)，并且，由于下落時(shí)的耐久強(qiáng)度也良好，故在品質(zhì)的可靠性方面也有利。
下面對(duì)如圖1B所示的槽縫20以及圖2所示的槽縫30的詳情進(jìn)行說明。
圖1B所示的槽縫20是對(duì)圖1A所示的蔭罩主體201a進(jìn)行俯視時(shí)位于水平軸3的右側(cè)外周部的槽縫，例如除圖1A中的槽縫20外，還對(duì)應(yīng)在水平方向X(橫向)上與槽縫20鄰接的槽縫。這種槽縫20，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置向水平軸3的外周部側(cè)即右方外側(cè)偏移。在通孔11的水平軸3的外周側(cè)的長(zhǎng)邊部分上，形成有向水平軸3的外周側(cè)突出的突出部21a。該突出部21a，以從在垂直方向Y上延伸的長(zhǎng)邊的兩端部(上下端部)突出的方式形成，起著擴(kuò)大從下方相對(duì)于通孔11傾斜射入的電子束8的入射區(qū)域的作用。
圖2所示的槽縫30是對(duì)圖1A所示的蔭罩主體201a進(jìn)行俯視時(shí)位于向右上升的對(duì)角軸5的右上方外周部的槽縫，例如除圖1A中的槽縫30外，還對(duì)應(yīng)在垂直方向Y(縱向)上與槽縫30鄰接的槽縫。這種槽縫30，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置向?qū)禽S5的外周側(cè)偏移。在通孔11的水平軸3的外周側(cè)的長(zhǎng)邊部分上，形成有向水平軸3的外周側(cè)突出的突出部21b。該突出部21b，以僅從在垂直方向Y上延伸的長(zhǎng)邊中靠水平軸3側(cè)的一個(gè)端部突出的方式形成，起著擴(kuò)大從下方相對(duì)于通孔11傾斜射入的電子束8的入射區(qū)域的作用。
另外，對(duì)于構(gòu)成槽縫2(包括槽縫20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2，根據(jù)槽縫2在蔭罩主體201a內(nèi)的位置，使其相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置變化。即，如圖1A所示，對(duì)于位于蔭罩主體201a的中心點(diǎn)6上的槽縫2，以通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)配置于中央的方式形成正面?zhèn)瓤撞?2。另一方面，對(duì)于從位于中心點(diǎn)6的槽縫2移向水平軸3的外周方向的槽縫2，以隨著從該中心點(diǎn)6離開、正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置逐漸向外周側(cè)偏移的方式形成。同樣，對(duì)于從位于中心點(diǎn)6的槽縫2移向垂直軸4的外周方向的槽縫2，以隨著從該中心點(diǎn)6離開、正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置逐漸向外周側(cè)偏移的方式形成。
即使處于對(duì)角軸5、5上的槽縫或處于沿該對(duì)角軸5、5的位置上的槽縫2，也與上述同樣地隨著從中心點(diǎn)6離開，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置逐漸向外周側(cè)偏移。例如，在對(duì)蔭罩主體101a進(jìn)行俯視而得的圖1A的情況下，在向右上升的對(duì)角軸5上，隨著槽縫2的位置從中心點(diǎn)6移向右側(cè)上方，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置逐漸向右上方(即斜右上方)偏移。另一方面，隨著槽縫2位置從該中心點(diǎn)6移向左側(cè)上方，正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置逐漸向左下方(即斜左下方)偏移。這樣的正面?zhèn)瓤撞?2的偏移即便在向右上升的對(duì)角軸5上也一樣。這種偏移量的變化，與電子束8向槽縫2傾斜入射的入射角θ(參照?qǐng)D12)相對(duì)應(yīng)，使得不會(huì)產(chǎn)生通過通孔11的電子束8的一部分被正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁(參照?qǐng)D3中的附圖標(biāo)記27)遮斷的情況。
在這樣的本實(shí)施方式的蔭罩201中，如上所述，在形成于蔭罩主體201a上的多個(gè)槽縫2中，至少在位于蔭罩主體201a的水平軸3的外周部以及對(duì)角軸5的外周部中的任一處的槽縫2(20、30)的通孔11中形成有伸出空間部25。而且，該伸出空間部25，在位于水平軸3的外周部的槽縫20中，向存在于其通孔11的垂直方向Y上的上下橋接部23、23這兩者的方向伸出。另一方面，在位于對(duì)角軸5的外周部的槽縫30中，伸出空間部25只向存在于通孔11的水平軸3一側(cè)的橋接部23的方向伸出。
這里，在位于水平軸3的外周部的槽縫20中，如圖1B所示，形成有向存在于垂直方向Y上的上下橋接部23、23這兩者的方向伸出的空間部25，因此，成為突出部21a和伸出空間部25連續(xù)設(shè)置的形態(tài)。另一方面，如圖2所示，在位于對(duì)角軸5的外周部的槽縫30中，只形成有向存在于通孔11的水平軸3一側(cè)的橋接部23的方向伸出的空間部25，因此，在形成有伸出空間部25的部位上，與上述同樣地，成為突出部21a和伸出空間部25連續(xù)設(shè)置的形態(tài)。
圖3表示在通孔11中形成有伸出空間部25的槽縫20的寬度方向的剖視圖(沿III-III線的剖視圖)。在圖1A所示的槽縫20中，由側(cè)壁26、27形成正面?zhèn)瓤撞?2，由側(cè)壁28、29形成反面?zhèn)瓤撞?1。具有伸出空間部25的通孔11，如后所述，是通過以預(yù)定的圖案對(duì)這些正面?zhèn)瓤撞?2和反面?zhèn)瓤撞?1進(jìn)行蝕刻而形成的。而且，在通過這樣的蝕刻形成的通孔11中形成伸出空間部25后，使最終形成的正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁27和反面?zhèn)瓤撞?1的側(cè)壁29比用虛線表示的側(cè)壁(圖11B所示的側(cè)壁15、17)向橋接部(在水平方向X上鄰接的正面?zhèn)瓤撞?2之間的橋接部)的方向退后，可呈現(xiàn)出所謂將側(cè)壁放平的形狀。由此，與其伸出空間部25相當(dāng)?shù)牟糠值耐?1以及各側(cè)壁27、29向橋接部(在水平方向X上鄰接的正面?zhèn)瓤撞?2之間的橋接部)方向擴(kuò)大，使得開孔區(qū)域擴(kuò)大到下述程度，即、使得不會(huì)產(chǎn)生電子束的一部分被在靠近突出部的部位上立起的側(cè)壁擋住而部分缺失的問題。其結(jié)果是，在以往方案的通孔中不能通過的電子束8能通過其伸出空間部25。
在設(shè)置有這種伸出空間部25的槽縫2中，例如如圖3所示，即使電子束8以大的入射角β1射入通孔11，也可由向橋接部23方向后退的側(cè)壁29極力抑制對(duì)電子束8的遮斷。據(jù)此，可使由希望大小的大致矩形狀的電子束光點(diǎn)落于熒光面上。
另外，如上所述的槽縫2的通孔11中的伸出空間部25，例如在位于入射到蔭罩201上的電子束8的入射角θ(參照?qǐng)D12)為最大的部位、即對(duì)角軸5的最外周部的槽縫2中，將從伸出空間部25的伸出起始端25a至伸出末端25b的伸出量L1設(shè)定為至少10μm。這里，將位于對(duì)角軸5的最外周部的槽縫2的伸出空間部25的伸出量L1設(shè)定為至少10μm以上，是因?yàn)?，要使正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁以及反面?zhèn)瓤撞?1的側(cè)壁后退、從而避免出現(xiàn)電子束的一部分被其側(cè)壁擋住而部分缺失的問題，這是所需最低限度的值。另外，伸出量L1，可根據(jù)組裝蔭罩201的陰極射線管的特性等在10μm以上的范圍中進(jìn)行任意設(shè)定。另外，在優(yōu)選用于偏轉(zhuǎn)角為110°以上的薄型的陰極射線管的蔭罩中，位于對(duì)角軸5的最外周部的槽縫2的優(yōu)選的伸出量L1為20μm以上至40μm以下。作為此時(shí)上限值的40μm是從形成希望的電子束光點(diǎn)的觀點(diǎn)來進(jìn)行設(shè)定的。在本實(shí)施方式中，通過設(shè)定上述范圍的伸出量L1，能可靠地起到上述作用，并可靠防止電子束8被槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁擋住的問題。另外，優(yōu)選的是具有以下的構(gòu)成伸出空間部25的擴(kuò)開程度，與射入到蔭罩201的各部位上的電子束8的入射角相應(yīng)地，隨著槽縫2的位置從蔭罩主體201a的中心點(diǎn)6移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
另外，在上述圖1B、圖2以及圖3所示的蔭罩201的槽縫2(20、30)中，槽縫2(20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2形成為長(zhǎng)方形狀，但并不限于此，也可以如圖4至圖6所示的實(shí)施方式那樣，在形成于蔭罩主體201a上的多個(gè)槽縫2中，至少在位于蔭罩主體201a的水平軸3的外周部以及對(duì)角軸5的外周部中的任一處的槽縫2(20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2中形成伸出部(正面?zhèn)瓤撞可斐霾?33。
在圖4至圖6所示的實(shí)施方式中，也與圖1B、圖2以及圖3所示的槽縫20以及30同樣，在通孔11中形成有向橋接部23方向伸出的伸出空間部25。而且，同樣成為正面?zhèn)瓤撞?2的位置相對(duì)于通孔11(反面?zhèn)瓤撞?1)的位置偏移的狀態(tài)。除此之外，在圖4至圖6所示的實(shí)施方式中，在正面?zhèn)瓤撞?2中形成有向橋接部23方向伸出的伸出部33。
即，在圖4至圖6所示的實(shí)施方式中，在形成于蔭罩主體201a上的多個(gè)槽縫2中，至少位于蔭罩主體201a的水平軸3的外周部以及對(duì)角軸5的外周部中的任一處的槽縫2(20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2，如圖3及圖4所示具有伸出部33，所述伸出部33是使大致矩形狀的空間中距水平軸3較遠(yuǎn)一側(cè)的邊以及靠近水平軸3一側(cè)的邊中的至少一者朝鄰接的橋接部23沿垂直軸4的方向伸出，從而使該正面?zhèn)瓤撞?2的俯視形狀變大的部分。此外，伸出部33，從位于蔭罩主體201a的垂直軸4一側(cè)的伸出起始端33a至位于蔭罩主體201a的外周側(cè)的伸出末端33b，擴(kuò)開為錐狀(末端擴(kuò)大狀)。
這里，位于水平軸3的外周部的槽縫20的呈大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞?2，如圖4所示，其伸出部33以使垂直方向Y的上下兩側(cè)的端部向橋接部23方向伸出的方式形成。另一方面，位于對(duì)角軸5的外周部的槽縫30的呈大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞?2，如圖5所示，其伸出部33以只使垂直方向Y的上側(cè)(即從水平軸3離開的一側(cè))的端部向橋接部23方向伸出的方式形成。
通過這樣在槽縫2(20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2中形成伸出部33，可增大用于使得通過通孔11的電子束8易于穿過的開孔區(qū)域。如上所述，在本實(shí)施方式中，由于在通孔11中形成伸出空間部25，故可使其開孔區(qū)域與其伸出空間部25一同變大。
這里，根據(jù)圖6對(duì)形成于槽縫2(20)的正面?zhèn)瓤撞?2中的伸出部33的作用進(jìn)行說明。
如圖6所示，通過在槽縫2(20)的正面?zhèn)瓤撞?2中形成伸出部33，使正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁27比用虛線表示的側(cè)壁(圖11B所示的側(cè)壁15)向橋接部(在水平方向X上鄰接的正面?zhèn)瓤撞?2之間的橋接部)的方向退后，可呈現(xiàn)出所謂將側(cè)壁進(jìn)一步放平的形狀。因此，可極力抑制以往電子束的一部分被靠近橋接部的部位的側(cè)壁擋住而部分缺失的問題。
如上所述，通過在正面?zhèn)瓤撞?2中設(shè)置伸出部33而使正面?zhèn)瓤撞?2的開孔區(qū)域變大，而且在通孔11中設(shè)置伸出空間部25而使通孔11的開孔區(qū)域變大，從而使對(duì)電子束8的入射角β2的容許范圍顯著變大，因而即便在電子束8以較大的入射角β2射入槽縫2的情況下，也能使希望大小的大致矩形狀的電子束光點(diǎn)落于熒光面上。因此，能夠優(yōu)選地用于高偏轉(zhuǎn)角的薄型陰極射線管。
另外，槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2中的伸出部33的伸出量L2也與通孔11中的伸出空間部25的伸出量L1同樣，在位于電子束8射入到蔭罩201上的入射角θ(參照?qǐng)D12)為最大的位置、即對(duì)角軸5的最外周部的槽縫2中，將從伸出起始端33a至伸出末端33b的伸出量L2設(shè)定為至少10μm。這里，將位于對(duì)角軸5的最外周部的槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2的伸出量L2設(shè)定為至少10μm以上，是因?yàn)椋拐鎮(zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁后退、從而避免出現(xiàn)電子束的一部分被其側(cè)壁擋住而部分缺失的問題，這是所需最低限度的值。另外，伸出量L2，可根據(jù)組裝蔭罩201的陰極射線管的特性等在10μm以上的范圍中進(jìn)行任意設(shè)定。另外，在優(yōu)選用于偏轉(zhuǎn)角為110°以上的薄型的陰極射線管的蔭罩中，位于對(duì)角軸5的最外周部的槽縫2的優(yōu)選的伸出量L2為15μm以上至25μm以下。作為此時(shí)上限值的25μm是從蔭罩強(qiáng)度和壓制成型性的觀點(diǎn)來進(jìn)行設(shè)定的。在本實(shí)施方式中，通過設(shè)定上述范圍的伸出量L2，能可靠地起到上述作用，并可靠防止電子束8被槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁擋住的問題。另外，優(yōu)選的是具有以下的構(gòu)成伸出部33的擴(kuò)開程度，與射入到蔭罩201的各部位上的電子束8的入射角相應(yīng)地，隨著槽縫2的位置從蔭罩主體201a的中心點(diǎn)6移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
這樣，根據(jù)本實(shí)施方式的蔭罩201，在形成于蔭罩主體201a上的多個(gè)槽縫2中，至少位于蔭罩主體201a的水平軸3的外周部以及對(duì)角軸5的外周部中的任一處的槽縫2(20、30)的通孔11具有伸出空間部25，該伸出空間部25是使大致矩形狀的空間中距水平軸3較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距水平軸3較近一側(cè)的邊中的至少一邊向垂直軸4的方向伸出，而增大該通孔11的俯視形狀的部分，并且，伸出空間部25，從位于上述蔭罩主體201a的垂直軸4一側(cè)的伸出起始端25a至位于蔭罩主體201a的外周側(cè)的伸出末端25b，擴(kuò)開為錐狀(末端擴(kuò)大狀)，故使靠近突出部21a(21b)的部位的反面?zhèn)瓤撞?1的側(cè)部和正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁后退，可呈現(xiàn)所謂使側(cè)壁放平的形狀。因此，可極力抑制以往那樣電子束的一部分被靠近突出部21a(21b)的立起的側(cè)壁擋住而部分缺失的問題的發(fā)生。其結(jié)果是，具有這種槽縫結(jié)構(gòu)的蔭罩201，即使是在電子束8的入射角θ變大的情況下，也可極力抑制通過槽縫2(20、30)的通孔11的電子束8被正面?zhèn)瓤撞?2遮斷的問題，可在具有良好輝度的狀態(tài)下使希望大小和形狀的光點(diǎn)落于陰極射線管的熒光面上。
還有，根據(jù)本實(shí)施方式的蔭罩201，位于水平軸3的外周部的槽縫20的通孔11所具有的伸出空間部25，向存在于垂直方向Y的上下橋接部23、23這兩者的方向伸出，并且，使位于對(duì)角軸5的外周部的通孔11所具有的伸出空間部25向存在于水平軸3一側(cè)的橋接部23的方向伸出，因此，可適應(yīng)近年來特別有需求的高偏轉(zhuǎn)角的薄型彩色陰極射線管。
進(jìn)而，根據(jù)本實(shí)施方式的蔭罩201，在形成于上述蔭罩主體201a的多個(gè)槽縫2中，至少位于上述蔭罩主體201a的水平軸3的外周部以及對(duì)角軸5的外周部中的任一處的槽縫2(20、30)的正面?zhèn)瓤撞?2具有伸出部33，其中該伸出部33是使大致矩形狀的空間中距水平軸3較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距水平軸3較近一側(cè)的邊中的至少一邊朝鄰接的橋接部23沿垂直軸4方向伸出，使該正面?zhèn)瓤撞?2的俯視形狀變大的部分，并且，伸出部33，從上述蔭罩主體201a的垂直軸4一側(cè)的伸出起始端33a至位于蔭罩主體201a的外周側(cè)的伸出末端33b，擴(kuò)開為錐狀(末端擴(kuò)大狀)，故使正面?zhèn)瓤撞?2的側(cè)壁后退，可呈現(xiàn)出所謂使側(cè)壁進(jìn)一步放平的形狀。因此，可極力抑制如以往那樣電子束的一部分被靠近橋接部的側(cè)壁擋住而部分缺失的問題的發(fā)生。其結(jié)果是，可達(dá)到與上述同樣的作用效果。
進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明的蔭罩201，在形成于槽縫2的通孔11中的伸出空間部25或形成于正面?zhèn)瓤撞?2的伸出部33中，將從伸出起始端25a、33a至伸出末端25b、33b的伸出量L1、L2設(shè)定為至少10μm以上，從而可可靠地防止抑制電子束被遮斷。
另外，在上述實(shí)施方式的蔭罩201中，如圖5所示，位于蔭罩主體201a的對(duì)角軸5的外周部的槽縫30的大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞?2中所形成的伸出部33，以只使垂直方向Y的上側(cè)的端部向橋接部23方向伸出的方式形成，但也可以如圖7A所示，以使垂直方向Y的上下兩側(cè)的端部向橋接部23方向伸出的方式形成。
還有，在上述實(shí)施方式的蔭罩201中，在槽縫2的通孔11中形成有向橋接部23側(cè)伸出的伸出空間部25，并且在正面?zhèn)瓤撞?2中形成有向橋接部23側(cè)伸出的伸出部33，但并不限于此，也可以如圖7B、7C以及7D所示的槽縫20′、30′、40′那樣，只對(duì)槽縫20′、30′、40′的正面?zhèn)瓤撞?2形成伸出部33。作為這種情況下的伸出部33，可設(shè)置于槽縫20′、30′、40′上的垂直方向Y的一個(gè)端部或上下兩側(cè)的端部上，由此即使電子束8以大的入射角射入，也可以不被遮斷地射出。另外，這種情況下的伸出部33的伸出量也與上述同樣，優(yōu)選的是設(shè)為至少10μm。還有，圖7B所示的槽縫20′為相當(dāng)于形成于水平軸3的右側(cè)外周部的圖1B中的槽縫20的槽縫，圖7C所示的槽縫圖30′為相當(dāng)于形成于向右上升的對(duì)角軸5的右上方外周部的圖2中的槽縫30的槽縫，而圖7D所示的槽縫圖40′為相當(dāng)于形成于向右上升的對(duì)角軸5的右上方外周部的圖7A中的槽縫40的槽縫。
(本實(shí)施方式的蔭罩的制造方法)下面，對(duì)上述實(shí)施方式的蔭罩201的制造方法的一例進(jìn)行說明。另外，當(dāng)然本發(fā)明的蔭罩不限于根據(jù)下述制造方法所制造的蔭罩。
上述實(shí)施方式的蔭罩201，可用如下所述的現(xiàn)有公知的方法來形成。
即，蔭罩201的制造，通常通過光刻的各工序來進(jìn)行，由連續(xù)的串聯(lián)裝置制造。具體而言，例如將水溶性膠態(tài)物系光致抗蝕劑等涂敷于金屬薄板的雙面上，并進(jìn)行干燥。其后，將形成有上述那樣的正面?zhèn)瓤撞?2的形狀圖案的光掩模緊貼在其正面上，并將形成有反面?zhèn)瓤撞?1的形狀圖案的光掩模緊貼在其反面上，通過高壓水銀等的紫外線進(jìn)行曝光，用水進(jìn)行顯影。另外，形成有正面?zhèn)瓤撞?2圖案的光掩模與形成有反面?zhèn)瓤撞?1圖案的光掩模的位置關(guān)系及其形狀，是考慮形成于所要獲得的蔭罩201上的槽縫2的正面?zhèn)瓤撞?2與反面?zhèn)瓤撞?1的位置關(guān)系及其大小而進(jìn)行設(shè)計(jì)、配置的。
并且，周圍被抗蝕劑膜圖像(顯影后的抗蝕劑膜)覆蓋了的金屬薄板的露出部分，基于各部分的蝕刻進(jìn)行速度的不同，形成上述的各種形狀。另外，蝕刻加工，是在熱處理等之后，從兩面?zhèn)葒娚渎然F溶液等進(jìn)行的。
其后，通過連續(xù)進(jìn)行水洗、剝離等后續(xù)工序，最終制造出上述實(shí)施方式的蔭罩201。
權(quán)利要求
1.一種蔭罩，在蔭罩主體的水平方向及垂直方向上排列有多個(gè)槽縫，在陰極射線管的熒光面上形成大致矩形狀的電子束光點(diǎn)，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫具有電子束射入側(cè)的大致矩形狀的反面?zhèn)瓤撞?、電子束射出?cè)的大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞?、以及通過連通前述反面?zhèn)瓤撞考扒笆稣鎮(zhèn)瓤撞慷纬傻耐祝磺笆鍪a罩主體具有位于該蔭罩主體面內(nèi)的中心的中心點(diǎn)、和通過該中心點(diǎn)沿面內(nèi)延伸的水平軸、垂直軸以及兩個(gè)對(duì)角軸；形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫的前述正面?zhèn)瓤撞恳约扒笆龇疵鎮(zhèn)瓤撞渴峭ㄟ^蝕刻形成的；在形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫中，至少位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部以及前述對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的通孔具有通孔伸出部，所述通孔伸出部是使大致矩形空間中距前述水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊向前述垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分；前述通孔伸出部，從位于前述蔭罩主體的前述垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于前述蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蔭罩，其特征在于位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部的通孔，具有一對(duì)伸出部作為前述通孔伸出部，所述一對(duì)伸出部是從該通孔的大致矩形空間中距前述水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊這兩條邊向前述垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蔭罩，其特征在于位于前述蔭罩主體的前述對(duì)角軸的外周部的通孔，具有伸出部作為前述通孔伸出部，所述伸出部是從該通孔的大致矩形空間中距前述水平軸較近一側(cè)的邊向前述垂直軸方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蔭罩，其特征在于在前述通孔伸出部處，從前述伸出起始端至前述伸出末端的伸出量(前述垂直軸方向上的距離)至少為10μm以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蔭罩，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫的通孔所具有的通孔伸出部的擴(kuò)開程度，隨著該各槽縫的位置從前述蔭罩主體的中心點(diǎn)移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蔭罩，其特征在于前述槽縫的通孔還具有突出部，所述突出部是使該大致矩形空間中距前述垂直軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊的上下兩端中的至少一端向遠(yuǎn)離前述垂直軸的方向突出的部分，該突出部和前述伸出空間部連續(xù)設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蔭罩，其特征在于在前述各槽縫中沿前述垂直軸方向鄰接的槽縫之間，形成有未被蝕刻掉而殘留下來的橋接部；在形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫中，至少位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部以及前述對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的正面?zhèn)瓤撞烤哂姓鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，所述正面?zhèn)瓤撞可斐霾渴鞘咕嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠郑磺笆稣鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，從位于前述蔭罩主體的前述垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于前述蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蔭罩，其特征在于位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞?，具有一?duì)伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，所述一?duì)伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊這兩條邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧?br> 9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蔭罩，其特征在于位于前述蔭罩主體的前述對(duì)角軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞?，具有伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，所述伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧?br> 10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蔭罩，其特征在于在前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾刻?，從前述伸出起始端至伸出末端的伸出?前述垂直軸方向上的距離)至少為10μm以上。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蔭罩，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫的正面?zhèn)瓤撞克哂械恼鎮(zhèn)瓤撞可斐霾康臄U(kuò)開程度，隨著該各槽縫的位置從前述蔭罩主體的中心點(diǎn)移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
12.一種蔭罩，在蔭罩主體的水平方向及垂直方向上排列有多個(gè)槽縫，在陰極射線管的熒光面上形成大致矩形狀的電子束光點(diǎn)，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫具有電子束射入側(cè)的大致矩形狀的反面?zhèn)瓤撞?、電子束射出?cè)的大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞俊⒁约巴ㄟ^連通前述反面?zhèn)瓤撞考扒笆稣鎮(zhèn)瓤撞慷纬傻耐?；前述蔭罩主體具有位于該蔭罩主體面內(nèi)的中心的中心點(diǎn)、和通過該中心點(diǎn)沿面內(nèi)延伸的水平軸、垂直軸以及兩個(gè)對(duì)角軸；形成于前述蔭罩主體上的前述各槽縫的前述正面?zhèn)瓤撞恳约扒笆龇疵鎮(zhèn)瓤撞渴峭ㄟ^蝕刻形成的，而且，在前述各槽縫中沿前述垂直軸方向鄰接的槽縫之間，形成有未被蝕刻掉而殘留下來的橋接部；在形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫中，至少位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部以及前述對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的正面?zhèn)瓤撞烤哂姓鎮(zhèn)瓤撞可斐霾?，所述正面?zhèn)瓤撞可斐霾渴鞘咕嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠?；前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，從位于前述蔭罩主體的前述垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于前述蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的蔭罩，其特征在于位于前述蔭罩主體的前述水平軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞?，具有一?duì)伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，所述一?duì)伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距前述水平軸較近一側(cè)的邊這兩條邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧?br> 14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的蔭罩，其特征在于位于前述蔭罩主體的前述對(duì)角軸的外周部的正面?zhèn)瓤撞?，具有伸出部作為前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾?，所述伸出部是使該正面?zhèn)瓤撞恐芯嗲笆鏊捷S較遠(yuǎn)一側(cè)的邊朝鄰接的橋接部沿前述垂直軸方向伸出、而增大該正面?zhèn)瓤撞康母┮曅螤畹牟糠帧?br> 15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的蔭罩，其特征在于在前述正面?zhèn)瓤撞可斐霾刻?，從前述伸出起始端至伸出末端的伸出?前述垂直軸方向上的距離)至少為10μm以上。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的蔭罩，其特征在于形成于前述蔭罩主體上的前述多個(gè)槽縫的正面?zhèn)瓤撞克哂械恼鎮(zhèn)瓤撞可斐霾康臄U(kuò)開程度，隨著該各槽縫的位置從前述蔭罩主體的中心點(diǎn)移向外周方向，連續(xù)地或階梯式地變大。
全文摘要
一種蔭罩，在蔭罩主體的水平方向以及垂直方向上排列有多個(gè)槽縫。各槽縫具有通過連通蝕刻形成的大致矩形狀的反面?zhèn)瓤撞颗c大致矩形狀的正面?zhèn)瓤撞慷纬傻耐?。在形成于蔭罩主體上的多個(gè)槽縫中，至少位于蔭罩主體的水平軸的外周部以及對(duì)角軸的外周部中的任一處的槽縫的通孔具有突出部和通孔伸出部，所述突出部是使大致矩形空間中距垂直軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊的上下兩端中的至少一端向遠(yuǎn)離垂直軸的方向鼓出的部分，所述通孔伸出部是使前述空間中距水平軸較遠(yuǎn)一側(cè)的邊和距水平軸較近一側(cè)的邊中的至少一邊向垂直軸的方向伸出、而增大該通孔的俯視形狀的部分。通孔伸出部，從位于蔭罩主體的垂直軸一側(cè)的伸出起始端至位于蔭罩主體的外周側(cè)的伸出末端，擴(kuò)開為錐狀。
文檔編號(hào)H01J29/07GK1767134SQ20051011374
公開日2006年5月3日 申請(qǐng)日期2005年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月14日
發(fā)明者秀島啟文, 安在祐二 申請(qǐng)人:大日本印刷株式會(huì)社