專利名稱：電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種金屬腐蝕工藝，尤其是涉及一種電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝的前處理方法。
本發(fā)明的腐蝕工藝是發(fā)明了獨(dú)特的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝的前處理方法，該電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝包括前處理、前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。本發(fā)明是在目前現(xiàn)有的堿、酸、混合酸或者混合堿的前處理液中加入含Zn或Pb的化合物或上述化合物的混合物，前處理液中含Zn或Pb的重量百分比為0.0001～1.0％。上述前處理液可以是1～10wt％NaOH溶液、1～10wt％KOH溶液、1～20wt％H2SO4溶液、1～20wt％H3PO4溶液、1～20wt％HNO3溶液、1～20wt％HCl溶液、1～20wt％H3PO4與0.01～1wt％HF的混合液或者1～20wt％HCl與0.01～1wt％HF的混合液，但不僅限于上述的堿、酸、兩種或兩種以上堿的混合液、兩種或兩種以上酸的混合液。在溫度為30～90℃時(shí)，將鋁箔在上述前處理液中浸泡10～300秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
前處理液處理溫度低于25℃，鋁箔表面幾乎沒(méi)有反應(yīng)發(fā)生，起不到好的效果；而超過(guò)95℃，鋁箔表面發(fā)生過(guò)分溶解，也起不到好的效果。本發(fā)明適宜的前處理液處理溫度范圍為30～90℃，具體根據(jù)前處理液的成分與濃度而定。
前處理液處理時(shí)間低于5秒，鋁箔表面幾乎沒(méi)有反應(yīng)發(fā)生，達(dá)不到好的效果；但超過(guò)360秒，鋁箔表面發(fā)生過(guò)分溶解，也達(dá)不到好的效果。本發(fā)明適宜的前處理液處理時(shí)間為一般為10～300秒，具體根據(jù)前處理液的濃度與溫度而定。
本發(fā)明的有益效果是，由于前處理液中加入了含Zn或Pb的化合物或兩種化合物的混合物，在對(duì)鋁箔進(jìn)行前處理時(shí)，鋁箔表面因Zn或Pb的析出，有利于在前級(jí)腐蝕時(shí)，更易產(chǎn)生均勻點(diǎn)蝕；提高了鋁箔的腐蝕擴(kuò)面率、比靜電容量，并保持其良好的機(jī)械強(qiáng)度。
對(duì)比例1、2、3是現(xiàn)有前處理工藝的三個(gè)具體方案，所用的前處理液均是沒(méi)有加入含Zn或Pb的化合物或兩種化合物的混合物的常用堿或酸溶液，在溫度40～80℃時(shí)，將鋁箔在前處理液中直接浸泡60～150秒，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理，鋁箔的375Vf靜電容量為0.75～0.81μF/cm2，抗拉強(qiáng)度為20.2～21.4N/cm。
實(shí)施例1是將鋁箔在溫度為40℃、濃度為5.0wt％NaOH+0.005wt％ZnO的前處理液中浸泡120秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
實(shí)施例2是將鋁箔在溫度為802、濃度為5.0wt％H2SO4+0.005wt％PbO的前處理液中浸泡120秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
實(shí)施例3是將鋁箔在溫度為70℃、濃度為5.0wt％H3PO4+0.005wt％ZnO的前處理液中浸泡120秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
實(shí)施例4是將鋁箔在溫度為70℃、濃度為5.0wt％H3PO4+0.005wt％ZnO+0.005wt％PbO的前處理液中浸泡120秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
實(shí)施例5是將鋁箔在溫度為70℃、濃度為5.0wt％H3PO4+0.1wt％HF+0.005wt％ZnO的前處理液中浸泡120秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
實(shí)施例6是將鋁箔在溫度為70℃、濃度為5.0wt％HCl+0.1wt％HF+0.005wt％ZnO+0.005wt％PbO的前處理液中浸泡120秒后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理。
實(shí)施例1～6是本發(fā)明的部分具體實(shí)施方案，經(jīng)過(guò)本發(fā)明的前處理工藝處理后，再進(jìn)行通常的前級(jí)腐蝕、后級(jí)腐蝕和后處理，鋁箔的375Vf靜電容量為0.90～0.96μF/cm2，抗拉強(qiáng)度為22.1～24.0N/cm，鋁箔的性能有明顯的提高。
表1是對(duì)比例和實(shí)施例所測(cè)靜電容量和抗拉強(qiáng)度的詳細(xì)數(shù)值比較。表1中375Vf容量是指375伏電壓化成后的靜電容量。
表1

注對(duì)比例、實(shí)施例中的容量、抗拉強(qiáng)度值是按照電子工業(yè)部頒標(biāo)準(zhǔn)SJ/T11140-1997測(cè)試的數(shù)據(jù)。
表1中的數(shù)據(jù)充分地顯示出實(shí)施例中的比容值比對(duì)比例中的比容值有了顯著的提高，而且抗拉強(qiáng)度也明顯提高。
權(quán)利要求
1.一種電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，包括前處理，其特征是在所述前處理的前處理液中加入含Zn或Pb的化合物或上述化合物的混合物，所述前處理液中含Zn或Pb的重量百分比為0.0001～1.0wt％。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液中含Zn或Pb的重量百分比為0.001～0.025wt％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液處理溫度為30～90℃，所述前處理液處理時(shí)間為10～300秒。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液是NaOH溶液、KOH溶液、H2SO4溶液、H3PO4溶液、HNO3溶液、HCl溶液、H3PO4與HF的混合液或者HCl與HF的混合液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液為酸性溶液，前處理液處理溫度為60～85℃，前處理液處理時(shí)間為40～150秒。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液為堿性溶液，前處理液處理溫度為30～50℃，前處理液處理時(shí)間為40～150秒。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液為至少兩種堿的混合液或者至少兩種酸的混合液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液是濃度為1～20wt％H2SO4溶液、濃度為1～20wt％HNO3溶液、濃度為1～20wt％HCl溶液、濃度為1～20wt％H3PO4溶液、濃度為1～20wt％H3PO4與0.01～1wt％HF的混合液、濃度為1～20wt％HCl與0.01～1wt％HF的混合液、濃度為1～10wt％NaOH溶液或者濃度為1～10wt％KOH溶液。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，其特征是所述前處理液是濃度為4～9wt％H2SO4溶液、濃度為3～7wt％H3PO4溶液、濃度為2～9wt％HNO3溶液、濃度為4～10wt％HCl溶液、濃度為3～7wt％H3PO4與0.01～1wt％HF的混合液、濃度為4～10wt％HCl與0.1～1wt％HF的混合液、濃度為1～7wt％NaOH溶液或者是濃度為1～7wt％KOH溶液。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種電解電容器陽(yáng)極鋁箔腐蝕工藝，包括前處理，在堿、酸、混合堿或混合酸的前處理液中加入0.0001wt％～1.0wt％的含Zn或Pb化合物或上述化合物的混合物。將鋁箔在一定溫度下，放置在所述前處理液中浸泡10～300秒，鋁箔表面因Zn或Pb的析出，在前級(jí)腐蝕時(shí)，鋁箔更易發(fā)生均勻點(diǎn)蝕，提高了鋁箔的擴(kuò)面率、比容，同時(shí)抗拉強(qiáng)度也得到了提高。
文檔編號(hào)H01G9/055GK1458658SQ0312669
公開(kāi)日2003年11月26日 申請(qǐng)日期2003年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月26日
發(fā)明者呂根品, 羅向平, 吳志堅(jiān) 申請(qǐng)人:深圳市東陽(yáng)光化成箔股份有限公司乳源分公司