偏光片及其制備方法、顯示面板、顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種偏光片及其制備方法、顯示面板、顯示裝置，本發(fā)明將偏光片的黑矩陣的投影區(qū)域設(shè)置反射片，可以將入射到該反射片上的光反射回去，繼而可以被背光源反射回來重復(fù)利用，并且能夠有效阻擋通過該部位的光被黑矩陣吸收，從而提高了背光源的利用率。
【專利說明】
偏光片及其制備方法、顯不面板、顯不裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，更具體涉及一種偏光片及其制備方法、顯示面板、顯示
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]偏光片的全稱是偏振光片，液晶顯示器的成像必須依靠偏振光，因此所有的液晶顯示器都有上下兩片偏光片緊貼在液晶玻璃的兩面上，組成總厚度Imm左右的液晶片。如果少了任何一片偏光片，液晶顯示器都不能顯示圖像。偏光片的基本結(jié)構(gòu)包括:最中間的PVA(聚乙烯醇)、兩層TAC(三醋酸纖維素)、PSA film(壓敏膠)、ReleaSe film(離型膜)以及Protective film(保護膜)。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中采用WGP(wire grid polarizer線柵起偏器)3作為液晶顯示器的下偏光片，如圖1所示，一般是采用整面的WGP 3作為下偏光片，WGP 3設(shè)置于基板2上，并且在WGP3與陣列基板5之間設(shè)置有絕緣層4，以避免WGP 3的導(dǎo)電性能影響到陣列基板5中的元件。背光源I的光經(jīng)過WGP 3，會有40%-45%左右的TM分量光直接透過去，另外還有40%-50%TE分量的光被反射回來，然后經(jīng)過背光源I后褪偏，并再次經(jīng)過WGP 3，這樣被反射的光可以被重復(fù)利用，從而在一定程度上提高背光源I的利用率。但是在BM下方，當(dāng)背光源I的光透過WGP 3后，會被黑矩陣BM吸收，所以BM下方所對應(yīng)的光無法被利用，造成了這部分光的浪費，從而降低了背光源的利用率，對背光源的光利用率還無法達到最大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是如何提高反射片的黑矩陣投影的區(qū)域的反光能力，從而提高對背光源的光利用率。
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明一方面提供了一種偏光片，所述偏光片上設(shè)置有反射片；
[0006]所述反射片設(shè)置在黑的投影區(qū)域，用于將入射到所述偏光片上的光線或由所述偏光片射出的光線進行反射。
[0007]優(yōu)選地，所述反射片設(shè)置在所述偏光片的入光面上或出光面上。
[0008]優(yōu)選地，所述反射片與所述偏光片同層。
[0009]優(yōu)選地，所述反射片為金屬反射膜。
[0010]優(yōu)選地，所述反射片為鋁膜。
[0011]優(yōu)選地，所述反射片在遠離液晶層的一側(cè)設(shè)置有若干個反光凹陷。
[0012]優(yōu)選地，所述反光凹陷的截面為鋸齒狀或圓弧狀。
[0013]優(yōu)選地，所述反光凹陷內(nèi)填充有透明樹脂。
[0014]優(yōu)選地，所述偏光片為線柵偏振片。
[0015]另一方面，本發(fā)明提供了一種顯示面板，所述顯示面板包括陣列基板、背光源以及上述偏光片，所述偏光片設(shè)置于所述陣列基板與背光源之間。
[0016]優(yōu)選地，所述顯示面板還包括絕緣層以及基底;所述偏光片設(shè)置于所述基底和絕緣層之間，所述陣列基板設(shè)置于所述絕緣層遠離所述偏光片的一側(cè)。
[0017]同時，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述顯示面板。
[0018]另外，本發(fā)明還提供了一種偏光片的制備方法，所述方法包括在基底上，并且在黑矩陣的投影區(qū)域形成反射片的步驟，其中所述反射片設(shè)置于偏光片上，并且所述反射片用于將入射到所述偏光片上的光線或由所述偏光片射出的光線進行反射。
[0019]優(yōu)選地，所述方法還包括將所述反射片形成于所述偏光片的入光面上，并且所述反射片與所述偏光片同層的步驟。
[0020]優(yōu)選地，形成所述反射片包括以下步驟:
[0021 ]在基底上沉積透明樹脂層；
[0022]對所述透明樹脂層壓進行壓制，在預(yù)定區(qū)域形成若干個凸起；
[0023]在所述透明樹脂層以及裸露的基底上沉積金屬反射物薄膜；
[0024]在所述金屬反射物薄膜的與所述預(yù)定區(qū)域不對應(yīng)的位置進行壓制，形成線柵起偏器，在與所述預(yù)定區(qū)域?qū)?yīng)的位置形成所述反射片；
[0025]其中所述預(yù)定區(qū)域為所述黑矩陣的投影區(qū)域。
[0026]優(yōu)選地，所述方法還包括利用利用納米壓印技術(shù)形成所述凸起以及所述線柵起偏器的步驟。
[0027]優(yōu)選地，所述凸起的截面為鋸齒狀或圓弧狀。
[0028]本發(fā)明提供了一種偏光片及其制備方法、顯示面板、顯示裝置，本發(fā)明將偏光片的黑矩陣的投影區(qū)域設(shè)置反射片，可以將入射到該反射片上的光反射回去，繼而可以被背光源反射回來重復(fù)利用，并且能夠有效阻擋通過該部位的光被黑矩陣吸收，從而提高了反射片的黑矩陣投影區(qū)域的反光能力，即提高了對背光源的光線的利用率以及顯示面板的透光率。另外，由于提高了背光源光線的利用率，從而可以降低背光源的亮度，那么將上述偏光片應(yīng)用于顯示器件，就可以使顯示器件的背光源的亮度設(shè)置的較低，那么就可以就提高顯示器件的電池的續(xù)航能力。
【附圖說明】
[0029]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0030]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中采用WGP作為下偏光片的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031 ]圖2是本發(fā)明的偏光片的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖3是本發(fā)明的一個較佳實施例一的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖4是本發(fā)明的一個較佳實施例二的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖5是本發(fā)明的一個較佳實施例三的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖6A-6G是本發(fā)明的一個較佳實施例四的偏光片的制備方法流程圖。
【具體實施方式】
[0036]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不能用來限制本發(fā)明的范圍。
[0037]如圖2所示，本發(fā)明提供一種偏光片，該偏光片為線柵偏振片，并且該偏光片上設(shè)置有反射片21，所述反射片21設(shè)置在黑矩陣的投影區(qū)域，從而可以將入射到所述偏光片上的光線或由所述偏光片射出的光線反射回去，繼而可以被背光源褪偏處理后反射回來重復(fù)利用，并且能夠有效阻擋通過該部位的光被黑矩陣吸收，從而提高了背光源的利用率，有利于降低背光源的亮度，那么將上述偏光片應(yīng)用于顯示器件，就可以使顯示器件的背光源的亮度設(shè)置的較低，那么就可以就提高顯示器件電池的續(xù)航能力。
[0038]進一步地，所述反射片設(shè)置在所述偏光片的入光面上或出光面上。具體地，所述反射片可以作為一個單獨的部件貼附于偏光片的入光面上或出光面上，也可以與所述偏光片同層。反射片的位置可以根據(jù)實際的需要靈活設(shè)置，同時不會對提高背光源的利用率造成不良的影響。
[0039]將反射片設(shè)置為與所述偏光片同層，可以進一步地減小偏光片的厚度，有利于偏光片或使用偏光片的器件向更薄的方向發(fā)展。
[0040]為了降低制造難度和成本，提高制造效率，同時保證對光線的反射效果，所述反射片采用金屬反射膜，優(yōu)選地所述反射片設(shè)計為鋁膜。
[0041]進一步地，所述反射片在遠離液晶層的一側(cè)設(shè)置有若干個反光凹陷。相對于平面結(jié)構(gòu)的反射面，可以使入射到反光凹陷側(cè)壁上的光線向四周反射，從而能夠使反射光線均勻的照射到背光源上，從而背光源就能夠在更大的面積上對反射光線進行褪偏處理，降低了背光源某一區(qū)域的褪偏工作的強度，提高了對反射光線處理的效率和褪偏精確度，即增設(shè)若干個反光凹陷會提高對光線的反射效果，從而能夠進一步地提高對背光源的利用率。優(yōu)選地所述反光凹陷的截面為鋸齒狀或圓弧狀。
[0042]增設(shè)反光凹陷后為了避免由于凹陷造成的結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定的缺陷，在反光凹陷內(nèi)填充透明樹脂，增加反射片的結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，解決了由于凹陷的存在引起的抗擠壓能力差的問題。同時由于透明樹脂不影響光線的傳播并且不會吸收光，因此不會對背光源的光線傳播造成影響，同時不會影響背光源的利用率。
[0043]本發(fā)明還公開了一種顯示面板，所述顯示面板包括陣列基板、背光源以及上述偏光片，所述偏光片設(shè)置于所述陣列基板與背光源之間。使用上述偏光片可以實現(xiàn)對背光源的光的重復(fù)利用，提高背光源的利用率，提升面板的透過率，從而可以降低背光源亮度來實現(xiàn)低功耗產(chǎn)品，應(yīng)用于現(xiàn)有移動產(chǎn)品，大大可以改善移動產(chǎn)品電池續(xù)航問題。
[0044]下面通過幾個具體的實施例對上述顯示面板進行具體的說明。
[0045]實施例一:
[0046]該實例的顯示面板包括陣列基板10、背光源6、偏光片8、絕緣層9以及第一基底7;如圖3所示，所述偏光片8設(shè)置于所述第一基底7和絕緣層之9間，所述陣列基板10設(shè)置于所述絕緣層9遠離所述偏光片8的一側(cè)。本實施例在偏光片8與陣列基板10之間設(shè)置絕緣層9，避免了由于反射片的導(dǎo)電性引起的電流通路，影響陣列基板的性能。
[0047]如圖3所示，本實施例中的顯示裝置還包括第二基板11、設(shè)置于第二基板上的彩膜層以及設(shè)置于所述彩膜層與陣列基板10之間的液晶層13。其中彩膜層包括黑矩陣和R/G/B像素塊。本實施例的偏光片8上設(shè)置有反射片12，并且所述放射片12設(shè)置在黑矩陣的投影區(qū)域，因此利用反射片12在可以提高背光源的利用率。同時如圖3所示，所述反射片12與所述偏光片8同層，因此在利用反射片12提高在背光源的利用率的同時可以進一步地降低顯示面板的厚度，使顯示面板向更薄的方向發(fā)展。
[0048]實施例二:
[0049]如圖4所示，該實例的顯示面板與實施例一的顯示面板的區(qū)別在于，該實施的顯示面板的偏光片的反射片在遠離液晶層的一側(cè)設(shè)置有若干個反光凹陷14，并且反光凹陷14中設(shè)置有透明樹脂。如圖4所示，該實施例的反光凹陷的截面為圓弧狀。
[0050]相對與實施例一，設(shè)置截面為圓弧狀的反光凹陷14，可以使由背光源發(fā)出的光線照射在截面為圓弧狀的反光凹陷的側(cè)壁上，從而使反射的光線向四周反射，均勻的反射回背光源，從而使背光源能夠在更大面積上對反射光進行褪偏處理，解決背光源在某一區(qū)域褪偏強度過大的問題，提高對反射光線的處理效率和褪偏精確度，以進一步地提高反射片對光線的反射效果。同時設(shè)置透明樹脂填充在反光凹陷中，由于樹脂是透明的，因此不會影響光線的傳輸光路，并且用透明樹脂填充反光凹陷，在顯示面試面板受到擠壓或顛簸時不容易變形，提高了顯示面板的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，避免了由于反光凹陷14的空隙造成的顯示面板結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定的問題。
[0051 ] 實施例三:
[0052]如圖5所示，該實例的顯示面板與實施例一的顯示面板的區(qū)別在于，該實施的顯示面板的偏光片的反射片在遠離液晶層的一側(cè)設(shè)置有截面為鋸齒狀的若干個反光凹陷15，并且反光凹陷15中設(shè)置有透明樹脂。
[0053]相對與實施例一，設(shè)置截面為鋸齒狀的反光凹陷15同樣可以進一步地的提高反射片對光線的反射效果，同時設(shè)置透明樹脂可以提高顯示面板的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，避免由于反光凹陷15帶來的顯示面板結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定的問題。
[0054]本發(fā)明還一種顯示裝置，該顯示裝置包括權(quán)上述顯示面板。
[0055]本發(fā)明同時還公開了一種偏光片的制備方法，所述方法包括在基底上，并且在黑矩陣的投影區(qū)域形成反射片的步驟，其中所述反射片設(shè)置于偏光片上，并且所述反射片用于將入射到所述偏光片上的光線或由所述偏光片射出的光線進行反射。該方法制作難度低，步驟簡便，成本低。同時制作的偏光片可以將入射到其上的光線或由其射出的光線反射回去，繼而可以被背光源反射回來重復(fù)利用，并且能夠有效阻擋通過該部位的光被黑矩陣吸收，提高了背光源的利用率。
[0056]下面通過一個具體的實施例對上述偏光片的制備方法進行詳細的介紹。
[0057]實施例四:
[0058]形成所述反射片包括以下步驟:
[0059]S1、在基底16上沉積透明樹脂層17;
[0060]S2、如圖6A、6B所示，對所述透明樹脂層17壓進行壓制，在預(yù)定區(qū)域形成若干個凸起;預(yù)定區(qū)域即反射片上黑矩陣的投影區(qū)域，其中所述凸起的截面為鋸齒狀或圓弧狀，截面為鋸齒狀或圓弧狀的透明樹脂凸起使背光源發(fā)出光傾斜的出射到凸起的側(cè)壁上，在凸起上形成反射金屬膜后，會使背光源發(fā)射的光線不只垂直反射，絕大部分的光線向四周反射，能夠使反射光線均勻的照射到背光源上；
[0061 ] 該步驟中優(yōu)選地納米壓印技術(shù)形成所述凸起；
[0062]S3、如圖6C所示，在所述透明樹脂層以及裸露的基底上沉積金屬反射物薄膜18;其中基底優(yōu)選地采用玻璃基底，金屬反射物薄膜優(yōu)選地為鋁膜，選擇鋁膜的原因是鋁的價格低，從而可以降低面板的成本，并且由于鋁的柔性號，所以對鋁的塑形比較容易簡便;另外，可以通過濺射的方式形成金屬反射物薄膜18;
[0063]S4、在所述金屬反射物薄膜18的與所述預(yù)定區(qū)域不對應(yīng)的位置進行壓制，形成線柵起偏器，在與所述預(yù)定區(qū)域?qū)?yīng)的位置形成所述反射片；其中所述預(yù)定區(qū)域為所述黑矩陣的投影區(qū)域，如圖6G所示。
[0064]具體地，步驟S4包括:
[0065]S41、如圖6D所示，在所述金屬反射物薄膜18上沉積S12層19;其中S12層作為刻蝕硬膜hard mask；
[0066]S42、如圖6E所示，在所述S12層19上沉積樹脂層20;
[0067]S43、使用特定形狀的模板對所述樹脂層20進行壓印，形成圖6F所示的樹脂圖形。其中利用預(yù)定形狀的模板形成的樹脂圖形包括中間部分為整體的片狀結(jié)構(gòu)，兩邊為兩排平行、等間隔排列的條狀結(jié)構(gòu)；
[0068]之后根據(jù)上述樹脂圖形對S12層19和金屬反射物薄膜18進行刻蝕形成圖6G所示的金屬反射物薄膜18的圖形;該步驟中優(yōu)選地利用納米壓印技術(shù)進行壓印形成金屬反射物薄膜18的圖形，即形成了包含反射片的偏光片。
[0069]通過上述方法形成的反射片，黑矩陣BM區(qū)域所對應(yīng)的背光源的光，經(jīng)過反射片會被完全反射，其反射率可以高達90%以上，而傾斜入射到反射片的光，會被反射到線柵起偏器WGP區(qū)域而被利用，這樣背光源的光可以大大的被利用。
[0070]以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術(shù)特征進行等同替換;而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求和說明書的范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項】
1.一種偏光片，其特征在于，所述偏光片上設(shè)置有反射片； 所述反射片設(shè)置在黑矩陣的投影區(qū)域，用于將入射到所述偏光片上的光線或由所述偏光片射出的光線進行反射。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述反射片設(shè)置在所述偏光片的入光面上或出光面上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏光片，其特征在于，所述反射片與所述偏光片同層。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述反射片為金屬反射膜。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的偏光片，其特征在于，所述反射片為鋁膜。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述反射片在遠離液晶層的一側(cè)設(shè)置有若干個反光凹陷。7.根據(jù)權(quán)利要6所述的偏光片，其特征在于，所述反光凹陷的截面為鋸齒狀或圓弧狀。8.根據(jù)權(quán)利要7所述的偏光片，其特征在于，所述反光凹陷內(nèi)填充有透明樹脂。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項所述的偏光片，其特征在于，所述偏光片為線柵偏振片。10.—種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括陣列基板、背光源以及權(quán)利要求1-9任一項所述的偏光片，所述偏光片設(shè)置于所述陣列基板與背光源之間。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板還包括絕緣層以及基底;所述偏光片設(shè)置于所述基底和絕緣層之間，所述陣列基板設(shè)置于所述絕緣層遠離所述偏光片的一側(cè)。12.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權(quán)利要求10或11所述的顯示面板。13.—種偏光片的制備方法，其特征在于，所述方法包括在基底上，并且在黑矩陣的投影區(qū)域形成反射片的步驟，其中所述反射片設(shè)置于偏光片上，并且所述反射片用于將入射到所述偏光片上的光線或由所述偏光片射出的光線進行反射。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制備方法，其特征在于，所述方法還包括將所述反射片形成于所述偏光片的入光面上，并且所述反射片與所述偏光片同層的步驟。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備方法，其特征在于，形成所述反射片包括以下步驟: 在基底上沉積透明樹脂層； 對所述透明樹脂層壓進行壓制，在預(yù)定區(qū)域形成若干個凸起； 在所述透明樹脂層以及裸露的基底上沉積金屬反射物薄膜； 在所述金屬反射物薄膜的與所述預(yù)定區(qū)域不對應(yīng)的位置進行壓制，形成線柵起偏器，在與所述預(yù)定區(qū)域?qū)?yīng)的位置形成所述反射片； 其中所述預(yù)定區(qū)域為所述黑矩陣的投影區(qū)域。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制備方法，其特征在于，所述方法還包括利用納米壓印技術(shù)形成所述凸起以及所述線柵起偏器的步驟。17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制備方法，其特征在于，所述凸起的截面為鋸齒狀或圓弧狀。
【文檔編號】G02B5/30GK105911630SQ201610519795
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年7月4日
【發(fā)明人】王英濤
【申請人】京東方科技集團股份有限公司