濾光器、光學(xué)模塊、電子設(shè)備及濾光器的制造方法
【專(zhuān)利說(shuō)明】濾光器、光學(xué)模塊、電子設(shè)備及濾光器的制造方法
[0001]本申請(qǐng)根據(jù)于2014年2月28日提交的日本專(zhuān)利申請(qǐng)N0.2014-038178的內(nèi)容，其全部?jī)?nèi)容結(jié)合于此作為參考。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及濾光器、光學(xué)模塊、電子設(shè)備及濾光器的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0003]目前使用一種從入射光中選擇指定波長(zhǎng)的光并使其通過(guò)的濾光器。并且，專(zhuān)利文獻(xiàn)I中公開(kāi)了使指定波長(zhǎng)的光通過(guò)的濾光器。該濾光器中，固定基板和可動(dòng)基板對(duì)向配置，在上述基板的對(duì)向面上分別設(shè)置有反射膜。
[0004]該濾光器選擇性地取出與對(duì)向的一對(duì)反射膜間的間隙對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)的光。通過(guò)控制基板間的距離的致動(dòng)器(actuator)來(lái)設(shè)定反射膜間的距離。在各基板上，致動(dòng)器通過(guò)設(shè)置于反射膜的周?chē)碾姌O等構(gòu)成，電壓施加于各電極。并且，靜電力作用于電極間而使基板變形，從而控制反射膜間的距離。
[0005]在反射膜設(shè)置有配線，配線與靜電電容檢測(cè)電路連接。反射膜間的距離越短，則靜電電容越大。靜電電容檢測(cè)電路檢測(cè)電極間的靜電電容而推定電極間的距離。
[0006]【現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)】
[0007]【專(zhuān)利文獻(xiàn)】
[0008]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平1-94312號(hào)公報(bào)
[0009]需要將反射膜間的距離控制為通過(guò)的光的波長(zhǎng)程度的短距離。因此，反射膜、作為從反射膜取出的配線的取出線為薄的膜。由于薄的取出線容易缺損，因此取出線與比取出線厚的難以缺損的配線連接。當(dāng)將厚的配線設(shè)置于基板上且將取出線設(shè)置于配線上時(shí)，將取出線設(shè)置于從基板上至配線的上面的平面差異處。取出線使用濺射裝置、蒸鍍裝置等而設(shè)置。當(dāng)將取出線設(shè)置于配線的平面差異處時(shí)，取出線在平面差異的側(cè)面變薄。因此，取出線在平面差異處易于缺損。因此，希望有一種具有從反射膜引出的取出線和配線高品質(zhì)地電連接的構(gòu)造的濾光器。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本發(fā)明為了解決上述的問(wèn)題而通過(guò)以下的方式或者適用例而實(shí)現(xiàn)。
[0011][適用例I]
[0012]本適用例涉及的濾光器的特征在于具備:固定基板；可動(dòng)部，與所述固定基板對(duì)向配置；第一反射膜，設(shè)置于所述固定基板；第二反射膜，設(shè)置于所述可動(dòng)部，所述第二反射膜與所述第一反射膜對(duì)向；以及間隔控制部，控制所述第一反射膜和所述第二反射膜的間隔，在所述第一反射膜和所述第二反射膜之間設(shè)置有導(dǎo)電性的第一基膜，在所述第一基膜上設(shè)置有第一配線，在所述第二反射膜和所述可動(dòng)部之間設(shè)置有導(dǎo)電性的第二基膜，在所述第二基膜上設(shè)置有第二配線。
[0013]根據(jù)本適用例，濾光器具備固定基板和可動(dòng)部。第一反射膜設(shè)置于固定基板，第二反射膜設(shè)置于可動(dòng)部。第一反射膜和第二反射膜對(duì)向配置。第一反射膜及第二反射膜反射入射光。在第一反射膜和第二反射膜之間產(chǎn)生光的多重反射，相位配合的光向入射光行進(jìn)的方向透過(guò)并行進(jìn)。間隔控制部控制第一反射膜和第二反射膜的間隔。由此，濾光器能夠控制透過(guò)的光的波長(zhǎng)。
[0014]在第一反射膜和固定基板之間設(shè)置有第一基膜(第I下地膜)。由于存在第一基膜，與將第一反射膜直接設(shè)置于固定基板上相比，貼緊性良好，能夠?qū)⒌谝环瓷淠ぴO(shè)置于固定基板上。并且，第一配線設(shè)置于第一基膜上。第一配線為比第一基膜厚的構(gòu)件。當(dāng)將第一基膜配置于第一配線上時(shí)，由于從固定基板上開(kāi)始至第一配線上為止配置有第一基膜，因此第一基膜容易產(chǎn)生斷線。另一方面，在本適用例中，由于第一配線設(shè)置于第一基膜上，因此，能夠形成第一基膜難以斷線的構(gòu)造。
[0015]同樣地，在第二反射膜和可動(dòng)部之間設(shè)置有第二基膜。由于存在第二基膜，與將第二反射膜直接設(shè)置于可動(dòng)部上相比，貼緊性良好，能夠?qū)⒌诙瓷淠ぴO(shè)置于可動(dòng)部上。并且，第二配線設(shè)置于第二基膜上。因此，能夠形成第二基膜難以斷線的構(gòu)造。從而，能夠貼緊性良好地將第一反射膜設(shè)置于固定基板，能夠使第一配線與第一反射膜高品質(zhì)地電連接。同樣地，能夠貼緊性良好地將第二反射膜設(shè)置于可動(dòng)部上，能夠使第二配線與第二反射膜高品質(zhì)地電連接。其結(jié)果是，能夠得到反射膜被高品質(zhì)地設(shè)置、反射膜和配線被高品質(zhì)地電連接的濾光器。
[0016][適用例2]
[0017]在上述適用例涉及的濾光器中，在所述第一反射膜和所述第二反射膜中的至少一個(gè)的表面設(shè)置有導(dǎo)電性的保護(hù)膜。
[0018]根據(jù)本適用例，保護(hù)膜設(shè)置于反射膜的表面。通過(guò)保護(hù)膜，能夠防止反射膜的表面受到損傷。因此，能夠高品質(zhì)地制造濾光器。并且，由于保護(hù)膜具有導(dǎo)電性，因此，能夠抑制在保護(hù)膜的表面產(chǎn)生靜電。因此，能夠高精度地控制第一反射膜和第二反射膜之間的距離。
[0019][適用例3]
[0020]在上述適用例涉及的濾光器中，在從所述第一反射膜的厚度方向俯視觀察時(shí)，所述第一反射膜小于所述第一基膜，所述第二反射膜小于所述第二基膜。
[0021]根據(jù)本適用例，第一反射膜比第一基膜小。因此，能夠以第一反射膜在所有的地方都與第一基膜接觸的方式使第一反射膜與第一基膜貼緊。同樣地，第二反射膜比第二基膜小。因此，能夠以第二反射膜在所有的地方都與第二基膜接觸的方式使第二反射膜與第二基膜貼緊。另一方面，當(dāng)?shù)谝环瓷淠け鹊谝换ご髸r(shí)，不與第一基膜接觸的第一反射膜有可能向第二反射膜側(cè)翹曲。同樣地，當(dāng)?shù)诙瓷淠け鹊诙ご髸r(shí)，不與第二基膜接觸的第二反射膜有可能向第一反射膜側(cè)翹曲。此時(shí)，難以高精度地控制第一反射膜和第二反射膜的間隔。在本適用例中，由于第一反射膜及第二反射膜不翹曲，因此，能夠高精度地控制第一反射膜和第二反射膜的間隔。
[0022][適用例4]
[0023]在上述適用例涉及的濾光器中，其特征在于，所述第一配線及所述第二配線中的至少一個(gè)的材質(zhì)是金屬。
[0024]根據(jù)本適用例，第一配線及第二配線中的至少一個(gè)的材質(zhì)為金屬。因此，當(dāng)使第一配線及第二配線的材質(zhì)為金屬時(shí)，能夠使流過(guò)配線的電流的電阻變小。其結(jié)果是，在第一反射膜及第二反射膜上產(chǎn)生靜電時(shí)，也能夠迅速地消除靜電。
[0025][適用例5]
[0026]在上述適用例涉及的濾光器中，所述保護(hù)膜被設(shè)置于所述第一反射膜的表面時(shí)，所述保護(hù)膜的材質(zhì)是與所述第一基膜相同的材質(zhì)，所述保護(hù)膜被設(shè)置于所述第二反射膜的表面時(shí)，所述保護(hù)膜的材質(zhì)是與所述第二基膜相同的材質(zhì)。
[0027]根據(jù)本適用例，保護(hù)膜及基膜夾著反射膜而設(shè)置。反射膜為第一反射膜時(shí)，基膜為第一基膜，反射膜為第二反射膜時(shí)，基膜為第二基膜。并且，當(dāng)濾光器的溫度變化時(shí)，保護(hù)膜、基膜及反射膜對(duì)應(yīng)溫度而伸縮。為了提高反射率，反射膜中使用金屬。因此，在反射膜中，當(dāng)在基膜側(cè)的面和保護(hù)膜側(cè)的面產(chǎn)生內(nèi)部應(yīng)力之差時(shí)，出現(xiàn)被稱(chēng)為“小丘”或“晶須”的突起。由此，反射膜的反射率下降。在本適用例中，夾著反射膜的保護(hù)膜及基膜為相同材質(zhì)。從而，夾著反射膜的保護(hù)膜及基膜為相同熱膨脹率。因此，在反射膜中，當(dāng)在基膜側(cè)的面和保護(hù)膜側(cè)的面難以產(chǎn)生內(nèi)部應(yīng)力之差，能夠抑制突起的出現(xiàn)。
[0028][適用例6]
[0029]在上述適用例涉及的濾光器中，其特征在于，所述第一基膜、所述第二基膜及所述保護(hù)膜的材質(zhì)是IGO。
[0030]根據(jù)本適用例，第一基膜、第二基膜及保護(hù)膜的材質(zhì)為IGO(Indium-galIiumoxide，鎵銦氧化物)。IGO的光的透過(guò)率高，因此，能夠高效率地使光透過(guò)。
[0031][適用例7]
[0032]本適用例涉及的光學(xué)模塊的特征在于具備:上述任一方面涉及的濾光器；以及收納部，收納所述濾光器。
[0033]根據(jù)本適用例，濾光器收納于收納部，被收納部保護(hù)。因此，在把持光學(xué)模塊時(shí)，能夠防止濾光器受到損傷。并且，濾光器為反射膜高品質(zhì)地設(shè)置、反射膜和配線高品質(zhì)地電連接的濾光器。從而，光學(xué)模塊能夠使規(guī)定的波長(zhǎng)的光高品質(zhì)地通過(guò)。
[0034][適用例8]
[0035]本適用例涉及的電子設(shè)備的特征在于具備:具備濾光器、以及控制所述濾光器的控制部，所述濾光器具備:固定基板；可動(dòng)部，與所述固定基板對(duì)向配置；第一反射膜，設(shè)置于所述固定基板；第二反射膜，設(shè)置于所述可動(dòng)部，所述第二反射膜與所述第一反射膜對(duì)向；以及間隔控制部，控制所述第一反射膜和所述第二反射膜的間隔，在所述第一反射膜和所述第二反射膜之間設(shè)置有導(dǎo)電性的第一基膜，在所述第一基膜上設(shè)置有第一配線，在所述第二反射膜和所述可動(dòng)部之間設(shè)置有導(dǎo)電性的第二基膜，在所述第二基膜上設(shè)置有第二配線。
[0036]根據(jù)本適用例，電子設(shè)備具備濾光器和控制部，控制部控制濾光器。濾光器具備間隔控制部、第一反射膜及第二反射膜，間隔控制部控制第一反射膜和第二反射膜的間隔。由于第一基膜設(shè)置于第一反射膜和固定基板之間，因此，能夠?qū)⒌谝环瓷淠べN緊性良好地設(shè)置于固定基板上。并且，由于第一配線設(shè)置于第一基膜上，因此，能夠得到第一基膜難以斷線的構(gòu)造。
[0037]同樣地，由于第二基膜設(shè)置于第二反射膜和可動(dòng)部之間，因此，能夠?qū)⒌诙瓷淠べN緊性良好地設(shè)置于可動(dòng)部上。并且，由于第二配線設(shè)置于第二基膜上，因此，能夠得到第二基膜難以斷線的構(gòu)造。從而，能夠貼緊性良好地將第一反射膜設(shè)置于固定基板，能夠使第一配線與第一反射膜高品質(zhì)地電連接。同樣地，能夠貼緊性良好地將第二反射膜設(shè)置于可動(dòng)部上，能夠使第二配線與第二反射膜高品質(zhì)地電連接。因此，能夠使電子設(shè)備為具備反射膜被高品質(zhì)地設(shè)置、反射膜和配線被高品質(zhì)地電連接的濾光器的電子設(shè)備。
[0038][適用例9]
[0039]本適用例涉及的濾光器的制造方法的特征在于包括在基板上設(shè)置第一膜，將所述第一膜形成圖案為第一形狀而形成基膜；在所述基板上及所述基膜上設(shè)置第一金屬膜，以所述第一金屬膜的一部分重疊在所述基膜上的方式形成圖案而形成配線；以及在所述基膜上重疊設(shè)置第二金屬膜及第二膜，將所述第二金屬膜及所述第二膜形成圖案為比所述第一形狀小的第二形狀，形成反射膜及保護(hù)膜。
[0040]根據(jù)本適用例，首先，第一膜設(shè)置于基板上。然后，形成有將第一膜形成圖案為第一形狀的基膜。然后，第一金屬膜設(shè)置于基板上及基膜上。接著，以將第一金屬膜的一部分重疊在基膜上的方式將第一金屬膜形成圖案而形成配線。基膜和配線重疊設(shè)置而電連接。并且，由于配線設(shè)置于基膜上，因此，在配線厚時(shí)，也能夠防止基膜斷線。
[0041]然后，在基膜上重疊地設(shè)置第二金屬膜及第二膜。并且，第二金屬膜及第二膜形成圖案為比第一形狀小的第二形狀。由第二金屬膜形成反射膜，由第二膜形成保護(hù)膜。由于反射膜經(jīng)由基膜而設(shè)置于基板，因此，其被貼緊性良好地設(shè)置。并且，由于保護(hù)膜保護(hù)反射膜，因此，反射膜能夠高品質(zhì)地反射光。第二形狀為比第一形狀小的形狀。因此，能夠以反射膜不扭曲的方式進(jìn)行設(shè)置。
[0042][適用例10]
[0043]在上述適用例涉及的濾光器的制造方法中，所述基膜的材質(zhì)是IGO，所述第一金屬膜具有金屬基層和金屬上側(cè)層，所述金屬基層是TiW、Cr、NiCr中的任一種。
[0044]根據(jù)本適用例，基膜的材質(zhì)為IGO。金屬基層為T(mén)iW、Cr、NiCr中的任一種。當(dāng)金屬基層為T(mén)iW時(shí)，可以使用高氯酸類(lèi)的蝕刻液作為蝕刻液。并且，當(dāng)金屬基層為Cr、NiCr時(shí)，可以使用硝酸鈰類(lèi)的蝕刻液作為蝕刻液。并且，蝕刻金屬基層時(shí)，有可能對(duì)基膜帶來(lái)?yè)p傷。IGO不會(huì)被高氯酸類(lèi)的蝕刻液及硝酸鈰類(lèi)的蝕刻液損傷，因此，不會(huì)給基膜帶來(lái)?yè)p傷而能夠圖案化金屬基層。
【附圖說(shuō)明】
[0045]圖1涉及第一實(shí)施方式，圖1的(a)及圖1的(b)為示出光學(xué)模塊的構(gòu)造的概略立體圖。
[0046]圖2的(a)為示出光學(xué)模塊的構(gòu)造的示意俯視圖，圖2的(b)及(C)為示出光學(xué)模塊的構(gòu)造的示意側(cè)截面圖。
[0047]圖3的(a)為示出濾光器的構(gòu)造的示意側(cè)截面圖，圖3的(b)為示出反射膜的構(gòu)造的主要部分示意截面圖。
[0048]圖4的(a)為不出可動(dòng)基板的構(gòu)造的不意俯視圖，圖4的(b)為不出固定基板的構(gòu)造的示意俯視圖。
[0049]圖5為用于說(shuō)明控制部的構(gòu)造的電路圖。
[0050]圖6的(a)?(e)為用于說(shuō)明光學(xué)模塊的制造方法的示意圖。
[0051]圖7的(a)?(d)為用于說(shuō)明光學(xué)模塊的制造方法的示意圖。
[0052]圖8的(a)?⑷為用于說(shuō)明光學(xué)模塊的制造方法的示意圖。
[0053]圖9為示出第二實(shí)施方式涉及的測(cè)色裝置的構(gòu)成的模塊圖。
[0054]圖10為示出第三實(shí)施方式涉及的氣體檢測(cè)裝置的構(gòu)成的示意正視圖。
[0055]圖11為示出氣體檢測(cè)裝置