形可以包括多重對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，例如包括雙重對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，即包括內(nèi)框、外框、及內(nèi)框與外框間隔區(qū)的溝道及光刻膠，以提高套刻精度(即對(duì)準(zhǔn)精度)量測(cè)的穩(wěn)定性。
[0052]一般的，所述光刻對(duì)準(zhǔn)圖形中，每層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的長(zhǎng)寬尺寸可以相同或不同；每個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的線寬可以相同或不同；投影后所有光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的間距可以是均勻的，也可以是不均勻的，其中，請(qǐng)參考圖4，每層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的寬為其X方向上的兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的間距，長(zhǎng)為其Y方向上的兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的間距；任意兩層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的線寬可以相同，也可以不同，每層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形自身兩個(gè)方向上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的線寬可以相同，也可以不同。
[0053]因此，本發(fā)明的光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)的不同層次間的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形尺寸可變，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的線寬可變，具體層次的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形可以依據(jù)實(shí)際區(qū)域大小而變化，能夠適用于各個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)不同光刻層次和不同尺寸切割道類(lèi)型，所述不同光刻層次包括但不僅限于通孔形、線型及溝道狀層次；且包括了 X、Y兩個(gè)方向的延展與收縮，整體結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)寬尺寸可變，放置區(qū)域能夠依據(jù)實(shí)際空間可變，能夠適用于不同光源曝光機(jī)臺(tái)和各個(gè)種類(lèi)光刻制程，所述光源曝光機(jī)臺(tái)包括但不僅限于I線光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)、ArF光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)臺(tái)，所述光刻制程包括但不限于雙重曝光制程、3次曝光制程和4次曝光制程。
[0054]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，相鄰兩層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形構(gòu)成的光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)寬尺寸可變，包括內(nèi)框、外框、及內(nèi)框與外框間隔區(qū)的溝道及光刻膠，類(lèi)似于傳統(tǒng)的雙重曝光制程的光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)，但內(nèi)框圖形用于被對(duì)準(zhǔn)，外框圖形用于對(duì)準(zhǔn)。
[0055]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)用于雙重曝光制程工藝時(shí)，主要由兩層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形構(gòu)成，即所述光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)包括一層用于被對(duì)準(zhǔn)的第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I以及一層用于對(duì)準(zhǔn)的第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2，且第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形為內(nèi)框，其長(zhǎng)和寬包括但不僅限于為I微米，第二當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2為外框，其長(zhǎng)和寬包括但不僅限于為2微米。
[0056]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)用于3次以上曝光制程工藝時(shí)，第一層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I的長(zhǎng)和寬可以均為3微米，第二層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2的長(zhǎng)和寬可以均為4.5微米，以此類(lèi)推，第N層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的長(zhǎng)和寬可以為[3+1.5* (N-1)]微米，N大于2。且所有光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的X、Y方向上，線寬可以相同或不同，圖案間隔(即所有的內(nèi)框與外框間隔區(qū))可以相同或不同。
[0057]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，例如本發(fā)明的技術(shù)方案應(yīng)用于3次以上曝光制程工藝、光刻、蝕刻正常流程等的實(shí)施例中，光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)也可以采用上述對(duì)于內(nèi)外框線寬的設(shè)定，但并不限于上述設(shè)定，即在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，第一層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I的長(zhǎng)和寬可以是但不限于3微米，第二層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2的長(zhǎng)和寬可以是但不限于4.5微米，第N層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形與第一層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形1、第二層前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2的長(zhǎng)和寬的關(guān)系，可以是但不限于[3+1.5*(Ν-1]，例如還可以成其他線性或非線性的函數(shù)關(guān)系，也可以是非函數(shù)關(guān)系。
[0058]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，可以依據(jù)實(shí)際光刻工藝制程建立對(duì)準(zhǔn)樹(shù)，該對(duì)準(zhǔn)樹(shù)上包括每層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度與前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度的關(guān)系。
[0059]本發(fā)明還提供一種上述之一的光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)的制造方法，包括:
[0060]按時(shí)間順序依次光刻并刻蝕出至少一層用于被對(duì)準(zhǔn)的前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形；
[0061]選取至少一層所述前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形用作當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形建立時(shí)的被對(duì)準(zhǔn)圖形，并根據(jù)所選取的前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度，建立與所選取的前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形均對(duì)準(zhǔn)的當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形；
[0062]對(duì)當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形進(jìn)行蝕刻，以作為后層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的被對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；
[0063]選取至少一層所述前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形和/或蝕刻后的當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形用作所述后層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形建立時(shí)的被對(duì)準(zhǔn)圖形，并根據(jù)所選取的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度，建立與所選取的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形均對(duì)準(zhǔn)的后層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形。
[0064]請(qǐng)參考圖4和圖6，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)的制造方法，具體如下:
[0065]光刻并刻蝕出(即建立)第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I ;
[0066]光刻并刻蝕出(即建立)第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2 ;
[0067]光刻并刻蝕出(即建立)第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形3 ;
[0068]......
[0069]光刻并刻蝕出(即建立)第i層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形i ;
[0070]......
[0071]光刻并刻蝕出(即建立)第N層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形N。
[0072]其中，定義出的第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I包括了用于光刻對(duì)準(zhǔn)圖形建立時(shí)的套刻精度量測(cè)需要的X、Y兩個(gè)方向矢量參數(shù)，然后根據(jù)第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I的X、Y兩個(gè)方向矢量參數(shù)(相當(dāng)于第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I的套刻精度)，定義出與第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I對(duì)準(zhǔn)的第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2，并通過(guò)光學(xué)顯微鏡進(jìn)行第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2與第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的對(duì)準(zhǔn)精度測(cè)量，獲得第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2的套刻精度；接著，對(duì)第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2進(jìn)行蝕刻作為第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形3的被對(duì)準(zhǔn)圖形；再接著，選取第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I和/或第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2作為第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形3的被對(duì)準(zhǔn)圖形，依據(jù)所選取的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度，建立與所選取的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形對(duì)準(zhǔn)的第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形3，并進(jìn)行第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形與第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形2、第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形I的對(duì)準(zhǔn)精度測(cè)量，獲得第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形3的套刻精度；最后，以此類(lèi)推，在后續(xù)不同層次依次外延擴(kuò)展出多層次光刻對(duì)準(zhǔn)圖形4、.....、N，外延擴(kuò)展過(guò)程包括了相鄰層對(duì)準(zhǔn)精度量測(cè)以及跨層次間對(duì)準(zhǔn)精度的量測(cè)。當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形建立時(shí)，選取的用作被對(duì)準(zhǔn)圖形的前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形越多，當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度越高。
[0073]請(qǐng)參考圖5，為了減小量測(cè)誤差，提高量測(cè)穩(wěn)定性的效果，光刻并刻蝕出(即建立)當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的步驟，具體如下:
[0074]選取前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形k用作被對(duì)準(zhǔn)圖形，并根據(jù)前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形k的套刻精度，在當(dāng)層建立內(nèi)框?qū)?zhǔn)標(biāo)記和外框?qū)?zhǔn)標(biāo)記；
[0075]分別測(cè)量所述內(nèi)框和外框相對(duì)于前層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形k的套刻精度；
[0076]將測(cè)量的套刻精度的平均值作為當(dāng)層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度，以用于后續(xù)光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的建立。
[0077]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在3次以上曝光制程中，所述光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)的制造方法包括:
[0078]光刻并刻蝕出用于被對(duì)準(zhǔn)的第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形；
[0079]依據(jù)第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度，建立與第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形對(duì)準(zhǔn)的第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形，并測(cè)量第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形相對(duì)于第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度；
[0080]對(duì)第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形進(jìn)行蝕刻，以作為第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的被對(duì)準(zhǔn)圖形；
[0081]選取第一層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形和/或第二層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形作為第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的被對(duì)準(zhǔn)圖形，依據(jù)所選取的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形的套刻精度，建立與所選取的光刻對(duì)準(zhǔn)圖形對(duì)準(zhǔn)的第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形，并測(cè)量第三層光刻對(duì)準(zhǔn)圖形相對(duì)于