專利名稱：具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品及使用它的陰極射線管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及涂有抗反射膜的玻璃制品，該抗反射膜還兼有導(dǎo)電性和光吸收性。具體地說，本發(fā)明涉及用于顯示器中的諸如面板之類的玻璃制品，在顯示器例如陰極射線管中，用被加速的電子射線激勵(lì)熒光物質(zhì)以此來顯示圖像，用諸如樹脂或玻璃料之類的粘結(jié)劑將玻璃板粘結(jié)到該面板的顯示區(qū)域正面。本發(fā)明還涉及使用玻璃制品的陰極射線管。
背景技術(shù)：
在使用陰極射線管的顯示器例如電視接收機(jī)中，正在采取措施使外光從顯示表面的反射減少，以便提高顯示質(zhì)量。由于在采用陰極射線管的這些顯示器中使用了電子槍，因而要用高電壓，于是圖像顯示表面被靜電充電，并由此吸收空氣中漂浮的塵粒。因此，為了防止或阻止導(dǎo)致靜電充電的現(xiàn)象，要采取措施使顯示器正面具有導(dǎo)電性。
此外，已指出，被高電壓加速的電子射線產(chǎn)生電磁波，該電磁波可對(duì)人體產(chǎn)生不利影響。因此，生產(chǎn)這樣的顯示器，其中在顯示區(qū)域的正面涂有用于電磁波屏蔽的導(dǎo)電涂膜。
對(duì)于上述目的，已采用將涂有抗反射導(dǎo)電膜的玻璃板粘結(jié)到陰極射線管面板上或用抗反射導(dǎo)電膜直接涂敷面板外表面的技術(shù)。
為了提高陰極射線管顯示質(zhì)量的目的而用作玻璃制品上的涂膜的這種抗反射導(dǎo)電膜的實(shí)例，包括如JP-A-64-70701所公開的用玻璃板/金屬/氧化鈦/氧化硅表示的多層結(jié)構(gòu)(本文所用術(shù)語“JP-A”指“未審查的已公開的日本專利申請(qǐng)”)；如JP-A-1-180333所公開的用玻璃板/氟化鎂/金屬/氧化鈦/氟化鎂表示的多層結(jié)構(gòu)；和如日本專利第2565538號(hào)所公開的用玻璃/鈦酸鐠/金屬/鈦酸鐠/氟化鎂表示的多層結(jié)構(gòu)。
上述引證文件中公開的用于現(xiàn)有技術(shù)中的那些金屬膜是不銹鋼、鈦、鉻、鋯、鉬和鎳薄膜。
可是，有多層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜存在一個(gè)問題，其中多層結(jié)構(gòu)包括由上述引證文件中所示的金屬和合金中的任何一種構(gòu)成的至少一個(gè)金屬膜和一個(gè)或多個(gè)透明介質(zhì)膜，當(dāng)金屬膜的厚度減小到5毫微米(nm)或更小以便得到高可見光透射率時(shí)，抗反射膜的電阻明顯增大，導(dǎo)致抗靜電性能和電磁波屏蔽性能大大減小。
并且，當(dāng)對(duì)陰極射線管進(jìn)行在玻璃構(gòu)成的面板正面上形成抗反射膜和用玻璃料通過加熱將該被涂敷的面板粘結(jié)到錐體上時(shí)的生產(chǎn)加工時(shí)，包含由上述引證文件中所示的任何金屬和合金構(gòu)成的金屬膜的抗反射膜存在缺點(diǎn)。具體地說，在通過加熱進(jìn)行粘結(jié)的步驟中，抗反射導(dǎo)電膜的電阻明顯增大，透射率也增加。因此，難以提供既具有光吸收性能又具有極好的抗靜電性能的陰極射線管。換言之，任何現(xiàn)有技術(shù)在形成抗反射導(dǎo)電膜方面均沒有得到成功，這種抗反射導(dǎo)電膜的電阻或可見光透射率即使在陰極射線管組裝的加熱時(shí)都幾乎不改變。
發(fā)明詳述本發(fā)明的第一目的在于提供具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，作為第一玻璃制品，該玻璃制品包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜，在550nm的波長測量時(shí)，玻璃基板的折射率為1.4-1.7，抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層，疊置層包括按該順序形成于玻璃基板上的為金屬膜的第一層、為高折射率透明介質(zhì)膜的第二層、和為低折射率透明介質(zhì)膜的第三層，在550nm的波長測量時(shí)，高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4，低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46，所述金屬膜是鎳鐵合金膜，和所述玻璃制品的可見光反射率為1％或以下。(以下稱為“第一實(shí)施例”)。
本發(fā)明的第二目的在于提供具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，作為第二玻璃制品，該玻璃制品包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜，在550nm的波長測量時(shí)，玻璃基板的折射率為1.4-1.7，抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層，疊置層包括按該順序形成于玻璃基板上的為金屬膜的第一層、為高折射率透明介質(zhì)膜的第二層、為中等折射率透明介質(zhì)膜的第三層和為低折射率透明介質(zhì)膜的第四層，在550nm的波長測量時(shí)，高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4，中等折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.7-1.9，低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46，所述金屬膜是鎳鐵合金膜，和所述玻璃制品的可見光反射率為1％或以下。(以下稱為“第二實(shí)施例”)。
本發(fā)明的第三目的在于提供具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，作為第三玻璃制品，該玻璃制品包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜，在550nm的波長測量時(shí)，玻璃基板的折射率為1.4-1.7，抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層，疊置層包括按該順序形成于玻璃基板上的為金屬膜的第一層、為高折射率透明介質(zhì)膜的第二層、為金屬膜的第三層、為高折射率透明介質(zhì)膜的第四層和為低折射率透明介質(zhì)膜的第五層，在550nm的波長測量時(shí)，高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4，低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46，分別作為第一和第三層的金屬膜中的至少一個(gè)是鎳鐵合金膜，和所述玻璃制品的可見光反射率為1％或以下。(以下稱為“第三實(shí)施例”)。
附圖的簡要說明

圖1是本發(fā)明的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品一個(gè)實(shí)施例的剖面圖。
圖2是說明本發(fā)明的抗反射導(dǎo)電膜的多層結(jié)構(gòu)的局部剖面圖。
圖3是表示本發(fā)明實(shí)例的可見光區(qū)透射率/反射特性的曲線圖。
附圖中的標(biāo)號(hào)如下所述。1具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，2抗反射導(dǎo)電膜，3玻璃基板，4金屬膜，5高折射率透明介質(zhì)膜，6低折射率透明介質(zhì)膜，7中等折射率透明介質(zhì)膜，8底涂(undercoat)膜。
實(shí)施發(fā)明的最好方式在本發(fā)明第一實(shí)施例中的金屬膜應(yīng)該是鎳和鐵的合金膜。金屬膜的鎳含量優(yōu)選為5wt％或以上，為10wt％或以上更好。最好的鎳含量為70wt％或以上。低于5wt％的鎳含量是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的熱性能與僅由鐵構(gòu)成的金屬膜的類似，并且因加熱其電阻率增大很多和透射率改變很多。
金屬膜的鎳含量優(yōu)選為95wt％或以下。其鎳含量超過95wt％是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的熱性能與僅由鎳構(gòu)成的金屬膜的類似，并且特別是當(dāng)其厚度小于4nm時(shí)其電阻率過高。
在本發(fā)明第一實(shí)施例中，金屬膜的厚度優(yōu)選為1.5-8nm。其厚度低于1.5nm是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的電阻率過高。另一方面，其厚度超過8nm也是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的透射率減小，引起顯示圖像發(fā)暗。
在本發(fā)明第一實(shí)施例中，可見光反射被調(diào)節(jié)到1％或以下。此外，從防止玻璃制品用于陰極射線管時(shí)產(chǎn)生的明顯色調(diào)反射的觀點(diǎn)來看，用作第二層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為5-140nm，用作第三層的低折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為50-120nm。
在本發(fā)明第二實(shí)施例中的金屬膜應(yīng)該是鎳和鐵的合金膜。金屬膜的鎳含量優(yōu)選為5wt％或以上，為10wt％或以上更好，為70wt％或以上最好。低于5wt％的鎳含量是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的熱性能與僅由鐵構(gòu)成的金屬膜的類似，并且因加熱其電阻率增大很多和透射率改變很多。
金屬膜的鎳含量優(yōu)選為95wt％或以下。其鎳含量超過95wt％是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的熱性能與僅由鎳構(gòu)成的金屬膜的類似，并且特別是當(dāng)其厚度小于4nm時(shí)其電阻率過高。
在本發(fā)明第二實(shí)施例中，金屬膜的厚度優(yōu)選為1.5-8nm。其厚度低于1.5nm是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的電阻率過高。另一方面，其厚度超過8nm也是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的透射率減小，引起顯示圖像發(fā)暗。
在本發(fā)明第二實(shí)施例中，可見光反射被調(diào)節(jié)到1％或以下。此外，從防止玻璃制品用于陰極射線管時(shí)產(chǎn)生的明顯色調(diào)反射的觀點(diǎn)來看，用作第二層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為5-70nm，用作第三層的中等折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為50-100nm，用作第四層的低折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為50-120nm。
在本發(fā)明第三實(shí)施例中，金屬膜也應(yīng)該是鎳和鐵的合金膜。金屬膜的鎳含量優(yōu)選為5wt％或以上，為10wt％或以上更好，為70wt％或以上最好。低于5wt％的鎳含量是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的熱性能與僅由鐵構(gòu)成的金屬膜的類似，并且因加熱其電阻率增大很多和透射率改變很多。
金屬膜的鎳含量優(yōu)選為95wt％或以下。其鎳含量超過95wt％是不合需要的，它將導(dǎo)致金屬膜的熱性能與僅由鎳構(gòu)成的金屬膜的類似，并且特別是當(dāng)其厚度小于4nm時(shí)其電阻率過高。
在本發(fā)明第三實(shí)施例中，分別用作第一和第三層的金屬膜的厚度分別優(yōu)選為1.5-7.5nm，和其總厚度優(yōu)選為9nm或以下。限制各金屬層厚度的理由與上述第一和第二實(shí)施例中的相同。其總厚度超過9nm是不合需要的，當(dāng)抗反射膜用于顯示器正面上時(shí)，因該膜的透明度減小，它將導(dǎo)致顯示圖像發(fā)暗。
在本發(fā)明第三實(shí)施例中，可見光反射被調(diào)節(jié)到1％或以下。此外，從防止玻璃制品用于陰極射線管時(shí)產(chǎn)生明顯色調(diào)反射的觀點(diǎn)來看，用作第二層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為10-70nm，用作第四層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為10-70nm，用作第五層的低折射率透明介質(zhì)膜的厚度優(yōu)選為70-120nm，在本發(fā)明第一、第二和第三實(shí)施例的每一個(gè)中，玻璃基板可以是由玻璃或透明或無色玻璃板制成的面板。并不特別限制這些玻璃基板的玻璃成分。例如，如果需要，在經(jīng)過諸如彎曲或回火之類的處理之后可采用含有鈉鈣硅酸鹽成分、硼硅酸鹽成分、鋁硅酸鹽成分、或鋁硼硅酸鹽成分的玻璃基板。
在本發(fā)明第一、第二和第三實(shí)施例的每一個(gè)中，高折射率透明介質(zhì)膜的實(shí)例包括鈦酸鐠(PrTiO3)、氧化鈦(TiO2)、氧化鉭(Ta2O5)和氧化鋯(ZrO2)膜。其中優(yōu)選鈦酸鐠。這是因?yàn)殁佀徵挼耐该骱椭旅苣た赏ㄟ^汽相淀積形成而不需要導(dǎo)入氧氣來進(jìn)行淀積，因此，可防止所形成的金屬膜氧化變質(zhì)。
在本發(fā)明第一、第二和第三實(shí)施例的每一個(gè)中，低折射率透明介質(zhì)膜的材料實(shí)例包括氟化鎂和二氧化硅。其中因?yàn)榉V的折射率低至1.35，因而優(yōu)選氟化鎂。即，在氟化鎂膜與高折射率透明介質(zhì)膜之間可得到大的折射率差，從而容易減小反射率。
在本發(fā)明第二實(shí)施例中的中等折射率透明介質(zhì)膜的材料實(shí)例包括氧化鎂(MgO)、氧化鈮(Nb2O5)和一氧化硅(SiO)。其中優(yōu)選氧化鎂。這是因?yàn)檠趸V的透明和致密膜可通過汽相淀積形成而不需要導(dǎo)入氧氣來進(jìn)行淀積，因此，可防止所形成的金屬膜氧化變質(zhì)。
在本發(fā)明第一、第二和第三實(shí)施例的每一個(gè)中，透明介質(zhì)層(以下稱為“底涂膜”)可形成在玻璃基板與作為第一層的金屬膜之間。形成該底涂膜的目的是為了防止玻璃表面與作為第一層的金屬膜接觸，即，防止諸如水之類的玻璃表面上的雜質(zhì)進(jìn)入金屬膜中，增大金屬膜的電阻。
并不特別限制構(gòu)成底涂膜的材料?？墒?，其優(yōu)選實(shí)例包括鈦酸鐠、氧化鎂和氟化鎂(MgF2)。
從使光滑金屬膜形成為第一層由此使金屬膜的電阻減小的觀點(diǎn)來看，底涂膜的厚度優(yōu)選為3nm或以上。從減小底涂膜本身的表面粗糙度的觀點(diǎn)來看，其厚度優(yōu)選為7nm或以下，為5nm或以下更好。
為了例如精細(xì)地調(diào)節(jié)光吸收程度或反射色調(diào)的目的，只要第三金屬的加入不會(huì)明顯減小金屬層的熱阻，那么在本發(fā)明第一、第二和第三實(shí)施例的每一個(gè)中，可將第三金屬加入包括鎳和鐵的金屬層中。
可用例如汽相淀積或離子鍍敷等常規(guī)技術(shù)來形成本發(fā)明第一、第二和第三實(shí)施例的每一個(gè)中的抗反射導(dǎo)電膜的各結(jié)構(gòu)層。
采用通過加熱將涂有本發(fā)明抗反射導(dǎo)電膜的面板粘結(jié)到錐體上的方法，或采用將面板粘結(jié)到錐體，然后用本發(fā)明的抗反射導(dǎo)電膜涂覆面板的方法，可產(chǎn)生本發(fā)明的陰極射線管。
下面參照附圖和實(shí)例來說明本發(fā)明。
圖1是本發(fā)明具有抗反射導(dǎo)電涂層1的制品一個(gè)實(shí)施例的剖面圖。該制品1包括由玻璃制成的面板3和涂敷面板3的圖像顯示區(qū)域的抗反射導(dǎo)電膜2。
圖2是本發(fā)明的用于說明抗反射導(dǎo)電膜2的多層結(jié)構(gòu)的局部剖面圖。圖2(a)中所示的抗反射導(dǎo)電膜2由按此順序形成在面板3上的膜構(gòu)成，即，金屬膜4、高折射率透明介質(zhì)膜5和低折射率透明介質(zhì)膜6。圖2(b)中所示的抗反射導(dǎo)電膜2由按此順序形成在面板3上的膜構(gòu)成，即，金屬膜4、高折射率透明介質(zhì)膜5、中等折射率透明介質(zhì)膜7和低折射率透明介質(zhì)膜6。圖2(c)中所示的抗反射導(dǎo)電膜2由按此順序形成在面板3上的膜構(gòu)成，即，底涂膜8、金屬膜4、高折射率透明介質(zhì)膜5、金屬膜4、高折射率透明介質(zhì)膜5和低折射率透明介質(zhì)膜6。
圖3示出了本發(fā)明在實(shí)例6中所得到的樣品的可見光區(qū)域的反射/透射頻譜特性。
在下面給出的實(shí)例和比較例中，下列材料用于通過汽相淀積形成各膜。
.實(shí)例中的鎳鐵膜有規(guī)定成分的鎳鐵合金絲。
.比較例1和3中的鎳膜鎳絲。
.比較例2中的鐵膜鐵絲。
.比較例4和5中的鎳鐵鉻膜有規(guī)定成分的鎳鐵鉻合金。
.比較例6中的鎳鉻膜有規(guī)定成分的鎳鉻合金絲。
.鈦酸鐠膜Merck & Co.，Inc.制造的SUBSTANCE H2(商標(biāo)名)的丸。
.氧化鎂膜粒狀氧化鎂。
.氟化鎂膜粒狀氟化鎂。
實(shí)例1在真空淀積容器中放置尺寸為100mm×100mm×3mm(厚度)的充分清洗的鈉鈣硅酸鹽玻璃板，然后利用設(shè)置于汽相淀積裝置中的基板加熱器將其加熱到300℃。在這樣加熱玻璃板的同時(shí)，將具有表1的實(shí)例1的欄中所示的多層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜淀積到玻璃板上。為了蒸發(fā)汽相淀積材料，使用電子束淀積方法。將含有各淀積材料的坩鍋與玻璃板之間的距離調(diào)節(jié)到100cm，在旋轉(zhuǎn)玻璃板的同時(shí)進(jìn)行淀積。在淀積各結(jié)構(gòu)膜之前，利用油擴(kuò)散泵將容器抽真空到0.003Pa的真空度。在淀積鎳鐵合金、鈦酸鐠、氟化鎂和氧化鎂膜時(shí)，不導(dǎo)入氧氣。
將所得到的樣品從汽相淀積裝置中取出并檢查透射率(波長550nm)、涂敷側(cè)的反射率(波長550nm)和作為抗靜電性能量度的表面電阻率。通過化學(xué)分析確定金屬膜的成分。上述檢查和確定結(jié)果示于表2中。并且，在空氣中于450℃對(duì)樣品熱處理1小時(shí)，然后檢查透射率、涂敷側(cè)的反射率和表面電阻率。所得到的結(jié)果示于表2中實(shí)例1的欄。
實(shí)際應(yīng)用需要的樣品的反射率為1％或以下。經(jīng)過熱處理后其反射率幾乎不改變，仍保持在1％或以下。樣品的表面電阻率為282Ω/□，這對(duì)抗靜電性能來說是足夠低的。通過熱處理，樣品的電阻率減小而不是劣化(增大)。樣品透射率從66.5變化到67.2％，其變化小至0.7％。熱處理之后的透射率值在40到80％的范圍內(nèi)，這是陰極射線管的面板或粘到透明面板上的前面玻璃屏板所需要的。
按與實(shí)例1相同的方式，在玻璃板上淀積分別具有表1中所示層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜。對(duì)這樣得到的樣品進(jìn)行與實(shí)例1相同的測試，其結(jié)果示于表2中。在初始階段和在熱處理之后，實(shí)例2到10的樣品的反射率為1％或以下。在初始階段，樣品的表面電阻率低至500Ω/□以下，并且發(fā)現(xiàn)通過熱處理減小而不是明顯增加。各樣品經(jīng)過熱處理之后透射率的改變小至2.2％或以下。
實(shí)例4的樣品的膜結(jié)構(gòu)與實(shí)例2的膜結(jié)構(gòu)相同，只是前者附加有鈦酸鐠的底涂膜。實(shí)例7的樣品的膜結(jié)構(gòu)與實(shí)例6的膜結(jié)構(gòu)相同，只是前者附加有鈦酸鐠的底涂膜。比較實(shí)例2和4以及比較實(shí)例6和7表明附加形成底涂膜對(duì)減小表面電阻率有效。
表1

上面表示的是膜材料、下面表示的是膜厚(單位nm)，金屬膜的成分含量為wt％。
表2

之前熱處理之前之后熱處理之后差值(熱處理之后的值)--(熱處理之前的值)比較例1用與實(shí)例1中所示相同的方式淀積具有表3的比較例1的欄中所示層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜，其中金屬膜僅由鎳制成，得到比較樣品。用與實(shí)例1中相同的方法評(píng)價(jià)該比較樣品，其結(jié)果示于表4的比較例1的欄中。該比較樣品的反射率為1％或以下，其顯示出令人滿意的透射率的熱穩(wěn)定性。可是，在初始階段和經(jīng)過熱處理之后，其表面電阻率高于2MΩ/□，表明比較樣品不能具有令人滿意的抗靜電性能。
比較例2用與實(shí)例1中所示相同的方式淀積具有表3的比較例2的欄中所示層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜，其中金屬膜僅由鐵制成，得到比較樣品。用與實(shí)例1中相同的方法評(píng)價(jià)該比較樣品，其結(jié)果示于表4的比較例2的欄中。盡管該比較樣品的初始反射率低至0.43％，但通過熱處理，其透射率和反射率分別增加到18.7％和4.08％。并且，在初始階段和經(jīng)過熱處理之后，其表面電阻率高于2MΩ/□，表明比較樣品不能具有令人滿意的抗靜電性能。
比較例3
淀積具有表3的比較例3的欄中所示層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜，得到比較樣品。該層結(jié)構(gòu)含有僅由鎳制成的金屬膜和插在玻璃板與作為第一層的金屬膜之間的鈦酸鐠底涂膜。用與實(shí)例1中相同的方法評(píng)價(jià)該比較樣品，其結(jié)果示于表4的比較例3的欄中。在熱處理之前和之后，該比較例的反射率為1％或以下，并且呈現(xiàn)令人滿意的透射率的熱穩(wěn)定性?？墒牵诔跏茧A段和經(jīng)過熱處理之后，其表面電阻率高于2MΩ/□，表明比較樣品不能具有令人滿意的抗靜電性能。
比較例4和5淀積分別具有表3的比較例4的欄和比較例5的欄中所示層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜，得到比較樣品。在這些層結(jié)構(gòu)中，各金屬膜是鎳、鐵和鉻的三元(ternary)膜。用與實(shí)例1中相同的方法評(píng)價(jià)該比較樣品，得到的結(jié)果示于表4的比較例4的欄和比較例5的欄中。通過熱處理，其中金屬膜的鉻含量為28wt％的比較例4的反射率增加9.8％，而各個(gè)金屬膜的鉻含量為16wt％的比較例5的反射率增加9.2％。由此，這些比較例具有很低的透射率穩(wěn)定性。其表面電阻率不規(guī)則地改變。即，通過熱處理，比較例4的表面電阻率增加，而比較例5的表面電阻率減小。
比較例6用與比較例1相同的方式得到比較例6，只是在金屬膜的位置上形成鎳鉻二元膜。如表4中比較例6的欄所示，通過熱處理，該比較例的透射率改變達(dá)到12.5％，其表面電阻率增加三個(gè)數(shù)量級(jí)。
表3

上面表示的是膜材料，下面表示的是膜厚(單位nm)，金屬膜的成分含量為wt％。
表4

之前熱處理之前之后熱處理之后差值(熱處理之后的值)-(熱處理之前的值)如上所述，對(duì)于熱處理來說，沒有任何比較例在透射率和表面電阻率上是穩(wěn)定的。相反，按照本發(fā)明的各實(shí)例樣品，對(duì)于熱處理來說，其透射率和反射率都是穩(wěn)定的。其表面電阻率經(jīng)過熱處理后減小而不是增加。這些結(jié)果表明本發(fā)明的樣品保持抗靜電性能和電磁波屏蔽性能。
在使被加速的電子射線轟擊熒光物質(zhì)以顯示圖像的顯示器例如陰極射線管中，位于圖像顯示區(qū)域正面上的具有抗靜電性能的抗反射導(dǎo)電膜優(yōu)選具有可使其表面電阻率約為1kΩ/□或以下的導(dǎo)電性能。為了使抗反射導(dǎo)電膜具有可遮蔽由顯示器發(fā)射的電磁波以便減小其對(duì)人體不利影響的能力，膜的表面電阻率優(yōu)選約為500Ω/□或以下。由這些觀點(diǎn)可看出，本發(fā)明的實(shí)例所得到的樣品的抗反射導(dǎo)電膜具有足以供實(shí)際應(yīng)用的電性能。
如上所述，通過使用鎳鐵合金膜代替鎳膜或鐵膜，可消除現(xiàn)有技術(shù)的問題，該問題是當(dāng)對(duì)具有包括僅由鎳或僅由鐵制成的至少一層金屬膜和一層或多層透明介質(zhì)膜的多層結(jié)構(gòu)的抗反射導(dǎo)電膜進(jìn)行熱處理時(shí)，其電阻劣化(增大)。即，用實(shí)驗(yàn)方法發(fā)現(xiàn)合金膜令人驚奇地改善了電阻穩(wěn)定性?；谠摮龊跻饬系男Ч?，實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明。
本發(fā)明產(chǎn)生下列作用。由于作為本發(fā)明的抗反射導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)層的金屬膜是鎳鐵合金膜，因而抗反射導(dǎo)電膜具有極好的熱穩(wěn)定性。由此，抗反射導(dǎo)電膜的透射率或反射率經(jīng)過熱處理之后幾乎不改變。并且，由于在各抗反射導(dǎo)電膜中的金屬膜是鎳鐵合金膜，因而其表面電阻率即使是在高溫?zé)崽幚碇笠脖３植蛔儭?br> 工業(yè)利用可能性本發(fā)明的抗反射導(dǎo)電膜的光學(xué)性能和電阻是熱穩(wěn)定的。即使利用玻璃料通過加熱將涂有本發(fā)明的抗反射導(dǎo)電膜的前面板粘結(jié)到錐體上時(shí)，也可維持粘結(jié)之前已涂敷的面板所具有的性能。因此，可生產(chǎn)陰極射線管而不會(huì)損害已涂敷的面板的光學(xué)性能或抗靜電性能。
權(quán)利要求
1.一種具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，該玻璃制品包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜，在550nm的波長測量時(shí)，玻璃基板的折射率為1.4-1.7，抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層，疊置層包括按該順序形成于玻璃基板上的為金屬膜的第一層、為高折射率透明介質(zhì)膜的第二層、和為低折射率透明介質(zhì)膜的第三層，在550nm的波長測量時(shí)，高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4，低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46，所述金屬膜是鎳鐵合金膜，所述玻璃制品的可見光反射率為1％或以下。
2.按照權(quán)利要求1所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，金屬膜的鎳含量為5wt％到95wt％。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，金屬膜的厚度為1.5-8nm。
4.按照權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，作為第二層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度為5-140nm，作為第三層的低折射率透明介質(zhì)膜的厚度為50-120nm。
5.一種具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，該玻璃制品包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜，在550nm的波長測量時(shí)，玻璃基板的折射率為1.4-1.7，抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層，疊置層包括按該順序形成于玻璃基板上的為金屬膜的第一層、為高折射率透明介質(zhì)膜的第二層、為中等折射率透明介質(zhì)膜的第三層和為低折射率透明介質(zhì)膜的第四層，在550nm的波長測量時(shí)，高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4，中等折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.7-1.9，低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46，所述金屬膜是鎳鐵合金膜，所述玻璃制品的可見光反射率為1％或以下。
6.按照權(quán)利要求5所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，金屬膜的鎳含量為5wt％到95wt％。
7.按照權(quán)利要求5或6所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，金屬膜的厚度為1.5-8nm。
8.按照權(quán)利要求5-7中任一項(xiàng)所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，作為第二層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度為5-70nm，作為第三層的中等折射率透明介質(zhì)膜的厚度為10-100nm，作為第四層的低折射率透明介質(zhì)膜的厚度為50-120nm。
9.一種具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，該玻璃制品包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜，在550nm的波長測量時(shí)，玻璃基板的折射率為1.4-1.7，抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層，疊置層包括按順序形成于玻璃基板上的為金屬膜的第一層；為高折射率透明介質(zhì)膜的第二層，在550nm的波長測量時(shí)，該高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4；為金屬膜的第三層；為高折射率透明介質(zhì)膜的第四層，在550nm的波長測量時(shí)，該高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4；和為低折射率透明介質(zhì)膜的第五層，在550nm的波長測量時(shí)，該低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46，分別作為第一和第三層的金屬膜中的至少一個(gè)是鎳鐵合金膜，所述玻璃制品的可見光反射率為1％或以下。
10.按照權(quán)利要求9所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，鎳鐵合金膜的鎳含量為5wt％到95wt％。
11.按照權(quán)利要求9或10所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，分別作為第一和第三層的各金屬膜的厚度為1.5-7.5nm，金屬膜的總厚度為9nm或以下。
12.按照權(quán)利要求9-11中任一項(xiàng)所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，作為第二層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度為10-70nm，作為第四層的高折射率透明介質(zhì)膜的厚度為10-70nm，和作為第五層的低折射率透明介質(zhì)膜的厚度為70-120nm。
13.按照權(quán)利要求9-12中任一項(xiàng)所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，透明介質(zhì)膜形成于玻璃基板與作為第一層的金屬膜之間。
14.按照權(quán)利要求9-13中任一項(xiàng)所述的具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品，其中，玻璃基板是由玻璃制成的用于陰極射線管的面板。
15.通過利用玻璃料將具有權(quán)利要求14的抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品熱粘結(jié)到錐體上而得到陰極射線管。
全文摘要
具有抗反射導(dǎo)電涂層的玻璃制品,包括玻璃基板和抗反射導(dǎo)電膜,抗反射導(dǎo)電膜包括疊置層,疊置層包括按該順序形成于玻璃基板上的金屬膜、高折射率透明介質(zhì)膜和低折射率透明介質(zhì)膜,在550 nm的波長測量時(shí),玻璃基板的折射率為1.4-1.7,高折射率透明介質(zhì)膜的折射率為2.0-2.4,低折射率透明介質(zhì)膜的折射率為1.35-1.46,金屬膜是鎳鐵合金膜,玻璃制品的可見光反射率為1%或以下?？狗瓷鋵?dǎo)電膜的光學(xué)性能和電阻是熱穩(wěn)定的。
文檔編號(hào)G02B1/11GK1307688SQ9980799
公開日2001年8月8日 申請(qǐng)日期1999年6月29日 優(yōu)先權(quán)日1998年7月1日
發(fā)明者國定照房, 谷中保則, 中西功次, 荻野悅男 申請(qǐng)人:日本板硝子株式會(huì)社