本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種高信息量液晶顯示結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
由于普通tn產(chǎn)品因為液晶陡度、顯示面積、字符數(shù)量、字符大小等限制,所以顯示屏顯示的內(nèi)容有限。而且由于某些產(chǎn)品需要顯示較多信息,而且產(chǎn)品空間結(jié)構(gòu)上比較緊湊,所以不能裝多個顯示屏。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種高信息量液晶顯示結(jié)構(gòu)。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是:一種高信息量液晶顯示結(jié)構(gòu),其至少包括由上而下重疊貼合的第一顯示屏和第二顯示屏,在第一顯示屏的頂面設(shè)置有上偏光片,在第一顯示屏與第二顯示屏之間設(shè)置有中偏光片,在第二顯示屏的底面設(shè)置有下偏光片;同一平面上:所述上偏光片與中偏光片的配置方向在垂直,中偏光片與下偏光片的配置方向垂直;所述第一顯示屏的上取向?qū)拥哪Σ练较蚺c上偏光片的配置方向垂直,所述第一顯示屏的下取向?qū)拥哪Σ练较蚺c中偏光片的配置方向垂直;所述第二顯示屏的上取向?qū)拥哪Σ练较蚺c中偏光片的配置方向垂直并且與所述第一顯示屏的下取向?qū)拥哪Σ练较蛳喾?,所述第二顯示屏的下取向?qū)拥哪Σ练较蚺c下偏光片的配置方向垂直并與所述第一顯示屏的上取向?qū)拥哪Σ练较蛳喾础?/p>
上述技術(shù)方案中,以所述第一顯示屏和第二顯示屏的寬度軸線為基準(zhǔn)線,所述上偏光片的配置方向與基準(zhǔn)線呈45度夾角。
上述技術(shù)方案中,所述第一顯示屏上設(shè)置有第一顯示圖案,所述第二顯示屏上設(shè)置有第二顯示圖案,所述第一顯示圖案與第二顯示圖案上下重疊。
上述技術(shù)方案中,所述第一顯示屏和第二顯示屏均包括上玻璃基板、上ito電極、上取向?qū)?、液晶、下取向?qū)?、下ito電極和下玻璃基板。
本發(fā)明的有益效果是:能夠在有限的垂直空間范圍內(nèi)顯示更多的內(nèi)容,在顯示第一顯示屏的內(nèi)容時,第二顯示屏的內(nèi)容不顯示,在顯示第二顯示屏的內(nèi)容時,第一顯示屏的內(nèi)容不顯示,從而提高在有限范圍內(nèi)的信息量。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明的顯示屏結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明第一顯示圖案的示意圖;
圖4是本發(fā)明第二顯示圖案的示意圖;
圖5是本發(fā)明的取向?qū)拥哪Σ练较蚺c偏光片的配置方向的設(shè)置示意圖。
圖中,1、上偏光片;2、第一顯示屏;3、中偏光片;4、第二顯示屏;5、下偏光片;6、基準(zhǔn)線;71、上玻璃基板;72、上ito電極;73、上取向?qū)樱?4、液晶;75、下取向?qū)樱?6、下ito電極;77、下玻璃基板。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
如圖1-5所示,一種高信息量液晶顯示結(jié)構(gòu),其至少包括由上而下重疊貼合的第一顯示屏2和第二顯示屏4,在第一顯示屏2的頂面設(shè)置有上偏光片1,在第一顯示屏2與第二顯示屏4之間設(shè)置有中偏光片3,在第二顯示屏4的底面設(shè)置有下偏光片5;同一平面上:所述上偏光片1與中偏光片3的配置方向在垂直,中偏光片3與下偏光片5的配置方向垂直;所述第一顯示屏2的上取向?qū)?3的摩擦方向與上偏光片1的配置方向垂直,所述第一顯示屏2的下取向?qū)?5的摩擦方向與中偏光片3的配置方向垂直;所述第二顯示屏4的上取向?qū)?3的摩擦方向與中偏光片3的配置方向垂直并且與所述第一顯示屏2的下取向?qū)?5的摩擦方向相反,所述第二顯示屏4的下取向?qū)?5的摩擦方向與下偏光片5的配置方向垂直并與所述第一顯示屏2的上取向?qū)?3的摩擦方向相反。摩擦方向決定液晶74的排列方向。配置方向決定光透過偏光片的方向?qū)崿F(xiàn)偏光。
其中,以所述第一顯示屏2和第二顯示屏4的寬度軸線為基準(zhǔn)線6,所述上偏光片1的配置方向與基準(zhǔn)線6呈45度夾角。
其中,所述第一顯示屏2上設(shè)置有第一顯示圖案,所述第二顯示屏4上設(shè)置有第二顯示圖案,所述第一顯示圖案與第二顯示圖案上下重疊。
其中,所述第一顯示屏2和第二顯示屏4均包括上玻璃基板71、上ito電極72、上取向?qū)?3、液晶74、下取向?qū)?5、下ito電極76和下玻璃基板77。
以上的實(shí)施例只是在于說明而不是限制本發(fā)明,故凡依本發(fā)明專利申請范圍所述的方法所做的等效變化或修飾,均包括于本發(fā)明專利申請范圍內(nèi)。