一種大張角玻璃鏡片的減反膜及其制作工藝的制作方法
本發(fā)明涉及工藝制造領(lǐng)域，具體涉及一種大張角玻璃鏡片的減反膜及其制作工藝。
背景技術(shù)：
大張角玻璃鏡片減反膜主要應(yīng)用于廣角性能要求高的成像系統(tǒng)等領(lǐng)域，如車載攝像頭等數(shù)碼成像以及運(yùn)動(dòng)攝像機(jī)sdv的光學(xué)模組。
為達(dá)到其成像系統(tǒng)的廣角性能，必須使得光路系統(tǒng)中的第一片鏡片的凹面的曲率越來越大，當(dāng)采取現(xiàn)有鍍膜工藝與中心回轉(zhuǎn)機(jī)臺(tái)加工時(shí)，就造成了鏡片中心與邊緣的反射率偏差越來越大，也就是色差越來越大，最終造成成像鬼影的出現(xiàn)，從而無法滿足鏡頭的成像性能。并且，在現(xiàn)有鍍膜技術(shù)中，加工后產(chǎn)品凹面的膜層均勻性比較差，如圖5所示，且加工后的凹面邊緣膜層不致密，膜強(qiáng)度差，易產(chǎn)生掉膜不良。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的旨在提供一種膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳的大張角玻璃鏡片的減反膜及其制作工藝，以克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處。
按此目的設(shè)計(jì)的一種大張角玻璃鏡片的減反膜，包括設(shè)置在大張角玻璃鏡片表面的減反膜，其結(jié)構(gòu)特征是所述減反膜為八層的多層膜結(jié)構(gòu)，其包括依次堆疊的高折射率膜層及低折射率膜層。
進(jìn)一步，所述減反膜包括依次堆疊的高折射率膜層、低折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層。
進(jìn)一步，所述高折射率膜層為五氧化三鈦膜層；低折射率膜層為氟化鎂膜層或二氧化硅膜層。
一種大張角玻璃鏡片的減反膜的制作工藝，包括以下步驟：
步驟一，采用行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在鍍膜真空室鍍膜前，使用高能離子源進(jìn)行清潔處理60秒；
步驟二，鍍第一膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟三，鍍第二膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟四，鍍第三膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟五，鍍第四膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟六，鍍第五膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟七，鍍第六膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟八，鍍第七膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟九，鍍第八膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.1*10-3pa，鍍膜速率為
步驟十，鍍膜完成后需冷卻3～5分鐘，方可使行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)氣，至此鍍膜完成。
進(jìn)一步，當(dāng)鍍膜真空室的真空度到達(dá)1.5×10-3pa時(shí)，開始鍍膜，高能離子源轟擊輔助鍍膜的參數(shù)見表1；
表1
進(jìn)一步，所述行星鍍膜機(jī)臺(tái)在進(jìn)行真空鍍時(shí)，行星鍍膜機(jī)臺(tái)的工作溫度為110℃～130℃，恒溫時(shí)間12min～15min。
本發(fā)明中的大張角玻璃鏡片表面的減反膜為八層的多層膜結(jié)構(gòu)，其包括依次堆疊的高折射率膜層及低折射率膜層；當(dāng)整個(gè)膜層鍍制完成后，大張角玻璃鏡片表面鍍制的減反膜的膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳。
本發(fā)明采用具有公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)功能的行星鍍膜機(jī)臺(tái)，再加上專門設(shè)計(jì)的鍍膜制作工藝，使大張角玻璃鏡片表面鍍制的減反膜的膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳。采用此工藝獲得的本產(chǎn)品，在使用過程中具有廣角性能高和成像清晰的特點(diǎn)，且能從根本上杜絕紅斑鬼影，從而達(dá)到此類成像系統(tǒng)的光學(xué)要求，并且本產(chǎn)品的凹面邊緣膜強(qiáng)度佳、品質(zhì)好、產(chǎn)品使用期限長，能達(dá)到節(jié)約成本的效果。
綜上所述，本發(fā)明具有膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳的特點(diǎn)。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例的實(shí)測(cè)曲線圖。
圖3為本發(fā)明第二實(shí)施例的實(shí)測(cè)曲線圖。
圖4為本發(fā)明第三實(shí)施例的實(shí)測(cè)曲線圖。
圖5為現(xiàn)有產(chǎn)品的實(shí)測(cè)曲線圖。
圖中，1為鏡片邊緣，2為鏡片r/2，3為鏡片中心。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。
第一實(shí)施例
參見圖1-圖2，本大張角玻璃鏡片的減反膜，包括設(shè)置在大張角玻璃鏡片表面的減反膜，其結(jié)構(gòu)特征是所述減反膜為八層的多層膜結(jié)構(gòu)，其包括依次堆疊的高折射率膜層及低折射率膜層。
所述減反膜包括依次堆疊的高折射率膜層、低折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層。所述高折射率膜層為五氧化三鈦膜層；低折射率膜層為氟化鎂膜層或二氧化硅膜層。
一種大張角玻璃鏡片的減反膜的制作工藝，包括以下步驟：
步驟一，采用行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在鍍膜真空室鍍膜前，使用高能離子源進(jìn)行清潔處理60秒；
步驟二，鍍第一膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟三，鍍第二膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟四，鍍第三膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟五，鍍第四膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟六，鍍第五膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟七，鍍第六膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟八，鍍第七膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟九，鍍第八膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.1*10-3pa，鍍膜速率為
步驟十，鍍膜完成后需冷卻3～5分鐘，方可使行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)氣，至此鍍膜完成。
當(dāng)鍍膜真空室的真空度到達(dá)1.5×10-3pa時(shí)，開始鍍膜，高能離子源轟擊輔助鍍膜的參數(shù)見表1；
表1
所述行星鍍膜機(jī)臺(tái)在進(jìn)行真空鍍時(shí)，行星鍍膜機(jī)臺(tái)的工作溫度為110℃～130℃，恒溫時(shí)間12min～15min。
在本實(shí)施例中，大張角玻璃鏡片的結(jié)構(gòu)，見圖1。采用具有公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)功能的昭和行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在大張角玻璃鏡片上進(jìn)行鍍制減反膜。實(shí)際鍍膜的膜層及其厚度見表2。
表2單位：mm。
步驟一，采用行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在鍍膜真空室鍍膜前，使用高能離子源進(jìn)行清潔處理60秒；
步驟二，鍍第一膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟三，鍍第二膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟四，鍍第三膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟五，鍍第四膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟六，鍍第五膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟七，鍍第六膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟八，鍍第七膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟九，鍍第八膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.1*10-3pa，鍍膜速率為
步驟十，鍍膜完成后需冷卻3～5分鐘，方可使行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)氣，至此鍍膜完成。
鍍制完成后，大張角玻璃鏡片表面鍍制的整個(gè)減反膜的膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳。
當(dāng)鍍膜真空室的真空度到達(dá)1.5×10-3pa時(shí)，開始鍍膜，高能離子源轟擊輔助鍍膜的參數(shù)見表3；
表3
所述行星鍍膜機(jī)臺(tái)在進(jìn)行真空鍍時(shí)，行星鍍膜機(jī)臺(tái)的工作溫度為120℃，恒溫時(shí)間15min。
對(duì)得到的產(chǎn)品進(jìn)行分光測(cè)試，得到如圖2所示的分光測(cè)試實(shí)測(cè)曲線圖，從中心到邊緣的均勻性，可見鍍制的減反膜的分光符合規(guī)格，鍍膜面的膜層均勻性佳。
第二實(shí)施例
參見圖1和圖3，在本實(shí)施例中，大張角玻璃鏡片的結(jié)構(gòu)，見圖1。采用具有公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)功能的昭和行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在大張角玻璃鏡片上進(jìn)行鍍制減反膜。實(shí)際鍍膜的膜層及其厚度見表4。
表4單位：mm。
步驟一，采用行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在鍍膜真空室鍍膜前，使用高能離子源進(jìn)行清潔處理60秒；
步驟二，鍍第一膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟三，鍍第二膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟四，鍍第三膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟五，鍍第四膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟六，鍍第五膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟七，鍍第六膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟八，鍍第七膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟九，鍍第八膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.1*10-3pa，鍍膜速率為
步驟十，鍍膜完成后需冷卻3～5分鐘，方可使行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)氣，至此鍍膜完成。
鍍制完成后，大張角玻璃鏡片表面鍍制的整個(gè)減反膜的膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳。
當(dāng)鍍膜真空室的真空度到達(dá)1.5×10-3pa時(shí)，開始鍍膜，高能離子源轟擊輔助鍍膜的參數(shù)見表5；
表5
所述行星鍍膜機(jī)臺(tái)在進(jìn)行真空鍍時(shí)，行星鍍膜機(jī)臺(tái)的工作溫度為110℃，恒溫時(shí)間15min。
對(duì)得到的產(chǎn)品進(jìn)行分光測(cè)試，得到如圖3所示的分光測(cè)試實(shí)測(cè)曲線圖，從中心到邊緣的均勻性，可見鍍制的減反膜的分光符合規(guī)格，鍍膜面的膜層均勻性佳。
其余未述部分見第一實(shí)施例，不再贅述。
第三實(shí)施例
參見圖1和圖4，在本實(shí)施例中，大張角玻璃鏡片的結(jié)構(gòu)，見圖1。采用具有公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)功能的昭和行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在大張角玻璃鏡片上進(jìn)行鍍制減反膜。實(shí)際鍍膜的膜層及其厚度見表6。
表6單位：mm。
步驟一，采用行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行鍍膜加工，在鍍膜真空室鍍膜前，使用高能離子源進(jìn)行清潔處理60秒；
步驟二，鍍第一膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟三，鍍第二膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟四，鍍第三膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟五，鍍第四膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟六，鍍第五膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟七，鍍第六膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.5*10-3pa，鍍膜速率為
步驟八，鍍第七膜層時(shí)，鍍膜壓力為2.0*10-2pa，鍍膜速率為
步驟九，鍍第八膜層時(shí)，鍍膜壓力為1.1*10-3pa，鍍膜速率為
步驟十，鍍膜完成后需冷卻3～5分鐘，方可使行星鍍膜機(jī)臺(tái)進(jìn)氣，至此鍍膜完成。
鍍制完成后，大張角玻璃鏡片表面鍍制的整個(gè)減反膜的膜層均勻性一致，且凹面邊緣膜強(qiáng)度佳。
當(dāng)鍍膜真空室的真空度到達(dá)1.5×10-3pa時(shí)，開始鍍膜，高能離子源轟擊輔助鍍膜的參數(shù)見表7；
表7
所述行星鍍膜機(jī)臺(tái)在進(jìn)行真空鍍時(shí)，行星鍍膜機(jī)臺(tái)的工作溫度為130℃，恒溫時(shí)間12min。
對(duì)得到的產(chǎn)品進(jìn)行分光測(cè)試，得到如圖4所示的分光測(cè)試實(shí)測(cè)曲線圖，從中心到邊緣的均勻性，可見鍍制的減反膜的分光符合規(guī)格，鍍膜面的膜層均勻性佳。
其余未述部分見第一實(shí)施例，不再贅述。
以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理和主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
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