1.一種掃描曝光裝置，其將光罩圖案沿著基板的長(zhǎng)度方向掃描曝光至具有撓性的長(zhǎng)條的所述基板上，該光罩圖案是在繞第1中心軸旋轉(zhuǎn)的圓筒光罩上沿著圓筒面形成的，所述掃描曝光裝置的特征在于，具有：
旋轉(zhuǎn)筒，其具有從與所述第1中心軸平行設(shè)定的第2中心軸起為一定半徑的外周面，該旋轉(zhuǎn)筒在由所述外周面支承所述基板的長(zhǎng)度方向的一部分的狀態(tài)下繞所述第2中心軸旋轉(zhuǎn)而將所述基板沿長(zhǎng)度方向輸送；
照明機(jī)構(gòu)，其分別向著第1照明區(qū)域和第2照明區(qū)域照射用于曝光的照明光，該第1照明區(qū)域和第2照明區(qū)域以在所述圓筒光罩的圓筒面的圓周方向上僅分離第1角度的方式設(shè)定在所述光罩圖案上；
投影光學(xué)系統(tǒng)，其在支承于所述旋轉(zhuǎn)筒的所述基板上，向著設(shè)定于所述旋轉(zhuǎn)筒的外周面的圓周方向的第1特定位置的第1投影區(qū)域，投影所述第1照明區(qū)域內(nèi)所顯現(xiàn)的所述光罩圖案的像，并且向著從所述第1特定位置僅以與所述第1的角度對(duì)應(yīng)的第2角度沿所述旋轉(zhuǎn)筒的圓周方向分離地設(shè)定于所述基板的第2投影區(qū)域，投影所述第2照明區(qū)域內(nèi)所顯現(xiàn)的所述光罩圖案的像；
第1刻度部，其為了計(jì)測(cè)所述光罩圖案的圓周方向的位置變化而與所述圓筒光罩一同繞所述第1中心軸旋轉(zhuǎn)，并且具有形成為環(huán)狀的刻度；
第2刻度部，其為了計(jì)測(cè)所述基板的圓周方向的位置變化而與所述旋轉(zhuǎn)筒一同繞所述第2中心軸旋轉(zhuǎn)，并且具有形成為環(huán)狀的刻度；
光罩側(cè)讀取機(jī)構(gòu)，其在從所述第1中心軸觀察而分別位于與所述第1照明區(qū)域和所述第2照明區(qū)域相同的方位的所述第1刻度部上的兩個(gè)位置，分別讀取所述刻度；和
基板側(cè)讀取機(jī)構(gòu)，其在從所述第2中心軸觀察而分別位于與所述第1投影區(qū)域和所述第2投影區(qū)域相同的方位的所述第2刻度部上的兩個(gè)位置，分別讀取所述刻度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述光罩側(cè)讀取機(jī)構(gòu)包括：
第1編碼器讀取頭，其從所述第1中心軸觀察而配置在與所述第1照明區(qū)域相同的方位并讀取所述第1刻度部的所述刻度；和
第2編碼器讀取頭，其從所述第1中心軸觀察而配置在與所述第2照明區(qū)域相同的方位并讀取所述第1刻度部的所述刻度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述光罩側(cè)讀取機(jī)構(gòu)包括第3編碼器讀取頭，其從所述第1中心軸觀察而配置在與所述第1照明區(qū)域和所述第2照明區(qū)域均不同的至少一個(gè)方位上并讀取所述第1刻度部的所述刻度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于，所述投影光學(xué)系統(tǒng)具有：
第1投影模塊，其將所述第1照明區(qū)域內(nèi)所顯現(xiàn)的所述光罩圖案的像以等倍投影至所述第1投影區(qū)域；和
第2投影模塊，其將所述第2照明區(qū)域內(nèi)所顯現(xiàn)的所述光罩圖案的像以等倍投影至所述第2投影區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述圓筒光罩的圓筒面的距所述第1中心軸的半徑、與由所述旋轉(zhuǎn)筒的外周面支承的所述基板的彎曲為圓筒面狀的表面的距所述第2中心軸的半徑相等，由此使所述第1角度與所述第2角度相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述第1照明區(qū)域和所述第2照明區(qū)域在所述圓筒光罩的圓筒面上，以沿所述第1中心軸所延伸的方向僅錯(cuò)開規(guī)定距離的方式配置，
所述第1投影模塊和所述第2投影模塊與所述第1照明區(qū)域和所述第2照明區(qū)域錯(cuò)開所述規(guī)定距離相對(duì)應(yīng)地，使所述第1投影區(qū)域和所述第2投影區(qū)域在所述旋轉(zhuǎn)筒的外周面上沿所述第2中心軸的方向錯(cuò)開地配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于，還具有用于將所述投影光學(xué)系統(tǒng)固定在裝置內(nèi)的基于熱膨脹系數(shù)小的金屬構(gòu)成的保持柱，
所述光罩側(cè)讀取機(jī)構(gòu)固定在所述保持柱上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述基板側(cè)讀取機(jī)構(gòu)具有：
第4編碼器讀取頭，其從所述第2中心軸觀察而配置在與所述第1投影區(qū)域相同的方位并讀取所述第2刻度部的所述刻度；和
第5編碼器讀取頭，其從所述第2中心軸觀察而配置在與所述第2投影區(qū)域相同的方位并讀取所述第2刻度部的所述刻度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述基板側(cè)讀取機(jī)構(gòu)具有第6編碼器讀取頭，其從所述第2中心軸觀察而配置在與所述第1投影區(qū)域和所述第2投影區(qū)域均不同的至少一個(gè)方位上并讀取所述第2刻度部的所述刻度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掃描曝光裝置，其特征在于，還具有對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其為了實(shí)現(xiàn)由所述投影光學(xué)系統(tǒng)投影的所述光罩圖案的投影像與所述基板的相對(duì)對(duì)位，而在相對(duì)于所述第1投影區(qū)域和所述第2投影區(qū)域均設(shè)定在所述基板的輸送方向的上游側(cè)的檢測(cè)區(qū)域內(nèi)，檢測(cè)沿著長(zhǎng)度方向離散或連續(xù)地形成在所述基板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掃描曝光裝置，其特征在于，
所述對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的所述檢測(cè)區(qū)域在從所述第2中心軸觀察時(shí)，設(shè)定在與所述第6編碼器讀取頭所設(shè)置的方位相同的方位上。