1.一種高透過寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，其特征在于，所述濾光裝置包括四塊濾光板，每一塊所述濾光板均由石英基底以及鍍制在所述石英基底上的光學(xué)膜系構(gòu)成；四塊濾光板兩兩平行設(shè)置構(gòu)成兩組濾光模塊，平行設(shè)置的兩塊濾光板的鍍制光學(xué)膜系的一側(cè)相對設(shè)置；兩組所述濾光模塊組合后構(gòu)成倒“V”字型的所述濾光裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透過寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，其特征在于，所述石英基底由紫外熔融石英玻璃制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透過寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，其特征在于，所述光學(xué)膜系由依次間隔層疊設(shè)置的11層HfO2層和11層SIO2層構(gòu)成，從最靠近所述石英基底起計算，第1、3、5、7、9、11、13、15、17、19、21層為HfO2層，第2、4、6、8、10、12、14、16、18、20、22層為SIO2層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高透過寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，其特征在于，所述光學(xué)膜系第1層的HfO2層厚度為5nm，所述光學(xué)膜系第3層的HfO2層厚度為10nm，所述光學(xué)膜系第5層的HfO2層厚度為14nm，所述光學(xué)膜系第7層的HfO2層厚度為19nm，所述光學(xué)膜系第9層的HfO2層厚度為25nm，所述光學(xué)膜系第11層的HfO2層厚度為33nm，所述光學(xué)膜系第13層的HfO2層厚度為38nm，所述光學(xué)膜系第15層的HfO2層厚度為38nm，所述光學(xué)膜系第17層的HfO2層厚度為35nm，所述光學(xué)膜系第19層的HfO2層厚度為27nm，所述光學(xué)膜系第1層的HfO2層厚度為14nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高透過寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，其特征在于，所述光學(xué)膜系第2層的SIO2層厚度為69nm，所述光學(xué)膜系第4層的SIO2層厚度為71nm，所述光學(xué)膜系第6層的SIO2層厚度為61nm，所述光學(xué)膜系第8層的SIO2層厚度為54nm，所述光學(xué)膜系第10層的SIO2層厚度為45nm，所述光學(xué)膜系第12層的SIO2層厚度為36nm，所述光學(xué)膜系第14層的SIO2層厚度為33nm，所述光學(xué)膜系第16層的SIO2層厚度為35nm，所述光學(xué)膜系第18層的SIO2層厚度為41nm，所述光學(xué)膜系第20層的SIO2層厚度為53nm，所述光學(xué)膜系第22層的SIO2層厚度為107nm。