本實(shí)用新型涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高透過(guò)寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置。

背景技術(shù)：

由于大氣臭氧層對(duì)紫外線的吸收，自然環(huán)境中波長(zhǎng)為240-280nm之間的紫外輻射強(qiáng)度幾乎為零，因此將此波段稱為“日盲”區(qū)。此波段的光子能量高、容易被探測(cè)，工作在該波段的紫外監(jiān)測(cè)系統(tǒng)具有先天優(yōu)勢(shì)。為了匹配“日盲”條件，需要在系統(tǒng)探測(cè)器的前端加裝高性能的日盲紫外濾光片，用來(lái)提高日盲紫外波段的透過(guò)率，抑制其它波段背景光的響應(yīng)，增大信噪比，提升日盲紫外系統(tǒng)的探測(cè)性能。這種紫外濾光片成為日盲監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的關(guān)鍵器件，它決定著儀器的靈敏度、精確性和穩(wěn)定性。

目前的紫外日盲濾光片主要采用2種結(jié)構(gòu)，全介質(zhì)濾光片(其透射光譜曲線如圖1所示)和誘導(dǎo)透射濾光片(其透射光譜曲線如圖2所示)。全介質(zhì)濾光片型的紫外日盲濾光片采用短波通干涉濾光片疊加的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)，具有透過(guò)率高(60％)、截止深度深(OD8)的優(yōu)點(diǎn)，缺點(diǎn)是截止范圍短(截止到400nm)，不能全部有效抑制背景光。誘導(dǎo)透射濾光片利用了金屬的吸收特性，具有截止深度深(OD8)、截止范圍寬(截止到2000nm以上)的優(yōu)點(diǎn)，缺點(diǎn)是透過(guò)率低(10％)，能量損失嚴(yán)重，影響儀器的靈敏性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種高透過(guò)寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，其有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種高透過(guò)寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，所述濾光裝置包括四塊濾光板，每一塊所述濾光板均由石英基底以及鍍制在所述石英基底上的光學(xué)膜系構(gòu)成；四塊濾光板兩兩平行設(shè)置構(gòu)成兩組濾光模塊，平行設(shè)置的兩塊濾光板的鍍制光學(xué)膜系的一側(cè)相對(duì)設(shè)置；兩組所述濾光模塊組合后構(gòu)成倒“V”字型的所述濾光裝置。

進(jìn)一步，所述石英基底由紫外熔融石英玻璃制成。

進(jìn)一步，所述光學(xué)膜系由依次間隔層疊設(shè)置的11層HfO₂層和11層SIO₂層構(gòu)成，從最靠近所述石英基底起計(jì)算，第1、3、5、7、9、11、13、15、17、19、21層為HfO₂層，第2、4、6、8、10、12、14、16、18、20、22層為SIO₂層。

進(jìn)一步，所述光學(xué)膜系第1層的HfO₂層厚度為5nm，所述光學(xué)膜系第3層的HfO₂層厚度為10nm，所述光學(xué)膜系第5層的HfO₂層厚度為14nm，所述光學(xué)膜系第7層的HfO₂層厚度為19nm，所述光學(xué)膜系第9層的HfO₂層厚度為25nm，所述光學(xué)膜系第11層的HfO₂層厚度為33nm，所述光學(xué)膜系第13層的HfO₂層厚度為38nm，所述光學(xué)膜系第15層的HfO₂層厚度為38nm，所述光學(xué)膜系第17層的HfO₂層厚度為35nm，所述光學(xué)膜系第19層的HfO₂層厚度為27nm，所述光學(xué)膜系第1層的HfO₂層厚度為14nm。

進(jìn)一步，所述光學(xué)膜系第2層的SIO₂層厚度為69nm，所述光學(xué)膜系第4層的SIO₂層厚度為71nm，所述光學(xué)膜系第6層的SIO₂層厚度為61nm，所述光學(xué)膜系第8層的SIO₂層厚度為54nm，所述光學(xué)膜系第10層的SIO₂層厚度為45nm，所述光學(xué)膜系第12層的SIO₂層厚度為36nm，所述光學(xué)膜系第14層的SIO₂層厚度為33nm，所述光學(xué)膜系第16層的SIO₂層厚度為35nm，所述光學(xué)膜系第18層的SIO₂層厚度為41nm，所述光學(xué)膜系第20層的SIO₂層厚度為53nm，所述光學(xué)膜系第22層的SIO₂層厚度為107nm。

本實(shí)用新型具有以下有益技術(shù)效果：

紫外透過(guò)率高：在240-280nm波段，透過(guò)率大于90％；

截止范圍寬：在300-2000nm波段具有及低的光譜透射率；

截止深度深：在300-1000nm波段，截止深度達(dá)到OD10，在1000-2000nm波段，截止深度能達(dá)到OD6以上；

環(huán)境穩(wěn)定性好：濾光片特性不會(huì)隨使用環(huán)境的變化而變化，可在高溫高濕高鹽霧等惡劣環(huán)境中穩(wěn)定使用。

附圖說(shuō)明

圖1為全介質(zhì)濾光片的透射光譜曲線；

圖2為誘導(dǎo)透射濾光片的透射光譜曲線；

圖3為本申請(qǐng)的濾光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本申請(qǐng)的濾光裝置的光學(xué)膜系的結(jié)構(gòu)示意圖

圖5為紫外全介質(zhì)窄帶高反射膜的透射光譜曲線；

圖6為本申請(qǐng)的濾光裝置的透射光譜曲線。

具體實(shí)施方式

下面，參考附圖，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的說(shuō)明，附圖中示出了本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例。然而，本實(shí)用新型可以體現(xiàn)為多種不同形式，并不應(yīng)理解為局限于這里敘述的示例性實(shí)施例。而是，提供這些實(shí)施例，從而使本實(shí)用新型全面和完整，并將本實(shí)用新型的范圍完全地傳達(dá)給本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員。

如圖3-6所示，本實(shí)用新型提供了一種高透過(guò)寬波段深截止的紫外日盲濾光裝置，該濾光裝置包括四塊濾光板，每一塊濾光板均由石英基底以及鍍制在石英基底上的光學(xué)膜系構(gòu)成；四塊濾光板兩兩平行設(shè)置構(gòu)成兩組濾光模塊，平行設(shè)置的兩塊濾光板的鍍制光學(xué)膜系的一側(cè)相對(duì)設(shè)置；兩組述濾光模塊組合后構(gòu)成倒“V”字型的濾光裝置。本申請(qǐng)利用光線在四塊石英基底之間的多次反射，將紫外部分保留，其它波段的光線濾除。光學(xué)膜為紫外全介質(zhì)窄帶高反膜，其作用是當(dāng)光線入射時(shí)，反射所需波段的紫外光，同時(shí)保證可見(jiàn)及近紅外波段的噪聲被有效的濾除。

石英基底由紫外熔融石英玻璃制成。光學(xué)膜系由依次間隔層疊設(shè)置的11層HfO₂層和11層SIO₂層構(gòu)成，從最靠近所述石英基底起計(jì)算，第1、3、5、7、9、11、13、15、17、19、21層為HfO₂層，第2、4、6、8、10、12、14、16、18、20、22層為SIO₂層。

光學(xué)膜系第1層的HfO₂層厚度為5nm，光學(xué)膜系第3層的HfO₂層厚度為10nm，光學(xué)膜系第5層的HfO₂層厚度為14nm，光學(xué)膜系第7層的HfO₂層厚度為19nm，光學(xué)膜系第9層的HfO₂層厚度為25nm，光學(xué)膜系第11層的HfO₂層厚度為33nm，光學(xué)膜系第13層的HfO₂層厚度為38nm，光學(xué)膜系第15層的HfO₂層厚度為38nm，光學(xué)膜系第17層的HfO₂層厚度為35nm，光學(xué)膜系第19層的HfO₂層厚度為27nm，光學(xué)膜系第1層的HfO₂層厚度為14nm。

光學(xué)膜系第2層的SIO₂層厚度為69nm，光學(xué)膜系第4層的SIO₂層厚度為71nm，光學(xué)膜系第6層的SIO₂層厚度為61nm，光學(xué)膜系第8層的SIO₂層厚度為54nm，光學(xué)膜系第10層的SIO₂層厚度為45nm，光學(xué)膜系第12層的SIO₂層厚度為36nm，光學(xué)膜系第14層的SIO₂層厚度為33nm，光學(xué)膜系第16層的SIO₂層厚度為35nm，光學(xué)膜系第18層的SIO₂層厚度為41nm，光學(xué)膜系第20層的SIO₂層厚度為53nm，光學(xué)膜系第22層的SIO₂層厚度為107nm。

本申請(qǐng)的濾光裝置的設(shè)計(jì)方式，并不僅限于紫外日盲濾光片，也適用于紫外、可見(jiàn)及近紅外波段的熒光濾光片及生化分析濾光片等需要高透過(guò)率、深截止度和寬截止范圍的濾光片的設(shè)計(jì)及制備。

上面所述只是為了說(shuō)明本實(shí)用新型，應(yīng)該理解為本申請(qǐng)并不局限于以上實(shí)施例，符合本實(shí)用新型思想的各種變通形式均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。