本實用新型涉及顯示技術領域，特別涉及一種摩擦布處理裝置。

背景技術：

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)內(nèi)能夠使液晶分子按特定方向排列的高分子聚合物膜被稱為配向膜。一般為了使配向膜具有驅使液晶分子定向排列的配向力，在LCD生產(chǎn)工藝中，需要采用配向工藝對液晶配向膜進行處理。

目前，配向工藝主要通過摩擦配向的方式實現(xiàn)，由摩擦布摩擦配向膜表面使配向膜表面產(chǎn)生配向力。在配向工藝前需要對摩擦布進行較長時間的老化處理，以便使摩擦布上雜亂無章的布毛變得整齊。如圖1所示，現(xiàn)有的實現(xiàn)摩擦布老化處理的設備是將一干凈的玻璃基板20放于載臺10上，包覆有摩擦布40的摩擦輥30置于玻璃基板20上方并與玻璃基板20接觸。當載有玻璃基板20的載臺10向前移動時，摩擦輥30受與玻璃基板20之間的摩擦力的作用做逆時針方向轉動，摩擦布40的布毛在玻璃基板20表面不斷的滾動摩擦作用下實現(xiàn)整齊排列。但是由于玻璃基板20的表面是光滑表面，導致摩擦布40的摩擦時間較長，降低了生成效率。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型實施例提供一種摩擦布處理裝置，用以縮短摩擦布的老化處理時間，提高生產(chǎn)效率。

因此，本實用新型實施例提供了一種摩擦布處理裝置，用于對摩擦輥上的摩擦布進行老化處理，包括：基底、固定于所述基底表面的摩擦層；其中，

所述摩擦層的表面設置有多條平行設置的溝槽，當所述摩擦層與所述摩擦布沿所述溝槽的延伸方向發(fā)生相對運動時，所述摩擦層對所述摩擦布進行老化處理。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，各所述溝槽的側壁與所述摩擦層的上表面之間的棱角呈弧形。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，所述摩擦層的材料為軟塑膠材料。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，所述摩擦層與所述基底為一體結構。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，所述基底為板狀基板或圓軸。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，還包括：用于支撐所述摩擦輥的支撐部。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，還包括：用于使所述基底與所述摩擦輥發(fā)生相對運動的控制部。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，所述基底為板狀基板，所述控制部具體用于：

控制所述基底相對所述摩擦輥進行平行移動；和/或，

控制所述摩擦輥繞所述摩擦輥的中心軸轉動。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，所述基底為圓軸，所述控制部具體用于：

控制所述基底繞所述基底的中心軸轉動；和/或，

控制所述摩擦輥繞所述摩擦輥的中心軸轉動。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，當所述控制部用于控制所述基底和所述摩擦輥同時轉動時，所述基底的轉動方向與所述摩擦輥的轉動方向相反。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，所述基底的轉速與所述摩擦輥的轉速相同。

本實用新型實施例提供的摩擦布處理裝置，由于摩擦層設置有多條規(guī)則溝槽，當摩擦層與摩擦布沿溝槽的延伸方向發(fā)生相對運動時，摩擦層上的多條規(guī)則溝槽能夠有效地加快對摩擦布的布毛的梳理，從而使摩擦布上雜亂的布毛可以在較短時間內(nèi)變整齊，進而降低摩擦布老化處理過程的時間，提高生產(chǎn)效率。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術中的摩擦布老化處理裝置的結構示意圖；

圖2a為本實用新型實施例提供的老化處理裝置的結構示意圖之一；

圖2b為本實用新型實施例提供的老化處理裝置的結構示意圖之二；

圖3a為圖2a所示的老化處理裝置沿A-A’方向的剖面結構示意圖；

圖3b為圖2a所示的老化處理裝置沿B-B’方向的剖面結構示意圖；

圖4a為圖2b所示的老化處理裝置沿A-A’方向的剖面結構示意圖；

圖4b為圖2b所示的老化處理裝置沿B-B’方向的剖面結構示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的，技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面結合附圖，對本實用新型實施例提供的摩擦布處理裝置的具體實施方式進行詳細地說明。

附圖中摩擦布處理裝置的各部分的大小和形狀均不反映摩擦布處理裝置的真實比例，目的只是示意說明本實用新型內(nèi)容。

本實用新型實施例提供的一種摩擦布處理裝置，用于對摩擦輥100上的摩擦布進行老化處理，如圖2a和圖2b所示，包括：基底200、固定于基底200表面的摩擦層300；其中，

摩擦層300的表面設置有多條平行設置的溝槽310，當摩擦層300與摩擦布沿溝槽310的延伸方向發(fā)生相對運動時，摩擦層300對摩擦布進行老化處理。

本實用新型實施例提供的上述摩擦布處理裝置，由于摩擦層設置有多條規(guī)則溝槽，當摩擦層與摩擦布沿溝槽的延伸方向發(fā)生相對運動時，摩擦層上的多條規(guī)則溝槽能夠有效地加快對摩擦布的布毛的梳理，從而使摩擦布上雜亂的布毛可以在較短時間內(nèi)變整齊，進而降低摩擦布老化處理過程的時間，提高生產(chǎn)效率。

在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，摩擦層和基底可以設置為一體結構，這樣摩擦層和基底的材料可以統(tǒng)一。當然摩擦層和基底也可以設置為兩部分，即摩擦層和基底為不同的材料，在此不作限定。

在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖2a和圖3a所示，基底200可以為板狀基板；或者，如圖2b和圖4a所示，基底200也可以為圓軸，在此不作限定。

在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，當基底為板狀基板時，基底可以為玻璃基板，當然也可以為適用于對摩擦布進行老化處理的其它材質的基板，在此不作限定。

進一步地，在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，當基底為玻璃基板時，摩擦層和基底可以設置為一體結構，此時各溝槽可以是通過對玻璃基板的表面進行刻蝕得到的。

進一步地，在具體實施時，在摩擦層與摩擦布進行相對運動時，為了降低銳利的溝槽邊緣對摩擦布的損耗，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖3b和圖4b所示，各溝槽310的側壁與摩擦層300的上表面之間的棱角呈弧形。其中，摩擦層300的上表面為摩擦層300背離基底200的一側中除各溝槽310的底部之外的部分。例如，當基底為玻璃基板，并且各溝槽是通過對玻璃基板刻蝕得到時，可以將溝槽邊緣進行打磨光滑，以使溝槽的側壁與摩擦層的上表面之間的棱角呈弧形。

進一步地，在具體實施時，為了進一步降低摩擦層對摩擦布的損耗，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，摩擦層的材料為軟塑膠材料。

在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，還包括：用于使基底與摩擦輥發(fā)生相對運動的控制部。

在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖3a所示，當基底200為板狀基板時，控制部(圖中未示出)具體用于控制基底200相對摩擦輥100進行平行移動。例如，控制部控制基底200沿X1方向進行平行移動，

或者，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖3a所示，當基底200為板狀基板時，控制部(圖中未示出)具體用于控制摩擦輥100繞摩擦輥100的中心軸轉動。例如，控制部控制摩擦輥100繞逆時針方向Y1轉動?？刂撇恳部梢钥刂颇Σ凛?00繞順時針方向轉動，在此不作限定。

較佳地，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖3a所示，當基底200為板狀基板時，控制部(圖中未示出)具體用于控制基底200相對摩擦輥100進行平行移動，且控制摩擦輥100繞摩擦輥100的中心軸轉動。例如，控制部控制基底200沿X1方向進行平行移動，且控制摩擦輥100繞逆時針方向Y1轉動。當然控制部也可以控制基底200沿與X1方向相反的方向進行平行移動，且控制摩擦輥100繞順時針方向轉動。

在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖4a所示，當基底200為圓軸時，控制部(圖中未示出)具體用于控制基底200繞基底200的中心軸轉動。例如，控制部控制基底200繞順時針方向X2轉動。當然，控制部也可以控制基底200繞逆時針方向轉動，在此不作限定。

或者，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖4a所示，當基底200為圓軸時，控制部(圖中未示出)具體用于控制摩擦輥100繞摩擦輥100的中心軸轉動。例如，控制部控制摩擦輥100繞逆時針方向Y2轉動。當然，控制部也可以控制摩擦輥100繞順時針方向轉動，在此不作限定。

較佳地，在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，如圖4a所示，基底200為圓軸時，控制部具體用于控制基底200繞基底200的中心軸轉動，且控制摩擦輥100繞摩擦輥100的中心軸轉動。

進一步地，在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，當控制部用于控制基底和摩擦輥同時轉動時，基底的轉動方向與摩擦輥的轉動方向相反。例如，如圖4a所示，控制部控制基底200繞順時針方向X2轉動，并控制摩擦輥繞逆時針方向Y2轉動。當然，控制部也可以控制基底200繞逆時針方向轉動，并控制摩擦輥繞順時針方向轉動，在此不作限定。

進一步地，在具體實施時，在本實用新型實施例提供的上述處理裝置中，基底的轉速與摩擦輥的轉速相同。

本實用新型實施例提供的摩擦布處理裝置，由于摩擦層設置有多條規(guī)則溝槽，當摩擦層與摩擦布沿溝槽的延伸方向發(fā)生相對運動時，摩擦層上的多條規(guī)則溝槽能夠有效地對摩擦布的布毛進行老化處理，可以促使摩擦布的布毛按一定的規(guī)則有序排列，從而使摩擦布上雜亂的布毛可以在較短時間內(nèi)變整齊，從而降低摩擦布老化處理過程的時間，提高生產(chǎn)效率。

顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。