本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示面板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)的VA(Vertical Alignment，垂直配向)模式的顯示面板具有寬視角、高對比度的優(yōu)勢。

在實踐中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問題：

傳統(tǒng)的VA模式的顯示面板在公共線的交疊區(qū)附近的位置處會出現(xiàn)暗態(tài)亮紋。

這些暗態(tài)亮紋的存在會降低上述傳統(tǒng)的VA模式的顯示面板的對比度。

故，有必要提出一種新的技術(shù)方案，以解決上述技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種顯示面板及顯示裝置，其能防止顯示面板在公共線附近的位置處出現(xiàn)暗態(tài)亮紋，從而有利于提高所述顯示面板的對比度。

為解決上述問題，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種顯示面板，所述顯示面板包括：一彩膜基板，所述彩膜基板設(shè)置有黑色矩陣層，所述黑色矩陣層包括至少一遮光網(wǎng)格；一薄膜晶體管陣列基板，所述薄膜晶體管陣列基板包括：一基板；至少兩掃描線；至少兩數(shù)據(jù)線；至少兩像素單元，所述像素單元包括薄膜晶體管和像素電極，所述薄膜晶體管與所述像素電極、所述掃描線和所述數(shù)據(jù)線連接；至少兩公共線，所述公共線包括主干部和分支部，所述分支部與所述主干部相連，所述主干部與所述分支部相連接的部位處于所述遮光網(wǎng)格的遮光范圍內(nèi)；一液晶層，所述液晶層設(shè)置于所述薄膜晶體管陣列基板和所述彩膜基板之間。

在上述顯示面板中，所述遮光網(wǎng)格包括至少兩第一遮光條和至少兩第二遮光條，所述第一遮光條與所述第二遮光條相連，所述第一遮光條所對應(yīng)的直線與所述掃描線平行，所述第二遮光條所對應(yīng)的直線與所述數(shù)據(jù)線平行；所述主干部與所述分支部相連接的部位處于所述第一遮光條的遮光范圍內(nèi)。

在上述顯示面板中，所述主干部所對應(yīng)的直線與所述掃描線平行，并且所述主干部在所述像素單元中的位置靠近所述掃描線。

在上述顯示面板中，所述薄膜晶體管陣列基板還包括：遮擋電極，所述遮擋電極設(shè)置在所述像素單元中與所述像素電極的兩像素分區(qū)的連接部對應(yīng)的位置，所述遮擋電極用于遮擋照射至兩所述像素分區(qū)的所述連接部的光線，從而防止所述顯示面板在所述主干部與所述分支部相連接的部位形成暗態(tài)亮紋。

在上述顯示面板中，所述遮擋電極與所述像素電極之間還設(shè)置有絕緣層；所述遮擋電極還用于與所述像素電極構(gòu)成存儲電容。

一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：一背光模組；一顯示面板，其中，所述顯示面板與所述背光模組疊加組合為一體，所述顯示面板包括：一彩膜基板，所述彩膜基板設(shè)置有黑色矩陣層，所述黑色矩陣層包括至少一遮光網(wǎng)格；一薄膜晶體管陣列基板，所述薄膜晶體管陣列基板包括：一基板；至少兩掃描線；至少兩數(shù)據(jù)線；至少兩像素單元，所述像素單元包括薄膜晶體管和像素電極，所述薄膜晶體管與所述像素電極、所述掃描線和所述數(shù)據(jù)線連接；至少兩公共線，所述公共線包括主干部和分支部，所述分支部與所述主干部相連，所述主干部與所述分支部相連接的部位處于所述遮光網(wǎng)格的遮光范圍內(nèi)；一液晶層，所述液晶層設(shè)置于所述薄膜晶體管陣列基板和所述彩膜基板之間。

在上述顯示裝置中，所述遮光網(wǎng)格包括至少兩第一遮光條和至少兩第二遮光條，所述第一遮光條與所述第二遮光條相連，所述第一遮光條所對應(yīng)的直線與所述掃描線平行，所述第二遮光條所對應(yīng)的直線與所述數(shù)據(jù)線平行；所述主干部與所述分支部相連接的部位處于所述第一遮光條的遮光范圍內(nèi)。

在上述顯示裝置中，所述主干部所對應(yīng)的直線與所述掃描線平行，并且所述主干部在所述像素單元中的位置靠近所述掃描線。

在上述顯示裝置中，所述薄膜晶體管陣列基板還包括：遮擋電極，所述遮擋電極設(shè)置在所述像素單元中與所述像素電極的兩像素分區(qū)的連接部對應(yīng)的位置，所述遮擋電極用于遮擋照射至兩所述像素分區(qū)的所述連接部的光線，從而防止所述顯示面板在所述主干部與所述分支部相連接的部位形成暗態(tài)亮紋。

在上述顯示裝置中，所述遮擋電極與所述像素電極之間還設(shè)置有絕緣層；所述遮擋電極還用于與所述像素電極構(gòu)成存儲電容。

相對現(xiàn)有技術(shù)，由于所述公共線中的所述主干部與所述分支部相連接的部位設(shè)置在所述彩膜基板的所述第一遮光條的遮光范圍內(nèi)，所述顯示面板在公共線附近的位置處所產(chǎn)生的暗態(tài)亮紋可以利用所述第一遮光條來遮擋，因此所述顯示面板的對比度能夠得到提高。

為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下。

【附圖說明】

圖1為本發(fā)明的顯示面板的示意圖；

圖2為圖1所示的顯示面板中的A-A’截面的示意圖；

圖3為圖1所示的顯示面板中主干部與分支部相連接的部位的局部放大示意圖。

【具體實施方式】

本說明書所使用的詞語“實施例”意指實例、示例或例證。此外，本說明書和所附權(quán)利要求中所使用的冠詞“一”一般地可以被解釋為“一個或多個”，除非另外指定或從上下文可以清楚確定單數(shù)形式。

本發(fā)明的顯示裝置包括背光模組和顯示面板，其中，所述顯示面板與所述背光模組疊加組合為一體。

參考圖1、圖2和圖3，圖1為本發(fā)明的顯示面板的示意圖，圖2為圖1所示的顯示面板中的A-A’截面的示意圖，圖3為圖1所示的顯示面板中主干部1021與分支部1022相連接的部位的局部放大示意圖。

本發(fā)明的顯示面板可以是TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示面板)。

所述顯示面板包括彩膜基板、薄膜晶體管陣列基板和液晶層。所述液晶層設(shè)置于所述薄膜晶體管陣列基板和所述彩膜基板之間。

所述彩膜基板設(shè)置有黑色矩陣(BM，Black Matrix)層，所述黑色矩陣層包括至少一遮光網(wǎng)格。

所述薄膜晶體管陣列基板包括基板、至少兩掃描線101、至少兩數(shù)據(jù)線103、至少兩像素單元以及至少兩公共線102。

所述像素單元包括薄膜晶體管104和像素電極106，所述薄膜晶體管104與所述像素電極106、所述掃描線101和所述數(shù)據(jù)線103連接。

所述公共線102包括主干部1021和分支部1022，所述分支部1022與所述主干部1021相連，所述主干部1021與所述分支部1022相連接的部位1023處于所述遮光網(wǎng)格的遮光范圍內(nèi)。

所述公共線102用于導(dǎo)通與同一所述掃描線101相連的所述像素單元，以使與同一所述掃描線101相連的所述像素單元具有相同的公共電壓。

所述公共線102和所述掃描線101是通過對第一金屬層實施同一光罩制程和/或同一蝕刻制程來形成的。

所述分支部1022所對應(yīng)的直線與所述主干部1021所對應(yīng)的直線具有預(yù)定夾角，所述預(yù)定夾角大于0度并且小于或等于90度。

所述遮光網(wǎng)格包括至少兩第一遮光條和至少兩第二遮光條，至少兩第一遮光條和至少兩第二遮光條首尾相連，并且所述第一遮光條與所述第二遮光條相連，所述第一遮光條所對應(yīng)的直線與所述掃描線101平行，所述第二遮光條所對應(yīng)的直線與所述數(shù)據(jù)線103平行。

所述主干部1021與所述分支部1022相連接的部位1023處于所述第一遮光條的遮光范圍107內(nèi)。所述掃描線101也處于所述第一遮光條的所述遮光范圍107內(nèi)。

進一步地，所述主干部1021與所述分支部1022相連接的部位1023的邊緣為斜邊1024和/或曲邊1025，所述斜邊1024和/或所述曲邊1025處于所述第一遮光條的遮光范圍107內(nèi)。

所述主干部1021所對應(yīng)的直線與所述掃描線101平行，并且所述主干部1021在所述像素單元中的位置靠近所述掃描線101。

所述薄膜晶體管陣列基板還包括遮擋電極105，所述遮擋電極105設(shè)置在所述像素單元中與所述像素電極106的兩像素分區(qū)(Domain)(1061、1062)的連接部對應(yīng)的位置，所述遮擋電極105用于遮擋照射至兩所述像素分區(qū)(1061、1062)的所述連接部的光線，從而防止所述顯示面板在所述主干部1021與所述分支部1022相連接的部位1023形成暗態(tài)亮紋。

所述遮擋電極105和所述數(shù)據(jù)線103是通過對第二金屬層實施同一光罩制程和/或同一蝕刻制程來形成的。

所述遮擋電極105的長度方向與兩所述像素分區(qū)(1061、1062)的所述連接部所對應(yīng)的直線平行。

在垂直于所述顯示面板所在的平面的方向上，所述遮擋電極105與所述連接部部分重疊或全部重疊。

所述遮擋電極105與所述像素電極106之間還設(shè)置有絕緣層(第一絕緣層203)。所述公共線與所述遮擋電極105之間還設(shè)置有第二絕緣層202。

所述遮擋電極105還用于與所述像素電極106構(gòu)成存儲電容，具體地，所述遮擋電極105用于增加所述存儲電容的一個極板的面積，以增加所述存儲電容的電容大小，從而增加所述像素電極106向液晶分子施加電場力的穩(wěn)定性，以及用于遮擋不同像素分區(qū)交接處的液晶分子可能因為存在導(dǎo)向不良而產(chǎn)生的暗態(tài)亮紋。

通過上述技術(shù)方案，由于所述公共線中的所述主干部1021與所述分支部1022相連接的部位1023設(shè)置在所述彩膜基板的所述第一遮光條的遮光范圍107內(nèi)，所述顯示面板在公共線附近的位置處所產(chǎn)生的暗態(tài)亮紋可以利用所述第一遮光條來遮擋，因此所述顯示面板的對比度能夠得到提高。

綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭露如上，但上述優(yōu)選實施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。