本發(fā)明涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置。

背景技術：

液晶顯示裝置通常包括彩膜基板和陣列基板，目前，某種類型的陣列基板中包含有觸控電極以及連接觸控電極的觸控信號線。其中，觸控信號線的數(shù)量等于液晶顯示裝置中水平方向的像素數(shù)量。

由于觸控電極的數(shù)量小于觸控信號線的數(shù)量，因此，與觸控電極相連接的觸控信號線有控制信號，而未與觸控電極相連接的觸控信號線則沒有控制信號。

在實現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術中至少存在如下問題：

未與觸控電極相連接的觸控信號線，在其他信號線的影響下，例如數(shù)據(jù)線或者掃描線等，很容易產(chǎn)生靜電積累，影響液晶顯示裝置畫面的正常顯示。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，能夠避免未與觸控電極相連的觸控信號線產(chǎn)生的靜電積累，保障了畫面的正常顯示。

一方面，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板，包括：

有效觸控信號線；

觸控電極；

虛設觸控信號線；

所述陣列基板包括顯示區(qū)域和周邊區(qū)域；

所述周邊區(qū)域設置有公共電極走線；

在所述顯示區(qū)域，所述有效觸控信號線與所述觸控電極連接；

所述虛設觸控信號線與所述公共電極走線電連接。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述陣列基板包括第一金屬層和設置于所述第一金屬層上方的第二金屬層，所述第一金屬層與所述第二金屬層相互絕緣；

所述第一金屬層包括所述公共電極走線，所述第二金屬層包括所述虛設觸控信號線，所述公共電極走線通過所述第一金屬層與所述第二金屬層之間的第一過孔與所述虛設觸控信號線電連接。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述陣列基板包括第一金屬層、設置于所述第一金屬層上方的第二金屬層以及設置于所述第二金屬層上方的透明導電層；

所述第一金屬層、所述第二金屬層和所述透明導電層中的任意兩層之間相互絕緣；

所述第一金屬層包括所述公共電極走線，所述第二金屬層包括所述虛設觸控信號線；

所述透明導電層包括連接結構層，所述連接結構層通過所述第一金屬層與所述透明導電層之間的第二過孔電連接于所述公共電極走線，所述連接結構層通過所述第二金屬層與所述透明導電層之間的第三過孔電連接于所述虛設觸控信號線。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述第一金屬層還包括柵極金屬層；

所述第二金屬層還包括所述有效觸控信號線；

所述第二金屬層還包括源漏極金屬層；

還包括像素電極層，所述像素電極層與所述第二金屬層同層設置；

所述透明導電層還包括公共電極層，所述公共電極層復用為觸控電極層，所述公共電極層包括所述觸控電極；

所述有效觸控信號線通過所述第二金屬層與所述透明導電層之間的第四過孔電連接于所述觸控電極。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述柵極金屬層包括多條柵線，所述源漏金屬層包括多條數(shù)據(jù)線，所述多條柵線和所述多條數(shù)據(jù)線交叉限定多個子像素單元，在每行子像素單元中，每相鄰的n個子像素單元組成一個像素單元，n為大于或等于3的整數(shù)；

所述觸控電極包括陣列分布的多個觸控電極，每個所述觸控電極對應多個所述子像素單元，所述有效觸控信號線包括多條，每個所述觸控電極電連接至少一條所述有效觸控信號線。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，每列像素單元對應設置有一條所述有效觸控信號線或一條所述虛設觸控信號線。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述陣列基板包括沿第一方向延伸的數(shù)據(jù)線；

所述虛設觸控信號線沿所述第一方向延伸，在所述第一方向上，所述虛設觸控信號線的至少一端位于所述顯示區(qū)域相對兩側(cè)的周邊區(qū)域；

所述虛設觸控信號線的一端或兩端在所述周邊區(qū)域與所述公共電極走線電連接。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，在所述第一方向上，所述顯示區(qū)域相對兩側(cè)的周邊區(qū)域分別設置有數(shù)據(jù)線末端器件和驅(qū)動IC。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述公共電極走線包括外側(cè)公共電極走線和內(nèi)側(cè)公共電極走線，在所述顯示區(qū)域靠近所述數(shù)據(jù)線末端器件一側(cè)的周邊區(qū)域，所述外側(cè)公共電極走線位于所述數(shù)據(jù)線末端器件遠離所述顯示區(qū)域的一側(cè)，所述內(nèi)側(cè)公共電極走線位于所述數(shù)據(jù)線末端器件靠近所述顯示區(qū)域的一側(cè)；

在所述顯示區(qū)域靠近所述數(shù)據(jù)線末端器件一側(cè)的周邊區(qū)域，每條所述虛設觸控信號線與所述外側(cè)公共電極走線或所述內(nèi)側(cè)公共電極走線電連接。

如上所述的方面和任一可能的實現(xiàn)方式，進一步提供一種實現(xiàn)方式，所述公共電極走線包括外側(cè)公共電極走線和內(nèi)側(cè)公共電極走線，在所述顯示區(qū)域靠近所述驅(qū)動IC一側(cè)的周邊區(qū)域，所述外側(cè)公共電極走線位于所述驅(qū)動IC遠離所述顯示區(qū)域的一側(cè)，所述內(nèi)側(cè)公共電極走線位于所述驅(qū)動IC靠近所述顯示區(qū)域的一側(cè)；

在所述顯示區(qū)域靠近所述驅(qū)動IC一側(cè)的周邊區(qū)域，所述虛設觸控信號線與所述內(nèi)側(cè)公共電極走線電連接。

另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示面板，包括彩膜基板和上述任意一種陣列基板，所述彩膜基板與所述陣列基板之間設置有液晶層。

另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置,其特征在,包括上述顯示面板。

本發(fā)明實施例提供的陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，通過將虛設觸控信號線連接至陣列基板的周邊區(qū)域內(nèi)的公共電極走線，使得公共電極走線可以為虛設觸控信號線提供一個電壓信號，由于公共電極走線為顯示裝置內(nèi)的既有部件，因此本發(fā)明實施例提供的技術方案實現(xiàn)了既無需添加新的部件或者增加驅(qū)動電路的負荷，又避免了有效觸控信號線對虛設觸控信號線產(chǎn)生的靜電積累，保障了畫面的正常顯示的效果，解決了現(xiàn)有技術中的虛設觸控信號線在有效觸控信號線的影響下很容易產(chǎn)生靜電積累，影響畫面的正常顯示的問題。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的第一俯視圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的第二俯視圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的第三俯視圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的部分結構的一種俯視圖；

圖5為圖4中AA’向的剖面結構示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的部分結構的另一種俯視圖；

圖7為圖6中BB’向的剖面結構示意圖；

圖8為圖6中CC’向的剖面結構示意圖；

圖9為圖4和圖6中DD’向的剖面結構示意圖；

圖10為本發(fā)明實施例提供的顯示面板的結構示意圖；

圖11為本發(fā)明實施例提供的顯示裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

在本發(fā)明實施例中使用的術語是僅僅出于描述特定實施例的目的，而非旨在限制本發(fā)明。在本發(fā)明實施例和所附權利要求書中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式，除非上下文清楚地表示其他含義。

實施例

圖1為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的第一俯視圖，圖2為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的第二俯視圖，圖3為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的第三俯視圖，如圖1、圖2和圖3所示，本實施例的陣列基板，具體可以包括：有效觸控信號線11、觸控電極12、虛設觸控信號線13、公共電極走線14。其中，陣列基板包括顯示區(qū)域AA和周邊區(qū)域BB，在陣列基板的顯示區(qū)域AA內(nèi)，有效觸控信號線11與觸控電極12連接，而公共電極走線14設置在陣列基板的周邊區(qū)域BB，使得虛設觸控信號線13與公共電極走線14電連接?？梢岳斫獾氖?，虛設觸控信號線13與觸控電極12之間是絕緣設置的。

在本發(fā)明實施例中，陣列基板包括沿第一方向延伸的數(shù)據(jù)線，虛設觸控信號線13沿第一方向(圖1、圖2和圖3中的X方向)延伸，可以理解的是，虛設觸控信號線13的走向與數(shù)據(jù)線的走向相同。在第一方向上，顯示區(qū)域AA相對兩側(cè)的周邊區(qū)域BB分別設置有數(shù)據(jù)線末端器件15和驅(qū)動IC(Integrated Circuit，集成電路)16。

為了可以給虛設觸控信號線13提供一個電壓信號，虛設觸控信號線13的一端或兩端在周邊區(qū)域BB與公共電極走線14電連接。

具體地，在第一方向上，虛設觸控信號線13的至少一端位于顯示區(qū)域相對兩側(cè)的周邊區(qū)域，即在本發(fā)明實施例中，并不限制虛設觸控信號線13的長度，其可以根據(jù)觸控電極12的數(shù)量、大小以及連接方式進行設定。

在本發(fā)明實施例中，公共電極走線14包括外側(cè)公共電極走線和內(nèi)側(cè)公共電極走線，在顯示區(qū)域AA靠近數(shù)據(jù)線末端器件15一側(cè)的周邊區(qū)域，外側(cè)公共電極走線位于數(shù)據(jù)線末端器件15遠離顯示區(qū)域AA的一側(cè)，內(nèi)側(cè)公共電極走線位于數(shù)據(jù)線末端器件15靠近顯示區(qū)域AA的一側(cè)。在顯示區(qū)域AA靠近數(shù)據(jù)線末端器件15一側(cè)的周邊區(qū)域，每條虛設觸控信號線13與外側(cè)公共電極走線或內(nèi)側(cè)公共電極走線電連接。

或者，公共電極走線14包括外側(cè)公共電極走線和內(nèi)側(cè)公共電極走線，在顯示區(qū)域AA靠近驅(qū)動IC16一側(cè)的周邊區(qū)域，外側(cè)公共電極走線位于驅(qū)動IC16遠離顯示區(qū)域AA的一側(cè)，內(nèi)側(cè)公共電極走線位于驅(qū)動IC16靠近顯示區(qū)域的AA一側(cè),在顯示區(qū)域AA靠近驅(qū)動IC16一側(cè)的周邊區(qū)域，虛設觸控信號線13與內(nèi)側(cè)公共電極走線電連接。

如圖1所示，虛設觸控信號線13與靠近驅(qū)動IC16一側(cè)的內(nèi)側(cè)公共電極走線連接，如圖2所示，虛設觸控信號線13與靠近數(shù)據(jù)線末端器件15一側(cè)的內(nèi)側(cè)公共電極走線連接，如圖3所示，虛設觸控信號線13與靠近數(shù)據(jù)線末端器件15一側(cè)的外側(cè)公共電極走線連接，在實際應用中，并不限制于本實施例中列舉的三種連接方式。

其中，公共電極走線14與驅(qū)動IC16連接，可以理解的是，內(nèi)側(cè)公共電極走線與外側(cè)公共電極走線均與驅(qū)動IC16連接。

在一個具體的實現(xiàn)過程中，陣列基板所在的顯示面板中還包括FPC(Flexible Printed Circuit，柔性電路板)，公共電極走線14中的外側(cè)公共電極走線與FPC連接。

可以理解的是，在本發(fā)明實施例中，通過公共電極走線14給虛設觸控信號線13提供的電壓，使得虛設觸控信號線13的電壓與有效觸控信號線11的電壓相等，因此避免了有效觸控信號線11在工作過程中對虛設觸控信號線13產(chǎn)生的靜電。

圖4為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的部分結構的一種俯視圖，圖5為圖4中AA’向的剖面結構示意圖，如圖4和圖5，陣列基板包括第一金屬層a和設置于第一金屬層a上方的第二金屬層b，第一金屬層a與第二金屬層b相互絕緣。

其中，第一金屬層a包括公共電極走線14，第二金屬層b包括虛設觸控信號線13，公共電極走線14通過第一金屬層a與第二金屬層之間b的第一過孔h1與虛設觸控信號線13電連接。

圖6為本發(fā)明實施例提供的陣列基板的部分結構的另一種俯視圖，圖7為圖6中BB’向的剖面結構示意圖，圖8為圖6中CC’向的剖面結構示意圖，如圖6、圖7和圖8所示，陣列基板包括第一金屬層a和設置于第一金屬層a上方的第二金屬層b，第一金屬層a與第二金屬層b相互絕緣。

其中，第一金屬層a包括公共電極走線14，第二金屬層b包括虛設觸控信號線13，公共電極走線14通過第一金屬層a與第二金屬層之間b的第一過孔與虛設觸控信號線13電連接。

陣列基板中還包括透明導電層c，透明導電層c設置于第二金屬層b上方，并且，第一金屬層a、第二金屬層b和透明導電層c中的任意兩層之間相互絕緣。

透明導電層c中包括連接結構層c1，連接結構層c1通過第一金屬層a與透明導電層c之間的第二過孔h2電連接于公共電極走線14，連接結構層c1通過第二金屬層b與透明導電層c之間的第三過孔h3電連接于虛設觸控信號線13。

圖9為圖4和圖6中DD’向的剖面結構示意圖，如圖9所示，在本發(fā)明實施例中，第一金屬層a還包括柵極金屬層,第二金屬層b中除了虛設觸控信號線13外還包括有效觸控信號線11，第二金屬層b還包括源漏極金屬層。

此外，陣列基板中還包括像素電極層f以及有源層g，像素電極層f與第二金屬層b同層設置，有源層g連接源漏極金屬層。

需要說明的是，在本發(fā)明實施例中，透明導電層c可以包括公共電極層，在某種型號的陣列基板中，公共電極層復用為觸控電極層，因此，公共電極層中還包括觸控電極12，且有效觸控信號線11通過第二金屬層b與透明導電層c之間的第四過孔h4電連接于觸控電極12。

具體地，在柵極金屬層中包括多條柵線a1，源漏金屬層包括多條數(shù)據(jù)線b1，多條柵線a1和多條數(shù)據(jù)線b1交叉限定多個子像素單元，在每行子像素單元中，每相鄰的n個子像素單元組成一個像素單元，n為大于或等于3的整數(shù)。每個子像素單元中還設置有薄膜晶體管TFT，像素電極層f中每個像素電極對應一個子像素單元，像素電極與薄膜晶體管TFT的漏極電連接，柵線與薄膜晶體管TFT的柵極電連接，數(shù)據(jù)線b1與薄膜晶體管TFT的源極電連接。

在一個具體的制作本發(fā)明如圖6-圖9實施例示出的陣列基板過程中，第一步，使用第一掩膜版制作第一金屬層a；第二步，使用第二掩膜版制作有源層g；第三步，使用第三掩膜版制作像素電極層f；第四步，使用第四掩膜版制作第二金屬層b；第五步，使用第五掩膜版制作第二至第四過孔h2、h3和h4；第六步，使用第六掩膜版制作公共電極層。采用這種制作陣列基板的工藝流程，僅需要使用6次不同的掩膜版既可完成，相比于現(xiàn)有技術中方式，很大程度上減少了工藝流程，實現(xiàn)了大幅節(jié)約成本的效果。

在本發(fā)明實施例中，每個觸控電極12可以對應多個子像素單元，多個觸控電極12對應所有的子像素單元，因此，觸控電極12包括陣列分布的多個觸控電極12，該陣列可以是p×q的陣列，其中p和q均為大于1的整數(shù)，每個觸控電極12由有效觸控信號線11提供電信號，由于有效觸控信號線11包括多條，所以，每個觸控電極12電連接至少一條有效觸控信號線11。當每個觸控電極12連接多條有效觸控信號線11時，以防止有效觸控信號線11斷裂引起觸控失靈。

在顯示階段，在對應的柵線a1的控制下，子像素單元的薄膜晶體管的源極對應的數(shù)據(jù)線b1通過薄膜晶體管向漏極對應的像素電極實施充放電，公共電極層(即觸控電極層)則接收一恒定的公共電壓信號，像素電極與公共電極之間形成電場，驅(qū)動液晶旋轉(zhuǎn)，以達到顯示功能；在觸控階段，多個觸控電極12可以通過自電容進行觸控檢測，即驅(qū)動IC向觸控電極提供觸控驅(qū)動信號并接收觸控檢測信號。

由于觸控信號走線的數(shù)量等于水平方向的像素數(shù)量，因此，每列像素單元對應設置有一條有效觸控信號線11或虛設觸控信號線13。

圖10為本發(fā)明實施例提供的顯示面板的結構示意圖，如圖10所示，本發(fā)明實施例還提供一種顯示面板，包括彩膜基板2和前述任意一種陣列基板1，彩膜基板2與陣列基板1之間設置有液晶層3。

圖11為本發(fā)明實施例提供的顯示裝置的結構示意圖，如圖11所示，本發(fā)明實施例還提供一種顯示裝置，包括前述的顯示面板100。該顯示裝置可以包括但不限于個人計算機(Personal Computer，PC)、個人數(shù)字助理(Personal Digital Assistant，PDA)、無線手持設備、平板電腦(Tablet Computer)、手機、MP4播放器或電視機等任何具有顯示功能的電子設備。

本發(fā)明實施例提供的陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，通過將虛設觸控信號線13連接至陣列基板的周邊區(qū)域內(nèi)的公共電極走線14，使得公共電極走線14可以為虛設觸控信號線13提供一個電壓信號，由于公共電極走線14為顯示裝置內(nèi)的既有部件，因此本發(fā)明實施例提供的技術方案實現(xiàn)了既無需添加新的部件或者增加驅(qū)動電路的負荷，又避免了有效觸控信號線11對虛設觸控信號線13產(chǎn)生的靜電積累，保障了畫面的正常顯示的效果，解決了現(xiàn)有技術中的虛設觸控信號線13在有效觸控信號線11的影響下很容易產(chǎn)生靜電積累，影響畫面的正常顯示的問題。

最后應說明的是：以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術方案的范圍。