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曝光裝置、圖像形成單元和圖像形成裝置的制作方法

文檔序號:11653413閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
本發(fā)明提供一種圖像形成裝置,其具備使圖像載體曝光的曝光裝置。該曝光裝置具有:發(fā)光元件陣列,包含排列在第一方向且各自發(fā)出光的多個發(fā)光元件;以及透鏡陣列,在與所述第一方向正交的第二方向上,與所述發(fā)光元件陣列對向配置,分別使由所述多個發(fā)光元件各自發(fā)出的多份所述光成像,滿足下列式(1)和式(2)。其中,L0是透鏡陣列的焦距,L1是透鏡陣列與發(fā)光元件陣列的距離,L2是透鏡陣列與圖像載體的距離。175μm≤L0?L1≤250μm?……(1)175μm≤L0?L2≤250μm?……(2)。

技術研發(fā)人員:兼藤大志
受保護的技術使用者:日本沖信息株式會社
技術研發(fā)日:2016.12.20
技術公布日:2017.07.28
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