本發(fā)明涉及應用于例如復印機、打印機或傳真機等圖像形成裝置的調(diào)色劑濃度感應器，更具體地，涉及能夠提高檢測精度的調(diào)色劑濃度感應器及圖像形成裝置。

背景技術(shù)：

調(diào)色劑濃度感應器是使在圖像形成裝置中得到最佳圖像品質(zhì)的重要部件。調(diào)色劑濃度感應器具有：發(fā)光元件，其照射光；光接收元件，其接受從該發(fā)光元件照射并由檢測對象反射的反射光；放大部，其放大該光接收元件的檢測電壓。

如果圖像形成裝置為中間轉(zhuǎn)印式，即將初次轉(zhuǎn)印至中間轉(zhuǎn)印帶的調(diào)色劑像二次轉(zhuǎn)印至紙上，則調(diào)色劑濃度感應器中從所述發(fā)光元件向中間轉(zhuǎn)印帶照射光，并由所述光接收元件檢測由中間轉(zhuǎn)印帶上的調(diào)色劑像所反射的反射光。光接收元件產(chǎn)生與光接收量對應的光電流，通過檢測該光電流的電壓，來檢測中間轉(zhuǎn)印帶上附著的調(diào)色劑濃度，基于該檢測結(jié)果進行光學性或電性的修正。

但是，如果采用在調(diào)色劑濃度感應器中將發(fā)光元件及光接收元件安裝在基板(印刷電路板)表面上并且使從發(fā)光元件發(fā)出的光的光路與基板平行的這種方案，則向沿著光路的規(guī)定方向之外的方向的輻射光會引起干擾光的問題。干擾光也被稱為雜射光，是造成檢測精度下降的原因。

即，從安裝在基板表面上的發(fā)光元件照射的光除了包含向規(guī)定的檢測對象前進的成分之外，還包含向其他方向前進的成分，例如向基板上的其他元件前進的成分或向基板前進的成分等，向基板前進的成分中有一部分還會進入基板的內(nèi)部。向規(guī)定的檢測對象前進的成分之外的光如果到達光接收元件，則檢測電壓的值會發(fā)生變化，從而無法進行高精度的檢測。

使檢測精度下降的干擾光分為：在基板的內(nèi)部前進并到達光接收元件的干擾光；以及在基板的外部的空中前進并到達光接收元件的干擾光。其中，在基板的外部前進的干擾光還分為：在基板上空前進的干擾光；以及在垂視基板平面時，在基板的外部的空中前進的干擾光。

由于光可以較容易地透過作為代表性基板原料的紙苯酚樹脂或環(huán)氧樹脂玻璃等，所以進入基板內(nèi)部的光一邊在基板的內(nèi)部反射一邊前進，其中的一部分從光接收元件周圍的沒有銅箔的區(qū)域出射到基板外部并到達光接收元件。

作為抑制這種在基板的內(nèi)部前進的干擾光的技術(shù)，專利文獻1中提出了在安裝在基板表面上的發(fā)光元件與光接收元件之間設置細長的狹縫狀的貫通孔的方案。該方案通過使在基板的內(nèi)部前進的干擾光從貫通孔照射，從而抑制到達光接收元件的干擾光。另外，還提出在覆蓋發(fā)光元件或光接收元件的外殼上設置插入貫通孔的遮光部件的方案等。

(現(xiàn)有技術(shù)文獻)

(專利文獻)

專利文獻1：日本專利第4531357號說明書

技術(shù)實現(xiàn)要素：

(本發(fā)明所要解決的課題)

目前存在著如圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器101的方案，即在基板105上接近地配置發(fā)光元件102與光接收元件103、104以實現(xiàn)小型化。圖9中，附圖標記116為覆蓋發(fā)光元件102及光接收元件103、104的外殼，附圖標記107為透鏡。

專利文獻1的調(diào)色劑濃度感應器的方案中，從與檢測對象(圖中未示出)的位置關(guān)系來看，光接收元件配置得比發(fā)光元件更靠后，在基板的外部的空中前進的干擾光難以到達光接收元件，因此比起在基板的外部的空中前進的干擾光，在基板的內(nèi)部前進的干擾光的影響更大。

而如圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器101的方案中，從與檢測對象(圖中未示出)的位置關(guān)系來看，發(fā)光元件102與光接收元件103、104的前后配置間距差小，并且發(fā)光元件102與光接收元件103、104接近地配置，比起在光接收元件基板105的內(nèi)部前進的干擾光，在基板105的外部的空中前進的干擾光的影響更大。

因此，即使在圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器101中采用專利文獻1的方案，如圖10所示，在基板105的發(fā)光元件102與光接收元件103、104之間設置細長的狹縫狀的貫通孔111，也無法遮斷影響更大的、在基板105的外部的空中前進的干擾光。

關(guān)于這一點，參考在實施方式的說明中所使用的圖7的(b)、(c)進行說明。另外，圖7的(b)示出了在圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器101中設置圖10所示的狹縫狀的貫通孔111并且在該貫通孔中插入遮光部件123的這一方案所帶來的干擾光遮斷效果，(c)示出了對(b)所示方案中的遮光部件123的形狀進行改變后的方案所帶來的干擾光遮斷效果。圖中，附圖標記117為構(gòu)成外殼116的上外殼，附圖標記118為構(gòu)成外殼116的下外殼，遮光部件123在上外殼117內(nèi)側(cè)與上外殼117一體形成，遮光部件123的下端達至下外殼118的底面(外表面)。

在如圖10設置著狹縫狀的貫通孔111的方案中，貫通孔111及插入該貫通孔111的遮光部件123可以有效地遮斷在基板105的內(nèi)部前進的干擾光。具體地，通過在發(fā)光元件102與光接收元件103、104之間具有貫通孔111，使光從貫通孔111的內(nèi)側(cè)面向基板105的外部出射，從而使殘留在基板105內(nèi)部的、經(jīng)過基板105的內(nèi)部從光接收元件103、104的附近出射的光減少。另外，此時，雖然從貫通孔111的內(nèi)側(cè)面向基板105的外部出射的光包括：從與貫通孔111對向的內(nèi)側(cè)面再入射而在基板105的內(nèi)部向著光接收元件103、104前進的光、以及在基板105的外部的空中前進并到達光接收元件103、104的光，但是通過使遮光部件123插入在貫通孔111的內(nèi)部及其上方，這些光也被遮斷。

另外，在基板105的外部的空中前進的干擾光之中，如圖7的(b)所示，如果插入貫通孔111的遮光部件123從基板105(搭載面)向上突出的高度充分高，就可以有效地遮斷圖10所示的、垂視基板平面時在基板105上空向光接收元件103、104直線前進的光(圖中箭頭y1所示的光)。

但是，即使遮光部件123的高度充分高，也無法遮斷圖10所示的、在垂視時在基板105上空沿著基板105的處于照射光前進方向側(cè)的端部105a前進的干擾光(圖中箭頭y2所示的光)、以及垂視時在基板105的外部的空中前進的干擾光(圖中箭頭y3所示的光)。

此外，在此，如圖7的(c)所示，遮光部件123的形狀被設定成：與在基板105上空擴展達至端部105a側(cè)的壁部124構(gòu)成為一體。但是，由于與光的波長相比而言，上外殼117的加工精度、組裝精度等不充分，因此從前方繞回的干擾光之中的沿著基板105表面?zhèn)鬟f的光成分會通過基板105與壁部124的下端之間的縫隙p到達光接收元件103(104)。并且，無法遮斷垂視時在基板105的外部的空中前進的干擾光(圖中箭頭y3所示的光)。

另外，設置有狹縫狀貫通孔111的基板105的強度會下降，所以有破碎的危險。特別是如圖10所示設置有狹縫狀的貫通孔111時，貫通孔111的長邊方向相當于呈矩形的基板105的短邊方向，所以基板105容易沿著貫通孔111彎折，因此強度下降。

本發(fā)明是鑒于上述課題而進行的，本發(fā)明的目的是提供在即使使發(fā)光元件與光接收元件的距離接近以實現(xiàn)小型化，也能夠抑制由干擾光引起的檢測精度下降并且維持堅固的調(diào)色劑濃度感應器等。

(用以解決課題的方案)

為了解決上述課題，本發(fā)明為一種調(diào)色劑濃度感應器，其特征在于：具備：發(fā)光元件，其照射光；光接收元件，其接受從該發(fā)光元件照射并由檢測對象反射的反射光；基板，其表面安裝了所述發(fā)光元件及所述光接收元件；以及外殼，其覆蓋所述發(fā)光元件及所述光接收元件，從所述發(fā)光元件發(fā)出的光的光路與所述基板設置為相互平行，所述基板上形成著槽部，所述槽部從安裝面沿厚度方向凹陷，并從位于所述發(fā)光元件照射的光的前進方向側(cè)的端部起，在所述發(fā)光元件與所述光接收元件之間延伸，所述外殼具有插入部，該插入部插入所述槽部。

通過上述方案，從發(fā)光元件照射但未沿著規(guī)定光路方向輻射的干擾光之中的、進入基板并在其內(nèi)部前進的干擾光能從槽部的內(nèi)側(cè)面向基板的外部出射，因此殘留在基板內(nèi)部并經(jīng)過基板的內(nèi)部從光接收元件的附近出射的光可減少。另外，雖然此時從槽部的內(nèi)側(cè)面向基板的外部出射的光包括從槽部內(nèi)的另一對向側(cè)面再入射而在基板的內(nèi)部向著光接收元件前進的光、以及在基板的外部的空中前進并向光接收元件前進的光，但是由于插入部插入在槽部的內(nèi)部及其上方，所以這些光也被遮斷。

并且，即使是與這種在基板的內(nèi)部前進的干擾光相比而言對檢測精度的影響更大的、在基板上空前進的干擾光，由于插入部插入在從基板的端部形成的槽部，所以無論是從發(fā)光元件向光接收元件直線前進的干擾光，還是前述那樣從基板的處于光前進方向側(cè)的端部繞回并到達光接收元件的干擾光，都能夠被有效遮斷，從而可提高檢測精度。

另外，上述方案中，槽部被設置成其長邊方向與基板的處于照射光前進方向側(cè)的端部交叉，從而能夠接近地配置發(fā)光元件與光接收元件，因此還具有能夠使調(diào)色劑濃度感應器小型化的優(yōu)點。

此外，發(fā)光元件及光接收元件的排列方向是矩形基板的長邊方向時，如果設置沿基板的短邊方向延伸的狹縫狀的貫通孔，則基板更容易彎折，但是采用上述槽結(jié)構(gòu)，能夠保證基板的強度，在實現(xiàn)小型化的同時維持堅固。

并且，與貫通孔相比，槽結(jié)構(gòu)的截面形狀更容易改變，能夠簡單地將槽部的截面形狀設計為使在基板的內(nèi)部前進的光難以從槽部向基板的外部出射的形狀等，由此也能夠減少干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述槽部達至所述發(fā)光元件及所述光接收元件的后方。

由此，槽部具有達至所述發(fā)光元件及所述光接收元件的后方的充分長度，所以即使是在所述發(fā)光元件及所述光接收元件的后方，也能夠阻止在基板的內(nèi)部前進的干擾光的傳播以減少干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述插入部具有以下方式的長度：所述插入部在插入所述槽部的狀態(tài)下達至所述槽部的與所述端部反向側(cè)的內(nèi)部。

由此，即使是在槽部的內(nèi)部部分，也能夠通過插入部來有效地遮斷以下的干擾光：從槽部的處于發(fā)光元件側(cè)的內(nèi)側(cè)面出射后，從對向的另一內(nèi)側(cè)面向基板內(nèi)再入射，并在基板內(nèi)向著光接收元件前進的干擾光；從槽部的處于發(fā)光元件側(cè)的內(nèi)側(cè)面出射后，向著光接收元件在空中前進的干擾光；以及在基板上空向著光接收元件前進的干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述插入部具有以下方式的長度：所述插入部在插入所述槽部的狀態(tài)下至少達至所述端部。

由此，即使是在槽部的前端部分，也能通過插入部來有效地遮斷以下的干擾光：從槽部的處于發(fā)光元件側(cè)的內(nèi)側(cè)面出射后，從對向的另一內(nèi)側(cè)面向基板內(nèi)再入射，并在基板內(nèi)向著光接收元件前進干擾的光；從槽部的處于發(fā)光元件側(cè)的內(nèi)側(cè)面出射后，向著光接收元件在空中前進的干擾光；以及在基板上空向著光接收元件前進的干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述插入部具有以下方式的長度：所述插入部在插入所述槽部的狀態(tài)下從所述端部向所述基板的外部突出。

由此，能夠有效地遮斷垂視時在基板的外部的空中前進并從基板的外部繞回而向光接收元件前進的干擾光，進一步提高檢測精度。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述槽部的深度為所述基板厚度的一半以上。

通過上述方案使槽部的深度為基板厚度的一半以上，因此能夠有效地減少在槽部下的基板部分前進并到達光接收元件的干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述槽部的沿其寬度方向截開的截面形狀為v字形或者梯形。

由此，槽部的沿其寬度方向截開的截面形狀為v字形或者梯形，因此在基板的內(nèi)部前進的光可被槽部的側(cè)面反射/折射，所以在基板的內(nèi)部前進的光向基板的外部出射的光總量可減少，并且由于會發(fā)生折射，因此從槽部的處于發(fā)光元件側(cè)的側(cè)面出射并向光接收元件方向前進的光成分可減少。另外，從槽部的處于發(fā)光元件側(cè)的側(cè)面出射后，在槽部的底部與插入部的下端之間的空隙傳播而從槽部的處于光接收元件側(cè)的側(cè)面向基板內(nèi)再入射的光也可減少。結(jié)果是，干擾光難以到達配置在基板的外部的光接收元件，能夠更加有效地減少干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述槽部的內(nèi)側(cè)面形成著金屬層或光阻層，或者形成著金屬層和光阻層這兩者。

由此，由于槽部的內(nèi)側(cè)面形成著金屬層或光阻層，所以在基板的內(nèi)部前進的光在基板內(nèi)進行偏向發(fā)光元件側(cè)的反射，從而不向基板的外部出射。結(jié)果是，可消除從槽部出射并在基板的外部的空間向著光接收元件前進的光、或者從槽部的內(nèi)側(cè)面出射并從對向的另一內(nèi)側(cè)面再入射進基板內(nèi)并向著光接收元件前進的光，因此能夠有效地減少到達光接收元件的干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述槽部與所述插入部之間填充著遮光性樹脂。

由此，通過充填在槽部與插入部之間的遮光性樹脂，從槽部的內(nèi)側(cè)面出射并在基板的外部的空間向著光接收元件前進的光、以及從槽部的內(nèi)側(cè)面出射并從對向的另一內(nèi)側(cè)面再入射而在基板內(nèi)向著光接收元件前進的光均被遮斷，結(jié)果是能夠有效地減少到達光接收元件的干擾光。

本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器還可以構(gòu)成為：所述基板背面的與所述槽部相對的部分形成為凹凸面，該凹凸面的寬度大于所述槽部的寬度。

由此，在基板背面的與槽部相對的部分形成著比槽部的寬度更寬的凹凸面，所以在基板內(nèi)部前進的光得以擴散，因此在基板的背面反射而在基板內(nèi)向著元件前進的光減少。另外，如果切削基板的表面以形成凹凸面，則在基板的內(nèi)部前進的光的一部分能從凹凸面向外部(與基板的安裝面反向側(cè)的外部)出射，所以能夠進一步減少在基板的內(nèi)部向著光接收元件傳播的光。結(jié)果是，干擾光難以到達配置在基板的外部的光接收元件，能夠更加有效地減少干擾光。

另外，搭載有本發(fā)明的調(diào)色劑濃度感應器的圖像形成裝置也包含在本發(fā)明的范疇內(nèi)。

(本發(fā)明的效果)

本發(fā)明提供即使縮小發(fā)光元件與光接收元件的距離來實現(xiàn)小型化，也能夠抑制由干擾光引起的檢測精度下降的調(diào)色劑濃度感應器。

附圖標記說明

圖1是本發(fā)明的一個實施方式的調(diào)色劑濃度感應器的斜視圖。

圖2是搭載了所述調(diào)色劑濃度感應器的圖像形成裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。

圖3是示出所述調(diào)色劑濃度感應器的概略結(jié)構(gòu)的正面圖。

圖4是所述調(diào)色劑濃度感應器的分解斜視圖。

圖5是所述調(diào)色劑濃度感應器的一個構(gòu)成部件、即安裝有發(fā)光元件和光接收元件的基板的平面圖。

圖6的(a)是所述調(diào)色劑濃度感應器的截面圖，(b)是示出所述調(diào)色劑濃度感應器中槽部、插入部、發(fā)光元件以及光接收元件的彼此間位置關(guān)系的說明圖。

圖7示出各種方案的調(diào)色劑濃度感應器中的干擾光遮斷效果，(a)示出本實施方式的調(diào)色劑濃度感應器中的干擾光遮斷效果，(b)示出在圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器中如圖10所示那樣設置狹縫狀的貫通孔并且將遮光部件插入該貫通孔中的方案對干擾光的遮斷效果，(c)示出對(b)的方案中的遮光部件的形狀進行改變后的方案對干擾光的遮斷效果。

圖8的(a)～(f)是示出變形例的調(diào)色劑濃度感應器的主要部分的說明圖。

圖9是示出現(xiàn)有技術(shù)中調(diào)色劑濃度感應器的概略構(gòu)成的正面圖。

圖10是說明在圖9的調(diào)色劑濃度感應器中設置有狹縫狀的貫通孔時的示例結(jié)構(gòu)的圖。

<附圖標記說明>

11調(diào)色劑濃度感應器

12發(fā)光元件

13光接收元件、第一光接收元件

14光接收元件、第二光接收元件

15基板

15a端部

16外殼

17上外殼

18下外殼

19透鏡

21槽部

23插入部

29遮光性樹脂

30金屬層

31光阻層

33凹凸面

51圖像形成裝置

具體實施方式

以下，對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。圖1是本實施方式的調(diào)色劑濃度感應器11的斜視圖。圖2是搭載了調(diào)色劑濃度感應器11的圖像形成裝置51的概略結(jié)構(gòu)圖。

如圖1所示，調(diào)色劑濃度感應器11的方案為：矩形的基板15的長邊側(cè)的一邊上安裝有箱型的外殼16及透鏡19。上述調(diào)色劑濃度感應器11搭載在例如圖2所示的圖像形成裝置51中。圖像形成裝置51為例如彩色激光打印機等。首先，對圖像形成裝置51的概略結(jié)構(gòu)進行說明。

圖像形成裝置51中，上部具有原稿讀取部52，基于由該原稿讀取部52讀取的原稿數(shù)據(jù)，由成像部53形成圖像并將圖像轉(zhuǎn)印至從設置在下部的供紙部54供應的紙54a上，然后從上部的排紙部55將紙排出。成像部53中設置著轉(zhuǎn)印帶56，來自光寫入裝置57的光使曝光下的感光體鼓58的表面上形成靜電潛像，調(diào)色劑附著在該靜電潛像上，然后將該調(diào)色劑初次轉(zhuǎn)印至所述轉(zhuǎn)印帶56來形成所述圖像。接著，供應紙54a，以將所述圖像從轉(zhuǎn)印帶56二次轉(zhuǎn)印至紙上。然后，將紙54a傳送到定影部59，利用熱及壓力將調(diào)色劑定影在紙54a上。

圖中，60是帶電輥，61是顯像套筒，62是調(diào)色劑盒。具備上述部件以及所述感光體鼓58的成像單元63分為黃色63y、品紅63m、青色63c、黑色64b這4種來配設。

所述調(diào)色劑濃度感應器11與所述圖像形成裝置51的轉(zhuǎn)印帶56對向設置，檢測轉(zhuǎn)印帶56上的調(diào)色劑濃度。調(diào)色劑濃度感應器11有時也設置在所述成像單元63內(nèi)。這種情況下，調(diào)色劑濃度感應器11檢測所述感光體鼓58上的調(diào)色劑濃度。

接著，對所述調(diào)色劑濃度感應器11進行說明。圖3是示出調(diào)色劑濃度感應器11的概略結(jié)構(gòu)的正面圖。圖4是調(diào)色劑濃度感應器11的分解斜視圖。圖5是調(diào)色劑濃度感應器11的一個構(gòu)成部件、即安裝有發(fā)光元件12和光接收元件13、14的基板15的平面圖。圖6的(a)是調(diào)色劑濃度感應器11的截面圖，(b)是示出調(diào)色劑濃度感應器11中槽部21、插入部23、發(fā)光元件12以及光接收元件13、14的彼此間位置關(guān)系的說明圖。

如圖3所示，調(diào)色劑濃度感應器11具備：發(fā)光元件12，其照射光；光接收元件13、14，其接受由該發(fā)光元件12照射并由檢測對象即所述轉(zhuǎn)印帶56反射的反射光；放大電路(圖中未示出)，其放大該光接收元件13、14的檢測電壓。所述發(fā)光元件12使用發(fā)光二級管，所述光接收元件13、14使用光電晶體管或光電二級管等。

如圖4、圖5所示，上述發(fā)光元件12及光接收元件13、14安裝在基板15表面上?；?5(安裝面)設置為與從發(fā)光元件12照射的光的光路平行。并且，安裝發(fā)光元件12及光接收元件13、14的部分被外殼16覆蓋(參照圖3)。

外殼16具有：上外殼17，其覆蓋基板15的安裝有發(fā)光元件12及光接收元件13、14的面(安裝面)；下外殼18，其覆蓋基板15的另一側(cè)的面(背面)。另外，在上外殼17上的靠近基板端部15a的一側(cè)，保持有透鏡19，端部15a在基板15中位于從發(fā)光元件12照射的光的前進方向側(cè)。

具體地，沿著所述端部15a排列設置1個發(fā)光元件12及2個光接收元件13、14，發(fā)光元件12配置在2個光接收元件13、14之間。

2個光接收元件13、14中的1個(圖3右側(cè)的光接收元件)是第一光接收元件13，其接受從發(fā)光元件12照射并被反射的反射光中的正反射光，主要進行黑色調(diào)色劑的濃度檢測。2個光接收元件13、14中的另一個(圖3左側(cè)的光接收元件)是第二光接收元件14，其接受從發(fā)光元件12照射并被反射的反射光中的漫反射光，主要進行黃色、品紅、青色的彩色調(diào)色劑的濃度檢測。

在此，從發(fā)光元件12照射的光的光路與端部15a所形成的角不是直角。另外，具有角θ1與角θ2相等，并且角θ3比角θ1大的關(guān)系。其中，角θ1是垂線l1與直線l2所形成的角，垂線l1是穿過交點q且與轉(zhuǎn)印帶56垂直的線，交點q是轉(zhuǎn)印帶56與從發(fā)光元件12出射的光的光路的交點，直線l2是連接交點q及光接收元件13的直線。角θ2是垂線l1與連接交點q及發(fā)光元件12的直線l3所形成的角。角θ3是垂線l1與連接交點q及光接收元件14的直線l4所形成的角。通過這樣構(gòu)成各角度，使光接收元件14具有正反射光難以到達的結(jié)構(gòu)，即，使正反射光與擴散反射光分開地分別到達各自的光接收元件，從而提高各調(diào)色劑的濃度檢測精度。

并且，該調(diào)色劑濃度感應器11中，為了實現(xiàn)提高檢測精度的目的，在基板15上，于發(fā)光元件12與光接收元件13之間區(qū)域、以及發(fā)光元件12與光接收元件14之間區(qū)域的至少一方區(qū)域，實施方式形成有槽部21，并且該槽部21中插入著插入部23。這里，本實施方式中，上述兩方的區(qū)域中形成有槽部21并且該槽部21中插入著插入部23。為了有效地遮斷干擾光，插入部23優(yōu)選由遮光材料形成。

槽部21從基板15的安裝面向基板15的厚度方向凹陷，并分別從基板15的所述端部15a(端部位于從發(fā)光元件12照射的光的前進方向上)起延伸地設在發(fā)光元件12與光接收元件13之間、發(fā)光元件12與光接收元件14之間。本實施方式中作為更優(yōu)選的方案，從槽部21的長度方面看，槽部21達至發(fā)光元件12及光接收元件13、14的后方。

如圖6的(a)所示，插入部23例如在上外殼17的內(nèi)側(cè)與上外殼一體形成，在插入部23插入槽部21的狀態(tài)下，插入部23的插入端接近下外殼18的底面(外表面)。本實施方式中作為更優(yōu)選的方案，如圖6的(b)所示，從插入部23中實際插入槽部21的部位23a的長度方面看，部位23a達至槽部21的與端部15a反向側(cè)的內(nèi)部。作為進而優(yōu)選的方案，從插入部23的長度方面看，插入部23從端部15a向基板15的外部(垂視基板時的外部)突出。另外，作為更優(yōu)選的方案，插入部23的除部位23a以外的高出基板105的部分23b以延伸長度超過槽部21的延伸長度的方式，延伸設置在基板15的安裝面上。

另外，插入部23未必要從端部15a向基板15的外部(垂視基板時的外部)突出，但優(yōu)選其在長度方面至少達至端部15a。

并且，關(guān)于插入部23的除實際插入槽部21的部位23a以外的高出基板105的部位23b，其寬度(沿槽部21短邊方向的尺寸)w1也可以與插入槽部21的部位23a的寬度相同。但是，這種情況下，如果由于加工精度的問題引起槽部21深度的不均勻，則即使插入部23的寬度不發(fā)生變化，槽部21與插入部23之間也可能產(chǎn)生空隙。所以，如圖6的(a)所示，優(yōu)選在不妨礙發(fā)光元件12、光接收元件13、14及配置在基板15上的其他電路部件(圖中未示出)的前提下，對高出基板105的部位23b的寬度w1進行擴展。即，如果將沿槽部21短邊方向的尺寸設為w2，優(yōu)選w1與w2的關(guān)系為w1＞w2。

由此，能夠提高包含插入部23的上外殼17與基板15的緊密度，并且通過使槽部21與插入部23的實際插入部位23a之間的空間結(jié)構(gòu)較復雜，能夠使在基板15的外部的空間前進的干擾光難以在該空間傳播并難以到達光接收元件13(14)側(cè)。另外，如后述所示，如果向槽部21充填遮光性樹脂29(參照圖8(e))等樹脂，則多數(shù)情況下采用如下方法進行充填：首先在槽部21上涂敷樹脂，之后將插入部23的部位23a插入。但是，由于槽部21的加工精度或樹脂涂敷精度的問題，樹脂可能從槽部21溢出。對此，通過使高出基板105的部位23b的寬度w1比槽部21的寬度w2寬，可以將溢出的樹脂收容在部位23b的底面與基板15之間，能夠防止樹脂流到發(fā)光元件12、光接收元件13、14等其他的電路部件側(cè)。

如上述方案所示，通過在基板15上的發(fā)光元件12與光接收元件13、14之間分別形成被分開的槽部21，并且將插入部23插入該槽部21，能夠利用槽部21與插入部23而有效地將進入基板15的內(nèi)部并在其內(nèi)部前進的干擾光(圖6的(a)中箭頭a)、以及在基板15上空向著光接收元件13(14)直線前進的干擾光(圖6的(a)中箭頭y1)這兩者遮斷，從而抑制到達光接收元件13、14的干擾光。

具體地，由于進入基板15的內(nèi)部并在其內(nèi)部前進的干擾光從槽部21的內(nèi)側(cè)面向基板15的外部出射，因此殘留在基板15內(nèi)部的、穿過基板15的內(nèi)部從光接收元件13(14)的附近出射的光減少。并且，雖然此時從槽部21的內(nèi)側(cè)面向基板15的外部出射的光包括從槽部21內(nèi)的另一對向側(cè)面再入射而在基板15的內(nèi)部向著光接收元件13(14)前進的光、以及在基板15的外部的空中向光接收元件13(14)前進的光，但是由于插入部23插入在槽部21的內(nèi)部及其上方，所以這些光也被遮斷。結(jié)果是，能夠有效地減少到達基板15上的光接收元件13(14)的干擾光。

為了有效地遮斷在基板15的內(nèi)部前進的干擾光，如上所述，插入部23的形狀優(yōu)選為：從插入部23的長度方面看，插入部23達至槽部21的與端部15a反向側(cè)的內(nèi)部，且填滿槽部21的整個空間。

并且，特別是關(guān)于上述以往方案中的調(diào)色劑濃度感應器101的狹縫狀的貫通孔111，在實現(xiàn)小型化的圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器101中，如圖10所示，即使在基板105上的發(fā)光元件102與光接收元件103、104之間設置細長的狹縫狀的貫通孔111，也無法將影響更大的在基板105外部空中前進的干擾光遮斷，但是在調(diào)色劑濃度感應器11中，能夠?qū)⒃摳缮婀庖舱跀唷?/p>

對此，參照圖7的(a)～(c)進行說明。圖7示出各種方案的調(diào)色劑濃度感應器中的干擾光遮斷效果，(a)示出本實施方式的調(diào)色劑濃度感應器中的干擾光遮斷效果，(b)示出了在圖9所示的調(diào)色劑濃度感應器中如圖10所示那樣設置狹縫狀的貫通孔并且將遮光部件插入該貫通孔中的方案對干擾光的遮斷效果，(c)示出對(b)的方案中的遮光部件的形狀進行改變后的方案對干擾光的遮斷效果。另外，圖中附圖標記117是構(gòu)成外殼116的上外殼，附圖標記118是構(gòu)成外殼116的下外殼。圖7的(b)、(c)中，遮光部件123在上外殼117的內(nèi)側(cè)與上外殼117一體形成，并且，遮光部件123的下端到達下外殼118的底面。

如圖7的(b)所示，如果插入貫通孔111的遮光部件123從基板105(搭載面)向上突出的高度充分高，就可以有效地遮斷在基板105外部空中前進的干擾光當中的、在基板105上空向光接收元件103、104直線前進的光(圖中箭頭y1所示的光)。

但是，即使遮光部件123的高度充分高，也無法遮斷在基板105上空從端部105a側(cè)繞回來的干擾光(圖中箭頭y2所示的光)、以及垂視時在基板105的外部的空中前進的干擾光(圖中箭頭y3所示的光)。

在此，如圖7的(c)所示，遮光部件123的形狀被設定成：與在基板105上空擴展至至端部105a側(cè)的壁部124構(gòu)成為一體。但是，由于與光的波長相比而言，上外殼117的加工精度、組裝精度等不充分，因此從前方繞回的干擾光中的沿著基板105表面?zhèn)鬟f的光成分會通過基板105與壁部124的下端之間的縫隙p到達光接收元件103(104)。并且，無法遮斷垂視時在基板105的外部的空中前進的干擾光(圖中箭頭y3所示的光)。

與此相對，當采用調(diào)色劑濃度感應器11中的從基板15的端部15a形成的槽部21時，如圖7的(a)所示，插入部23插入在從基板15的端部15a形成的槽部21中，所以不僅能夠遮斷從發(fā)光元件12向光接收元件13(14)直線前進的干擾光(圖中箭頭y1所示的光)，還能夠如上所述那樣有效遮斷沿基板15的端部15a繞向光接收元件13(14)的干擾光(圖中箭頭y2所示的光)，從而提高檢測精度。

并且，調(diào)色劑濃度感應器11中，如圖7的(a)所示，更優(yōu)選的方案為插入部23從端部15a向基板15的外部突出，所以還能夠遮斷垂視時在基板15的外部的空中前進的干擾光(圖中箭頭y3所示的光)，從而進一步提高檢測精度。

另外，上述方案中，槽部21具有達至發(fā)光元件12及光接收元件13(14)后方的充分長度，所以能夠阻止在基板15的內(nèi)部、乃至在發(fā)光元件12及光接收元件13(14)后方傳播的干擾光，從而減少干擾光。

并且，上述方案中，插入部23具有如下方式的長度：插入部23在插入槽部21的狀態(tài)下達至槽部21的與端部15a反向側(cè)的內(nèi)部，因此即使是在槽部21的內(nèi)部部分，也能夠通過插入部23有效地遮斷以下的光：從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射后，從對向的另一內(nèi)側(cè)面再入射進基板15內(nèi)并在基板15內(nèi)向著光接收元件13(14)前進的干擾光；從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射后，向著光接收元件13(14)在空中前進的干擾光；以及在基板15上空向著光接收元件13(14)前進的干擾光。

另外，雖然上述方案中，插入部23的優(yōu)選方案為從基板15的端部15a向基板15的外部突出，但是其在長度方面也可以至少達至端部15a。由此，即使是在槽部21的前端部分，也能夠通過插入部23有效地遮斷以下的光：從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射后，從對向的另一內(nèi)側(cè)面再入射進基板15內(nèi)并在基板15內(nèi)向著光接收元件13(14)前進的干擾光；從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射后，向著光接收元件13(14)在空中前進的干擾光；以及在基板15上空向著光接收元件13(14)前進的干擾光。

另外，與貫通孔111相比，采用槽部21時，具有能夠確?；?5的強度的優(yōu)點。不過，與貫通孔111相比，采用槽結(jié)構(gòu)時，對在基板15的內(nèi)部前進的干擾光的遮斷效果稍微有所下降。而如上所述，采用在基板15上接近地配置發(fā)光元件12與光接收元件13、14的小型化方案時，在基板15的內(nèi)部前進的干擾光對檢測精度的影響較小，因此，在實際使用中，槽結(jié)構(gòu)也能夠?qū)崿F(xiàn)充分地遮斷干擾光的效果。在此，優(yōu)選槽部21的深度為基板15厚度的一半以上。由此，能夠有效地減少基板15中的在槽部21的下方部分前進并到達光接收元件13、14的干擾光。

另外，通過以矩形基板15的長邊方向為發(fā)光元件12或光接收元件13、14的排列方向，并設置沿基板15的短邊方向延伸的槽部21，就能接近地配置發(fā)光元件12與光接收元件13、14，從而能夠?qū)崿F(xiàn)調(diào)色劑濃度感應器11的小型化。

在設置狹縫狀的貫通孔的方案中，為了實現(xiàn)調(diào)色劑濃度感應器的小型化，如圖10所示，設置沿基板105的短邊方向延伸的狹縫狀的貫通孔111時，基板105容易沿著貫通孔111彎折。但是，通過采用上述槽結(jié)構(gòu)，能夠確保基板15的強度，在實現(xiàn)小型化的同時維持堅固。

另外，為了實現(xiàn)提高檢測精度的目的，如圖6(a)所示，在基板15內(nèi)且在光接收元件13，14中至少一方的光接收部的正下方(供光接收元件13、14安裝在基板15上的2個凸島(圖中未示出)之間)，形成沿基板15厚度方向貫穿基板15的貫通空間部25，并且在下外殼18形成用以插入該貫通空間部25的插入部27。其中，本實施方式是在基板15內(nèi)且在上述光接收元件13、14這兩者的光接收部的正下方，形成有沿基板15厚度方向貫穿基板15的貫通空間部25，并且在下外殼18形成有用以插入該貫通空間部25的插入部27。

由此，在基板15的內(nèi)部傳播并向光接收元件13，14前進的干擾光還被貫通空間部25及插入部27遮斷，從而能夠進一步提高檢測精度(作為涉及該貫通空間部25的技術(shù)，可以使用日本專利公報(日本專利5589914號(us2012/0237246))中所記載的技術(shù))。

(變形例)

接著，對調(diào)色劑濃度感應器11的變形例進行說明。圖8的(a)～(f)是示出變形例的調(diào)色劑濃度感應器的主要部分的說明圖。圖8的(a)、(b)所示的變形例中，改變刨槽機刀頭的頭端形狀(刀頭的形狀)，使槽部21的沿其寬度方向截開的截面形狀為梯形或者v字形。通過使槽部21的沿其寬度方向截開的截面形狀為梯形或者v字形，在基板15的內(nèi)部前進的光可被槽部21的側(cè)面(截面)反射/折射，所以在基板15的內(nèi)部前進的光向基板15的外部出射的光總量可減少，并且由于會發(fā)生折射，因此從槽部21的處于發(fā)光元件12側(cè)的側(cè)面出射并向光接收元件13(14)的方向前進的光可減少。另外，從槽部21的處于發(fā)光元件12側(cè)的側(cè)面出射后繼續(xù)在槽部21的底部與插入部23的下端之間的空隙傳播并從槽部21的處于光接收元件13(14)側(cè)的側(cè)面向基板15的內(nèi)部再入射的光也可減少。

另外，在圖8的(c)、(d)所示的變形例中，槽部21的內(nèi)側(cè)面(截面)上形成著金屬層30或光阻層31，或者形成著這兩者。由此，通過在槽部21的內(nèi)側(cè)面形成的金屬層30或光阻層31，使在基板15的內(nèi)部前進的光在基板15內(nèi)進行偏向發(fā)光元件12側(cè)的反射，從而不向基板15的外部出射。結(jié)果是，可消除從槽部21出射并在基板15的外部的空間向著光接收元件13(14)前進的光、或者從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射并從對向的另一內(nèi)側(cè)面再入射進基板15的內(nèi)部并向著光接收元件13(14)前進的光，從而能夠有效地減少到達光接收元件13(14)的干擾光。另外，設置金屬層30或者光阻層31的方案不限于與槽部21的截面形狀為梯形或者v字形的方案進行組合，還可以與上述所記載的截面形狀為u字形的槽部21進行組合。

另外，圖8的(e)所示的變形例中，槽部21與插入部23之間填充著遮光性樹脂29。由此，從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射并在基板105的外部的空間向著光接收元件前進的光、以及從槽部21的內(nèi)側(cè)面出射后從對向的另一內(nèi)側(cè)面再入射進基板105的內(nèi)部并向著光接收元件13(14)前進的光均被遮斷，從而能夠有效地減少到達光接收元件13(14)的干擾光。并且，在槽部21與插入部23之間填充著遮光性樹脂29的方案不限于與槽部21的截面形狀為u字形的方案進行組合，還可以與截面形狀為梯形或者v字形的槽部21的方案進行組合，并且，可以與在槽部21的內(nèi)側(cè)面(截面)形成著金屬層30或光阻層31或者形成著該兩者的方案進行組合。

另外，圖8的(f)所示的變形例中，在基板15的背面15b的與槽部21相對的部分上形成著比槽部21的寬度更寬的凹凸面33。由此，凹凸面33將在基板15的內(nèi)部前進的光擴散，從而使被基板15的背面15b反射并繼續(xù)在基板15的內(nèi)部向著光接收元件13(14)傳播的光減少。并且，在形成凹凸面33時，如果切削基板15的表面，則在基板15的內(nèi)部前進的光的一部分能從凹凸面33向外部(與基板15的安裝面反向側(cè)的外部)出射，所以能夠進一步減少在基板15的內(nèi)部向著光接收元件13(14)傳播的光。結(jié)果是，干擾光難以到達配置在基板15的外部的光接收元件13(14)，從而能夠有效地減少干擾光。

此外，上述的例子中，外殼16的結(jié)構(gòu)為至少包括上外殼17及下外殼18這2個部件，但是也可以為沒有下外殼18而只有上外殼17的結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明不限定為上述的實施方式，可以在權(quán)利要求所示的范圍內(nèi)進行各種改變，適當組合各變形例中公開的技術(shù)手段而得到的實施方式也包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。