本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，更具體地，涉及一種液晶顯示裝置。

背景技術(shù)：

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，以下簡(jiǎn)稱(chēng)LCD)由于具有裝置薄、質(zhì)量輕、輻射小、功耗低等優(yōu)點(diǎn)，因此在平板顯示器領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，如將LCD作為手機(jī)、計(jì)算機(jī)、電視和個(gè)人數(shù)字助理的顯示器。通常液晶顯示裝置包括通過(guò)封框膠對(duì)盒的彩膜基板和陣列基板以及填充在彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。圖1所示為傳統(tǒng)液晶顯示裝置的截面圖，為圖示簡(jiǎn)潔，取其中一個(gè)像素區(qū)域進(jìn)行說(shuō)明。如圖1所示，傳統(tǒng)的液晶顯示裝置包括彩色濾光片基板(以下簡(jiǎn)稱(chēng)彩膜基板)10、陣列基板11以及位于彩膜基板10與陣列基板11之間的液晶層12，為圖示清楚，已將前述三部分適當(dāng)分離繪制。彩膜基板10包括基板101、黑矩陣(Black Matrix，BM)102、色阻層103、電極層104、保護(hù)層105和配向?qū)?06。黑矩陣102以及被黑矩陣102劃分的色阻層103位于基板101與電極層104之間，保護(hù)層位于極層104下，配向?qū)?06位于保護(hù)層105下。陣列基板11包括基板111、像素電極112、絕緣層113以及配向?qū)?14。像素電極112位于基板111上，配向?qū)?14在像素電極112下，并且像素電極112與配向?qū)?14之間通過(guò)絕緣層113隔離。

影像殘留(Image Sticking,IS)是指當(dāng)液晶顯示裝置長(zhǎng)時(shí)間顯示固定的同一畫(huà)面后，切換至下一畫(huà)面時(shí)，會(huì)隱約殘留上一個(gè)畫(huà)面的圖像。影像殘留形成的原因主要有：在由彩膜基板和陣列基板對(duì)盒形成的液晶盒內(nèi)有一定數(shù)量的雜質(zhì)液晶離子，這些雜質(zhì)液晶離子在特定條件下能夠形成對(duì)電場(chǎng)工藝過(guò)程中各種參數(shù)和控制條件的影響，比如摩擦工藝和清洗工藝等；或者施加給液晶顯示裝置的電流信號(hào)中含有一定的直流成分，能夠促使液晶盒內(nèi)的正負(fù)液晶離子不對(duì)稱(chēng)遷移并吸附在兩個(gè)配向?qū)雍鸵壕Ы缑嫔稀?/p>

隨著顯示內(nèi)容的逐漸復(fù)雜，對(duì)顯示器的性能和影像品質(zhì)的要求也逐漸增加，其中，一個(gè)重要的要求便是盡可能地減輕影像殘留。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種液晶顯示裝置，通過(guò)在彩膜基板的保護(hù)層上開(kāi)孔，可以減少影像殘留。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種液晶顯示裝置，包括彩膜基板、陣列基板和位于彩膜基板與陣列基板之間的液晶層，所述彩膜基板包括：基板；電極層，所述電極層位于所述基板下；保護(hù)層，所述保護(hù)層位于所述電極層下；以及配向?qū)?，所述配向?qū)游挥谒霰Ｗo(hù)層下；其中，所述保護(hù)層的下表面設(shè)有開(kāi)孔，使得所述電極層在所述開(kāi)孔部分裸露，所述配向?qū)訉?duì)應(yīng)于所述開(kāi)孔的部分填入所述內(nèi)并與所述電極層接觸。

在一些實(shí)施例中，所述電極層可連接到交流信號(hào)源以接收交流信號(hào)。

在一些實(shí)施例中，所述彩膜基板還包括黑矩陣和色阻層，所述黑矩陣和色阻層位于所述基板和電極層之間；其中，所述黑矩陣位于所述基板下方且經(jīng)過(guò)圖案化，使得所述基板的下表面有未設(shè)置黑矩陣的區(qū)域；所述色阻層位于所述基板下方，并覆蓋所述基板的下表面未設(shè)置黑矩陣的區(qū)域；并且所述開(kāi)孔在所述保護(hù)層中位于所述黑矩陣下方。

在一些實(shí)施例中，所述黑矩陣被圖案化為包括橫向條帶和縱向條帶的格柵狀；所述開(kāi)孔在所述保護(hù)層中位于所述橫向條帶和縱向條帶中較寬的條帶下方。

在一些實(shí)施例中，所述開(kāi)孔沿著所述較寬的條帶的方向等間距排列。

在一些實(shí)施例中，所述開(kāi)孔的橫截面為圓形。

在一些實(shí)施例中，所述彩膜基板還包括：用于起支撐作用的間隔物，所述間隔物的一端位于所述開(kāi)孔內(nèi)并穿過(guò)所述配向?qū)优c所述電極層接觸。

在一些實(shí)施例中，所述間隔物與所述電極層接觸的一端截面積小于所述開(kāi)孔截面積，使所述配向?qū)尤杂胁糠峙c所述電極層接觸。

在一些實(shí)施例中，所述間隔物為圓柱狀或圓臺(tái)狀。

本發(fā)明提供的液晶顯示裝置，通過(guò)在保護(hù)層上開(kāi)孔，一方面使電極層在開(kāi)孔部分裸露，配向?qū)犹钊腴_(kāi)孔可以與裸露部分的電極層直接接觸，使得殘留在配向?qū)颖砻娴碾姾杀宦懵兜碾姌O層帶走釋放，從而達(dá)到減少影像殘留的目的；另一方面，間隔物位于開(kāi)孔內(nèi)的設(shè)計(jì)可以使間隔物的位置更加穩(wěn)定，可以有效防止出現(xiàn)松動(dòng)的間隔物隨液晶分子位移而導(dǎo)致液晶層厚度不均或劃傷配向?qū)拥默F(xiàn)象。

附圖說(shuō)明

通過(guò)以下參照附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的描述，本發(fā)明的上述以及其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將更為清楚，在附圖中：

圖1示出傳統(tǒng)液晶顯示裝置的截面圖。

圖2a示出根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。

圖2b示出圖2a的液晶顯示裝置中的彩膜基板的仰視圖。

圖3a示出根據(jù)本發(fā)明另一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。

圖3b示出圖3a的液晶顯示裝置中的彩膜基板的仰視圖。

圖4a示出根據(jù)本發(fā)明又一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。

圖4b示出圖4a的液晶顯示裝置中的彩膜基板的仰視圖。

圖5示出根據(jù)本發(fā)明另外一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。

具體實(shí)施方式

以下將參照附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明。在各個(gè)附圖中，相同的元件采用類(lèi)似的附圖標(biāo)記來(lái)表示。為了清楚起見(jiàn)，附圖中的各個(gè)部分沒(méi)有按比例繪制。此外，可能未示出某些公知的部分。

應(yīng)當(dāng)理解，在描述器件的結(jié)構(gòu)時(shí)，當(dāng)將一層、一個(gè)區(qū)域稱(chēng)為位于另一層、另一個(gè)區(qū)域“上面”或“上方”時(shí)，可以指直接位于另一層、另一個(gè)區(qū)域上面，或者在其與另一層、另一個(gè)區(qū)域之間還包含其它的層或區(qū)域。并且，如果將器件翻轉(zhuǎn)，該一層、一個(gè)區(qū)域?qū)⑽挥诹硪粚?、另一個(gè)區(qū)域“下面”或“下方”。

如果為了描述直接位于另一層、另一個(gè)區(qū)域上面的情形，本文將采用“A直接在B上面”或“A在B上面并與之鄰接”的表述方式。在本申請(qǐng)中，“A直接位于B中”表示A位于B中，并且A與B直接鄰接。

在本申請(qǐng)中，術(shù)語(yǔ)“彩膜基板”指在制造彩膜基板的各個(gè)步驟中形成的整個(gè)彩膜基板的統(tǒng)稱(chēng)，包括已經(jīng)形成的所有層或區(qū)域。

在下文中描述了本發(fā)明的許多特定的細(xì)節(jié)，例如器件的結(jié)構(gòu)、材料、尺寸、處理工藝和技術(shù)，以便更清楚地理解本發(fā)明。但正如本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠理解的那樣，可以不按照這些特定的細(xì)節(jié)來(lái)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。

圖2a示出根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖和仰視圖。為表達(dá)清楚，附圖選取局部像素單元的放大圖。

如圖2a所示，液晶顯示裝置包括彩膜基板20、陣列基板21以及位于彩膜基板20和陣列基板21之間的液晶層22。

彩膜基板20包括基板201、電極層202、保護(hù)層203和配向?qū)?04?；?01可以為玻璃基板。電極層202設(shè)置在基板201下，其可以由氧化銦錫(ITO)制成。保護(hù)層203設(shè)置在電極層202下，其可以由絕緣材料制成，以使所述彩膜基板20平坦化，方便配向?qū)?04的形成。保護(hù)層203的下表面設(shè)有開(kāi)孔2021，使得所述電極層202在開(kāi)孔2021部分裸露。配向?qū)?04設(shè)置在保護(hù)層203下，并且配向?qū)?04對(duì)應(yīng)于開(kāi)孔2021的部分填入開(kāi)孔2021內(nèi)并與電極層202接觸。

圖2b示出圖2a的液晶顯示裝置中的彩膜基板的仰視圖。為了方便說(shuō)明，在圖2b的仰視圖中未示出配向?qū)?04。如圖2b所示，在保護(hù)層203的下表面形成開(kāi)孔2021，使得電極層202裸露。開(kāi)孔2021可以為圓形并且可以布置成陣列。然而本發(fā)明的實(shí)施例并不限于此，在一些實(shí)施例中，開(kāi)孔2021可以根據(jù)需要設(shè)置成任何其他形狀，例如方形、矩形、三角形、多邊形等等，在一些實(shí)施例中甚至不規(guī)則形狀也是可以的。另外，在一些實(shí)施例中，開(kāi)孔2021可以根據(jù)需要以任何其他形式布置，例如呈圓形或螺旋形排列，甚至可以不規(guī)則排列。

繼續(xù)參考圖2a，陣列基板21包括基板211、黑矩陣212、色阻層213、電極層214、絕緣層215、配向?qū)?16以及間隔物217?；?11可以為玻璃基板，其上可以設(shè)置晶體管陣列。電極層214可以為像素電極層，其設(shè)置在基板211上方并且被黑矩陣212分隔。色阻層213可以設(shè)置在電極層214下方，然而本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，在一些實(shí)施例中，色阻層213也可以位于電極層214下方。配向?qū)?16在電極層214上方，并且與電極層214之間通過(guò)絕緣層215電學(xué)隔離。間隔物217穿過(guò)配向?qū)?16與絕緣層215接觸，當(dāng)然本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，例如也可以將配向?qū)?16設(shè)置成完全覆蓋間隔物217。優(yōu)選地，可以將間隔物217的大小以及在陣列基板21上的位置設(shè)置成與彩膜基板20上的開(kāi)孔2021相對(duì)應(yīng)，如圖2a所示。

當(dāng)液晶顯示裝置工作時(shí)，彩膜基板20中的電極層202可連接到交流信號(hào)源以接收交流信號(hào)。當(dāng)彩膜基板20中的電極層202接收到交流信號(hào)時(shí)，液晶層22內(nèi)的液晶分子221會(huì)在液晶層22內(nèi)來(lái)回運(yùn)動(dòng)，而殘留在彩膜基板20的配向?qū)?04表面的電荷被裸露的電極層202帶走釋放，從而有效改善了影像殘留的問(wèn)題。

圖3a示出根據(jù)本發(fā)明另一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。為表達(dá)清楚，附圖選取局部像素單元的放大圖。

如圖3a所示，液晶顯示裝置包括彩膜基板30、陣列基板31以及位于彩膜基板30和陣列基板31之間的液晶層32。

彩膜基板30包括基板301、黑矩陣302、色阻層303、電極層304、保護(hù)層305和配向?qū)?06。

基板301可以為玻璃基板。

黑矩陣302和色阻層303設(shè)置在基板301下。黑矩陣302位于基板301下方且經(jīng)過(guò)圖案化，使得基板301的下表面有未設(shè)置黑矩陣的區(qū)域，而色阻層303位于基板301下方，并覆蓋基板301的下表面未設(shè)置黑矩陣302的區(qū)域。在圖3a所示的實(shí)施例中，色阻層303還覆蓋黑矩陣302。

電極層304設(shè)置在黑矩陣302和色阻層303下。電極層304可以由ITO制成。在一些實(shí)施例中，電極層304可以為公共電極層。

保護(hù)層305設(shè)置在電極層304下，其可以由絕緣材料制成，以使所述彩膜基板30平坦化，方便配向?qū)?06的形成。保護(hù)層305的下表面設(shè)有開(kāi)孔3051，使得所述電極層304在開(kāi)孔3051部分裸露。所述開(kāi)孔3051設(shè)置在所述保護(hù)層304中位于黑矩陣302下方的位置，由于開(kāi)孔3051被黑矩陣302遮擋，可以減小開(kāi)孔3051對(duì)顯示的影響。

配向?qū)?06設(shè)置在保護(hù)層305下，并且配向?qū)?06對(duì)應(yīng)于開(kāi)孔3051的部分填入開(kāi)孔3051內(nèi)并與電極層304接觸。

在制造過(guò)程中，可以在基板301上形成黑矩陣302和色阻層303，然后在黑矩陣302和色阻層303上形成電極層304，然后在電極層304上形成保護(hù)層505。在形成保護(hù)層305之后，可以圖案化所述保護(hù)層305的下表面以形成開(kāi)孔3051，從而使電極層304在開(kāi)孔3051處裸露，之后形成的配向?qū)?06填入所述開(kāi)孔3051并與所述電極層304接觸。

圖3b示出圖3a的液晶顯示裝置中的彩膜基板的仰視圖。在圖3b中，以虛線示出黑矩陣302的輪廓，并且為清楚示出黑矩陣302的形狀，將彩膜基板30的其他部分透明化。如圖3b所示，黑矩陣302被圖案化為包括橫向條帶和縱向條帶的格柵狀，從而將色阻層303分割成矩形的色阻。色阻通常包括紅色、綠色、藍(lán)色三種顏色的色阻。所述開(kāi)孔3051在保護(hù)層305中位于橫向條帶和縱向條帶中較寬的條帶下方。在一些實(shí)施例中，色阻層303中相同顏色的色阻之間的黑矩陣寬度大于不同色阻之間的黑矩陣的寬度，例如，如圖3b所示，黑矩陣302的格柵的縱向條帶比橫向條帶寬。在這種情況下，可以將開(kāi)孔3051設(shè)置在相對(duì)較寬的縱向條帶下方，這樣在形成開(kāi)孔3051時(shí)工藝上更容易實(shí)現(xiàn)。當(dāng)然，如果需要的話，在較窄的橫向條帶下方設(shè)置開(kāi)孔3051也是可以的。在圖3b的實(shí)施例中，開(kāi)孔3051沿著縱向條帶的方向等間距排列。然而本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，開(kāi)孔3051可以在黑矩陣302下方根據(jù)需要以任何期望的方式排列。另外，在圖3b的實(shí)施例中，將開(kāi)孔3051示為圓形，然而在一些實(shí)施例中，可以根據(jù)需要來(lái)任意設(shè)置開(kāi)孔3051的形狀，例如方形、矩形、三角形、多邊形等等，在一些實(shí)施例中甚至不規(guī)則形狀也是可以的。

繼續(xù)參考圖3a，陣列基板31包括基板311、電極層312、絕緣層313、配向?qū)?14以及間隔物315?；?11可以為玻璃基板。電極層312可以為像素電極層，其設(shè)置在基板311上。配向?qū)?14位于電極層312上方并且與電極層312之間通過(guò)絕緣層313電學(xué)隔離。間隔物315穿過(guò)配向?qū)?14與絕緣層313接觸，當(dāng)然本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，例如也可以將配向?qū)?14設(shè)置成完全覆蓋間隔物315。優(yōu)選地，可以將間隔物315的大小以及在陣列基板31上的位置設(shè)置成與彩膜基板30上的開(kāi)孔3051相對(duì)應(yīng)，如圖3a所示。

當(dāng)液晶顯示裝置工作時(shí)，彩膜基板30的電極層304可連接到交流信號(hào)源以接收交流信號(hào)。當(dāng)彩膜基板30的電極層304接收到交流信號(hào)時(shí)，位于彩膜基板30下方的液晶層32內(nèi)的液晶分子321會(huì)在液晶層內(nèi)來(lái)回運(yùn)動(dòng)，而殘留在彩膜基板30的配向?qū)?06表面的電荷被裸露的電極層304帶走釋放，從而有效改善了影像殘留的問(wèn)題。

圖4a示出根據(jù)本發(fā)明又一些實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。

如圖4a所示，液晶顯示裝置包括彩膜基板40、陣列基板41以及位于彩膜基板40和陣列基板41之間的液晶層42。

彩膜基板40包括基板401、黑矩陣402、色阻層403、電極層404、保護(hù)層405、配向?qū)?06和間隔物407。

基板401可以為玻璃基板。

黑矩陣402和色阻層403設(shè)置在基板401下。黑矩陣402位于基板401下方且經(jīng)過(guò)圖案化，使得基板401的下表面有未設(shè)置黑矩陣的區(qū)域，而色阻層403位于基板401下并覆蓋基板401的下表面未設(shè)置黑矩陣402的區(qū)域。

電極層404設(shè)置在黑矩陣402和色阻層403下。電極層404可以由ITO制成。在一些實(shí)施例中，電極層404可以為公共電極層。

保護(hù)層405設(shè)置在電極層404下，其可以由絕緣材料制成，以使所述彩膜基板40平坦化，方便配向?qū)?06的形成。保護(hù)層405的下表面設(shè)有開(kāi)孔4041，使得所述電極層404在開(kāi)孔4041部分裸露。開(kāi)孔4041設(shè)置在保護(hù)層404中位于黑矩陣402下方的位置，由于開(kāi)孔4041被黑矩陣402遮擋，可以減小開(kāi)孔4041對(duì)顯示的影響。

配向?qū)?06設(shè)置在保護(hù)層405下，并且配向?qū)?06對(duì)應(yīng)于開(kāi)孔4041的部分填入開(kāi)孔4041內(nèi)并與電極層404接觸。

間隔物407可以為光學(xué)間隔物(Photo Spacer，PS)，其可以由光反應(yīng)性材料(例如光阻材料)制成，用于控制彩膜基板40與其對(duì)應(yīng)的陣列基板間厚度與均勻性。每個(gè)間隔物407的一端位于一個(gè)開(kāi)孔4041內(nèi)并穿過(guò)配向?qū)?06與電極層404接觸。在一些實(shí)施例中，間隔物407與電極層404接觸的一端截面積小于開(kāi)孔4041截面積，使配向?qū)?06仍有部分與所述電極層404接觸。在一些實(shí)施例中，間隔物407可以為圓柱狀或圓臺(tái)狀。然而本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，可以根據(jù)需要將間隔物407設(shè)置成任何其他形狀。通過(guò)將間隔物407設(shè)置在開(kāi)口4141內(nèi)，可以使間隔物407更加穩(wěn)固，即使在工作狀態(tài)下間隔物407出現(xiàn)松動(dòng)的現(xiàn)象，其位移范圍也被限制在開(kāi)孔4041內(nèi)，從而可以防止出現(xiàn)液晶層(未繪示)厚度不均或劃傷配向?qū)?06的現(xiàn)象。

在制造過(guò)程中，可以在基板401上形成黑矩陣402和色阻層403，然后在黑矩陣402和色阻層403上形成電極層404，然后在電極層404上形成保護(hù)層405。在形成保護(hù)層405之后，可以圖案化保護(hù)層405的下表面以形成開(kāi)孔4041，從而使電極層404在開(kāi)孔4041處裸露。在形成開(kāi)孔4041之后，可以在開(kāi)孔4041中裸露的電極層404上形成間隔物407。最后形成配向?qū)?06，使得配向?qū)?06覆蓋整個(gè)保護(hù)層405的下表面以及開(kāi)孔4041中未被間隔物407覆蓋的部分。

圖4b示出圖4a的液晶顯示裝置中的彩膜基板的仰視圖。在圖4b中，以虛線示出黑矩陣402的輪廓，并且為清楚示出黑矩陣402的形狀，將彩膜基板40的其他部分透明化。如圖4b所示，黑矩陣402被圖案化為包括橫向條帶和縱向條帶的格柵狀，從而將色阻層403分割成矩形的色阻。色阻通常包括紅色、綠色、藍(lán)色三種顏色的色阻。開(kāi)孔4041在保護(hù)層405中位于橫向條帶和縱向條帶中較寬的條帶下方。在一些實(shí)施例中，色阻層403中相同顏色的色阻之間的黑矩陣寬度大于不同色阻之間的黑矩陣的寬度，例如，如圖4b所示，黑矩陣402的格柵的縱向條帶比橫向條帶寬。在這種情況下，可以將開(kāi)孔4041設(shè)置在相對(duì)較寬的縱向條帶下方，這樣在形成開(kāi)孔4041時(shí)工藝上更容易實(shí)現(xiàn)。當(dāng)然，如果需要的話，在較窄的橫向條帶下方設(shè)置開(kāi)孔4041也是可以的。在圖4b的實(shí)施例中，開(kāi)孔4041沿著縱向條帶的方向等間距排列。然而本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，開(kāi)孔4041可以在黑矩陣402下方根據(jù)需要以任何期望的方式排列。另外，在圖4b的實(shí)施例中，將開(kāi)孔4041示為圓形，然而在一些實(shí)施例中，可以根據(jù)需要來(lái)任意設(shè)置開(kāi)孔4041的形狀，例如方形、矩形、三角形、多邊形等等，在一些實(shí)施例中甚至不規(guī)則形狀也是可以的。每個(gè)間隔物407的一端位于一個(gè)開(kāi)孔4041內(nèi)并穿過(guò)配向?qū)?06與電極層404接觸。間隔物407與電極層404接觸的一端截面積小于開(kāi)孔4041截面積。在一些實(shí)施例中，間隔物407可以為圓柱狀或圓臺(tái)狀。然而本公開(kāi)的實(shí)施例不限于此，可以根據(jù)需要將間隔物407設(shè)置成任何其他形狀。

繼續(xù)參考圖4a，陣列基板41包括基板411、電極層412、絕緣層413和配向?qū)?14。基板411可以為玻璃基板。電極層412可以為像素電極層，其設(shè)置在基板411上。絕緣層413覆蓋電極層412。配向?qū)?14形成在絕緣層413上。

當(dāng)液晶顯示裝置工作時(shí)，彩膜基板40的電極層404可連接到交流信號(hào)源以接收交流信號(hào)。當(dāng)彩膜基板40的電極層404接收到交流信號(hào)時(shí)，位于彩膜基板40下方的液晶層42內(nèi)的液晶分子421會(huì)在液晶層40內(nèi)來(lái)回運(yùn)動(dòng)，而殘留在彩膜基板40的配向?qū)?06表面的電荷被裸露的電極層404帶走釋放，從而有效改善了影像殘留的問(wèn)題。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示裝置可以應(yīng)用于PET(Pattern Enhanced Twist，扭曲排列增強(qiáng)結(jié)構(gòu)型)架構(gòu)。PET架構(gòu)采用三電極結(jié)構(gòu)，即像素電極和一個(gè)公共電極(第一公共電極)位于陣列基板的不同層且第一公共電極位于像素電極上方，另外一個(gè)公共電極(第二公共電極)位于彩膜基板上，其中陣列基板的像素電極和第一公共電極形成邊緣電場(chǎng)，陣列基板的像素電極和彩膜基板的第二公共電極形成平面電場(chǎng)，其中液晶層的上下兩側(cè)均是公共電極(即第一公共電極和第二公共電極)。設(shè)置在彩膜基板上的第二公共電極可以防止靜電云紋(Mura)現(xiàn)象，用于消除外部靜電對(duì)液晶顯示裝置的影響。另外，彩膜基板的第二公共電極與陣列基板的第一公共電極可以在面板的邊緣通過(guò)導(dǎo)電體進(jìn)行上下導(dǎo)通。

圖5示出了在PET架構(gòu)下根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖。圖5的液晶顯示裝置與圖4的液晶顯示裝置類(lèi)似，區(qū)別至少在于圖5中的陣列基板與圖4的陣列基板41不同。為了描述清楚，下面主要對(duì)區(qū)別部分進(jìn)行詳細(xì)描述。

如圖5所示，液晶顯示面板包括彩膜基板40、陣列基板51以及位于彩膜基板40和陣列基板51之間的液晶層42。彩膜基板40包括基板401、黑矩陣402、色阻層403、電極層404、保護(hù)層405、配向?qū)?06和間隔物407，其中電極層404為第一公共電極層。關(guān)于彩膜基板40以上已經(jīng)參考圖4進(jìn)行了詳細(xì)的描述，在此不再贅述。

陣列基板51包括基板511、像素電極層512、絕緣層513、第二公共電極層514以及配向?qū)?15?；?11可以為玻璃基板，其上可以形成晶體管陣列。像素電極層512位于基板511上。第二公共電極層514位于像素電極層512的上方。像素電極層512與第二公共電極層514之間通過(guò)絕緣層513電學(xué)隔離。配向?qū)?15形成在絕緣層513上并且覆蓋第二公共電極層514。

當(dāng)液晶顯示裝置工作時(shí)，彩膜基板40的電極層404可連接到交流信號(hào)源以接收交流信號(hào)。當(dāng)彩膜基板40的電極層404接收到交流信號(hào)時(shí)，位于彩膜基板40下方的液晶層42內(nèi)的液晶分子421會(huì)在液晶層40內(nèi)來(lái)回運(yùn)動(dòng)，而殘留在彩膜基板40的配向?qū)?06表面的電荷被裸露的電極層404帶走釋放，從而有效改善了影像殘留的問(wèn)題。

需要指出的是，以上圖2至圖5為圖示清楚，將前彩膜基板、陣列基板和液晶層適當(dāng)分離繪制。在實(shí)際應(yīng)用中，可以使間隔物一端與彩膜基板接觸，另一端與陣列基板接觸，以起到控制彩膜基板與陣列基板間厚度和均勻性的作用。另外，以上圖2至圖5中為了描述清楚，將陣列基板的各層以平面層形式示出，然而本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)清楚，陣列基板各層的形狀和結(jié)構(gòu)根據(jù)實(shí)際應(yīng)用需要可以有多種實(shí)現(xiàn)方式。

本發(fā)明的實(shí)施例通過(guò)在彩膜基板的保護(hù)層上開(kāi)孔，使彩膜基板的電極層在開(kāi)孔部分裸露，配向?qū)犹钊腴_(kāi)孔可以與裸露部分的電極層直接接觸，使得在液晶顯示裝置工作時(shí)，殘留在彩膜基板的配向?qū)颖砻娴碾姾杀宦懵兜碾姌O層帶走釋放，從而達(dá)到減少影像殘留的目的。

本發(fā)明的實(shí)施例通過(guò)在彩膜基板上設(shè)置黑矩陣和色阻層并將開(kāi)孔設(shè)置在黑矩陣下方，可以避免開(kāi)孔影響顯示效果。

本發(fā)明的實(shí)施例通過(guò)在彩膜基板上設(shè)置間隔物并且將間隔物設(shè)置在開(kāi)孔內(nèi)可以使間隔物的位置更加穩(wěn)定，可以有效防止出現(xiàn)松動(dòng)的間隔物隨液晶分子位移而導(dǎo)致液晶層厚度不均或劃傷配向?qū)拥默F(xiàn)象。

應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，在本文中，諸如開(kāi)孔、間隔物等的形狀不應(yīng)局限于實(shí)施例中給出的形狀。另外，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

依照本發(fā)明的實(shí)施例如上文所述，這些實(shí)施例并沒(méi)有詳盡敘述所有的細(xì)節(jié)，也不限制該發(fā)明僅為所述的具體實(shí)施例。顯然，根據(jù)以上描述，可作很多的修改和變化。本說(shuō)明書(shū)選取并具體描述這些實(shí)施例，是為了更好地解釋本發(fā)明的原理和實(shí)際應(yīng)用，從而使所屬技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)人員能很好地利用本發(fā)明以及在本發(fā)明基礎(chǔ)上的修改使用。本發(fā)明僅受權(quán)利要求書(shū)及其全部范圍和等效物的限制。