本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種液晶顯示面板及制作方法。
背景技術(shù):
液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,LCD)具有機(jī)身薄、省電、無(wú)輻射等眾多優(yōu)點(diǎn),得到了廣泛的應(yīng)用,如:液晶電視、移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、數(shù)字相機(jī)、計(jì)算機(jī)屏幕或筆記本屏幕等、
隨著科技的發(fā)展,液晶顯示裝置的應(yīng)用越來(lái)越多。為了實(shí)現(xiàn)液晶顯示裝置較好的彩色顯示,現(xiàn)在的液晶顯示裝置在陣列基板上增加一層彩膜,從而在陣列基板上就實(shí)現(xiàn)了RGB三基色,避免了陣列基板和彩膜基板的對(duì)位操作,以便液晶顯示裝置更好的進(jìn)行全彩顯示,上述技術(shù)被稱為COA(Color Filter on Array)技術(shù)。
隨著液晶面板的解析度越來(lái)越高,像素(Pixel)的開口率越來(lái)越小,再加上對(duì)組精度的極限限制,液晶面板的穿透率隨著解析度的提高越來(lái)越低。COA(Color Filter on Array)由于把RGB都制作在array側(cè),提高了對(duì)位精度,在相同解析度的要求下,COA可以獲得較高的開口率。
請(qǐng)參閱圖1,圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖1所示,液晶顯示面板中的上基板朝向液晶層依次為第一襯底基板、黑色矩陣層、公共電極層及間隔物;液晶顯示面板的下基板朝向液晶層依次為第二襯底基板、柵電極絕緣層、色阻層、保護(hù)層、平坦層和像素電極層;光線依次通過(guò)液晶顯示面板中的第二襯底基板、柵電極絕緣層、色阻層、保護(hù)層、平坦層、像素電極層、液晶層、公共電極層、第一襯底基板;其中,每一層都會(huì)吸收光,導(dǎo)致穿透率降低。
現(xiàn)有液晶顯示面板中色阻層對(duì)應(yīng)處均含有平坦層,如能減少平坦層的使用,將可減少制程成本,而制造出更便宜的液晶顯示面板。
針對(duì)上述存在的問(wèn)題,在本領(lǐng)域希望尋求一種新型COA型液晶面板,減少有機(jī)材料的使用,減少制程成本,而制造出便宜、穿透率高的液晶顯示面板,從而有效解決現(xiàn)有液晶顯示面板光線穿透率低,成本高的問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種COA型液晶面板及制作方法,光線穿透率高,節(jié)省材料,成本低,有效解決現(xiàn)有液晶顯示面板光線穿透率低,成本高的問(wèn)題。
針對(duì)以上現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題,本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环NCOA型液晶面板,包括:相對(duì)設(shè)置的上基板與下基板、及夾設(shè)于所述上基板與下基板之間的液晶層;
所述上基板包括第一襯底基板、黑色矩陣層、公共電極層及間隔物;
所述下基板包括第二襯底基板、柵電極絕緣層、色阻層、保護(hù)層、像素電極層及平坦層。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黑色矩陣層設(shè)置于所述第一襯底基板上;所述公共電極層設(shè)置于所述黑色矩陣層和裸露的第一襯底基板上;所述間隔物設(shè)置于所述公共電極上,與黑色矩陣層相對(duì)應(yīng)。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述色阻層包括紅色色阻、藍(lán)色色阻及綠色色阻;所述紅色色阻和綠色色阻為兩個(gè)突出部,藍(lán)色色阻為凹陷部。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,紅色色阻與綠色色阻間隔設(shè)置,且紅色色阻與綠色色阻的厚度一致;所述藍(lán)色色阻的厚度小于所述紅色色阻及綠色色阻的厚度。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述間隔物為錐形柱狀物,包括主間隙物和次間隙物。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述主間隙物和次間隙物與所述藍(lán)色色阻相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,主間隙物和次間隙物的材質(zhì)相同,為彈性材料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述主間隙物的高度大于次間隙物的高度。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述柵電極絕緣層設(shè)置于所述第二襯底基板上;所述色阻層設(shè)置于所述柵電極絕緣層上;所述保護(hù)層設(shè)置在色阻層上;所述像素電極與色阻層的突出部相對(duì)應(yīng)設(shè)置;所述平坦層與色阻層的凹陷部相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述公共電極層通過(guò)物理氣相沉積法形成。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黑色矩陣層通過(guò)黃光制程形成。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黑色矩陣層的材料為黑色光組材料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黃光制程的具體步驟包括光阻涂布步驟、曝光步驟、顯影步驟及固化步驟。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述保護(hù)層的材料為氧化硅;
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述平坦層的材料為透明有機(jī)材料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述柵電極絕緣層的材質(zhì)為氮化硅。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述公共電極層的材料均為氧化銦錫。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述像素電極層的材料均為氧化銦錫。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述液晶層至少包含一種極性液?jiǎn)尉w和至少一種非極性液晶單體。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述液晶層的液晶分子為負(fù)性液晶。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述第一襯底基板為玻璃基板。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述第二襯底基板為玻璃基板。
本申請(qǐng)?zhí)岢鲆环NCOA型液晶面板的制作方法,包括如下步驟:
步驟1、提供第一襯底基板,然后使其進(jìn)入黃光線,通過(guò)黃光制程在所述第一襯底基板上形成黑色矩陣層;
步驟2、通過(guò)物理氣相沉積法在所述黑色矩陣層和裸露的第一襯底基板上形成公共電極層;
步驟3、在所述公共電極層上對(duì)應(yīng)所述黑色矩陣層的部分區(qū)域形成間隔物,得到上基板;
步驟4、提供第二襯底基板,在第二襯底基板上形成柵電極絕緣層;
步驟5、在所述柵電極絕緣層上形成色阻層;所述色阻層包括紅色色阻、藍(lán)色色阻及綠色色阻;所述紅色色阻和綠色色阻為兩個(gè)突出部,藍(lán)色色阻為凹陷部,紅色色阻與綠色色阻間隔設(shè)置,且紅色色阻與綠色色阻的厚度一致;所述藍(lán)色色阻的厚度小于所述紅色色阻及綠色色阻的厚度;
步驟6、在所述色阻層上形成保護(hù)層;
步驟7、通過(guò)物理氣相沉積法在保護(hù)層上,與色阻層突出部相對(duì)應(yīng)處形成像素電極層;
步驟8、在保護(hù)層上,與色阻層凹陷部相對(duì)應(yīng)處沉積有機(jī)材料,形成平坦層,得到下基板;
步驟9、使上基板設(shè)有間隔物的一側(cè)與下基板設(shè)有平坦層的一側(cè)相面對(duì),再在上基板與下基板之間滴注液晶,并將上基板與下基板進(jìn)行真空對(duì)組貼合,形成上基板與下基板之間的液晶層,得到COA型液晶面板。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述間隔物為錐形柱狀物,包括主間隙物和次間隙物。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述主間隙物和次間隙物與所述藍(lán)色色阻相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,主間隙物和次間隙物的材質(zhì)相同,為彈性材料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述主間隙物的高度大于次間隙物的高度。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述公共電極層通過(guò)物理氣相沉積法形成。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黑色矩陣層通過(guò)黃光制程形成。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黑色矩陣層的材料為黑色光組材料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述黃光制程的具體步驟包括光阻涂布步驟、曝光步驟、顯影步驟及固化步驟。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述保護(hù)層的材料為氧化硅;
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述平坦層的材料為透明有機(jī)材料。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述柵電極絕緣層的材質(zhì)為氮化硅。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述公共電極的材料均為氧化銦錫。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述像素電極的材料均為氧化銦錫。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述液晶層至少包含一種極性液?jiǎn)尉w和至少一種非極性液晶單體。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述液晶層的液晶分子為負(fù)性液晶。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述第一襯底基板為玻璃基板。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述第二襯底基板為玻璃基板。
此外,上述技術(shù)特征可以各種適合的方式組合或由等效的技術(shù)特征來(lái)替代,只要能夠達(dá)到本發(fā)明的目的。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明減少使用平坦層,即光線依次通過(guò)液晶顯示面板中的第二襯底基板、柵電極絕緣層、色阻層、保護(hù)層、像素電極層、液晶層、公共電極層、第一襯底基板;減少了平坦層,即減少了對(duì)光的吸收,提高了光線的穿透率,降低了制程成本,從而有效解決現(xiàn)有液晶顯示面板光線穿透率低,成本高的問(wèn)題。
為了讓本發(fā)明的上述內(nèi)容更明顯易懂,下文舉較佳實(shí)施例,并配合所附圖式,作詳細(xì)說(shuō)明如下。
附圖說(shuō)明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的流程圖。
圖3為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在第一襯底基板形成黑色矩陣層后的示意圖。
圖4為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在黑色矩陣層和裸露的第一襯底基板上形成公共電極層后的示意圖。
圖5為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在公共電極層上對(duì)應(yīng)黑色矩陣層的部分區(qū)域形成間隔物后的示意圖。
圖6為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在第二襯底基板上形成柵電極絕緣層后的示意圖。
圖7為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在所述柵電極絕緣層上形成色阻層后的示意圖。
圖8為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在所述色阻層上形成保護(hù)層后的示意圖。
圖9為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在保護(hù)層上與色阻層突出部相對(duì)應(yīng)處形成像素電極層后的示意圖。
圖10為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中在保護(hù)層上與色阻層凹陷部相對(duì)應(yīng)處沉積有機(jī)材料,形成平坦層后的示意圖。
圖11為本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式中COA型液晶面板的示意圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明:
110為第一襯底基板,120為黑色矩陣層,130為公共電極層,141為主間隙物,142為次間隙物,210為第二襯底基板,220為柵電極絕緣層,231為紅色色阻,232為綠色色阻,233為藍(lán)色色阻,240為保護(hù)層,250為像素電極層,260為平坦層,300為液晶層。
在附圖中,相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實(shí)際的比例。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
一種COA型液晶面板,包括:
相對(duì)設(shè)置的上基板與下基板、及夾設(shè)于所述上基板與下基板之間的液晶層;
所述上基板包括第一襯底基板、黑色矩陣層、公共電極層及間隔物;
所述下基板包括第二襯底基板、柵電極絕緣層、色阻層、保護(hù)層、像素電極層及平坦層;
具體地,按照如圖2所示的流程制備COA型液晶面板,具體包括以下步驟:
步驟1、如圖3所示,提供第一襯底基板110,然后使其進(jìn)入黃光線,通過(guò)黃光制程在所述第一襯底基板110上形成黑色矩陣層120;
所述的第一襯底基板110的材質(zhì)為玻璃基板;
所述黑色矩陣層120的材料為黑色光組材料;
所述黃光制程的具體步驟包括光阻涂布步驟、曝光步驟、顯影步驟及固化步驟;
步驟2、如圖4所示,通過(guò)物理氣相沉積法在所述黑色矩陣層120和裸露的第一襯底基板110上形成公共電極層130;
所述公共電極層130的材料為氧化銦錫;
步驟3、如圖5所示,在所述公共電極層130上對(duì)應(yīng)所述黑色矩陣層120的部分區(qū)域形成間隔物,得到上基板;
所述間隔物為錐形柱狀物,包括主間隙物141和次間隙物142;
所述主間隙物141和次間隙物142的材質(zhì)相同,為彈性材料;所述主間隙物141的高度大于次間隙物142的高度;
步驟4、如圖6所示,提供第二襯底基板210,在第二襯底基板210上形成柵電極絕緣層220;
所述的第二襯底基板210的材質(zhì)為玻璃基板;
所述柵電極絕緣層220的材質(zhì)為氮化硅;
步驟5、如圖7所示,在所述柵電極絕緣層220上形成色阻層;所述色阻層包括紅色色阻231、藍(lán)色色阻232及綠色色阻233;所述紅色色阻231和綠色色阻232為兩個(gè)突出部,藍(lán)色色阻233為凹陷部,紅色色阻231與綠色色阻232間隔設(shè)置,且紅色色阻231與綠色色阻232的厚度一致;所述藍(lán)色色阻233的厚度小于所述紅色色阻231及綠色色阻232的厚度;
所述藍(lán)色色阻233與主間隙物141和次間隙物142相對(duì)應(yīng)設(shè)置;
步驟6、如圖8所示,在所述色阻層上形成保護(hù)層240;
所述保護(hù)層240的材料為氧化硅;
步驟7、如圖9所示,通過(guò)物理氣相沉積法在保護(hù)層240上,與色阻層突出部相對(duì)應(yīng)處形成像素電極層250;
所述的像素電極層250的材料均為氧化銦錫;
步驟8、如圖10所示,在保護(hù)層240上,與色阻層凹陷部相對(duì)應(yīng)處沉積有機(jī)材料,形成平坦層260,得到下基板;
所述的平坦層260的材質(zhì)為透明有機(jī)材料;
步驟9、如圖11所示,使上基板設(shè)有間隔物的一側(cè)與下基板設(shè)有平坦層260的一側(cè)相面對(duì),再在上基板與下基板之間滴注液晶,并將上基板與下基板進(jìn)行真空對(duì)組貼合,形成上基板與下基板之間的液晶層300,得到COA型液晶面板;
所述液晶層300至少包含一種極性液?jiǎn)尉w和至少一種非極性液晶單體,且所述液晶層300的液晶分子為負(fù)性液晶。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本具體實(shí)施方式在保護(hù)層240上,紅色色阻231和紅色色阻231相對(duì)應(yīng)處形成像素電極250,即減少使用平坦層260,即光線依次通過(guò)本實(shí)施方式制備的COA型液晶面板中的第二襯底基板210、柵電極絕緣層220、色阻層、保護(hù)層240、像素電極層250、液晶層300、公共電極層130、第一襯底基板110;減少了平坦層260,即減少了對(duì)光的吸收,提高了光線的穿透率,降低了制程成本,從而有效解決現(xiàn)有液晶顯示面板光線穿透率低,成本高的問(wèn)題。
雖然在本文中參照了特定的實(shí)施方式來(lái)描述本發(fā)明,但是應(yīng)該理解的是,這些實(shí)施例僅僅是本發(fā)明的原理和應(yīng)用的示例。因此應(yīng)該理解的是,可以對(duì)示例性的實(shí)施例進(jìn)行許多修改,并且可以設(shè)計(jì)出其他的布置,只要不偏離所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍。應(yīng)該理解的是,可以通過(guò)不同于原始權(quán)利要求所描述的方式來(lái)結(jié)合不同的從屬權(quán)利要求和本文中所述的特征。還可以理解的是,結(jié)合單獨(dú)實(shí)施例所描述的特征可以使用在其他所述實(shí)施例中。