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具有波前測量裝置與光學(xué)波前操縱器的投射曝光設(shè)備的制作方法

文檔序號:11449720閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
一種投射曝光設(shè)備,包含投射鏡頭(12);波前測量裝置,其測量在該投射鏡頭(12)中的波前,該波前測量裝置包含莫爾光柵布置(14),其具有設(shè)計為分別布置于該投射鏡頭(12)的物平面(20)中的物光柵(16)與像平面(22)中的像光柵(18),其中該物光柵(16)與該像光柵(18)以從該物光柵(16)到該像平面(22)上的成像(24)與該像光柵(18)產(chǎn)生莫爾疊加圖案的方式以真實(shí)比例的方式彼此協(xié)調(diào),其中該莫爾光柵布置(14)以針對該物平面(20)中物場(26)和/或該像平面(22)中像場(28)的多個場點(diǎn)同時產(chǎn)生莫爾疊加圖案的方式設(shè)計。

技術(shù)研發(fā)人員:M.阿恩茨;S.布雷迪斯特爾;T.格魯納;J.哈杰斯;M.施瓦布
受保護(hù)的技術(shù)使用者:卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:2015.12.16
技術(shù)公布日:2017.08.29
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