技術(shù)特征：

1.一種應用于紅外敏感元件的紅外濾光片，包括成分為Si單晶硅的基板(2)以及分別位于基板兩側(cè)面的第一鍍膜層(1)和第二鍍膜層(3)，其特征是所述第一鍍膜層(1)包含從內(nèi)向外依次排列的厚度為110納米的Ge層、厚度為319納米的ZnS層、厚度為149納米的Ge層、厚度為583納米的ZnS層、厚度為1000納米的YF3層、厚度為239納米的ZnS層、所述第二鍍膜層(3)是厚度為1100納米的C層。