液晶顯示裝置及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了液晶顯示裝置及其制造方法。液晶顯示裝置包括：第一基板、與第一基板相對(duì)設(shè)置的第二基板、液晶層、以及設(shè)置在第一基板上的相位差補(bǔ)償膜，其中，該相位差補(bǔ)償膜包含氟樹脂。
【專利說明】液晶顯示裝置及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]示例性實(shí)施方式涉及液晶顯示裝置以及制造液晶顯示裝置的方法。更具體地，示例性實(shí)施方式涉及包含具有改善的硬度的相位差補(bǔ)償膜(phase differencecompensat1n film)的液晶顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置是平板顯示器中最廣泛使用的類型之一。平板顯示器包括但不限于，液晶顯示器(“IXD”)、等離子體顯示屏(“TOP”)、以及有機(jī)發(fā)光顯示器(“0LED”)。
[0003]LCD裝置將電壓施加到液晶分子以轉(zhuǎn)換分子的排列并且改變液晶單元的光學(xué)特性如雙折射、光學(xué)活性、二色性以及光散射，例如，以顯示圖像。
[0004]IXD裝置通過液晶顯示圖像。IXD裝置通常薄且重量輕、低功耗、以及低驅(qū)動(dòng)電壓。
[0005]通常，IXD裝置包括液晶顯示屏和背光組件。IXD屏通過控制液晶的透光率顯示圖像。背光組件通常設(shè)置在IXD屏的下表面上并且為IXD屏提供光。背光組件通常產(chǎn)生非偏振光。
[0006]在其中背光組件產(chǎn)生非偏振光這樣的IXD裝置中，IXD裝置進(jìn)一步包括偏振板，該偏振板偏振來自背光組件的光。然而，偏振板通常具有較厚的厚度并且其制造成本通常較聞。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]示例性實(shí)施方式提供了包括通過含有氟樹脂具有改善的硬度的相位差補(bǔ)償膜的液晶顯示裝置。
[0008]示例性實(shí)施方式還提供了液晶顯示裝置的制造方法。
[0009]根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，液晶顯示裝置包括:第一基板；與第一基板相對(duì)設(shè)置的第二基板；液晶層；以及設(shè)置在第一基板上的相位差補(bǔ)償膜，其中，該相位差補(bǔ)償膜包含氟樹脂。
[0010]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，基于相位差補(bǔ)償膜的表面部分的總原子，相位差補(bǔ)償膜的表面部分的氟原子比率可以為約20原子百分?jǐn)?shù)(at% )至約30at%。
[0011]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，氟樹脂可以包括聚四氟乙烯(“PTFE”)、氟化乙烯丙烯(氟化乙丙烯，fluorinated ethylene propylene) ( “FEP”)、全氟燒氧基(perfluoroalkoxy) (“PFA”)、乙烯-四氟乙烯(“ETFE”)、聚偏氟乙烯(“PVDF”)、乙烯-三氟氯乙烯(“ECTFE”)、聚三氟氯乙烯(“PCTFE”)、或它們的組合。
[0012]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在第一基板的下表面上。
[0013]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在第二基板的上表面上。
[0014]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在第一基板的下表面和第二基板的上表面上。
[0015]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以進(jìn)一步包括設(shè)置在第二基板上的黑矩陣(黑底，black matrix)，并且相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在第二基板和黑矩陣之間。
[0016]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以進(jìn)一步包括設(shè)置在第二基板上的黑矩陣，并且相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在第二基板和黑矩陣上。
[0017]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以進(jìn)一步包括設(shè)置在第二基板上的外覆層(保護(hù)涂層，over-coating layer)。相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在外覆層上。
[0018]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以進(jìn)一步包括設(shè)置在第二基板上的共用電極(公共電極，common electrode),并且相位差補(bǔ)償膜可以設(shè)置在共用電極上。
[0019]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶(反應(yīng)性液晶元，活性液晶，reactive mesogen)。
[0020]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜的厚度可以等于或小于約10微米(μ m) ο
[0021]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜的硬度可以等于或大于約2H的鉛筆硬度。
[0022]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜的表面能可以等于或小于約25毫牛頓/米(mN/m)。
[0023]根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，液晶顯示裝置的制造方法包括:將含有氟樹脂的緩聚劑組合物(阻聚劑組合物，retarder composit1n)涂覆在基板上以形成緩聚劑涂覆層(阻聚劑涂覆層，retarder coating layer);加熱緩聚劑涂覆層；將緩聚劑涂覆層暴露于光使得緩聚劑涂覆層具有光學(xué)各向異性；以及加熱緩聚劑涂覆層以形成相位差補(bǔ)償膜。
[0024]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，基板可以是液晶顯示裝置的第一基板或液晶顯示裝置的面對(duì)第一基板的第二基板，第二基板與第一基板相對(duì)設(shè)置。
[0025]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，緩聚劑組合物可以包含按重量計(jì)約10%至按重量計(jì)約30%的氟樹脂、按重量計(jì)約20%至按重量計(jì)約40%的反應(yīng)性介晶、按重量計(jì)約1%至按重量計(jì)約10%的光固化單體(photo-curing monomer)、按重量計(jì)約1%至按重量計(jì)約10%的熱固化劑、以及按重量計(jì)約10%至按重量計(jì)約30%的溶劑。
[0026]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，可以將緩聚劑組合物涂覆在第一基板的下表面上。
[0027]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，可以將緩聚劑組合物涂覆在第二基板的上表面上。
[0028]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，可以將緩聚劑組合物涂覆在第一基板的下表面和第二基板的上表面上。
[0029]在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜包含氟樹脂，使得顯著改善相位差補(bǔ)償膜的硬度、防污性(ant1-fouling)、以及抗刮性。因此，相位差補(bǔ)償膜可能不容易被損壞。
[0030]在這種實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜可以直接形成在基板上或基板之間，從而可以降低制造成本。相位差補(bǔ)償膜可以形成得較薄，從而可以省去減小單元厚度的蝕刻過程。因此，可以改善制造成本和生產(chǎn)率。在這種實(shí)施方式中，可以在注射液晶之前將相位差補(bǔ)償膜硬化，從而液晶可能不會(huì)被相位差補(bǔ)償膜損壞。透明導(dǎo)電層可以形成在相位差補(bǔ)償膜上，從而相位差補(bǔ)償膜可能不會(huì)被損壞。因此，可以改善液晶顯示裝置的顯示質(zhì)量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]通過參照附圖詳細(xì)描述其示例性實(shí)施方式，本公開內(nèi)容將變得更加顯而易見，其中:
[0032]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的一個(gè)示例性實(shí)施方式的框圖；
[0033]圖2是根據(jù)本發(fā)明示出在圖1中的像素的平面圖；
[0034]圖3是沿圖1中的線Ι-Γ截取的截面圖；
[0035]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖；
[0036]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖；
[0037]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖；
[0038]圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖；
[0039]圖8是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖；以及
[0040]圖9是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0041]現(xiàn)在在下文中將參照其中示出各種實(shí)施方式的附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更全面的描述。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實(shí)施，并且不應(yīng)解釋為限于本文中所闡述的實(shí)施方式。更確切地，提供這些實(shí)施方式使得本公開內(nèi)容詳盡和完整，以及將本發(fā)明的范圍完整地傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。全文中，相似的參考標(biāo)號(hào)指代相似的元件。
[0042]應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)提及一個(gè)元件在另一個(gè)元件“之上”時(shí)，它可以直接地位于另一個(gè)元件之上，或者它們之間可以存在中間元件(intervening elements)。相反，當(dāng)提及一個(gè)元件“直接在另一個(gè)元件之上”時(shí)，不存在中間元件。
[0043]應(yīng)當(dāng)理解，盡管在本文中可以使用術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等來描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)局限于這些術(shù)語。這些術(shù)語僅用于將一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開。因此，在不背離本文中的教導(dǎo)的情況下，以下所討論的“第一元件”、“組件”、“區(qū)域”、“層”或“部分”可以被稱為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。
[0044]本文中使用的術(shù)語僅用于描述特定實(shí)施方式的目的而并非旨在限制。如在本文中使用的，單數(shù)形式“一個(gè)”、“一種”和“該”旨在包括復(fù)數(shù)形式，包括“至少一種”，除非上下文清楚地指示出了其他方式。“或”意指“和/或”。如在本文中使用的，術(shù)語“和/或”包括相關(guān)列出項(xiàng)中的一個(gè)或多個(gè)的任意及所有組合。應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步理解，當(dāng)術(shù)語“包括”、和/或“包含”、或“含有”和/或“含”用在本說明書中時(shí)，其說明存在所陳述的特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件(要素)、和/或組件，但不排除存在或添加一個(gè)或多個(gè)其他的特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件(要素)、組件、和/或它們的組。
[0045]此外，在本文中可以使用關(guān)系術(shù)語，如“下部”、“底部”、以及“上部”或“頂部”來描述如在附圖中示出的一個(gè)元件相對(duì)于另一個(gè)元件的關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解，除了在附圖中示出的方向之外，關(guān)系術(shù)語旨在涵蓋裝置的不同方向。例如，如果附圖之一中的裝置是倒置的，則被描述為在其他元件“下”側(cè)的元件便被定向在其他元件的“上”側(cè)。因此，根據(jù)附圖的特定方向，示例性術(shù)語“下部”可以涵蓋“下部”和“上部”兩個(gè)方向。類似地，如果附圖之一中的裝置是倒置的，則被描述為在其他元件“下面”或“下方”的元件將被定向在其他元件“上面”。因此，示例性術(shù)語“下面”或“下方”可以涵蓋上面和下面兩個(gè)方向。
[0046]考慮到有疑慮的測(cè)量以及與特定量的測(cè)量相關(guān)聯(lián)的誤差(即，測(cè)量系統(tǒng)的局限性)，本文中使用的“約”或者“大約”包括在由本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所確定的針對(duì)特定值的可接受偏差范圍內(nèi)的所陳述的值和平均數(shù)(means)。例如，“約”可指在一個(gè)或多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)偏差內(nèi)，或在所述值的±30%、20%、10%、5%內(nèi)。
[0047]除非另有定義，否則本文中使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語)均具有與本公開內(nèi)容所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解的相同的含義。應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步理解，諸如在通常使用的詞典中定義的那些術(shù)語的術(shù)語應(yīng)被解釋為具有與它們?cè)谙嚓P(guān)領(lǐng)域和本公開內(nèi)容的上下文中的含義一致的含義，并且不得以理想化或者過度形式化的意義進(jìn)行解釋，除非在本文中明確規(guī)定如此定義。
[0048]在本文中，參照理想實(shí)施方式的示意性示圖的截面圖示,描述了示例性實(shí)施方式。因此，預(yù)期由于例如制造技術(shù)和/或公差的結(jié)果而產(chǎn)生的與示圖的形狀的差異。因此，本文中所描述的實(shí)施方式不應(yīng)解釋為限于本文所示的區(qū)域的特定形狀，而應(yīng)包括由于例如制造所導(dǎo)致的形狀上的偏差。例如，被示出或被描述為平坦的區(qū)域可能典型地具有粗糙的和/或非線性的特征。此外，所示出的銳角可能被圓化。因此，圖中所示出的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，并且它們的形狀不旨在示出區(qū)域的精確形狀，并且不旨在限制權(quán)利要求的范圍。
[0049]在下文中，將參照附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式。
[0050]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的一個(gè)示例性實(shí)施方式的框圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明示出在圖1中的像素例如第一像素Pl的平面圖。圖3是沿圖1中的線Ι-Γ截取的截面圖。
[0051 ] 參照?qǐng)D1，顯示屏的一個(gè)示例性實(shí)施方式包括多個(gè)柵極線GL、多個(gè)數(shù)據(jù)線DL、以及多個(gè)像素例如第一像素Pl至第三像素P3。
[0052]柵極線GL可以基本上在第一方向Dl上延伸。數(shù)據(jù)線DL可以基本上在與第一方向Dl垂直的第二方向D2上延伸?？商鎿Q地，柵極線GL可以基本上在第二方向D2上延伸并且數(shù)據(jù)線DL可以基本上在第一方向Dl上延伸。
[0053]像素可以基本上被布置成矩陣形式。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，像素可以設(shè)置于由柵極線GL和數(shù)據(jù)線DL所限定的區(qū)域，但不限于此。
[0054]每一個(gè)像素都可以被連接至相應(yīng)的柵極線GL和與此相鄰的相應(yīng)數(shù)據(jù)線DL。
[0055]每一個(gè)像素都可以具有基本上在第二方向D2上延伸的矩形形狀?？商鎿Q地，例如，像素可以具有V形或Z形。
[0056]參照?qǐng)D2和圖3，液晶顯示裝置包括第一基板100、與第一基板100相對(duì)設(shè)置的第二基板200、設(shè)置在第一基板100和第二基板200之間的液晶層300、相位差補(bǔ)償膜400A、第一偏振板500以及第二偏振板600。
[0057]第一基板100可以是透明絕緣基板。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，第一基板100是玻璃基板或透明塑料基板。第一基板100可以包括多個(gè)用于顯示圖像的像素區(qū)域。多個(gè)像素區(qū)域可以基本上被設(shè)置成具有多個(gè)行和多個(gè)列的矩陣形式。
[0058]像素區(qū)域中的每一個(gè)像素可以進(jìn)一步包括開關(guān)元件。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，開關(guān)元件可以是薄膜晶體管TFT。開關(guān)元件可以被連接至相應(yīng)的柵極線GL和與此相鄰的相應(yīng)數(shù)據(jù)線DL。開關(guān)元件可以設(shè)置在柵極線GL和數(shù)據(jù)線DL的交叉區(qū)域。
[0059]柵極圖案可以包括柵電極GE和柵極線GL。柵極圖案可以設(shè)置在第一基板100上。柵極線GL電連接至柵電極GE。
[0060]柵極絕緣層110可以設(shè)置在第一基板100上以覆蓋第一基板100上的柵極圖案，并且可以使柵極圖案絕緣。
[0061]半導(dǎo)體圖案SM可以設(shè)置在柵極絕緣層110上。半導(dǎo)體圖案SM可以覆蓋柵電極GE。
[0062]數(shù)據(jù)圖案可以包括數(shù)據(jù)線DL、源電極SE和漏電極DE。數(shù)據(jù)圖案可以設(shè)置在位于柵極絕緣層110之上的半導(dǎo)體圖案SM上。源電極SE可以覆蓋半導(dǎo)體圖案SM。源電極SE可以電連接至數(shù)據(jù)線DL。
[0063]漏電極DE可以與半導(dǎo)體圖案SM上的源電極SE間隔開。半導(dǎo)體圖案SM可以具有在源電極SE和漏電極DE之間的導(dǎo)電通道。
[0064]薄膜晶體管TFT可以包含柵電極GE、源電極SE、漏電極DE、以及半導(dǎo)體圖案SM。
[0065]數(shù)據(jù)線DL可以設(shè)置在柵極絕緣層110上。柵極絕緣層110可以基本上設(shè)置在第一基板100的整個(gè)表面上。
[0066]柵極絕緣層110可以包括有機(jī)絕緣材料或無機(jī)絕緣材料。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，柵極絕緣層110可以包括苯并環(huán)丁烯聚合物、烯烴聚合物、聚酰亞胺聚合物、丙烯?；酆衔?acryl polymer)、聚乙烯基聚合物、娃氧燒聚合物、娃聚合物、或它們的組合。
[0067]數(shù)據(jù)絕緣層120可以設(shè)置在柵極絕緣層110上以覆蓋柵極絕緣層上的數(shù)據(jù)圖案。數(shù)據(jù)絕緣層120可以使數(shù)據(jù)圖案絕緣。
[0068]數(shù)據(jù)絕緣層120可以設(shè)置在柵極線GL、數(shù)據(jù)線DL、以及開關(guān)元件上。數(shù)據(jù)絕緣層120可以基本上設(shè)置在第一基板100的整個(gè)表面上。數(shù)據(jù)絕緣層120可以包括有機(jī)絕緣材料或無機(jī)絕緣材料。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，數(shù)據(jù)絕緣層120可以包括苯并環(huán)丁烯聚合物、烯烴聚合物、聚酰亞胺聚合物、丙烯?；酆衔?、聚乙烯基聚合物、硅氧烷聚合物、硅聚合物、或它們的組合。
[0069]濾色片層(濾色層，color filter layer) CF可以設(shè)置在數(shù)據(jù)絕緣層120上。
[0070]通過濾色片層CF可以改變光的顏色并且通過濾色片層CF，光可以透射到液晶層300。濾色片層CF可以包括多個(gè)含有紅濾色片、綠濾色片和藍(lán)濾色片的濾色片。
[0071]每一個(gè)濾色片可以對(duì)應(yīng)于一個(gè)像素區(qū)域。鄰近的濾色片可以具有彼此不同的顏色。
[0072]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，彼此鄰近的濾色片可以在鄰近彼此的相應(yīng)像素區(qū)域之間的邊界上彼此部分重疊。可替換地，濾色片可以與鄰近彼此的相應(yīng)像素區(qū)域之間的邊界隔開，即，濾色片可以以島形設(shè)置。
[0073]液晶顯示裝置可以包括設(shè)置在濾色片層CF上的第一外覆層130。
[0074]設(shè)置在濾色片層CF上的第一外覆層130可以具有基本上平面化的表面(平坦的表面，planarized surface)。
[0075]第一外覆層130可以包括有機(jī)絕緣材料或無機(jī)絕緣材料。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，第一外覆層130可以包括苯并環(huán)丁烯聚合物、烯烴聚合物、聚酰亞胺聚合物、丙烯?；酆衔?、聚乙烯基聚合物、硅氧烷聚合物、硅聚合物、或它們的組合。
[0076]像素電極PE可以設(shè)置在第一外覆層130上。
[0077]通過經(jīng)由第一外覆層130、濾色片層CF以及數(shù)據(jù)絕緣層120所限定的接觸孔CH，像素電極PE可以電連接至薄膜晶體管TFT。像素電極PE可以設(shè)置在像素區(qū)域中。通過薄膜晶體管TFT將灰度電壓(灰階電壓，gray scale voltage)施加至像素電極PE。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，像素電極PE可以包括透明導(dǎo)電材料如氧化銦錫(“ΙΤ0”)、氧化銦鋅(“ΙΖ0”)、氧化鋁鋅(“ΑΖ0”)、或它們的組合。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，像素電極PE可以包括狹縫圖案。
[0078]第二基板200可以是透明絕緣基板。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，第二基板200可以是玻璃基板或透明塑料基板。第二基板200可以包括設(shè)置在其中設(shè)置了連接至薄膜晶體管TFT的信號(hào)線的區(qū)域中的黑矩陣BM。黑矩陣BM覆蓋信號(hào)線以阻擋光。
[0079]黑矩陣BM可以設(shè)置在其中柵極線GL、數(shù)據(jù)線DL以及開關(guān)元件設(shè)置在第一基板100上的區(qū)域中。黑矩陣BM可以包括例如鉻(Cr)或氧化鉻。
[0080]黑矩陣BM可以覆蓋多個(gè)基本上在第一方向Dl上延伸的柵極線以阻擋光。黑矩陣BM可以設(shè)置在像素區(qū)域的非顯示區(qū)域上。
[0081]液晶顯示裝置可以包括設(shè)置在黑矩陣BM上的第二外覆層210。
[0082]黑矩陣BM上的第二外覆層210可以具有平面化的表面。
[0083]第二外覆層210可以包括有機(jī)絕緣材料或無機(jī)絕緣材料。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，第二外覆層210可以包括苯并環(huán)丁烯聚合物、烯烴聚合物、聚酰亞胺聚合物、丙烯?；酆衔铩⒕垡蚁┗酆衔?、硅氧烷聚合物、硅聚合物、或者它們的組合。
[0084]共用電極CE可以設(shè)置在第二外覆層210上。
[0085]將灰度電壓施加至像素電極PE以及共用電極CE以在其間產(chǎn)生電場(chǎng)。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，共用電極CE可以包括透明導(dǎo)電材料，如，例如ΙΤΟ、ΙΖ0、以及ΑΖ0。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，共用電極CE可以包括狹縫圖案。
[0086]液晶層300可以設(shè)置在第一基板100和第二基板200之間。
[0087]液晶層300可以包括液晶分子?？梢酝ㄟ^在第一基板100和第二基板200之間產(chǎn)生的電場(chǎng)控制液晶層300中液晶分子的取向，從而控制像素相應(yīng)于液晶分子的透光性。
[0088]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以具有結(jié)構(gòu)如陣列上濾色片(colorfilter-on-array) ( “C0A”)結(jié)構(gòu)。如在圖3中示出的，在COA結(jié)構(gòu)中，濾色片層CF設(shè)置在液晶層300的下表面上，并且黑矩陣BM設(shè)置在液晶層300的上表面上?？商鎿Q地，液晶顯示裝置具有陣列上黑矩陣(black matrix-on-array) ( “BOA”)結(jié)構(gòu)。在BOA結(jié)構(gòu)中，濾色片層CF和黑矩陣BM設(shè)置在液晶層300的下表面上。
[0089]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以包括取向?qū)?未示出)從而以預(yù)定方向取向液晶層300中的液晶分子。
[0090]取向?qū)?未示出)可以設(shè)置在液晶層300和第一外覆層130之間、以及液晶層300和第二外覆層210之間。
[0091]取向?qū)宇A(yù)傾斜液晶層300中的液晶分子。使用取向液可以形成取向?qū)?。取向液可以提供在第一基?00和第二基板200上，然后，可以部分去除取向液?？梢酝ㄟ^例如狹縫涂覆或旋涂來涂覆取向液。在室溫下或通過加熱，可以部分去除取向液。可以通過將取向材料如例如聚酰亞胺與溶劑混合獲得取向液。
[0092]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，根據(jù)液晶層300的類型或像素電極PE和共用電極CE的結(jié)構(gòu)可以省去取向?qū)印Ｔ谝粋€(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，其中像素電極PE具有微縫隙，液晶分子可以在沒有取向?qū)拥那闆r下取向，從而，可以省去取向?qū)?。在一種可替換的示例性實(shí)施方式中，其中提供用于液晶取向的反應(yīng)性介晶層，可以省去取向?qū)印?br> [0093]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置包括設(shè)置在第一基板100的下表面上的相位差補(bǔ)償膜400A。
[0094]相位差補(bǔ)償膜400A可以包括例如氟樹脂。
[0095]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，可通過將緩聚劑組合物涂覆在第一基板100的下表面上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400A。
[0096]在這種實(shí)施方式中，緩聚劑組合物可以包含例如氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0097]緩聚劑組合物可以包含按重量計(jì)約10%至按重量計(jì)約30%的氟樹脂、按重量計(jì)約20%至按重量計(jì)約40%的反應(yīng)性介晶、按重量計(jì)約1%至按重量計(jì)約10%的光固化單體、按重量計(jì)約1%至按重量計(jì)約10%的熱固化劑、以及按重量計(jì)約10%至按重量計(jì)約30%的溶劑。
[0098]在這種實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400A可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0099]氟樹脂可以是其中氫位置由氟原子取代的化合物。
[0100]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，氟樹脂可以包括但不限于，聚四氟乙烯(“PTFE”)、氟化乙烯丙烯(“FEP”)、全氟烷氧基(“PFA”)、乙烯-四氟乙烯(“ETFE”)、聚偏氟乙烯(“PVDF”)、乙烯-三氟氯乙烯(“ECTFE”)、聚三氟氯乙烯(“PCTFE”)、或它們的組合。
[0101]可以將包含氟樹脂的緩聚劑組合物涂覆在第一基板100的下表面上。基于相位差補(bǔ)償膜的表面的總原子，相位差補(bǔ)償膜400A的表面部分的氟原子比率可以在約20at%至約30at%的范圍內(nèi)。
[0102]當(dāng)氟原子比率小于約20at%時(shí)，相位差補(bǔ)償膜400A的硬度太小以致不能保護(hù)表面免于刮擦。當(dāng)氟原子比率大于約30at%時(shí)，相緩聚作用可能不會(huì)有效地發(fā)生。
[0103]基于緩聚劑組合物的總含量，氟樹脂的含量可以在約1wt %至約30wt%的范圍內(nèi)。當(dāng)氟樹脂的含量小于約10wt%時(shí)，硬度可能等于或小于2H的鉛筆硬度。當(dāng)氟樹脂的含量大于3(^丨％時(shí)，相緩聚作用可能不會(huì)有效地發(fā)生。
[0104]在這種實(shí)施方式中，反應(yīng)性介晶可以具有特定相。反應(yīng)性介晶可以是光固化反應(yīng)性介晶。反應(yīng)性介晶可以包括例如脂肪族環(huán)或芳香族環(huán)。反應(yīng)性介晶在終端可以包括多個(gè)官能團(tuán)。
[0105]當(dāng)將反應(yīng)性介晶輻射于光如紫外(“UV”)射線時(shí)，多個(gè)反應(yīng)性介晶可以與引發(fā)劑反應(yīng)，從而形成低聚物、聚合物以及它們的混合物。
[0106]因此，官能團(tuán)中的至少一種可以包括光反應(yīng)基團(tuán)。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，光反應(yīng)基團(tuán)可以是丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基(氧代環(huán)丁烷基,oxethane group)、乙烯基-醚基、苯乙烯基、或硫醇烯基(亞硫醇基,th1lene group)。
[0107]基于緩聚劑組合物的總含量，反應(yīng)性介晶的含量可以在約20wt%至約40?〖％的范圍內(nèi)。當(dāng)反應(yīng)性介晶的含量小于約20wt%時(shí)，相緩聚作用可能不會(huì)有效地發(fā)生。當(dāng)反應(yīng)性介晶的含量大于約40wt%時(shí)，可能降低緩聚劑涂覆層的柔性。
[0108]在這種實(shí)施方式中，光固化單體可以是丙烯酸酯單體。當(dāng)UV射線輻照到丙烯酸酯單體時(shí)，丙烯酸酯單體可以與反應(yīng)性介晶反應(yīng)以硬化緩聚劑涂覆層。
[0109]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，丙烯酸酯單體可以是，但不限于二季戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酸雙環(huán)戊二烯酯、甲基丙烯酸二環(huán)戊二烯酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、或它們的組合。
[0110]基于緩聚劑組合物的總含量，光固化單體的含量可以在約lwt%至約1(^丨％的范圍內(nèi)。當(dāng)光固化單體的含量小于約時(shí)，可能降低緩聚劑涂覆層的穩(wěn)定性。當(dāng)光固化單體的含量大于10wt%時(shí)，可能降低緩聚劑涂覆層的柔性。
[0111]在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱熱固化劑時(shí)，熱固化劑可以與反應(yīng)性介晶反應(yīng)，從而硬化緩聚劑涂覆層。
[0112]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，熱固化劑可以包括，但不限于胺固化劑、酸酐固化劑或咪唑固化劑?？梢曰谔幚頊囟却_定熱固化劑。
[0113]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，熱固化劑可以包括，但不限于二氨基二苯基甲烷(“DDM”)、二氨基二苯砜(“DDS”)、四氫鄰苯二甲酸酐(“THPA”)、六氫鄰苯二甲酸酐(“HHPA”)、甲基四氫鄰苯二甲酸酐(“MeTHPA”)、甲基納迪克酸酐(nadicmethyl anhydride)(“NMA”)、水解甲基納迪克酸酐(hydrolyzed methylnadic anhydride) ( “HNMA”)、鄰苯二甲酸酐(“PA”)、2-苯基-4-甲基-羥基甲基咪唑、3-(3，4-二氯苯基)-1，1-二甲基脲(“DCMU”)、锍鹽、磷鎗鹽、二苯醚嵌段羧酸或多價(jià)羧酸的活性酯、1-氰基乙基-2-苯基咪唑(“TCI”)、1, 1-二甲氧基-N, N-二甲基甲胺(二甲基甲酰胺二甲基縮醛，1，1-dimethoxy-N,N-dimethylmethanamine)、1-苯乙胺、2-( 二乙氧基氨基)乙胺、2-苯乙胺、3-甲氧基丙胺、丁胺、環(huán)己胺、1-苯丙胺、二(2-乙基己基)胺、二丁胺、二乙胺、二亞乙基三胺、二甲基乙胺、二丙胺、二亞丙基三胺、異丙胺、N，N-雙-(3-胺丙基)甲胺、N，N- 二甲基異丙胺、N-乙基二異丙胺、N-辛胺、N-3-胺-3-(2-氨基乙基氨基)丙胺、丙胺、二丁胺、二丙胺、二-(2-乙基己基)胺、叔丁胺、二異丙醇胺、甲基二乙醇胺、N，N-二甲基異丙醇胺、N-甲基乙醇胺、2，6-二甲苯胺、N-乙基-N-(2-輕基乙基)苯胺、亞乙基二胺、異佛爾酮二胺、乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺、三異丙醇胺、二亞乙基三胺、亞乙基二胺、N-(2-胺乙基)乙醇胺、1-甲氧基咪唑、1-乙烯基咪唑、N，N-二甲基異丙醇胺、N-乙基-N-(2-羥基乙基)苯胺、1-甲基咪唑、N，N-二甲基環(huán)己胺、三甲基氨基乙基乙醇胺、它們的混合物。
[0114]基于緩聚劑組合物的總含量，熱固化劑的含量可以在約^^%至約10wt%的范圍內(nèi)。當(dāng)熱固化劑的含量小于約時(shí)，可能降低緩聚劑涂覆層的穩(wěn)定性。當(dāng)熱固化劑的含量大于約10wt%時(shí)，可能降低緩聚劑涂覆層的柔性。
[0115]在這種實(shí)施方式中，溶劑可以是例如酮溶劑、烴溶劑或醇溶劑。
[0116]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，酮溶劑可以包括，但不限于丙酮、甲基乙基酮、環(huán)戊酮、環(huán)己酮或環(huán)庚酮。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，烴溶劑可以包括，但不限于己烷、苯、甲苯、二甲苯或茴香醚。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，醇溶劑可以包括，但不限于甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇或異丁醇。
[0117]基于緩聚劑組合物的總含量，溶劑的含量可以在約1wt%至約30wt%的范圍內(nèi)。當(dāng)溶劑的含量小于約10wt%時(shí)，緩聚劑組合物的粘度可能過高，使得可能降低相位差補(bǔ)償膜400A的均勻性。當(dāng)溶劑的含量大于約30Wt%時(shí)，緩聚劑組合物的粘度可能過低，使得相位差補(bǔ)償膜400A的厚度可能顯著變薄。
[0118]緩聚劑組合物可以進(jìn)一步包含光聚合弓I發(fā)劑。光聚合引發(fā)劑可以被光分解，從而產(chǎn)生自由基。因此，光聚合引發(fā)劑可以活化光固化單體。
[0119]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，光聚合引發(fā)劑可以包括，但不限于苯偶姻化合物、苯乙酮化合物、二乙氧基苯乙酮化合物、輕基-苯乙酮化合物、二苯甲酮化合物、噻噸酮化合物、蒽醌化合物、ct -酰基廂酯化合物、苯基乙醒酸酯化合物(phenylglyoxylatecompound)、節(jié)基化合物、偶氮化合物、二苯硫醚化合物、?；⒉菟狨セ衔?acylphosphine oxylate compound)、有機(jī)顏料化合物、鐵酞菁化合物或它們的組合。
[0120]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，光聚合弓I發(fā)劑可以包括，但不限于1-苯基-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、氨基苯乙酮、芐基二甲基縮酮、苯偶姻醚、噻噸酮、2-乙基蒽醌(“24了么0”)、樟腦醌、(1-萘酚、2，4-二乙基噻噸酮、三甲基苯甲?；交鶆傺趸?trimethylbenzoil diphenylphosphine oxide)、二苯甲酮、2，2_ 二乙氧基苯乙酮、或苯偶姻異丙醚。
[0121]基于緩聚劑組合物的總含量，光聚合引發(fā)劑的含量可以在約lwt%至約10wt%的范圍內(nèi)。當(dāng)光聚合引發(fā)劑的含量小于約時(shí)，緩聚劑組合物可能不會(huì)被充分硬化。當(dāng)光聚合引發(fā)劑的含量大于約10wt%時(shí)，可能降低緩聚劑涂覆層的柔性。
[0122]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中。可以將緩聚劑組合物涂覆在第一基板100上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0123]通常，反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30毫牛/米(mN/m)至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400A的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如,相位差補(bǔ)償膜400A的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0124]相位差補(bǔ)償膜400A的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400A的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0125]可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂等涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約I毫帕秒(mPas)至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0126]可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥包括涂覆在其上的緩聚劑涂覆層的第一基板100。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在約70°c至約110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第一基板100時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0127]然后，通過UV射線使緩聚劑涂覆層曝光。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，緩聚劑涂覆層可以具有，但不限于單層結(jié)構(gòu)。
[0128]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)緩聚劑涂覆層具有多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線使多層結(jié)構(gòu)中的每一層曝光。
[0129]可以加熱緩聚劑涂覆層。可以通過可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第一基板100。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱?？伤苄匝b置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在約110°c至約130°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第一基板100時(shí)，緩聚劑涂覆層中的緩聚作用可以在基本上垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生，即，沿通過UV射線設(shè)置的第一基板100的方向。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第一基板100時(shí)，緩聚劑涂覆層可以被大量或完全硬化，并且可以擴(kuò)大光學(xué)各向異性。
[0130]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在第一基板100的下表面上并且包含氟樹脂的相位差補(bǔ)償膜400A。
[0131]相位差補(bǔ)償膜400A的厚度可以等于或小于約10微米(μ m)。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400A的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0132]相位差補(bǔ)償膜400A可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0133]反應(yīng)性介晶可以包括多個(gè)氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以基本上類似于氟樹脂，使得可以通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中發(fā)生相分離。
[0134]與不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶相比，包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以具有更低的表面能。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在相位差補(bǔ)償膜400A的表面上。在這種實(shí)施方式中，不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置成鄰近于第一基板100的下表面。氟樹脂和包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在第一基板100和不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶之間。因此，在這種實(shí)施方式中，可以增大相位差補(bǔ)償膜400A的硬度、防污性和抗刮性。
[0135]液晶顯示裝置可以進(jìn)一步包括設(shè)置在第一基板100的下表面上的第一偏振板500、以及設(shè)置在第二基板200的上表面上的第二偏振板600。
[0136]在一個(gè)例性實(shí)施方式中，例如，第一偏振板500可以附著在第一基板100的下表面上。第一偏振板500可以偏振由背光組件(未不出)提供的光。第一偏振板500可以具有第一偏振軸。因此，第一偏振板500可以使得由背光組件提供的光中具有第一偏振軸的光通過。
[0137]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，第二偏振板600可以附著在第二基板200的上表面上。第二偏振板600可以偏振通過濾色片層CF和液晶層300的光。第二偏振板600可以具有第二偏振軸。第二偏振軸可以垂直于第一偏振軸。因此，第二偏振板600可以使得來自濾色片層CF和液晶層300的光中的具有第二偏振軸的光通過。
[0138]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置可以是外嵌式(on-cell type)，其中，第一偏振板500設(shè)置在第一基板100的下表面上，并且第二偏振板600設(shè)置在第二基板200的上表面上?？商鎿Q地，液晶顯示裝置可以是內(nèi)嵌式(in-cell type)，其中，第一偏振板和第二偏振板設(shè)置在第一基板和第二基板之間。
[0139]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的一種可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。
[0140]參照?qǐng)D4,液晶顯不裝置的一種可替換的不例性實(shí)施方式包括:第一基板100、第二基板200、液晶層300、相位差補(bǔ)償膜400B、第一偏振板500、以及第二偏振板600。
[0141]除了相位差補(bǔ)償膜400B之外，示出在圖4中的液晶顯示裝置基本上與示出在圖3中的液晶顯示裝置相同。示出在圖4中的相同或相似元件已經(jīng)用上述用于描述圖3中示出的液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式的相同參考符號(hào)標(biāo)記，并且在下文中將省去或者簡(jiǎn)化任何其重復(fù)性細(xì)節(jié)描述。
[0142]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，如在圖4中示出的，液晶顯示裝置包括設(shè)置在第二基板200的上表面上的相位差補(bǔ)償膜400B。
[0143]在這種實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400B可以包含氟樹脂。
[0144]可以通過將緩聚劑組合物涂覆在第二基板200的上表面上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400B。
[0145]緩聚劑組合物可以包含氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0146]相位差補(bǔ)償膜400B可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0147]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中?？梢詫⒕従蹌┙M合物涂覆在第二基板200上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0148]通常,反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30mN/m至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400B的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400B的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0149]相位差補(bǔ)償膜400B的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400B的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0150]例如，可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂來涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約ImPas至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0151 ] 可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥包括涂覆在其上的緩聚劑涂覆層的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在70°C至110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0152]然后，通過UV射線使緩聚劑涂覆層曝光。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。
[0153]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，緩聚劑涂覆層可以具有，但不限于單層結(jié)構(gòu)。
[0154]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩聚劑涂覆層具有多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線使多層結(jié)構(gòu)中的每一層曝光。
[0155]可以加熱緩聚劑涂覆層?？梢酝ㄟ^可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱。可塑性裝置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在110°C至130°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，可以在垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生緩聚劑涂覆層中的緩聚作用。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，緩聚劑涂覆層可以被基本上或完全硬化，并且從而可以增強(qiáng)光學(xué)各向異性。
[0156]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在第二基板200的上表面上并且包含氟樹脂的相位差補(bǔ)償膜400B。
[0157]相位差補(bǔ)償膜400B的厚度可以等于或小于約10 μ m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400B的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0158]相位差補(bǔ)償膜400B可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0159]反應(yīng)性介晶可以包括多個(gè)氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以基本上類似于氟樹脂，使得可以通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中發(fā)生相分離。
[0160]與不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶相比，包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以具有更低的表面能。因此，在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在相位差補(bǔ)償膜400B的表面上。不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置成鄰近于第二基板200的上表面。氟樹脂和包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在第二基板200和不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶之間。因此，在這種實(shí)施方式中，可以增大相位差補(bǔ)償膜400B的硬度、防污性和抗刮性。
[0161]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一個(gè)可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。
[0162]參照?qǐng)D5，液晶顯示裝置包括:第一基板100、第二基板200、液晶層300、相位差補(bǔ)償膜400A及400B、第一偏振板500、以及第二偏振板600。
[0163]除了相位差補(bǔ)償膜400A、400B之外，示出在圖5中的液晶顯示裝置基本上與示出在圖3中的液晶顯示裝置相同。示出在圖5中的相同或相似元件已經(jīng)用上述用于描述圖3中示出的液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式的相同參考符號(hào)標(biāo)記，并且在下文中將省去或者簡(jiǎn)化任何其重復(fù)性細(xì)節(jié)描述。
[0164]根據(jù)示例性實(shí)施方式，液晶顯示裝置包括相位差補(bǔ)償膜，例如，設(shè)置在第一基板100的下表面上的第一相位差補(bǔ)償膜400A、以及設(shè)置在第二基板200的上表面上的第二相位差補(bǔ)償膜400B。
[0165]相位差補(bǔ)償膜400A、400B可以包含氟樹脂。
[0166]可以通過將緩聚劑組合物涂覆在第一基板100的下表面和第二基板200的上表面上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400A、400B。
[0167]緩聚劑組合物可以包含氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0168]相位差補(bǔ)償膜400A、400B可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0169]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中?？梢詫⒕従蹌┙M合物涂覆在第一基板和第二基板200上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0170]通常,反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30mN/m至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400A、400B的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400A、400B的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0171]相位差補(bǔ)償膜400A、400B的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400A、400B的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0172]例如，可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂來涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約ImPas至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0173]可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥包括涂覆在其上的緩聚劑涂覆層的第一基板100和第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在70°C至110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第一基板100和第二基板200時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0174]然后，通過UV射線曝光緩聚劑涂覆層。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，緩聚劑涂覆層可以具有但不限于單層。
[0175]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩聚劑涂覆層是多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線曝光多層結(jié)構(gòu)中的每一層。
[0176]可以加熱緩聚劑涂覆層?？梢酝ㄟ^可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第一基板100和第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱?？伤苄匝b置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在110°C至130°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第一基板100和第二基板200時(shí)，可以在垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生緩聚劑涂覆層中的緩聚作用。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第一基板100和第二基板200時(shí)，緩聚劑涂覆層可以被基本上或完全硬化，并且從而可以增強(qiáng)光學(xué)各向異性。
[0177]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在第一基板100的下表面上并且包含氟樹脂的第一相位差補(bǔ)償膜400A以及設(shè)置在第二基板200的上表面上并且包含氟樹脂的第二相位差補(bǔ)償膜400B。
[0178]相位差補(bǔ)償膜400A、400B的厚度可以等于或小于約10 μ m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400A、400B的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0179]相位差補(bǔ)償膜400A、400B可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0180]反應(yīng)性介晶可以包括多個(gè)氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以基本上類似于氟樹脂，使得可以通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中發(fā)生相分離。
[0181]與不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶相比，包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以具有更低的表面能。因此，在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在相位差補(bǔ)償膜400A、400B的表面上。在這種實(shí)施方式中，不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置成鄰近于第一基板100的下表面和第二基板200的上表面。氟樹脂和包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在第一基板100和不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶之間。氟樹脂和包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以設(shè)置在第二基板200和不包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶之間。因此，在這種實(shí)施方式中，可以增大相位差補(bǔ)償膜400A、400B的硬度、防污性和抗刮性。
[0182]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一種可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。
[0183]參照?qǐng)D6，液晶顯示裝置包括:第一基板100、第二基板200、液晶層300、黑矩陣BM、設(shè)置在第二基板200和黑矩陣BM之間的相位差補(bǔ)償膜400C、第一偏振板500、以及第二偏振板600。
[0184]除了相位差補(bǔ)償膜400C之外，示出在圖6中的液晶顯示裝置基本上與示出在圖3中的液晶顯示裝置相同。示出在圖6中的相同或相似元件已經(jīng)用上述用于描述圖3中示出的液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式的相同參考符號(hào)標(biāo)記，并且在下文中將省去或者簡(jiǎn)化任何其重復(fù)性細(xì)節(jié)描述。
[0185]在示例性實(shí)施方式中，如在圖6中示出的，液晶顯示裝置包括設(shè)置在第二基板200和黑矩陣BM之間的相位差補(bǔ)償膜400C。
[0186]相位差補(bǔ)償膜400C可以包含氟樹脂。
[0187]可以通過將緩聚劑組合物涂覆在第二基板200的下表面上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400C。
[0188]緩聚劑組合物可以包含氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0189]相位差補(bǔ)償膜400C可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0190]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中。可以將緩聚劑組合物涂覆在第二基板200上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，可以在緩聚劑組合物中發(fā)生相分離。
[0191]通常,反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30mN/m至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400C的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400C的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0192]相位差補(bǔ)償膜400C的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400C的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0193]例如，可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂來涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約ImPas至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0194]可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥包括涂覆在其上的緩聚劑涂覆層的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在70°C至110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0195]然后，通過UV射線使緩聚劑涂覆層曝光。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。根據(jù)示例性實(shí)施方式，緩聚劑涂覆層可以具有但不限于單層結(jié)構(gòu)。
[0196]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩聚劑涂覆層具有多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線使多層結(jié)構(gòu)中的每一層曝光。
[0197]可以加熱緩聚劑涂覆層?？梢酝ㄟ^可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱?？伤苄匝b置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在110°C至130°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，可以在垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生緩聚劑涂覆層中的緩聚作用。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，使得緩聚劑涂覆層可以被基本上或完全硬化，并且可以增強(qiáng)光學(xué)各向異性。
[0198]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在第二基板200的下表面上并且包含氟樹脂的相位差補(bǔ)償膜400C。
[0199]相位差補(bǔ)償膜400C的厚度可以等于或小于約10 μ m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400C的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0200]相位差補(bǔ)償膜400C可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0201]反應(yīng)性介晶可以包括氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以基本上類似于氟樹脂，使得可以通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中發(fā)生相分離。
[0202]圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一種可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。
[0203]參照?qǐng)D7，液晶顯示裝置包括:第一基板100、第二基板200、液晶層300、黑矩陣BM、設(shè)置在黑矩陣BM上的相位差補(bǔ)償膜400D、第一偏振板500、以及第二偏振板600。
[0204]除了相位差補(bǔ)償膜400D之外，示出在圖7中的液晶顯示裝置基本上與示出在圖3中的液晶顯示裝置相同。示出在圖7中的相同或相似元件已經(jīng)用上述用于描述圖3中示出的液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式的相同參考符號(hào)標(biāo)記，并且在下文中將省去或者簡(jiǎn)化任何其重復(fù)性細(xì)節(jié)描述。
[0205]在示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置包括設(shè)置在黑矩陣BM上的相位差補(bǔ)償膜400D。黑矩陣BM設(shè)置在第二基板200上，并且相位差補(bǔ)償膜400D設(shè)置在包括設(shè)置在其上的黑矩陣BM的第二基板200上。
[0206]相位差補(bǔ)償膜400D可以包含氟樹脂。
[0207]可以通過將緩聚劑組合物涂覆在第二基板200的下表面上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400D。
[0208]緩聚劑組合物可以包含氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0209]相位差補(bǔ)償膜400D可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0210]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中。可以將緩聚劑組合物涂覆在第二基板200上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0211]通常,反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30mN/m至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400D的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400D的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0212]相位差補(bǔ)償膜400D的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400D的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0213]例如，可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂來涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約ImPas至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0214]可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥涂覆緩聚劑涂覆層的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在70°C至110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0215]然后，通過UV射線使緩聚劑涂覆層曝光。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，緩聚劑涂覆層可以具有但不限于單層結(jié)構(gòu)。
[0216]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩聚劑涂覆層具有多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線使多層結(jié)構(gòu)中的每一層曝光。
[0217]可以加熱緩聚劑涂覆層。可以通過可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱?？伤苄匝b置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在110°〇至1301:的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，可以在垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生緩聚劑涂覆層中的緩聚作用。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，緩聚劑涂覆層可以被基本上或完全硬化，從而可以增強(qiáng)光學(xué)各向異性。
[0218]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在黑矩陣BM上并且包含氟樹脂的相位差補(bǔ)償膜400D。
[0219]相位差補(bǔ)償膜400D的厚度可以等于或小于約10 μ m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400D的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0220]相位差補(bǔ)償膜400D可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0221]反應(yīng)性介晶可以包括多個(gè)氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以基本上類似于氟樹脂，使得通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0222]圖8是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一種可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。
[0223]參照?qǐng)D8，液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式包括:第一基板100、第一外覆層120、第二基板200、第二外覆層210、液晶層300、黑矩陣BM、設(shè)置在第二外覆層210上的相位差補(bǔ)償膜400E、第一偏振板500、以及第二偏振板600。
[0224]除了相位差補(bǔ)償膜400E之外，示出在圖8中的液晶顯示裝置基本上與示出在圖3中的液晶顯示裝置相同。示出在圖8中的相同或相似元件已經(jīng)用上述用于描述圖3中示出的液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式的相同參考符號(hào)標(biāo)記，并且在下文中將省去或者簡(jiǎn)化任何其重復(fù)性細(xì)節(jié)描述。
[0225]在示例性實(shí)施方式中，如在圖8中示出的，液晶顯示裝置包括設(shè)置在第二外覆層210上的相位差補(bǔ)償膜400E。第二外覆層210設(shè)置在第二基板200上，并且相位差補(bǔ)償膜400E設(shè)置在包括設(shè)置在其上的第二外覆層210的第二基板200上。
[0226]相位差補(bǔ)償膜400E可以包含氟樹脂。
[0227]可以通過將緩聚劑組合物涂覆在第二外覆層210上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400E。
[0228]緩聚劑組合物可以包含氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0229]相位差補(bǔ)償膜400E可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0230]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中?？梢詫⒕従蹌┙M合物涂覆在第二基板200上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0231]通常，反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30mN/m至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在這種實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400E的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400E的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0232]相位差補(bǔ)償膜400E的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400E的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0233]例如，可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂來涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約ImPas至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0234]可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥包括涂覆在其上的緩聚劑涂覆層的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在70°C至110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0235]然后，通過UV射線使緩聚劑涂覆層曝光。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。在示例性實(shí)施方式中，緩聚劑涂覆層可以具有但不限于單層結(jié)構(gòu)。
[0236]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩聚劑涂覆層具有多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線使多層結(jié)構(gòu)中的每一層曝光。
[0237]可以加熱緩聚劑涂覆層?？梢酝ㄟ^可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱?？伤苄匝b置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在110°C至130°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，可以在垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生緩聚劑涂覆層中的緩聚作用。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，緩聚劑涂覆層可以被基本上或完全硬化，從而可以增強(qiáng)光學(xué)各向異性。
[0238]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在第二外覆層210上并且包含氟樹脂的相位差補(bǔ)償膜400E。
[0239]相位差補(bǔ)償膜400E的厚度可以等于或小于約10 μ m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400E的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0240]相位差補(bǔ)償膜400E可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0241]在這種實(shí)施方式中，反應(yīng)性介晶可以包括多個(gè)氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶基本上可以類似于氟樹脂，使得通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0242]圖9是示出根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的另一種可替換的示例性實(shí)施方式的截面圖。
[0243]參照?qǐng)D9，液晶顯示裝置包括:第一基板100、第二基板200、液晶層300、共用電極CE、設(shè)置在共用電極CE上的相位差補(bǔ)償膜400F、第一偏振板500、以及第二偏振板600。
[0244]除了相位差補(bǔ)償膜400F之外，示出在圖9中的液晶顯示裝置基本上與示出在圖3中的液晶顯示裝置相同。示出在圖9中的相同或相似元件已經(jīng)用上述用于描述圖3中示出的液晶顯示裝置的示例性實(shí)施方式的相同參考符號(hào)標(biāo)記，并且在下文中將省去或者簡(jiǎn)化任何其重復(fù)性細(xì)節(jié)描述。
[0245]在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，液晶顯示裝置包括設(shè)置在共用電極CE上的相位差補(bǔ)償膜400F。共用電極CE設(shè)置在第二基板200上，并且相位差補(bǔ)償膜400F設(shè)置在包括設(shè)置在其上的共用電極CE的第二基板200上。
[0246]相位差補(bǔ)償膜400F可以包含氟樹脂。
[0247]可以通過將緩聚劑組合物涂覆在共用電極CE上以形成緩聚劑涂覆層來提供相位差補(bǔ)償膜400F。
[0248]緩聚劑組合物可以包含氟樹脂、反應(yīng)性介晶、光固化單體、熱固化劑以及溶劑。
[0249]相位差補(bǔ)償膜400F可以包含氟樹脂以改善其硬度、防污性以及抗刮性。
[0250]氟樹脂可以包含在緩聚劑組合物中?？梢詫⒕従蹌┙M合物涂覆在第二基板200上。氟樹脂和反應(yīng)性介晶具有不同的表面能。因此，通過曝光、干燥和加熱，緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0251]通常,反應(yīng)性介晶的表面能可以在約30mN/m至約45mN/m的范圍內(nèi)，此表面能是高表面能。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜400F的表面能可以等于或小于25mN/m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400F的表面能可以在約10mN/m至約25mN/m的范圍內(nèi)。
[0252]相位差補(bǔ)償膜400F的硬度可以等于或大于2H的鉛筆硬度。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400F的硬度可以是約2H至約5H的鉛筆硬度。
[0253]例如，可以通過狹縫涂覆、噴墨涂覆、輥涂或旋涂來涂覆緩聚劑組合物。緩聚劑組合物可以是液態(tài)，并且粘度可以在約ImPas至約50mPas的范圍內(nèi)。
[0254]可以加熱緩聚劑涂覆層。通過加熱裝置可以干燥包括涂覆在其上的緩聚劑涂覆層的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，加熱裝置可以是熱板。加熱裝置可以將緩聚劑涂覆層的表面溫度設(shè)置在70°C至110°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，熱固化劑和反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，并且可以去除緩聚劑涂覆層中的溶劑。
[0255]然后，通過UV射線使緩聚劑涂覆層曝光。因此，光固化單體、反應(yīng)性介晶可以彼此反應(yīng)，使得緩聚劑涂覆層可以具有光學(xué)各向異性。在示例性實(shí)施方式中，緩聚劑涂覆層可以具有但不限于單層結(jié)構(gòu)。
[0256]可替換地，緩聚劑涂覆層可以具有多層結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩聚劑涂覆層具有多層結(jié)構(gòu)時(shí)，可以通過具有不同波長(zhǎng)的UV射線使多層結(jié)構(gòu)中的每一層曝光。
[0257]可以加熱緩聚劑涂覆層。可以通過可塑性裝置加熱通過UV射線曝光的第二基板200。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，可塑性裝置可以是烘箱。可塑性裝置可以將可塑性裝置的內(nèi)部溫度設(shè)置在110°C至130°C的范圍內(nèi)。當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，可以在垂直于UV曝光方向的方向上發(fā)生緩聚劑涂覆層中的緩聚作用。在這種實(shí)施方式中，當(dāng)加熱第二基板200時(shí)，緩聚劑涂覆層可以被基本上或完全硬化，從而可以增強(qiáng)光學(xué)各向異性。
[0258]如以上所述的，在這種實(shí)施方式中，可以通過加熱形成設(shè)置在共用電極CE上并且包含氟樹脂的相位差補(bǔ)償膜400F。
[0259]相位差補(bǔ)償膜400F的厚度可以等于或小于約10 μ m。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，例如，相位差補(bǔ)償膜400F的厚度可以等于或小于約5 μ m。
[0260]相位差補(bǔ)償膜400F可以進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
[0261]反應(yīng)性介晶可以包括多個(gè)氟官能團(tuán)。包括氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶可以基本上類似于氟樹脂，使得通過曝光、干燥和加熱在緩聚劑組合物中可以發(fā)生相分離。
[0262]如在本文中所述的，在示例性實(shí)施方式中，相位差補(bǔ)償膜可以直接提供，例如形成在基板上或基板之間，從而可以降低制造成本?？梢蕴峁┚哂斜『穸鹊南辔徊钛a(bǔ)償膜，使得可以省去減小單元厚度的蝕刻過程。因此，在這種實(shí)施方式中，可以改善制造成本和生產(chǎn)率。在這種實(shí)施方式中，可以在注射液晶之前將相位差補(bǔ)償膜基本上硬化，使得液晶可能不會(huì)被相位差補(bǔ)償膜損壞。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，透明導(dǎo)電層可以提供，例如形成在相位差補(bǔ)償膜上，從而相位差補(bǔ)償膜可以被有效地保護(hù)。因此，在這種實(shí)施方式中，基本上可以改善液晶顯示裝置的顯示質(zhì)量。
[0263]在本文中描述的液晶顯示裝置以及液晶顯示裝置的制造方法的示例性實(shí)施方式可以應(yīng)用于各種類型的顯示裝置如例如液晶顯示裝置、以及有機(jī)發(fā)光二極管裝置。
[0264]盡管已經(jīng)描述了示例性實(shí)施方式，但是應(yīng)理解，本發(fā)明不應(yīng)限于這些示例性實(shí)施方式，并且在所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以進(jìn)行各種改變和修改。
【權(quán)利要求】
1.一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括: 第一基板； 與所述第一基板相對(duì)設(shè)置的第二基板； 設(shè)置在所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層；以及 設(shè)置在所述第一基板上的相位差補(bǔ)償膜， 其中，所述相位差補(bǔ)償膜包含氟樹脂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中， 基于所述相位差補(bǔ)償膜的表面部分的總原子，所述相位差補(bǔ)償膜的所述表面部分的氟原子比率為2(^七％至30at%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述氟樹脂包括聚四氟乙烯、氟化乙烯丙烯、全氟烷氧基、乙烯-四氟乙烯、聚偏氟乙烯、乙烯-三氟氯乙烯、聚三氟氯乙烯或它們的組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述第一基板的下表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述第二基板的上表面上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述第一基板的下表面和所述第二基板的上表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括: 設(shè)置在所述第二基板上的黑矩陣， 其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述第二基板和所述黑矩陣之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括: 設(shè)置在所述第二基板上的黑矩陣， 其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述第二基板和所述黑矩陣上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括: 設(shè)置在所述第二基板上的外覆層， 其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述外覆層上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括: 設(shè)置在所述第二基板上的共用電極， 其中，所述相位差補(bǔ)償膜設(shè)置在所述共用電極上。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜進(jìn)一步包括含有氟官能團(tuán)的反應(yīng)性介晶。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜的厚度等于或小于10微米。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜的硬度等于或大于2H的鉛筆硬度。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，其中，所述相位差補(bǔ)償膜的表面能等于或小于25毫牛頓/米。
15.一種制造液晶顯示裝置的方法，其特征在于，所述方法包括: 將包含氟樹脂的緩聚劑組合物涂覆在基板的表面上以形成緩聚劑涂覆層； 加熱所述緩聚劑涂覆層； 將所述緩聚劑涂覆層暴露于光使得所述緩聚劑涂覆層具有光學(xué)各向異性；以及 加熱所述緩聚劑涂覆層以形成相位差補(bǔ)償膜。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，其中，所述基板是所述液晶顯示裝置的第一基板或所述液晶顯示裝置的與所述第一基板相對(duì)設(shè)置的第二基板。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，其中，所述緩聚劑組合物包含: 按重量計(jì)10%至按重量計(jì)30%的所述氟樹脂； 按重量計(jì)20%至按重量計(jì)40%的反應(yīng)性介晶； 按重量計(jì)1%至按重量計(jì)10%的光固化單體； 按重量計(jì)I %至按重量計(jì)10%的熱固化劑；以及 按重量計(jì)10%至按重量計(jì)30%的溶劑。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，其中，所述緩聚劑組合物被涂覆在所述第一基板的下表面上。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，其中，所述緩聚劑組合物被涂覆在所述第二基板的上表面上。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，其中，所述緩聚劑組合物被涂覆在所述第一基板的下表面和所述第二基板的上表面上。
【文檔編號(hào)】G02F1/13363GK104423095SQ201410419282
【公開日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2014年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月11日
【發(fā)明者】李常求, 樸乘范, 申娜英, 李正勛, 全倞煥, 洪孝性 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司