顯示基板、制作方法和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種顯示基板、制作方法和顯示裝置，包括基板主體以及支撐隔墊物，所述支撐隔墊物設(shè)置在所述基板主體上，在顯示基板中，支撐隔墊物與基板主體的接觸面為非平坦面。一方面，非平坦面的接觸面由于具有更大的面積，會增大支撐隔墊物與基板主體的粘合力，從而避免支撐隔墊物從基板主體剝落。另一方面，由于非平坦面的接觸面，則在一些運(yùn)動方向上，會存在用于阻礙支撐隔墊物與基板主體發(fā)生相對運(yùn)動的剪切應(yīng)力，同樣能夠避免支撐隔墊物從基板主體剝落。
【專利說明】顯示基板、制作方法和顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種顯示基板、制作方法和顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著薄膜晶體管液晶顯示器成本的降低和制造工藝的完善，薄膜晶體管液晶顯示器已成為平板顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品。薄膜晶體管液晶顯示器一般包括彩膜基板、陣列基板以及填充在兩者之間的液晶材料。其中，如圖1所示，為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖，包括基底101、彩色光阻層102、形成于彩色光阻層102的間隙中的黑矩陣103和形成于黑矩陣上方的支撐隔墊物104。支撐隔墊物104用于來保持陣列基板與彩膜基板的距離，以保證液晶的正常顯示。在一些類似的顯示器中，支撐隔墊物還可能制作在陣列基板上。
[0003]在高分辨率的顯示產(chǎn)品中，黑矩陣中每一個(gè)元素的尺寸都較小，客觀上要求支撐隔墊物的橫截面不能太大。另外，為了減小摩擦取向工藝中產(chǎn)生摩擦陰影，也需要支撐隔墊物的尺寸盡可能小。這樣就會使得支撐隔墊物的底部與彩膜基板主體或者陣列基板主體的基接觸面積減小，導(dǎo)致支撐隔墊物易于脫落。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種能夠避免支撐隔墊物脫落的顯示裝置及顯示裝置制造方法。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示基板，包括基板主體以及支撐隔墊物，所述支撐隔墊物設(shè)置在所述基板主體上，其特征在于，所述支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面為非平坦面。
[0006]進(jìn)一步的，所述基板主體在所述接觸面內(nèi)具有凸起或者凹槽。
[0007]進(jìn)一步的，所述凹槽開口面積小于接觸面的面積。
[0008]進(jìn)一步的，所述支撐隔墊物的底端直徑為7-10^。
[0009]進(jìn)一步的，所述顯示基板主體在與一個(gè)支撐隔墊物的接觸面內(nèi)具有一個(gè)凸起或者一個(gè)凹槽，凸起或者凹槽的直徑為3.5-4.5 4 III。
[0010]進(jìn)一步的，所述顯示基板為彩膜基板，
[0011]當(dāng)所述彩膜基板主體包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述彩膜保護(hù)層形成；
[0012]當(dāng)所述彩膜基板主體不包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述彩膜基板主體的黑矩陣形成。
[0013]進(jìn)一步的，所述顯示基板為陣列基板，
[0014]當(dāng)所述陣列基板主體包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述保護(hù)層形成；
[0015]當(dāng)所述陣列基板主體不包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述陣列基板主體的鈍化層形成。
[0016]進(jìn)一步的，所述保護(hù)層為透明樹脂層。
[0017]本發(fā)明還提供了一種制作顯示基板的方法，包括:
[0018]制作基板主體，所述基板主體的用于設(shè)置支撐隔墊物的區(qū)域被設(shè)置為非平坦面；
[0019]在所述基板主體之上形成支撐隔墊物，所述支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面為非平坦面。
[0020]進(jìn)一步的，所述制作基板主體包括:
[0021]在基底上形成黑矩陣；所述黑矩陣在用于設(shè)置支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)形成有凸起或者凹槽；
[0022]在所述基底上形成彩色濾光層；
[0023]所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括:
[0024]在所述黑矩陣上制作支撐隔墊物。
[0025]進(jìn)一步的，在所述基底上形成黑矩陣，具體包括:
[0026]在所述基底上沉積黑矩陣材料層；
[0027]在所述黑矩陣材料層上涂覆光刻膠；
[0028]使用雙色調(diào)掩膜板對所述涂覆的光刻膠進(jìn)行曝光，形成完全去除區(qū)域、半保留區(qū)域和完全保留區(qū)域；
[0029]對完全去除區(qū)域的黑矩陣材料進(jìn)行刻蝕，去除透光部分對應(yīng)的黑矩陣材料；
[0030]灰化，去除半保留區(qū)域的光刻膠；
[0031]對半保留區(qū)域內(nèi)的黑矩陣材料進(jìn)行不完全刻蝕，形成凸起或者凹槽。
[0032]進(jìn)一步的，所述制作基板主體包括:
[0033]在基底上形成黑矩陣；
[0034]在所述基底上形成彩色光阻層；
[0035]在所述黑矩陣和所述光阻層之上涂覆彩膜保護(hù)層材料；
[0036]利用掩膜板對所述彩膜保護(hù)層材料進(jìn)行灰化，使所述彩膜保護(hù)層材料在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽；
[0037]所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括:
[0038]在所述彩膜保護(hù)層材料上制作支撐隔墊物。
[0039]進(jìn)一步的，所述制作基板主體包括:
[0040]在基底上形成陣列；
[0041]在所述陣列上涂覆保護(hù)層材料；
[0042]利用掩膜板對所述保護(hù)層材料進(jìn)行灰化，使所述保護(hù)層材料在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽；
[0043]所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括:
[0044]在所述保護(hù)層材料上制作支撐隔墊物。
[0045]進(jìn)一步的，所述制作基板主體包括:
[0046]在基底上形成陣列；所述陣列的鈍化層在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽；
[0047]所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括:
[0048]在所述鈍化層上制作支撐隔墊物。
[0049]本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，其特征在于，包括上述任一項(xiàng)所述顯示基板。
[0050]本發(fā)明提供的顯示基板中，支撐隔墊物與基板主體的接觸面為非平坦面。一方面，非平坦的接觸面由于具有更大的面積，會增大支撐隔墊物與基板主體的粘合力，從而避免支撐隔墊物從基板主體剝落。另一方面，由于非平坦的接觸面，則在一些運(yùn)動方向上，會存在用于阻礙支撐隔墊物與基板主體發(fā)生相對運(yùn)動的剪切應(yīng)力，同樣能夠避免支撐隔墊物從基板主體剝落。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0051]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中一種為現(xiàn)有技術(shù)中一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0052]圖2為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0053]圖3為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0054]圖4為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0055]圖5為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0056]圖6為本發(fā)明實(shí)施例四提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0057]圖7為本發(fā)明實(shí)施例五提供的一種彩膜基板的制作方法的流程示意圖；
[0058]圖8為本發(fā)明實(shí)施例六提供的一種彩膜基板的制作方法的流程示意圖；
[0059]圖9為本發(fā)明實(shí)施例七提供的一種陣列基板的制作方法的流程示意圖；
[0060]圖10為本發(fā)明實(shí)施例八提供的一種陣列基板的制作方法的流程示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0061]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0062]本發(fā)明所指的顯示基板是指在基板主體上形成有支撐隔墊物的基板，這里的基板主體可以指基底本身，或者也可以還包含形成在基底上的其他層結(jié)構(gòu)。具體而言，本發(fā)明所指的顯示基板可以為彩膜基板或陣列基板。另外，本發(fā)明中所指的，支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面為非平坦面是指支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面包含非平坦結(jié)構(gòu)。下面分別結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板和陣列基板的示意結(jié)構(gòu)以及制作方法進(jìn)行說明。
[0063]實(shí)施例一
[0064]如圖2或圖3所示，為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種彩膜基板簡單結(jié)構(gòu)示意圖，包括:
[0065]基底101、彩色光阻102、形成于彩色光阻102的間隙中的黑矩陣103以及制作在黑矩陣103上的支撐隔墊物104 ；其中，基底101、彩色光阻層102、黑矩陣103構(gòu)成彩膜基板的基板主體，支撐隔墊物104與黑矩陣103的接觸面為非平坦面。
[0066]其中，這里的基底101的材質(zhì)不限，例如可以選用透明的玻璃、樹脂等等。黑矩陣103的主要是作用是利用遮光區(qū)域遮擋雜散光，防止透光區(qū)域所對應(yīng)的像素之間產(chǎn)生漏光；彩色光阻102包括^(如山紅色)光阻、綠色)光阻和8 (81116,藍(lán)色)光阻，主要作用是利用濾光的方式產(chǎn)生紅綠藍(lán)三原色，再將紅綠藍(lán)三原色以不同的強(qiáng)弱比例混合，從而呈現(xiàn)出各種色彩，使薄膜晶體管液晶顯示屏可以顯示出全彩。這里需要說明的是，在液晶顯示領(lǐng)域中，彩色光阻并不限于61-6611 81116，紅綠藍(lán))三色，還可以為1^81(尺6(161-0611 61-0611 81116
，青品紅黃黑)等多種顏色組合。這里的支撐隔墊物104可以為柱狀的支撐隔墊物，且本發(fā)明實(shí)施例中，支撐隔墊物104位于黑矩陣的上方，可以為任意顏色的支撐隔墊物，本發(fā)明實(shí)施例對支撐隔墊物的顏色并不做限制。
[0067]本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板中，支撐隔墊物與黑矩陣的接觸面為非平坦面。一方面，非平坦的接觸面由于相對于平坦的接觸面具有更大的接觸面積，會增大支撐隔墊物與黑矩陣的粘合力，從而避免支撐隔墊物從黑矩陣上剝落。另一方面，由于非平坦的接觸面，則在一些運(yùn)動方向上，會存在用于阻礙支撐隔墊物與黑矩陣發(fā)生相對運(yùn)動的剪切應(yīng)力，同樣能夠避免支撐隔墊物從黑矩陣上剝落。
[0068]作為一種可選的方式，如圖2所示，黑矩陣103在接觸面內(nèi)具有凹槽八1。這樣，制作在接觸面上的支撐隔墊物104會形成對應(yīng)于該凹槽八1的凸起，該凸起與凹槽八1的接觸面即為非平坦面。
[0069]進(jìn)一步的，凹槽整體應(yīng)落入接觸面內(nèi)，且凹槽的開口面積應(yīng)小于接觸面的面積。同時(shí)，就為了解決本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題而言，只要整體在接觸面內(nèi)即可，這里的凹槽的位置及形狀都不做限制。
[0070]作為另一種可選的方式，如圖3所示，使黑矩陣103在接觸面內(nèi)具有凸起八2，也能夠達(dá)到同樣的效果，相應(yīng)地，制作在該區(qū)域的支撐隔墊物104底部會具有與凸起八2相配合的凹槽，其對應(yīng)的技術(shù)方案同樣應(yīng)落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0071]在黑矩陣中的接觸面形成凹槽或者凸起能夠使得黑矩陣103與支撐隔墊物104在各個(gè)方向上產(chǎn)生剪切應(yīng)力，更好的避免支撐隔墊物的脫落。當(dāng)然，在實(shí)際應(yīng)用中，黑矩陣在接觸面內(nèi)也可以形成其他形狀的結(jié)構(gòu)(比如條狀結(jié)構(gòu))或黑矩陣在接觸面整體為一個(gè)曲面，其對應(yīng)的技術(shù)方案也都能夠起到防止支撐隔墊物剝落的效果，本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式不應(yīng)理解為本發(fā)明保護(hù)范圍的限定。進(jìn)一步地，本發(fā)明的支撐隔墊物與基板主體的接觸面可以為各種規(guī)則與非規(guī)則形狀的非平坦面。
[0072]進(jìn)一步的，支撐隔墊物104的底端(與黑矩陣接觸的一端)的直徑可以為7-10^ I由于支撐隔墊物的底端直徑較小，能夠增加開口率，同時(shí)支撐隔墊物的底端與黑矩陣的接觸面為非平坦面，使得支撐隔墊物不易脫落。
[0073]進(jìn)一步的，本發(fā)明實(shí)施例中，如圖2所示，黑矩陣103在與一個(gè)支撐隔墊物的接觸面內(nèi)都僅具有一個(gè)凹槽八1，或者如圖3所示，黑矩陣103在與一個(gè)支撐隔墊物的接觸面內(nèi)都僅具有一個(gè)凸起八2。進(jìn)一步的這里的凹槽八1(或者凸起八2)的直徑可以為3.5-4.5^111。
[0074]當(dāng)然，實(shí)際應(yīng)用中，也可以根據(jù)具體需要在一個(gè)支撐區(qū)域內(nèi)設(shè)置多個(gè)凹槽或多個(gè)凸起。
[0075]實(shí)施例二
[0076]如圖4所示，為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖，與實(shí)施例一的彩膜基板的不同之處在于，實(shí)施例一中的彩膜基板不包含彩膜保護(hù)層，支撐隔墊物104直接制作黑矩陣103上方；而圖3中的彩膜基板包含彩膜保護(hù)層105，此時(shí)，支撐隔墊物104制作在彩膜保護(hù)層105上，此時(shí)基底101、彩色光阻層102、黑矩陣103以及彩膜保護(hù)層105共同構(gòu)成基板主體，支撐隔墊物104與彩膜保護(hù)層105的接觸面為非平坦面。
[0077]同樣作為一種可選的實(shí)施方式，彩膜保護(hù)層105上對應(yīng)于支撐隔墊物104的區(qū)域內(nèi)形成有凹槽八3(或者也可以為凸起，圖中未示出^
[0078]進(jìn)一步的，作為一種優(yōu)選的實(shí)施方式，這里的彩膜保護(hù)層可以為樹脂層。
[0079]實(shí)施例三
[0080]圖5為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖，包括陣列基板主體，陣列基板主體包括基底201，以及在基底201上形成的陣列以及相應(yīng)的柵線、數(shù)據(jù)線，其中丁?I陣列包括有源層202，第一絕緣層203，柵金屬層204，第二絕緣層205，鈍化層206，源漏金屬層207 ；鈍化層206上還形成有支撐隔墊物208。其中，支撐隔墊物208與鈍化層206的接觸面為非平坦面。這里的支撐隔墊物208可以為柱狀的支撐隔墊物。
[0081]陣列的具體結(jié)構(gòu)可以與現(xiàn)有技術(shù)中一致，在此不再進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0082]另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，圖5中雖然僅示出了陣列基板為頂柵型陣列基板的一種情形，但是在實(shí)際應(yīng)用中，陣列基板為底柵型陣列基板，也能取得相同的效果。陣列具體為什么結(jié)構(gòu)，不會影響本發(fā)明的實(shí)施。
[0083]陣列的具體結(jié)構(gòu)可以與現(xiàn)有技術(shù)中一致，在此不再進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0084]參考實(shí)施例一，作為一種可選的方式，如圖5所不，鈍化層206在接觸面內(nèi)具有凹槽八4，這里的接觸面是指在鈍化層206上用于制作支撐隔墊物208的區(qū)域，優(yōu)選的，接觸面位于區(qū)域，而非像素區(qū)域。在實(shí)際應(yīng)用中，鈍化層206在接觸面內(nèi)具有凸起也能夠達(dá)到同樣的效果，其對應(yīng)的技術(shù)方案同樣應(yīng)落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0085]進(jìn)一步的，圖5所示的陣列基板中，鈍化層206在與一個(gè)支撐隔墊物接觸的接觸面內(nèi)都僅具有一個(gè)凹槽八4。相應(yīng)的，也可以僅包含一個(gè)凸起。
[0086]此時(shí)，支撐隔墊物的底端(與鈍化層206接觸的一端)的直徑可以為7-10 凹槽八4(或者凸起)的直徑可以為3.5-4.5 9 1
[0087]本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板中，支撐隔墊物與鈍化層的接觸面為非平坦面。一方面，非平坦面的接觸面由于具有更大的面積，會增大支撐隔墊物與鈍化層的粘合力，從而避免支撐隔墊物從鈍化層上剝落。另一方面，由于非平坦面的接觸面，則在一些運(yùn)動方向上，會存在用于阻礙支撐隔墊物與鈍化層發(fā)生相對運(yùn)動的剪切應(yīng)力，同樣能夠避免支撐隔墊物從鈍化層上剝落。
[0088]實(shí)施例四
[0089]如圖6所示，為本發(fā)明實(shí)施例四提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖，與實(shí)施例三的陣列基板的不同之處在于，實(shí)施例三中的陣列基板不包含保護(hù)層，支撐隔墊物208直接制作鈍化層206上；而圖6中的陣列基板包含保護(hù)層209，此時(shí)保護(hù)層也作為陣列基板主體的一部分，支撐隔墊物208制作在保護(hù)層209上，此時(shí)支撐隔墊物208與保護(hù)層209的接觸面為非平坦面。
[0090]同樣作為一種可選的實(shí)施方式，保護(hù)層209上對應(yīng)于支撐隔墊物207的區(qū)域內(nèi)形成有凹槽八5(或者也可以為凸起，圖中未示出其他方面可以與實(shí)施例三一致。
[0091]這里的保護(hù)層209的材質(zhì)可以為樹脂。
[0092]本發(fā)明還提供了制作顯示基板的方法，該方法包括:制作基板主體，所述基板主體在用于設(shè)置支撐隔墊物的區(qū)域被設(shè)置為非平坦面；在該區(qū)域形成支撐隔墊物，所述支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面為非平坦面。
[0093]該顯示基板為設(shè)置有支撐隔墊物的基板，具體例如可以為彩膜基板或者陣列基板。以下分別以制作彩膜基板或陣列基板為例對本發(fā)明提供的制作顯示基板的方法進(jìn)行具體說明。
[0094]實(shí)施例五
[0095]本發(fā)明實(shí)施例五還提供了一種制作彩膜基板的方法，可以用于制作實(shí)施一提供的彩膜基板，如圖7所示，該方法可以包括:
[0096]步驟701，在基底上形成黑矩陣；其中，所述黑矩陣在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)形成有凸起或者凹槽。
[0097]其中，步驟701的一種優(yōu)選的實(shí)施方式是:在所述基底上沉積黑矩陣材料層；在所述黑矩陣材料層上涂覆光刻膠；使用雙色調(diào)掩膜板對所述涂覆的光刻膠進(jìn)行曝光，形成完全去除區(qū)域、半保留區(qū)域和完全保留區(qū)域；對完全去除區(qū)域的黑矩陣材料進(jìn)行刻蝕，去除透光部分對應(yīng)的黑矩陣材料；灰化，去除半保留區(qū)域的光刻膠；對半保留區(qū)域內(nèi)的黑矩陣材料進(jìn)行不完全刻蝕，形成凸起或者凹槽。通過這種方式，能夠減少一次構(gòu)圖工藝。
[0098]步驟702，在所述基底上形成彩色光阻層。
[0099]至此形成了彩膜基板的基板主體。
[0100]步驟702的具體過程可以為:利用涂布分散法在彩膜基板上涂布約2.的紅色像素樹脂層；這里的像素樹脂層材料通常是丙稀酸類感光性樹脂或其他羧酸型色素顏料樹月旨。然后通過曝光工藝和化學(xué)顯影工藝，在玻璃基板的一定區(qū)域上形成紅色像素圖形。之后，采用和制備紅色像素相同的工藝方法，在彩膜基板上制備藍(lán)色像素圖形、綠色像素圖形(厚度約為2.5110)。這里的紅色像素圖形、藍(lán)色像素圖形、綠色像素圖形位于黑矩陣的間隙中，共同構(gòu)成彩色光阻層。
[0101]步驟703，在所述黑矩陣上制作支撐隔墊物。
[0102]具體的，可以在彩色濾光層和黑矩陣之上涂覆支撐隔墊物材料通過曝光、光刻工藝，形成位于黑矩陣上柱狀支撐隔墊物⑴幻。柱狀支撐隔墊物可為八邊形、四邊形、圓形等結(jié)構(gòu)，直徑約7-1011111，高度約3.511111。
[0103]由于黑矩陣在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽，則制作在該區(qū)域的支撐隔墊物在底部會具有與該凸起或者凹槽相適應(yīng)的凹槽或者凸起，支撐隔墊物與基板主體的接觸面為非平坦面。
[0104]實(shí)施例六
[0105]本發(fā)明實(shí)施例六還提供了一種制作彩膜基板的方法，可以用于制作實(shí)施二提供的彩膜基板，如圖8所示，該方法可以包括:
[0106]步驟801，在基底上形成黑矩陣；
[0107]步驟802，在所述基底上形成彩色光阻層；
[0108]步驟803，在所述黑矩陣和所述光阻層之上涂覆彩膜保護(hù)層材料；
[0109]步驟804，利用掩膜板對所述彩膜保護(hù)層材料進(jìn)行灰化，使所述彩膜保護(hù)層材料在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽。
[0110]至此形成了彩膜基板的基板主體。
[0111]步驟805，在所述彩膜保護(hù)層材料制作支撐隔墊物。
[0112]實(shí)施例七
[0113]本發(fā)明實(shí)施例七提供了一種制作陣列基板的方法，可以用于制作實(shí)施三提供的陣列基板，如圖9所示，該方法可以包括:
[0114]步驟901，在基底上形成界!'陣列；
[0115]步驟902，在所述陣列上涂覆保護(hù)層材料；
[0116]步驟903，利用掩膜板對所述保護(hù)層材料進(jìn)行灰化，使所述保護(hù)層材料在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽。至此，形成了陣列基板的基板主體。
[0117]步驟904，在所述保護(hù)層材料上制作支撐隔墊物。
[0118]實(shí)施例八
[0119]本發(fā)明實(shí)施例八提供了一種制作陣列基板的方法，可以用于制作實(shí)施四提供的陣列基板，如圖10所示，該方法可以包括:
[0120]步驟1001，在基底上形成陣列；所述陣列的鈍化層在用于形成支撐隔墊物的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽。
[0121]至此，形成了陣列基板的基板主體。
[0122]步驟1002，在所述鈍化層上制作支撐隔墊物。
[0123]本發(fā)明還提供了顯示裝置，包括實(shí)施例一或二提供的任一種彩膜基板或者包括實(shí)施例三或四提供的任一種陣列基板。
[0124]這里的液晶顯示裝置可以為電子紙、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0125]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示基板，包括基板主體以及支撐隔墊物，所述支撐隔墊物設(shè)置在所述基板主體上，其特征在于，所述支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面為非平坦面。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述基板主體在所述接觸面內(nèi)具有凸起或者凹槽。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述凹槽開口面積小于接觸面的面積。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐隔墊物的底端直徑為7-10 μ m0
5.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板主體在與一個(gè)支撐隔墊物的接觸面內(nèi)具有一個(gè)凸起或者一個(gè)凹槽，凸起或者凹槽的直徑為3.5-4.5 μ m。
6.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板， 當(dāng)所述彩膜基板主體包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述彩膜保護(hù)層形成； 當(dāng)所述彩膜基板主體不包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述彩膜基板主體的黑矩陣形成。
7.如權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為陣列基板， 當(dāng)所述陣列基板主體包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述保護(hù)層形成； 當(dāng)所述陣列基板主體不包含保護(hù)層時(shí)，所述凸起或者凹槽由所述陣列基板主體的鈍化層形成。
8.如權(quán)利要求6或7所述的顯示基板，其特征在于，所述保護(hù)層為透明樹脂層。
9.一種制作顯示基板的方法，其特征在于，包括: 制作基板主體，所述基板主體的用于與支撐隔墊物接觸的區(qū)域被設(shè)置為非平坦面； 在所述基板主體之上形成支撐隔墊物，所述支撐隔墊物與所述基板主體的接觸面為非平坦面。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主體包括: 在基底上形成黑矩陣；所述黑矩陣在用于與支撐隔墊物接觸的區(qū)域內(nèi)形成有凸起或者凹槽； 在所述基底上形成彩色濾光層； 所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括: 在所述黑矩陣上制作支撐隔墊物。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，在所述基底上形成黑矩陣，具體包括: 在所述基底上沉積黑矩陣材料層； 在所述黑矩陣材料層上涂覆光刻膠； 使用雙色調(diào)掩膜板對所述涂覆的光刻膠進(jìn)行曝光，形成完全去除區(qū)域、半保留區(qū)域和完全保留區(qū)域； 對完全去除區(qū)域的黑矩陣材料進(jìn)行刻蝕，去除透光部分對應(yīng)的黑矩陣材料； 灰化，去除半保留區(qū)域的光刻膠； 對半保留區(qū)域內(nèi)的黑矩陣材料進(jìn)行不完全刻蝕，形成凸起或者凹槽。
12.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主體包括: 在基底上形成黑矩陣； 在所述基底上形成彩色光阻層； 在所述黑矩陣和所述光阻層之上涂覆彩膜保護(hù)層材料； 利用掩膜板對所述彩膜保護(hù)層材料進(jìn)行灰化，使所述彩膜保護(hù)層材料在用于與所述支撐隔墊物接觸的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽； 所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括: 在所述彩膜保護(hù)層材料上制作支撐隔墊物。
13.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主體包括: 在基底上形成TFT陣列； 在所述TFT陣列上涂覆保護(hù)層材料； 利用掩膜板對所述保護(hù)層材料進(jìn)行灰化，使所述保護(hù)層材料在用于與所述支撐隔墊物接觸的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽； 所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括: 在所述保護(hù)層材料上制作支撐隔墊物。
14.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主體包括: 在基底上形成TFT陣列；所述TFT陣列的鈍化層在用于與所述支撐隔墊物接觸的區(qū)域內(nèi)具有凸起或者凹槽； 所述在所述基板主體之上形成支撐隔墊物包括: 在所述鈍化層上制作支撐隔墊物。
15.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述顯示基板。
【文檔編號】G02F1/1339GK104460118SQ201410418860
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月22日
【發(fā)明者】趙承潭, 姚繼開, 惠官寶 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司