一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】。所述陣列基板包括：呈陣列狀排列的多個像素單元，每個所述像素單元包括相對設(shè)置的第一透明電極和彩色濾光單元，相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域；所述第一透明電極和所述彩色濾光單元之間設(shè)置有第一絕緣層，相鄰的所述第一透明電極之間設(shè)有凸起，所述凸起至少包括所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分，且所述凸起的頂點高于所述第一透明電極的上表面。當(dāng)該陣列基板應(yīng)用于顯示裝置時，可減少相鄰的第一透明電極之間電場的干擾，降低相鄰的像素單元之間的混色和漏光現(xiàn)象，提高顯示裝置的顯示效果。
【專利說明】
一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著薄膜晶體管液晶顯示(TFT-1XD Display)技術(shù)的發(fā)展和進(jìn)步，液晶顯示器裝置已經(jīng)取代了陰極射線管顯示裝置成為了日常顯示領(lǐng)域的主流顯示裝置。
[0003]目前，為了不斷提高液晶顯示裝置顯示圖像的質(zhì)量，其分辨率在不斷地提高，力求為消費者提供更為清晰逼真的顯示畫面。而分辨率的定義為液晶顯示裝置中每英寸面積內(nèi)的像素單元的數(shù)量，這樣一來，分辨率越高，則每英寸面積內(nèi)的像素單元的數(shù)量就越多，致使每個液晶顯示裝置中像素單元的尺寸也就越來越小，進(jìn)而使得相鄰的兩個像素單元中的像素電極之間的間距也越來越小，如圖1所示，當(dāng)給像素電極10通入一定的工作電壓時，導(dǎo)致相鄰的兩個像素電極10之間的電場發(fā)生干擾(如圖中箭頭所示)，從而影響顯示畫面的質(zhì)量。
[0004]例如，如圖2所示，當(dāng)僅要求某一像素單元(標(biāo)記為a)對應(yīng)的液晶分子12偏轉(zhuǎn)而與該像素單元相鄰的另一個像素單元(標(biāo)記為b)對應(yīng)液晶分子12不發(fā)生偏轉(zhuǎn)時，由于像素單元a與像素單元b之間的間隔很小，使得相鄰的兩個像素電極10之間的電場發(fā)生干擾，導(dǎo)致相鄰的像素單元a與像素單元b之間的液晶分子12、以及像素單元b靠近像素單元a的邊緣處對應(yīng)的液晶分子12發(fā)生偏轉(zhuǎn)，從而使液晶顯示裝置中相鄰的像素單元產(chǎn)生混色、漏光等現(xiàn)象，影響了液晶顯示裝置的顯示的效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置，當(dāng)該陣列基板應(yīng)用于顯示裝置時，可減輕相鄰的第一透明電極之間電場的干擾，降低相鄰的像素單元之間的混色和漏光現(xiàn)象，提高顯示裝置的顯示效果。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0007]一種陣列基板，包括:呈陣列狀排列的多個像素單元，每個所述像素單元包括相對設(shè)置的第一透明電極和彩色濾光單元，其中，
[0008]相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域；
[0009]所述第一透明電極和所述彩色濾光單元之間設(shè)置有第一絕緣層，相鄰的所述第一透明電極之間設(shè)有凸起，所述凸起至少包括所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分，且所述凸起的頂點高于所述第一透明電極的上表面。
[0010]優(yōu)選地，所述凸起為所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分。
[0011]可選地，所述凸起包括第一凸起部和位于所述第一凸起部上方的第二凸起部；其中，
[0012]所述第一凸起部由相鄰的所述彩色濾光單元的交疊區(qū)域構(gòu)成，所述第二凸起部為所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分。
[0013]進(jìn)一步地，上述陣列基板還包括:襯底基板，設(shè)于所述襯底基板上的多條柵線和多條數(shù)據(jù)線；所述凸起與至少一條所述柵線對應(yīng)，和/或，所述凸起與至少一條所述數(shù)據(jù)線對應(yīng)。
[0014]優(yōu)選地,所述凸起高出所述第一透明電極的上表面的高度為14!11?241]1,所述凸起的寬度大于所述柵線的寬度，所述凸起的寬度與所述柵線的寬度之差為3 μ m?6 μ m，所述凸起的寬度大于所述數(shù)據(jù)線的寬度，所述凸起的寬度與所述數(shù)據(jù)線的寬度之差為3 μ m ?6 μ m0
[0015]進(jìn)一步地，上述陣列基板還包括黑矩陣，所述黑矩陣位于相鄰的所述像素單元之間，并與所述凸起對應(yīng)。
[0016]進(jìn)一步地，每個所述像素單元還包括:位于所述第一透明電極上方的第二透明電極，設(shè)于所述第二透明電極和所述第一透明電極之間的第二絕緣層；所述凸起還包括所述第二絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)的部分，所述凸起的頂點高于所述第二透明電極的上表面。
[0017]可選地，所述第一透明電極為像素電極，所述第二透明電極為公共電極，或，所述第一透明電極為公共電極，所述第二透明電極為像素電極。
[0018]優(yōu)選地，所述凸起包括:第一凸起部，位于所述第一凸起部上方的第二凸起部，位于所述第二凸起部上方的第三凸起部；其中，
[0019]所述第一凸起部由相鄰的所述彩色濾光單元的交疊區(qū)域構(gòu)成；所述第二凸起部為所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分；所述第三凸起部為所述第二絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分。
[0020]本發(fā)明同時還提供了一種顯示裝置，包括上述技術(shù)方案所提的任一種陣列基板。
[0021]本發(fā)明同時還提供了一種陣列基板的制備方法，包括:
[0022]形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括呈陣列狀排列的多個彩色濾光單元，相鄰的所述彩色濾光單元的顏色不同，且相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域；
[0023]在所述彩色濾光層上形成第一絕緣層和凸起，所述凸起至少包括所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分；
[0024]在所述第一絕緣層上形成呈陣列狀排列的多個所述第一透明電極，每個所述第一透明電極與一個所述彩色濾光單元對應(yīng)；所述凸起位于相鄰的所述第一透明電極之間，且所述凸起的頂點高于所述第一透明電極的上表面。
[0025]優(yōu)選地，在所述彩色濾光層上形成第一絕緣層和凸起的步驟，其中所述凸起的制備方法具體包括:
[0026]在所述彩色濾光層上形成絕緣膜層；
[0027]通過構(gòu)圖工藝形成第一絕緣層和所述第一絕緣層對應(yīng)所述交疊區(qū)域的凸起。
[0028]可選地，在所述彩色濾光層上形成第一絕緣層和凸起的步驟，其中所述凸起的制備方法具體包括:
[0029]相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊形成第一凸起部；
[0030]形成所述第一絕緣層時在所述第一凸起部上自然形成第二凸起部。
[0031]進(jìn)一步地，上述陣列基板的制備方法還包括:
[0032]在所述多個第一透明電極上形成第二絕緣層；
[0033]在所述第二絕緣層上形成多個第二透明電極，其中，所述凸起還包括第二絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)的部分，所述凸起的頂點高于所述第二透明電極的上表面。
[0034]在本發(fā)明提供的陣列基板中，相鄰的第一透明電極之間設(shè)有凸起，因此，當(dāng)給第一透明電極通入一定的工作電壓時，利用凸起的隔離作用，會明顯減輕相鄰的第一透明電極之間的電場干擾現(xiàn)象，從而可以減輕該干擾電場對位于相鄰的第一透明電極之間的液晶分子的影響，進(jìn)而降低相鄰的像素單元之間的混色和漏光現(xiàn)象，提高了顯示裝置的顯示效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0036]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的陣列基板漏光性測試結(jié)果示意圖；
[0038]圖3為本發(fā)明實施例中的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0039]圖4為本發(fā)明實施例中的陣列基板漏光性測試結(jié)果示意圖；
[0040]圖5為本發(fā)明實施例中的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0041]圖6為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖一；
[0042]圖7為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖二 ；
[0043]圖8為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖三；
[0044]圖9為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖四；
[0045]圖10為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖五；
[0046]圖11為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖六；
[0047]圖12為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖七；
[0048]圖13為本發(fā)明實施例中的陣列基板的平面示意圖八；
[0049]圖14為本發(fā)明實施例中的陣列基板的制備方法的流程示意圖一；
[0050]圖15為本發(fā)明實施例中的陣列基板的制備方法的流程示意圖二。
[0051]附圖標(biāo)記說明:
[0052]1-第一透明電極，2-第一絕緣層，
[0053]3-彩色濾光單元，4-凸起，
[0054]5-襯底基板，6-數(shù)據(jù)線，
[0055]7-黑矩陣，8-第二絕緣層，
[0056]9-第二透明電極，10-像素電極，
[0057]12-液晶分子，41-第一凸起部，
[0058]42-第二凸起部，43-第三凸起部。

【具體實施方式】
[0059]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0060]實施例一
[0061]請參閱圖3，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板，包括:呈陣列狀排列的多個像素單元，每個像素單元包括相對設(shè)置的第一透明電極I和彩色濾光單元3，其中，
[0062]相鄰的彩色濾光單元3的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域；
[0063]第一透明電極I和彩色濾光單元3之間設(shè)置有第一絕緣層2，相鄰的第一透明電極I之間設(shè)有凸起4，凸起4至少包括第一絕緣層2中對應(yīng)交疊區(qū)域的部分，且凸起4的頂點高于第一透明電極I的上表面。
[0064]當(dāng)上述陣列基板應(yīng)用于顯示裝置中時，因在相鄰的第一透明電極I之間設(shè)有凸起4，該凸起4可以減輕相鄰的第一透明電極I之間的電場干擾現(xiàn)象，從而可以減輕電場干擾現(xiàn)象對位于相鄰的第一透明電極I之間的液晶分子12的影響，進(jìn)而降低了相鄰的像素單元之間的混色和漏光現(xiàn)象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0065]具體地，請參閱圖4，像素單元a中的液晶分子12可在所對應(yīng)的第一透明電極I形成的電場作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，由于凸起4的隔離作用，可以減輕該第一透明電極I對與其相鄰的像素單元b內(nèi)的另一個第一透明電極I的電場干擾，從而可以減輕位于相鄰的第一透明電極I之間的液晶分子12以及像素單元b靠近像素單元a的邊緣所對應(yīng)的液晶分子12發(fā)生偏轉(zhuǎn)，進(jìn)而可以減輕顯示裝置中的相鄰的兩個像素單元之間的混色和漏光現(xiàn)象，提高了顯示效果。
[0066]請繼續(xù)參閱圖3，凸起4包括第一凸起部41和位于第一凸起部41上方的第二凸起部42 ;其中，第一凸起部41由相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域構(gòu)成，第二凸起部42為第一絕緣層2中對應(yīng)交疊區(qū)域的部分。具體地，當(dāng)相鄰的彩色濾光單元3的邊緣交疊設(shè)置時，在相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域形成高出彩色濾光單元3主體、如圖3所示的第一凸起部41，且構(gòu)成第一凸起部41的相鄰的彩色濾光單元3的顏色不同；因相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域形成有第一凸起部41，因此，當(dāng)在彩色濾光單元3上形成第一絕緣層2時，會在第一絕緣層2上自然形成第二凸起部42，第二凸起部42如圖3所示覆蓋在第一凸起部41上。
[0067]上述凸起4包括第一凸起部41和第二凸起部42，其中，第一凸起部41是由相鄰的彩色濾光單元3交疊形成；但不限于此，例如，當(dāng)相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域沒有形成高出彩色濾光單元3主體的第一凸起部41時，可以在相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域設(shè)置支撐墊，在形成第一絕緣層2時也會在該支撐墊上自然形成第二凸起部42，此時，凸起4包括支撐墊和覆蓋在支撐墊上的第二凸起部42。又如，當(dāng)相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域沒有形成高出彩色濾光單元3主體的第一凸起部41時，在彩色濾光單元3上形成絕緣膜層，利用一次構(gòu)圖工藝在該絕緣膜層上形成第一絕緣層2和凸起4，此時，凸起4為第一絕緣層2中對應(yīng)上述交疊區(qū)域的部分。
[0068]請參閱圖5，在一種優(yōu)選實施方式中，每個像素單元還包括:位于第一透明電極I上方的第二透明電極9，設(shè)于第二透明電極9和第一透明電極I之間的第二絕緣層8 ;凸起4還包括第二絕緣層8中對應(yīng)交疊區(qū)的部分，凸起4的頂點高于第二透明電極9的上表面；其中，第一透明電極I為像素電極，第二透明電極9為公共電極，或，第一透明電極I為公共電極，第二透明電極9為像素電極，需要說明的是，上述陣列基板中，第一絕緣層2和第二絕緣層8可采用氧化硅、氮化硅、氧化鉿或樹脂等絕緣材料制成；像素電極可選用條狀電極或板狀電極，公共電極可選用條狀電極或板狀電極。
[0069]為了達(dá)到隔離效果，要求凸起4的頂點高出第二透明電極9的上表面，優(yōu)選地，為了達(dá)到較佳地電場干擾隔離效果，凸起4的頂點與第二透明電極9的上表面之間的高度差為Ιμπι?2μπι。此時，凸起4包括:第一凸起部41，位于第一凸起部41上方的第二凸起部42，位于第二凸起部42上方的第三凸起部43 ;且，第一凸起部41由相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域構(gòu)成；第二凸起部42為第一絕緣層2對應(yīng)交疊區(qū)域的部分，覆蓋在第一凸起部41上；第三凸起部43為第二絕緣層8對應(yīng)交疊區(qū)域的部分，覆蓋在第二凸起部42 ;具體形成過程與上述圖3中凸起4的形成過程基本相同，因此不再贅述。
[0070]請繼續(xù)參閱圖3和圖5，上述陣列基板還包括:襯底基板5，設(shè)于襯底基板5上的多條柵線(圖中未示出)和多條數(shù)據(jù)線6 ;凸起4與至少一條柵線對應(yīng)，和/或，凸起4與至少一條數(shù)據(jù)線6對應(yīng)。由于柵線和數(shù)據(jù)線6可以界定像素單元，并且第一透明電極I位于像素單元內(nèi)，基本充滿像素單元；同時，凸起4位于相鄰的第一透明電極I之間，可知凸起4對應(yīng)柵線和/或數(shù)據(jù)線6設(shè)置。
[0071]具體地，在上述陣列基板中，通常各像素單元分別為矩形結(jié)構(gòu)，包括長邊和短邊，并且由于顯示裝置在工作時，每一像素單元的第一透明電極I的電勢不相等，因此，像素單元相互不接觸，在像素單元排布于陣列基板上時，像素單元的長邊和長邊相鄰，短邊和短邊相鄰，長邊和短邊相垂直。由于第一透明電極I通常占滿像素單元，即相鄰的第一透明電極I的長邊和長邊相鄰、短邊和短邊相鄰，相鄰的第一透明電極I之間有間隙，凸起4可位于相鄰的第一透明電極I之間的間隙處。下面通過描述凸起4的排布方式來進(jìn)一步說明本發(fā)明實施例提供的陣列基板的結(jié)構(gòu)。
[0072]如圖6所示，凸起4設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的長邊之間，即相鄰的兩列第一透明電極I之間設(shè)有凸起4，且沿第一透明電極I的長邊方向凸起4是間隔排布的。如圖7所示，凸起4設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的短邊之間，即兩行像素單元之間對應(yīng)設(shè)置有凸起4，且沿第一透明電極I的短邊方向凸起4是間隔排布的。如圖8所示，凸起4設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的長邊之間，也設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的短邊之間，即相鄰兩行像素單元之間和相鄰的兩列像素單元之間設(shè)置有凸起4，且凸起4沿第一透明電極I的長邊方向和短邊方向是間隔排布的。如圖9所示，相鄰的兩行第一透明電極I為一組，凸起4設(shè)置在相鄰兩組中第一透明電極I的短邊之間，即兩組像素單元之間對應(yīng)設(shè)置有凸起4，且沿第一透明電極I的短邊方向凸起4是間隔排布的。
[0073]如圖10所示，凸起4設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的長邊之間，即相鄰的兩列第一透明電極I之間設(shè)有凸起4，且沿第一透明電極I的長邊方向凸起4是連續(xù)排布的。如圖11所示，凸起4設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的短邊之間，即相鄰的兩行第一透明電極I之間設(shè)有凸起4，且沿第一透明電極I的短邊方向凸起4是連續(xù)排布的。如圖12所示，相鄰的兩列第一透明電極I為一組，凸起4設(shè)置在相鄰兩組中第一透明電極I的長邊之間，即兩組像素單元之間對應(yīng)設(shè)置有凸起4，且沿第一透明電極I的長邊方向凸起4是連續(xù)排布的。如圖13所示，凸起4設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的長邊之間，也設(shè)置在相鄰的第一透明電極I的短邊之間，即相鄰兩行像素單元之間和相鄰的兩列像素單元之間設(shè)置有凸起4，且凸起4沿第一透明電極I的長邊方向和短邊方向是連續(xù)排布的。
[0074]請繼續(xù)參閱圖3和圖5，為了達(dá)到較佳地隔離效果，凸起4高出第一透明電極I的上表面的高度為I μ m?2 μ m，凸起4的寬度大于柵線的寬度，凸起4的寬度與所述柵線的寬度之差為3 μ m?6 μ m，凸起4的寬度大于數(shù)據(jù)線6的寬度，凸起4的寬度與數(shù)據(jù)線6的寬度之差為3 μ m?6 μ m。
[0075]請繼續(xù)參閱圖3，為了進(jìn)一步減少相鄰像素單元之間的漏光，在本發(fā)明一個實施例中，陣列基板還包括黑矩陣7，黑矩陣7位于相鄰的像素單元之間，并與凸起4對應(yīng)。黑矩陣7可以設(shè)置在相鄰彩色濾光單元的交疊區(qū)域部分下面，或者可以設(shè)置在相鄰彩色濾光單元的交疊區(qū)域部分上面，或者還可以設(shè)置于第一絕緣層上面。由于黑矩陣的存在，相鄰像素單元之間的凸起相對于第一透明電極上表面的高度進(jìn)一步升高，因此，可進(jìn)一步減輕相鄰的像素單元之間的電場干擾和混光現(xiàn)象，提高了開口率進(jìn)而提升了顯示效果。此外，黑矩陣7與各條柵線和各條數(shù)據(jù)線6對應(yīng)。
[0076]在上述陣列基板中，因彩色濾光單元設(shè)置在陣列基板上，因此，上述陣列基板也稱為COA(Color Filter On Array)陣列基板。所述陣列基板可具體應(yīng)用在扭曲向列型(Twisted Nematic,簡稱TN)模式的顯示裝置中，也可以應(yīng)用在高級超維場轉(zhuǎn)換(AdvancedSuper Dimens1n Switch,簡稱ADS)模式的顯示裝置中,還可以應(yīng)用在寬視角平面轉(zhuǎn)換(InPlane Switching,簡稱IPS)模式的顯示裝置中。
[0077]本發(fā)明實施例還提供了一種包括上述的陣列基板的顯示裝置，所述顯示裝置可以為:液晶面板、電子紙、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。因顯示裝置所采用的陣列基板中，相鄰的第一透明電極之間設(shè)有凸起，該凸起可以減輕相鄰的第一透明電極之間的電場干擾現(xiàn)象，從而可以減輕電場干擾現(xiàn)象對位于相鄰的第一透明電極之間的液晶分子的影響，降低了相鄰的像素單元之間的混色和漏光現(xiàn)象，進(jìn)而提高了顯示裝置的顯示效果。
[0078]實施例二
[0079]請參閱圖3和圖14，本發(fā)明實施例提供一種陣列基板的制備方法，該制備方法包括:
[0080]101、形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括呈陣列狀排列的多個彩色濾光單元3，相鄰的彩色濾光單元3的顏色不同，且相鄰的彩色濾光單元3的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域；
[0081]102、在彩色濾光層上形成第一絕緣層2和凸起4，凸起4至少包括第一絕緣層2中對應(yīng)交疊區(qū)域的部分；
[0082]103、在第一絕緣層2上形成呈陣列狀排列的多個第一透明電極1，每個第一透明電極I與一個彩色濾光單元3對應(yīng)；凸起4位于相鄰的第一透明電極I之間，且凸起4的頂點高于第一透明電極I的上表面。
[0083]在上述陣列基板的制備過程中，在彩色濾光層上形成第一絕緣層2和凸起4的步驟，其中所述凸起的制備方法具體包括:在彩色濾光層上形成絕緣膜層，通過半色調(diào)掩膜構(gòu)圖工藝形成第一絕緣層2和第一絕緣層2對應(yīng)交疊區(qū)域的凸起4。具體地，首先通過涂布或涂覆的方式在彩色濾光層上形成一層絕緣膜層，該絕緣膜層可由透明樹脂材料制成；然后，通過成膜、曝光、顯影等工藝部分去除交疊區(qū)域以外的透明樹脂材料，保留對應(yīng)交疊區(qū)域的透明樹脂材料，從而形成所需的第一絕緣層2和凸起4。
[0084]在彩色濾光層上形成第一絕緣層2和凸起4的步驟，其中凸起4的制備方法還可以通過如下方法形成:
[0085]相鄰的彩色濾光單元3的邊緣交疊形成第一凸起部41，形成第一絕緣層2時在第一凸起部41上自然形成第二凸起部42。具體地，當(dāng)相鄰的彩色濾光單元3的邊緣交疊設(shè)置時，在相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域形成高出彩色濾光單元3主體、如圖3所示的第一凸起部41，因相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域形成有第一凸起部41，因此，當(dāng)通過涂布的方式或鋪設(shè)的方式在彩色濾光層上形成第一絕緣層2時,會在第一絕緣層2上自然形成第二凸起部42，第二凸起部42如圖3所示覆蓋在第一凸起部41上。
[0086]當(dāng)然，當(dāng)相鄰的彩色濾光單元3的交疊區(qū)域沒有形成高出彩色濾光單元3主體的第一凸起部41時，上述凸起4還可以通過如下方法制備:在彩色濾光單元3上形成第一絕緣層2后，利用一次構(gòu)圖工藝形成所需的凸起4，此時，凸起4包括第一絕緣層2中對應(yīng)上述交疊區(qū)域的部分。
[0087]請參閱圖5和圖15，進(jìn)一步地，上述陣列基板的制備方法還包括:
[0088]104、在多個第一透明電極I上形成第二絕緣層8 ；
[0089]105、在第二絕緣層8上形成多個第二透明電極9，其中，凸起4還包括第二絕緣層8中對應(yīng)交疊區(qū)的部分，凸起4的頂點高于第二透明電極9的上表面。
[0090]當(dāng)通過涂布的方式或鋪設(shè)的方式在第一透明電極I上形成第二絕緣層8時，因第一絕緣層2上形成有第二凸起部42，因此，會在第二絕緣層8上自然形成第三凸起部43。
[0091]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種陣列基板，包括:呈陣列狀排列的多個像素單元，每個所述像素單元包括相對設(shè)置的第一透明電極和彩色濾光單元，其特征在于， 相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域； 所述第一透明電極和所述彩色濾光單元之間設(shè)置有第一絕緣層，相鄰的所述第一透明電極之間設(shè)有凸起，所述凸起至少包括所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分，且所述凸起的頂點高于所述第一透明電極的上表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起為所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起包括第一凸起部和位于所述第一凸起部上方的第二凸起部；其中， 所述第一凸起部由相鄰的所述彩色濾光單元的交疊區(qū)域構(gòu)成，所述第二凸起部為所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的陣列基板，其特征在于，還包括:襯底基板，設(shè)于所述襯底基板上的多條柵線和多條數(shù)據(jù)線；所述凸起與至少一條所述柵線對應(yīng)，和/或，所述凸起與至少一條所述數(shù)據(jù)線對應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起高出所述第一透明電極的上表面的高度為I μ m?2 μ m，所述凸起的寬度大于所述柵線的寬度，所述凸起的寬度與所述柵線的寬度之差為3 μ m?6 μ m，所述凸起的寬度大于所述數(shù)據(jù)線的寬度，所述凸起的寬度與所述數(shù)據(jù)線的寬度之差為3 μ m?6 μ m。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，還包括黑矩陣，所述黑矩陣位于相鄰的所述像素單元之間，并與所述凸起對應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，每個所述像素單元還包括:位于所述第一透明電極上方的第二透明電極，設(shè)于所述第二透明電極和所述第一透明電極之間的第二絕緣層； 所述凸起還包括第二絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)的部分，所述凸起的頂點高于所述第二透明電極的上表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述第一透明電極為像素電極，所述第二透明電極為公共電極，或，所述第一透明電極為公共電極，所述第二透明電極為像素電極。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的陣列基板，其特征在于，所述凸起包括:第一凸起部，位于所述第一凸起部上方的第二凸起部，位于所述第二凸起部上方的第三凸起部；其中， 所述第一凸起部由相鄰的所述彩色濾光單元的交疊區(qū)域構(gòu)成；所述第二凸起部為所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分；所述第三凸起部為所述第二絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9任一項所述的陣列基板。
11.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，包括: 形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括呈陣列狀排列的多個彩色濾光單元，相鄰的所述彩色濾光單元的顏色不同，且相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊設(shè)置，形成交疊區(qū)域； 在所述彩色濾光層上形成第一絕緣層和凸起，所述凸起至少包括所述第一絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)域的部分； 在所述第一絕緣層上形成呈陣列狀排列的多個所述第一透明電極，每個所述第一透明電極與一個所述彩色濾光單元對應(yīng)；所述凸起位于相鄰的所述第一透明電極之間，且所述凸起的頂點高于所述第一透明電極的上表面。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，在所述彩色濾光層上形成第一絕緣層和凸起的步驟，其中所述凸起的制備方法具體包括: 在所述彩色濾光層上形成絕緣膜層； 通過構(gòu)圖工藝形成第一絕緣層和所述第一絕緣層對應(yīng)所述交疊區(qū)域的凸起。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，在所述彩色濾光層上形成第一絕緣層和凸起的步驟，其中所述凸起的制備方法具體包括: 相鄰的所述彩色濾光單元的邊緣交疊形成第一凸起部； 形成所述第一絕緣層時在所述第一凸起部上自然形成第二凸起部。
14.根據(jù)權(quán)利要求11-13任一所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，還包括: 在所述多個第一透明電極上形成第二絕緣層； 在所述第二絕緣層上形成多個第二透明電極，其中，所述凸起還包括所述第二絕緣層中對應(yīng)所述交疊區(qū)的部分，所述凸起的頂點高于所述第二透明電極的上表面。
【文檔編號】G02F1/1333GK104166280SQ201410355555
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年7月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月24日
【發(fā)明者】姚琪, 張鋒, 曹占鋒, 舒適 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司