激光全息防偽圖標(biāo)制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供了一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，是同一參照物在不同狀態(tài)下衍射的兩相干光波進(jìn)行干涉。在同一張全息照相干板上，首先讓參照物在某一狀態(tài)下曝光，作第一次全息記錄；讓參照物的狀態(tài)發(fā)生改變，如前后、左右移動(dòng)或作傾斜狀態(tài)等，或其他技術(shù)指標(biāo)作改變，如參考光的角度、使用激光器的波長(zhǎng)等，在此狀態(tài)下對(duì)參照物再次曝光，作第二次全息記錄。在全息照相干板處理后用再現(xiàn)光照明再現(xiàn)，同一參照物的兩束不同的物光波相干疊加，在參照物表面形成干涉條紋。本發(fā)明可在原來(lái)防偽產(chǎn)品的基礎(chǔ)上增加一種防偽方法，主要是隱性的防偽方法，在增加產(chǎn)品的技術(shù)含量同時(shí)，卻并不增加產(chǎn)品成本。
【專(zhuān)利說(shuō)明】激光全息防偽圖標(biāo)制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及防偽【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]全息包裝材料的普遍應(yīng)用是目前市場(chǎng)廣泛的應(yīng)用方向，它具有特殊的防偽效果，如栩栩如生的立體效果，其分辨率高，可根據(jù)客戶(hù)要求設(shè)計(jì)得美觀精致，并可用于微縮文字以及其他防偽方法相結(jié)合，在許多高品質(zhì)、高檔次產(chǎn)品和易被仿制產(chǎn)品上大量使用，是一個(gè)規(guī)模龐大、迅速發(fā)展的市場(chǎng)。
[0003]現(xiàn)在，隨著精密自動(dòng)控制特別是計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，全息特別是模壓全息的制版工藝由人工轉(zhuǎn)向自動(dòng)化。波蘭的KineMax系統(tǒng)、Firefly hologram mastering unit系統(tǒng)等制作出來(lái)的母版美輪美奐、精美異常，生產(chǎn)模壓全息產(chǎn)品的技術(shù)門(mén)檻越來(lái)越低，使現(xiàn)有全息產(chǎn)品的防偽功能弱化，造成使用此種防偽產(chǎn)品的假冒偽劣產(chǎn)品橫行，可能給商家造成重大損失。 申請(qǐng)人:潛心研究，志在發(fā)明一種新型激光全息防偽圖標(biāo)制作方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，以提供一種可靠的隱性的防偽技術(shù)。
[0005]為了解決以上技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其包括如下步驟:
[0006]S1、搭建光路系統(tǒng)，在同一全息照相干板上，讓同一參照物在不同狀態(tài)下分別曝光，對(duì)應(yīng)進(jìn)行全息記錄；
[0007]S2、對(duì)全息照相干板進(jìn)行濕法處理，并晾干至干板恢復(fù)原狀，并用再現(xiàn)光照明干板；
[0008]S3、在再現(xiàn)光下，所記錄的全息信息進(jìn)行顯示，同一參照物的兩束不同的物光波相干疊加，在參照物表面形成干涉條紋。
[0009]優(yōu)選的，在步驟SI中，所述全息照相干板上設(shè)有與激光波長(zhǎng)相適應(yīng)的記錄材料，所述記錄材料為重鉻酸鹽明膠或銀鹽材料。
[0010]優(yōu)選的，在步驟SI中，所述光路系統(tǒng)包括激光光源、第一反射鏡、分束鏡、與分束鏡分別對(duì)應(yīng)的第二反射鏡和第三反射鏡、與第二反射鏡和第三反射鏡分別對(duì)應(yīng)第一顯微物鏡和第二顯微物鏡。
[0011]優(yōu)選的，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物在物平面的各個(gè)方向隨機(jī)移動(dòng)0.1um至lOOum，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0012]優(yōu)選的，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物沿物平面的垂直方向隨機(jī)移動(dòng)0.1um至lOOum，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0013]優(yōu)選的，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物隨機(jī)沿X、Y或Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)或傾斜0.01°至5°的角度，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0014]優(yōu)選的，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參照物位置以及記錄材料位置不變的情況下，改變參考光0.01°至5°的角度，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0015]優(yōu)選的，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參照物位置、記錄材料位置以及參考光角度不變的情況下，改變局部參考光的光程，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0016]優(yōu)選的，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持參考光角度、參照物位置、記錄材料位置不變的情況下，改變所用記錄激光光波波長(zhǎng)，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0017]本發(fā)明提供了一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，是同一參照物在不同狀態(tài)下衍射的兩相干光波進(jìn)行干涉。在同一張全息照相干板上，首先讓參照物在某一狀態(tài)下曝光，作第一次全息記錄；讓參照物的狀態(tài)發(fā)生改變，如前后、左右移動(dòng)或作傾斜狀態(tài)等，或其他技術(shù)指標(biāo)作改變，如參考光的角度、局部參考光的光程、使用激光器的波長(zhǎng)等，在此狀態(tài)下對(duì)參照物再次曝光，作第二次全息記錄。在全息照相干板處理后采用再現(xiàn)光照明再現(xiàn)，同一參照物的兩束不同的物光波相干疊加，在參照物表面形成干涉條紋。本發(fā)明可在原來(lái)防偽產(chǎn)品的基礎(chǔ)上增加一種防偽方法，主要是隱性的防偽方法，在增加產(chǎn)品的技術(shù)含量同時(shí)，卻并不增加產(chǎn)品成本。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本發(fā)明激光全息防偽圖標(biāo)制造方法的流程示意圖；
[0019]圖2為本發(fā)明進(jìn)行二次曝光記錄全息圖的示意圖；
[0020]圖3為圖2中全息圖再現(xiàn)的示意圖；
[0021]圖4為本發(fā)明形成的干涉條紋的示意圖；
[0022]圖5為本發(fā)明中參考光改變角度的示意圖；
[0023]圖6為本發(fā)明中參考光局部改變光程的不意圖；
[0024]圖7為本發(fā)明中雙激光記錄物體的示意圖；
[0025]圖8為本發(fā)明中記錄波長(zhǎng)改變的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]本發(fā)明根據(jù)全息干涉理論，引入了一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法。請(qǐng)參考圖1至圖4，所述激光全息防偽圖標(biāo)制造方法包括如下步驟:
[0027]S1、搭建光路系統(tǒng)，在同一全息照相干板上，讓同一參照物在不同狀態(tài)下分別曝光，對(duì)應(yīng)進(jìn)行全息記錄；
[0028]在步驟SI中，所述光路系統(tǒng)包括激光光源10、第一反射鏡20、分束鏡30、與分束鏡30分別對(duì)應(yīng)的第二反射鏡40和第三反射鏡50、與第二反射鏡40和第三反射鏡50分別對(duì)應(yīng)第一顯微物鏡60和第二顯微物鏡70。激光從光源10射出，經(jīng)第一反射鏡20反射、分束鏡后30分成兩束。其中一束經(jīng)第三反射鏡50反射、第二顯微物鏡70擴(kuò)束照到全息照相干板200上作參考光；另一束經(jīng)第二反射鏡40反射、第一顯微物鏡60擴(kuò)束照到參照物300上，從參照物300上散射的光照射到全息照相干板200上作為物光。
[0029]所述全息照相干板200上設(shè)有與激光波長(zhǎng)相適應(yīng)的記錄材料，所述記錄材料為重鉻酸鹽明膠或銀鹽材料。所述參照物300 —般為實(shí)物模型或客戶(hù)所要求拍攝的其他物體，如客戶(hù)的公司標(biāo)志、公司名稱(chēng)等，也可自行設(shè)計(jì)圖案供用戶(hù)選擇。
[0030]本發(fā)明針對(duì)步驟SI，可以有多種不同的實(shí)施例來(lái)實(shí)現(xiàn)，下面將結(jié)合附圖以及各種實(shí)施例來(lái)對(duì)本發(fā)明的步驟Si作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0031]實(shí)施例一:
[0032]在步驟SI中，搭建如圖2的光路系統(tǒng)，在暗室情況下，在同一全息照相干板200上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物300在物平面的各個(gè)方向隨機(jī)移動(dòng)0.1um至lOOum，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0033]實(shí)施例二:
[0034]在步驟SI中，搭建如圖2的光路系統(tǒng)，在暗室情況下，在同一全息照相干板200上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物300沿物平面的垂直方向隨機(jī)移動(dòng)0.1um至lOOum，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0035]實(shí)施例三:
[0036]在步驟SI中，搭建如圖2的光路系統(tǒng)，在暗室情況下，在同一全息照相干板200上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物300隨機(jī)沿X、Y或Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)或傾斜0.01°至5°的角度，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0037]實(shí)施例四:
[0038]在步驟SI中，搭建如圖2的光路系統(tǒng)，在暗室情況下，在同一全息照相干板上200上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；參考第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參照物300位置以及記錄材料位置不變的情況下，改變參考光0.01°至5°的角度，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。所述參考光角度改變見(jiàn)圖5 (虛線為第二次曝光參考光方向)。
[0039]實(shí)施例五:[0040]在步驟SI中，搭建如圖2的光路系統(tǒng)，在暗室情況下，在同一全息照相干板上200上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；參考第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參照物300位置、記錄材料位置以及參考光角度不變的情況下，改變局部參考光的光程，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。所述局部參考光光程改變的一個(gè)示例見(jiàn)圖6，即在參考光局部加一相位延遲器80。
[0041]實(shí)施例六:
[0042]在步驟SI中，搭建如圖7的光路系統(tǒng)，相比于圖2，增加有一激光光源11和一分束鏡31。在暗室情況下,在同一全息照相干板上200上,只使用激光光源11的光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持參考光角度、參照物300位置、記錄材料位置不變的情況下，只改變所用記錄激光光波波長(zhǎng)，即只使用激光光源10，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物300進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
[0043]S2、對(duì)全息照相干板進(jìn)行濕法處理，并晾干至干板恢復(fù)原狀，并用再現(xiàn)光照明干板；
[0044]S3、在再現(xiàn)光下，所記錄的全息信息進(jìn)行顯示，同一參照物的兩束不同的物光波相干疊加，在參照物表面形成干涉條紋。
[0045]根據(jù)步驟SI的各實(shí)施例，對(duì)步驟S2、S3有著不同的說(shuō)明:
[0046]在實(shí)施例一至三中，已經(jīng)記錄的全息照相干板200經(jīng)顯影、漂定等濕法處理及晾干后處理后采用如圖3的方法觀察全息照相干板200。如果記錄材料沒(méi)有收縮、膨脹或收縮、膨脹較小，則可以觀察到清晰的參照物圖像及其上的明暗相間的干涉條紋。參照物300偏離原來(lái)的狀態(tài)越大，條紋間隔越小。可以根據(jù)客戶(hù)要求調(diào)整參照物300的位置，提供顯性(肉眼可見(jiàn)、對(duì)應(yīng)條紋間隔較大)或隱性(使用放大鏡、對(duì)應(yīng)條紋間隔很小)的明暗相間干涉條紋。
[0047]在實(shí)施例四中，已經(jīng)記錄的全息照相干板200經(jīng)顯影、漂定等濕法處理及晾干后采用圖3的方法觀察全息照相干板200。如果記錄材料沒(méi)有收縮、膨脹或收縮、膨脹較小，則可以觀察到清晰的參照物圖像及其上的明暗相間的干涉條紋。所述參考光改變的角度越大，條紋間隔越小?？梢愿鶕?jù)客戶(hù)要求調(diào)整參照物300位置，提供顯性(肉眼可見(jiàn)、對(duì)應(yīng)條紋間隔較大)或隱性(使用放大鏡、對(duì)應(yīng)條紋間隔很小)的明暗相間干涉條紋。
[0048]在實(shí)施例五中，光楔或平板玻璃起相位延遲作用，起相位延遲作用的相位延遲器80在這里均可使用。已經(jīng)記錄的全息照相干板200經(jīng)顯影、漂定等濕法處理及晾干后采用圖3方法觀察全息照相干板200。如果記錄材料沒(méi)有收縮、膨脹或收縮、膨脹較小，可以觀察到清晰的參照物圖像及其上的明暗相間的干涉條紋。條紋間隔會(huì)隨相位延遲器80的相位隨機(jī)變化而變化，相位延遲器80附加相位變化越大，參考光通過(guò)該相位延遲器80后等相位面變化越大，條紋間隔越小?？梢愿鶕?jù)客戶(hù)要求調(diào)整參照物300位置，提供顯性(肉眼可見(jiàn)、對(duì)應(yīng)條紋間隔較大)或隱性(使用放大鏡、對(duì)應(yīng)條紋間隔很小)的明暗相間干涉條紋。
[0049]在實(shí)施例六中，啟用兩臺(tái)記錄用激光器，其光斑很好地捏合在一起。兩激光器的波長(zhǎng)應(yīng)相差在0.1nm至IOnm之間。全息照相干板200可以依次曝光，兩臺(tái)激光器的啟用順序可以不同，可分別先后，也可以同時(shí)曝光，這根據(jù)可視記錄材料而定。已經(jīng)記錄的全息照相干板200經(jīng)顯影、漂定等濕法處理及晾干后，用圖3方法、任一單束激光照明觀察全息照相干板200。如果記錄材料沒(méi)有收縮、膨脹或收縮、膨脹較小，可以觀察到清晰參照物圖像及其上的明暗相間的干涉條紋。如用兩束激光照明再現(xiàn)，會(huì)有兩套干涉條紋。激光波長(zhǎng)改變?cè)酱?，干涉條紋對(duì)比度下降越明顯，條紋間隔越小?？梢愿鶕?jù)客戶(hù)要求調(diào)整參照物的位置，提供顯性(肉眼可見(jiàn)、對(duì)應(yīng)條紋間隔較大)或隱性(使用放大鏡、對(duì)應(yīng)條紋間隔很小)的明暗相間干涉條紋。
[0050]綜上所述，本發(fā)明所涉及的全息干涉，是同一參照物在不同狀態(tài)下衍射的兩相干光波可以進(jìn)行干涉。在同一張全息照相干板上，首先讓參照物在某種狀態(tài)下曝光，作第一次全息記錄；讓參照物的狀態(tài)發(fā)生改變，如前后、左右移動(dòng)或作傾斜狀態(tài)等)，或其他技術(shù)指標(biāo)作改變，如參考光的角度、局部參考光的光程、使用激光器的波長(zhǎng)等，在此狀態(tài)下對(duì)參照物再次曝光，作第二次全息記錄，如圖2所示。對(duì)全息照相干板顯影、漂定等濕法處理后及晾干后用再現(xiàn)光照明再現(xiàn)，如圖3所示，同一參照物的兩束不同的物光波相干疊加，結(jié)果是參照物以及其上疊加的干涉條紋可以清晰看見(jiàn)。本發(fā)明可在原來(lái)防偽產(chǎn)品的基礎(chǔ)上增加一種防偽方法，主要是隱性的防偽方法，在增加產(chǎn)品的技術(shù)含量，卻并不增加產(chǎn)品成本。
[0051]本發(fā)明針對(duì)步驟SI所述的各實(shí)施例，可以?xún)蓛山Y(jié)合或三個(gè)及三個(gè)以上結(jié)合，所形成的干涉條紋也更加復(fù)雜。此外，使用本發(fā)明提供的方法拍攝的物體如果是一平面物體，則再現(xiàn)觀察時(shí)，除了可以觀察到原本的參照物外，附加在其上的干涉條紋基本上是平行的，或者是一族雙曲線。如果拍攝的參照物是一立體模型，則其上附加的干涉條紋是物體的輪廓線，可以根據(jù)客戶(hù)要求對(duì)此輪廓線做某些調(diào)整，達(dá)到防偽的目的。本發(fā)明以透射全息方式說(shuō)明，亦完全適用于反射全息，并且，當(dāng)記錄參照物再現(xiàn)像趨近或位于全息記錄干板表面時(shí)，不僅可以在記錄時(shí)所用激光下觀察到干涉條紋(記錄材料有沒(méi)有收縮、膨脹或收縮、膨脹較小)，某些條件下在白光下亦可以觀察。用激光來(lái)觀察時(shí)，由于激光的單色性很好，記錄時(shí)參照物位置的改變或參考光角度的改變可以較大；用白光來(lái)觀察時(shí)，由于白光的譜線很寬，記錄時(shí)參照物位置的改變或參考光角度的改變會(huì)受到限制。
[0052]可以理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其他各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，包括如下步驟: 51、搭建光路系統(tǒng)，在同一全息照相干板上，讓同一參照物在不同狀態(tài)下分別曝光，對(duì)應(yīng)進(jìn)行全息記錄； 52、對(duì)全息照相干板進(jìn)行濕法處理，并晾干至干板恢復(fù)原狀，并用再現(xiàn)光照明干板； 53、在再現(xiàn)光下，所記錄的全息信息進(jìn)行顯示，同一參照物的兩束不同的物光波相干疊加，在參照物表面形成干涉條紋。
2.如權(quán)利要求1所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，所述全息照相干板上設(shè)有與激光波長(zhǎng)相適應(yīng)的記錄材料，所述記錄材料為重鉻酸鹽明膠或銀鹽材料。
3.如權(quán)利要求1所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，所述光路系統(tǒng)包括激光光源、第一反射鏡、分束鏡、與分束鏡分別對(duì)應(yīng)的第二反射鏡和第三反射鏡、與第二反射鏡和第三反射鏡分別對(duì)應(yīng)第一顯微物鏡和第二顯微物鏡。
4.如權(quán)利要求3所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物在物平面的各個(gè)方向隨機(jī)移動(dòng)0.1um至lOOum，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
5.如權(quán)利要求3所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物沿物平面的垂直方向隨機(jī)移動(dòng)0.1um至lOOum，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
6.如權(quán)利要求3所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參考光角度以及記錄材料位置不變的情況下，所述參照物隨機(jī)沿X、Y或Z軸轉(zhuǎn)動(dòng)或傾斜0.01°至5°的角度，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
7.如權(quán)利要求3所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參照物位置以及記錄材料位置不變的情況下，改變參考光0.01°至5°的角度，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
8.如權(quán)利要求3所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持激光波長(zhǎng)、參照物位置、記錄材料位置以及參考光角度不變的情況下，改變局部參考光的光程，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
9.如權(quán)利要求3所述的激光全息防偽圖標(biāo)制造方法，其特征在于，在步驟SI中，在同一全息照相干板上，光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第一次曝光，進(jìn)行全息記錄；采用所述第一次曝光光路系統(tǒng)，保持參考光角度、參照物位置、記錄材料位置不變的情況下，改變所用記錄激光光波波長(zhǎng)，所述光路系統(tǒng)對(duì)參照物進(jìn)行第二次曝光，再進(jìn)行全息記錄。
【文檔編號(hào)】G03H1/10GK103913982SQ201410132053
【公開(kāi)日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年4月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月2日
【發(fā)明者】王笑冰, 李蘭芳, 李建兵, 張海明 申請(qǐng)人:深圳大學(xué)反光材料廠