專利名稱：一種帶有浸液回收裝置的光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，該系統(tǒng)應用于半導體光刻機中，屬于半導體制造設備技術(shù)領域。
背景技術(shù)：
浸沒式光刻技術(shù)(immersion lithography)概念最早在上世紀80年代提出，即在光刻機的投影鏡頭和基片之間填充浸沒液體，代替原來的空氣空間，以提高分辨率。其依據(jù)的Rayleigh計算公式如下
權(quán)利要求
1.一種帶有浸液回收裝置的光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，該系統(tǒng)含有基座(7)，兩個硅片臺，兩個線纜臺，光學透鏡系統(tǒng)(2)和光刻浸液噴射循環(huán)裝置(3)，所述的光刻浸液噴射循環(huán)裝置包括浸沒液體(6)、浸液流出機構(gòu)(4)和浸液吸收機構(gòu)(5);所述的基座(7)上設有對準工位和曝光工位，所述的硅片臺上部的四個側(cè)面均為平面反射鏡，其中兩個相對反射鏡面下半部分還分別安裝有一條45°反射鏡，所述的每個硅片臺的一個側(cè)面下部安裝一個線纜臺，所述的線纜臺沿X軸方向放置在基座(7)上，其特征在于在所述的其中一個硅片臺上安裝一個浸液回收裝置，所述的浸液回收裝置包括一個浸液過渡板(15)、導液管、浸液回收容器(14)和抽吸泵(13);所述的浸液過渡板(15)安裝在兩個硅片臺任意一個上，且與線纜臺相對布置，浸液過渡板(15)的上表面與硅片臺上表面共面，浸液過渡板(15)上表面平滑并噴涂有不浸潤涂層；所述的浸液過渡板(15)的側(cè)面設有一排小孔，小孔與導液管連通，導液管經(jīng)過線纜臺與外部的抽吸泵和浸液回收容器相連通。
2.一種帶有浸液回收裝置的光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，該系統(tǒng)含有基座(7)，兩個硅片臺，兩個線纜臺，光學透鏡系統(tǒng)(2)和光刻浸液噴射循環(huán)裝置，所述的光刻浸液噴射循環(huán)裝置包括浸沒液體(6)、浸液流出機構(gòu)(4)和浸液吸收機構(gòu)(5);所述的基座(7)上設有對準工位和曝光工位，所述的硅片臺上部的四個側(cè)面均為平面反射鏡，其中兩個相對平面反射鏡面下半部分還分別安裝有一條45°反射鏡，所述的每個硅片臺的一個側(cè)面下部安裝一個線纜臺，所述的線纜臺沿X軸方向放置在基座(7)上，其特征在于所述的每個硅片臺上各安裝一個浸液回收裝置，每個浸液回收裝置包括一個浸液過渡板(15)、導液管、浸液回收容器和抽吸泵；所述的浸液過渡板(15)安裝在每個硅片臺上，且與線纜臺相對布置，浸液過渡板(15)的上表面與硅片臺上表面共面，浸液過渡板(15)上表面平滑并噴涂有不浸潤涂層；所述的浸液過渡板(15)的側(cè)面設有一排小孔，小孔與導液管連通，導液管經(jīng)過線纜臺與外部的抽吸泵和浸液回收容器相連通。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的一種帶有浸液回收裝置的光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，其特征在于所述的光刻機雙臺交換系統(tǒng)還包含用于硅片臺運動位置反饋的激光干涉儀測量系統(tǒng)，所述的激光干涉儀測量系統(tǒng)包括兩個激光干涉儀、四個激光干涉儀Z向反射鏡和光源；所述的兩個激光干涉儀布置在基臺的對準工位和曝光工位正上方，沿Y軸關(guān)于X軸對稱布置，分別以第一硅片臺(8)和第二硅片臺(9)上相對應的鏡面為反射面進行測量；所述的四個激光干涉儀Z向反射鏡在硅片臺的上方沿Y軸成對布置，反射面水平向下，將激光干涉儀射出的其中一束激光經(jīng)過硅片臺側(cè)面安裝的45°反射鏡面反射后，再射向激光干涉儀Z向反射鏡的反射面，然后沿原路返回激光干涉儀內(nèi)部，進行Z軸方向位移測量。
4.按照權(quán)利要求1或2所述的一種帶有浸液回收裝置的光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，其特征在于所述光刻機硅片臺雙臺交換還包括一套硅片臺防撞氣囊結(jié)構(gòu)，該硅片臺防撞氣囊結(jié)構(gòu)包含有三個氣囊(20)、四個阻尼緩沖元件(21)和氣源(23)，所述的三個氣囊串聯(lián)布置，并分別通過氣囊支架(22)固定在硅片臺下部的另外三個側(cè)面上；相鄰兩個氣囊之間通過一個阻尼緩沖元件(21)和氣體管路相連通，所述的氣體管路與氣源(23)相連通，氣體管路固定在線纜臺上。
5.按照權(quán)利要求1所述的一種帶有浸液回收裝置的光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，其特征在于所述的第一硅片臺(8)和第二硅片臺(9)分別與基座(7)之間通過磁懸浮進行驅(qū)動和尋向。
全文摘要
一種帶有浸液回收裝置的光刻機雙臺交換系統(tǒng)，該系統(tǒng)含有基臺，兩個硅片臺，光學透鏡系統(tǒng)、多軸激光干涉儀和激光干涉儀反射鏡。硅片臺帶有浸液回收裝置，硅片臺上表面的一側(cè)設有一塊浸液回收板，浸液回收板的上表面與硅片臺上表面共面，浸液回收板的側(cè)面有一排小孔，小孔與硅片臺外部的浸液回收容器相連接，用于浸沒液體的回收，硅片臺外圍四邊設置一套防撞氣囊裝置。當兩硅片臺完成交換時，硅片臺上的浸液回收板設計保證了交換時浸液循環(huán)不用中斷，提高了生產(chǎn)效率；氣囊式防撞結(jié)構(gòu)具有可伸縮性，與機械式防撞相比剛度低，且結(jié)構(gòu)簡單緊湊，可應用于光刻機雙臺交換系統(tǒng)。
文檔編號G03F7/20GK103034074SQ201210576850
公開日2013年4月10日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者張鳴, 朱煜, 成榮, 徐登峰, 劉召, 王婧, 田麗, 楊開明, 胡金春, 尹文生, 穆海華, 劉昊, 胡楚雄 申請人:清華大學