專利名稱：一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及微電子領(lǐng)域光刻技術(shù)，尤其涉及一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法。
背景技術(shù)：
由于尼康光刻機的設(shè)計特殊性，預(yù)對準需要選擇和切割道平行的特殊圖形，但由于各種產(chǎn)品的設(shè)計要求，會出現(xiàn)產(chǎn)品的設(shè)計圖形干擾對準圖形的信號，使得光刻機的預(yù)對準出現(xiàn)偏差。圖1是尼康標準對準圖形示意圖，如圖所示，若干條光刻圖形對準標記1與切割帶0的方向平行。目前業(yè)界普遍使用改變對準圖形的線寬來避開產(chǎn)品圖形的干擾，這樣做的情況就是不同的產(chǎn)品可能需要不同的定義，不過使用情況也不理想，出現(xiàn)偏差的幾率還是很高。

發(fā)明內(nèi)容
針對上述存在的問題，本發(fā)明的目的是提供一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，通過在光刻時改變對準圖形的擺放方向來實現(xiàn)減少光刻機對準偏差。本發(fā)明的目的是通過下述技術(shù)方案實現(xiàn)的
一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內(nèi)，對準圖形保護帶位于切割帶內(nèi)，切割帶兩側(cè)分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其中，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內(nèi)依次進行排布。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述若干相互平行的矩形條為3條。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第一保護帶為矩形，所述光刻圖形對準標記的長度與所述第一保護帶的寬度相同。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第一保護帶的長度為240微米。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第一保護帶的寬度為60微米。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第二保護帶緊鄰所述切割帶。與已有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于
1、在現(xiàn)有光刻機的設(shè)計精度下，縮短圖形的寬度，把信號掃描方向的其它干擾圖形去除掉，這樣就減少了干擾信號避免了對準偏差；
2、所有的產(chǎn)品都可以使用這個圖形。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)中光刻機對準過程中的光刻圖形的結(jié)構(gòu)示意圖2是本發(fā)明減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法的光刻圖形的結(jié)構(gòu)示意
圖；圖3a、圖北分別是采用標準對準圖形和采用本發(fā)明對準標記圖形以后的對準圖形信號圖4是采用每批產(chǎn)品使用標準圖形和本發(fā)明對準標記圖形以后的對準和生產(chǎn)時間示意圖。
具體實施例方式下面結(jié)合原理圖和具體操作實施例對本發(fā)明作進一步說明。如圖2所示，本發(fā)明減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法提供光刻圖形對準標記1，光刻圖形對準標記1位于對準圖形中部第一保護帶2內(nèi)，對準圖形保護帶2位于切割帶0內(nèi)，切割帶0兩側(cè)分別分布有第二保護帶3和分隔帶4。光刻圖形對準標記1為若干相互平行的矩形條，矩形條垂直于切割帶0方向地在對準圖形中部第一保護帶2內(nèi)依次進行排布。與現(xiàn)有技術(shù)相比，其實就是在設(shè)計圖形時把原來標準的圖形旋轉(zhuǎn)90度，然后縮短圖形的寬度即可。具體地，若干相互平行的矩形條1為3條。第一保護帶2為矩形，光刻圖形對準標記1的長度與第一保護帶2的寬度相同。第一保護帶2的長度為240微米，寬度為60微米， 且第二保護帶3緊鄰切割帶0。采用本發(fā)明的光刻對準圖形以后，參看圖3a和圖北所示，通過對比可見，新型對準圖形的信號波谷比較清晰，這樣光刻機的對準定位就比較準確；參看圖4所示，從光刻機跑每批產(chǎn)品需要的時間可以表明使用新型對準圖形可以大大降低對準偏移的發(fā)生次數(shù)，從而避免了重復(fù)對準造成的時間浪費，并最終減少了整批產(chǎn)品的生產(chǎn)時間。以上對本發(fā)明的具體實施例進行了詳細描述，但本發(fā)明并不限制于以上描述的具體實施例，其只是作為范例。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，任何對該光刻圖形對準標記方法進行的等同修改和替代也都在本發(fā)明的范疇之中。因此，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍下所作出的均等變換和修改，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內(nèi)，對準圖形保護帶位于切割帶內(nèi)，切割帶兩側(cè)分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其特征在于，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內(nèi)依次進行排布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述若干相互平行的矩形條為3條。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶為矩形，所述光刻圖形對準標記的長度與所述第一保護帶的寬度相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3中任意一項所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶的長度為240微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求3中任意一項所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶的寬度為60微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第二保護帶緊鄰所述切割帶。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內(nèi)，對準圖形保護帶位于切割帶內(nèi)，切割帶兩側(cè)分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其中，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內(nèi)依次進行排布。與已有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于1、在現(xiàn)有光刻機的設(shè)計精度下，縮短圖形的寬度，把信號掃描方向的其它干擾圖形去除掉，這樣就減少了干擾信號避免了對準偏差；2、所有的產(chǎn)品都可以使用這個圖形。
文檔編號G03F7/20GK102445865SQ201110349890
公開日2012年5月9日 申請日期2011年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月8日
發(fā)明者馬蘭濤 申請人:上海華力微電子有限公司