雙面光刻機(jī)的對(duì)位結(jié)構(gòu)及對(duì)位方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種雙面光刻機(jī)的對(duì)位結(jié)構(gòu)及對(duì)位方法，該對(duì)位標(biāo)記包括“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，所述“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成，所述輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，每個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成。本發(fā)明通過(guò)采用“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記與主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)位，有利于肉眼分辨對(duì)位位置，提供了對(duì)位精度，減少手動(dòng)對(duì)位引起的誤差，提高了生產(chǎn)效率。
【專利說(shuō)明】雙面光刻機(jī)的對(duì)位結(jié)構(gòu)及對(duì)位方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種雙面光刻機(jī)的對(duì)位標(biāo)記結(jié)構(gòu)及對(duì)位方法。
【背景技術(shù)】
[0002]雙面光刻機(jī)中可供選擇的對(duì)準(zhǔn)方法有多種，如紅外對(duì)準(zhǔn)、四物鏡對(duì)準(zhǔn)、雙掩膜對(duì)準(zhǔn)及光柵相位對(duì)準(zhǔn)等。但是，在這些對(duì)準(zhǔn)方法中，都存在著一定的缺陷。其中，紅外對(duì)準(zhǔn)的不足之處在于:紅外顯微鏡觀察條件差，對(duì)準(zhǔn)精度低，且對(duì)準(zhǔn)速度慢，生產(chǎn)率低，晶片達(dá)到一定厚度時(shí)，紅外線穿透能力降低，對(duì)準(zhǔn)很困難，且不能用于不透紅外光的晶片曝光；四物鏡對(duì)準(zhǔn)原理的不足之處是:光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜，設(shè)計(jì)、裝配、調(diào)試?yán)щy，體積龐大且設(shè)備造價(jià)高，操作不便，生產(chǎn)率低；雙掩膜對(duì)準(zhǔn)原理的主要缺點(diǎn)是:設(shè)備零件要求精度高且復(fù)雜，容易因掩膜變形而使曝光分辨率降低；光柵相位對(duì)準(zhǔn)更是一個(gè)非常復(fù)雜的系統(tǒng)，它不僅涉及光、機(jī)、電、材料、工藝及計(jì)算機(jī)等多學(xué)科理論，而且，光刻機(jī)其它諸多子系統(tǒng)的任何一項(xiàng)性能的好壞都有可能影響到對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度，另外，由于光柵對(duì)準(zhǔn)要求有自動(dòng)掃描精密工件臺(tái)，使得這種對(duì)準(zhǔn)方式在接近接觸式光科技中的應(yīng)用收到了限制。
[0003]正常的曝光都需要預(yù)對(duì)準(zhǔn)和對(duì)位，在掩膜版和圓片對(duì)上位后才進(jìn)行曝光，以保證圓片的對(duì)位偏差在規(guī)范之內(nèi)。MEMS的雙面光刻機(jī)EVG620完全手動(dòng)放置圓片和對(duì)位，機(jī)臺(tái)對(duì)位精度只有2 μ m,對(duì)位精度比較大；機(jī)臺(tái)誤差加上手動(dòng)對(duì)位(使用現(xiàn)有的“ + ”字標(biāo)記)，做出來(lái)的產(chǎn)品對(duì)位偏差較大，很多時(shí)候滿足不了產(chǎn)品，經(jīng)常需要返工。
[0004]因此，針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，有必要提供一種雙面光刻機(jī)的對(duì)位標(biāo)記結(jié)構(gòu)及對(duì)位方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種對(duì)位精度更小的雙面光刻機(jī)的對(duì)位標(biāo)記結(jié)構(gòu)及對(duì)位方法。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案如下:
[0007]一種雙面光刻機(jī)的對(duì)位結(jié)構(gòu)，所述對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，所述“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成，所述輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，每個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成。
[0008]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述輔助對(duì)位標(biāo)記設(shè)置為八個(gè)，主對(duì)位標(biāo)記上下左右分別設(shè)有兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記，所述兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記沿水平主對(duì)位標(biāo)記或垂直主對(duì)位標(biāo)記的對(duì)稱軸線對(duì)稱設(shè)置。
[0009]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述每個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中的相鄰的兩個(gè)長(zhǎng)方形有一條邊在同一條直線上，且同一個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中所有長(zhǎng)方形的與長(zhǎng)垂直的對(duì)稱軸線為同一條直線。[0010]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述主對(duì)位標(biāo)記的水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記均為長(zhǎng)方形，長(zhǎng)度均設(shè)為100 μ m,寬度均設(shè)為20 μ Hlo
[0011]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述輔助對(duì)位標(biāo)記中長(zhǎng)方形的寬度設(shè)為10 μ m，長(zhǎng)度為公差等于2μπ?的等差數(shù)列。
[0012]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述輔助對(duì)位標(biāo)記中長(zhǎng)度最小的長(zhǎng)方形與主對(duì)位標(biāo)記的水平距離或垂直距離最大，且輔助對(duì)位標(biāo)記中長(zhǎng)方形的最小長(zhǎng)度設(shè)為8 μ m。
[0013]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述輔助對(duì)位標(biāo)記與主對(duì)位標(biāo)記的水平距離或垂直距離設(shè)為40 μ m，相鄰的兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記的水平距離或垂直距離設(shè)為8 μ m。
[0014]相應(yīng)地，一種雙面光刻機(jī)中對(duì)位結(jié)構(gòu)的對(duì)位方法，所述方法包括:
[0015]S1、通過(guò)CXD成像系統(tǒng)獲取靜態(tài)掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)，并通過(guò)圖像采集系統(tǒng)采集圖像數(shù)據(jù)并通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行對(duì)位結(jié)構(gòu)的處理、定位及顯示，其中，所述對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，所述“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成，所述輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成；
[0016]S2、將圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的正面曝光；
[0017]S3、 翻轉(zhuǎn)圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與計(jì)算機(jī)中記錄的掩膜版上左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的背面曝光。
[0018]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明通過(guò)采用“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記與主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)位，有利于肉眼分辨對(duì)位位置，提供了對(duì)位精度，減少手動(dòng)對(duì)位引起的誤差，提聞了生廣效率。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0019]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明中記載的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0020]圖1為本發(fā)明一實(shí)施方式中雙面光刻機(jī)一個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)的不意圖；
[0021]圖2為本發(fā)明一實(shí)施方式中雙面光刻機(jī)對(duì)位結(jié)構(gòu)中輔助對(duì)位標(biāo)記的結(jié)構(gòu)不意圖(圖1的中的局部放大圖)；
[0022]圖3為本發(fā)明一實(shí)施方式中雙面光刻機(jī)對(duì)位方法的具體流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0023]本發(fā)明公開(kāi)了一種雙面光刻機(jī)的對(duì)位結(jié)構(gòu)，對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成,輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，每個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成。
[0024]本發(fā)明還公開(kāi)了一種雙面光刻機(jī)對(duì)位方法，該方法包括:
[0025]S1、通過(guò)CXD成像系統(tǒng)獲取靜態(tài)掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)，并通過(guò)圖像采集系統(tǒng)采集圖像數(shù)據(jù)并通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行對(duì)位結(jié)構(gòu)的處理、定位及顯示，其中，對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成，輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成；
[0026]S2、將圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的正面曝光；
[0027]S3、翻轉(zhuǎn)圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與計(jì)算機(jī)中記錄的掩膜版上左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的背面曝光。
[0028]本發(fā)明通過(guò)采用“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記與主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)位，有利于肉眼分辨對(duì)位位置，提供了對(duì)位精度，減少手動(dòng)對(duì)位引起的誤差，提高了生
產(chǎn)效率。
[0029]為了使本【技術(shù)領(lǐng)域】的人員更好地理解本發(fā)明中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0030]參圖1所不為本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施方式中雙面光刻機(jī)一對(duì)位結(jié)構(gòu)的不意圖。雙面光刻機(jī)中掩膜版上的對(duì)位結(jié)構(gòu)通常設(shè)為位于一條直線上的左右兩個(gè)，通過(guò)兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)對(duì)圓片進(jìn)行定位。
[0031]在本實(shí)施方式中對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記10及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記20。
[0032]其中”字型的主對(duì)位標(biāo)記10由長(zhǎng)方形的水平主對(duì)位標(biāo)記11和垂直主對(duì)位標(biāo)記12垂直交叉形成?，F(xiàn)有的“ + ”字型對(duì)位標(biāo)記一般設(shè)置為長(zhǎng)100 μ m寬30 μ m,優(yōu)選地，在本實(shí)施方式中主對(duì)位標(biāo)記10中水平主對(duì)位標(biāo)記11和垂直主對(duì)位標(biāo)記12的長(zhǎng)度a設(shè)為100 μ m,寬度b設(shè)為20 μ m。如此設(shè)置可以減少手動(dòng)對(duì)位的誤差。當(dāng)然,長(zhǎng)度100 μ m、寬度20 μ m僅為本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式中的數(shù)值，在其他實(shí)施方式中長(zhǎng)度和寬度可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置。
[0033]進(jìn)一步地，在主對(duì)位標(biāo)記10的上下左右均設(shè)有兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記20，輔助對(duì)位標(biāo)記20為階梯狀，由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成。
[0034]在本實(shí)施方式中，輔助對(duì)位標(biāo)記20設(shè)置為八個(gè)，主對(duì)位標(biāo)記10上下左右分別設(shè)有兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記20，兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記20沿水平主對(duì)位標(biāo)記11或垂直主對(duì)位標(biāo)記12的對(duì)稱軸線對(duì)稱設(shè)置。具體地，在主對(duì)位標(biāo)記10中水平主對(duì)位標(biāo)記11的兩側(cè)延長(zhǎng)線上對(duì)稱的設(shè)有四個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記20，主對(duì)位標(biāo)記10中垂直主對(duì)位標(biāo)記12的兩側(cè)延長(zhǎng)線上對(duì)稱的設(shè)有四個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記20，優(yōu)選地，在本實(shí)施方式中輔助對(duì)位標(biāo)記20與主對(duì)位標(biāo)記10的水平距離或垂直距離c設(shè)為40 μ m。
[0035]結(jié)合圖2所示為本優(yōu)選實(shí)施方式中雙面光刻機(jī)對(duì)位結(jié)構(gòu)中相鄰兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0036]在本發(fā)明中，輔助對(duì)位標(biāo)記20為階梯狀(或梯形塔狀)，輔助對(duì)位標(biāo)記20由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成。輔助對(duì)位標(biāo)記20中的相鄰的兩個(gè)長(zhǎng)方形有一條邊在同一條直線上，且輔助對(duì)位標(biāo)記20中所有長(zhǎng)方形的與長(zhǎng)度垂直的對(duì)稱軸線為同一條直線。
[0037]參圖2所示，在本實(shí)施方式中，輔助對(duì)位標(biāo)記20中長(zhǎng)方形的寬度d設(shè)為ΙΟμπι，長(zhǎng)度為公差等于2 μ m的等差數(shù)列，同一個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中相鄰的長(zhǎng)方形的寬之間的距離e為I μ m,輔助對(duì)位標(biāo)記20中長(zhǎng)度最小的長(zhǎng)方形與主對(duì)位標(biāo)記10的水平距離或垂直距離最大，且最小長(zhǎng)度f(wàn)設(shè)為8 μ m。如此設(shè)置，從最遠(yuǎn)離主對(duì)位標(biāo)記10至最靠近主對(duì)位標(biāo)記10的長(zhǎng)
方形的長(zhǎng)度依次為8μηι、10μηι、12μηι、14μηι、16μηι......。圖中給出了長(zhǎng)方形設(shè)為6個(gè)的
實(shí)施例，則最大的長(zhǎng)方形長(zhǎng)度g為18 μ m。且在本實(shí)施方式中，相鄰的兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記20的水平距離或垂直距離h設(shè)為8 μ m。
[0038]通過(guò)以上設(shè)置，可以通過(guò)改變圓片指定位置在輔助對(duì)位標(biāo)記中的位置進(jìn)一步精確對(duì)位，由于同一個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中相鄰的長(zhǎng)方形的寬的垂直距離設(shè)為I μ m，若需要將圓片向下微調(diào)I μ m，則將圓片向下移動(dòng)，觀察對(duì)位標(biāo)記，使得左右圓片掩膜版水平位置上的對(duì)位標(biāo)記移動(dòng)到外側(cè)一個(gè)長(zhǎng)方形邊上，水平方向上亦如此，可以將對(duì)位誤差精確到Iym以內(nèi)。
[0039]當(dāng)然，在其他實(shí)施方式中長(zhǎng)方形的數(shù)量可以相應(yīng)地增加或減少，階梯狀輔助對(duì)位標(biāo)記20中各長(zhǎng)方形的大小、以及相鄰兩個(gè)福主對(duì)位標(biāo)記間的距離也可以根據(jù)不同的需要進(jìn)行設(shè)置，如為了更精確地對(duì)位，可以將長(zhǎng)方形長(zhǎng)度的等差數(shù)列中的公差設(shè)為I μ m，長(zhǎng)方形的寬度均設(shè)為5 μ m，如此同一個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中相鄰的長(zhǎng)方形的寬之間的距離為0.5μ--，可以更精確地進(jìn)行定位。兩個(gè)相鄰的輔助對(duì)位標(biāo)記20間的距離也可以根據(jù)不同的需要進(jìn)行設(shè)置。
[0040]相應(yīng)地,參圖3所不，本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施方式中雙面光刻機(jī)對(duì)位方法,該方法包括:
[0041]S1、通過(guò)CXD成像系統(tǒng)獲取靜態(tài)掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)，并通過(guò)圖像采集系統(tǒng)采集圖像數(shù)據(jù)并通過(guò)計(jì)算機(jī) 進(jìn)行對(duì)位結(jié)構(gòu)的處理、定位及顯示，其中，對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成,輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成，具體參上述對(duì)位結(jié)構(gòu)的描述；
[0042]S2、將圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的正面曝光；
[0043]S3、翻轉(zhuǎn)圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與計(jì)算機(jī)中記錄的掩膜版上左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的背面曝光。
[0044]雙面光刻機(jī)一般包括一個(gè)計(jì)算機(jī)、與計(jì)算機(jī)相連的圖像采集系統(tǒng)以及兩個(gè)CXD成像系統(tǒng)，每個(gè)CCD成像系統(tǒng)均設(shè)有用于成像的光學(xué)系統(tǒng)，在CCD成像系統(tǒng)的上方依次設(shè)有圓片承載臺(tái)和掩膜版，掩膜版上設(shè)有左右兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記，在掩膜版的上方設(shè)有一個(gè)曝光系統(tǒng)，待圓片放入雙面光刻機(jī)中并對(duì)位完成后進(jìn)行曝光。雙面光刻機(jī)中掩膜版上的對(duì)位標(biāo)記通常設(shè)為位于一條直線上的左右兩個(gè)，通過(guò)兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記對(duì)圓片進(jìn)行定位。
[0045]本發(fā)明的具體實(shí)現(xiàn)方法如下:
[0046]S1、通過(guò)兩個(gè)CXD成像系統(tǒng)分別獲取靜態(tài)掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)，并通過(guò)圖像采集系統(tǒng)采集圖像數(shù)據(jù)并通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行對(duì)位標(biāo)記的處理、定位及顯示，計(jì)算機(jī)將圖像及位置數(shù)據(jù)保存起來(lái)；[0047]S2、將圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，然后完成圓片的正面曝光，具體地，先將圓片中的對(duì)位結(jié)構(gòu)與掩膜版上的主對(duì)位標(biāo)記對(duì)應(yīng)，然后在根據(jù)八個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行進(jìn)一步的對(duì)位，通過(guò)觀察上下左右八個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記調(diào)整圓片在水平和垂直方向上的距離，在上述實(shí)施方式中將同一個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中相鄰的長(zhǎng)方形的寬之間的距離設(shè)為I μ m，可將對(duì)位的精度精確到I μ m以內(nèi)甚至更?。?br> [0048]S3、翻轉(zhuǎn)圓片放置于掩膜版上，雖然此時(shí)圓片正面已曝光，不能同時(shí)獲取掩膜版上的左右對(duì)位結(jié)構(gòu)，但由于掩膜版對(duì)位標(biāo)記圖像和位置已經(jīng)在步驟Si中被保存下來(lái)，所以在計(jì)算機(jī)的監(jiān)視器上仍能同時(shí)看到掩膜版地面的對(duì)位標(biāo)記圖像及位置數(shù)據(jù)。調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與計(jì)算機(jī)中記錄的掩膜版上左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的背面曝光。同步驟S2中相同地，對(duì)位時(shí)先將圓片中的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版上的主對(duì)位標(biāo)記對(duì)應(yīng)，然后在根據(jù)八個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行進(jìn)一步的對(duì)位，通過(guò)觀察上下左右八個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記調(diào)整圓片在水平和垂直方向上的距離。
[0049]當(dāng)然，本發(fā)明中的輔助對(duì)位標(biāo)記除了設(shè)為階梯狀外，還可以設(shè)為其他形狀，如設(shè)成若干與主對(duì)位標(biāo)記平行或垂直且等間距設(shè)置的直線，或者若干方格狀的輔助對(duì)位標(biāo)記，均可以完成對(duì)圓片的精確對(duì)位。
[0050]由上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明通過(guò)采用“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記與主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)位，有利于肉眼分辨對(duì)位位置，提供了對(duì)位精度，減少手動(dòng)對(duì)位引起的誤差，提聞了生廣效率。
[0051]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0052]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書(shū)按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書(shū)的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書(shū)作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【權(quán)利要求】
1.一種雙面光刻機(jī)的對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，所述“+”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成，所述輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，每個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述輔助對(duì)位標(biāo)記設(shè)置為八個(gè)，主對(duì)位標(biāo)記上下左右分別設(shè)有兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記，所述兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記沿水平主對(duì)位標(biāo)記或垂直主對(duì)位標(biāo)記的對(duì)稱軸線對(duì)稱設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述每個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中的相鄰的兩個(gè)長(zhǎng)方形有一條邊在同一條直線上，且同一個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記中所有長(zhǎng)方形的與長(zhǎng)垂直的對(duì)稱軸線為同一條直線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位結(jié)構(gòu),其特征在于,所述主對(duì)位標(biāo)記的水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記均為長(zhǎng)方形，長(zhǎng)度均設(shè)為100 μ m,寬度均設(shè)為20 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述輔助對(duì)位標(biāo)記中長(zhǎng)方形的寬度設(shè)為10 μ m,長(zhǎng)度為公差等于2μηι的等差數(shù)列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述輔助對(duì)位標(biāo)記中長(zhǎng)度最小的長(zhǎng)方形與主對(duì)位標(biāo)記的水平距離或垂直距離最大，且輔助對(duì)位標(biāo)記中長(zhǎng)方形的最小長(zhǎng)度設(shè)為8 μ m0
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述輔助對(duì)位標(biāo)記與主對(duì)位標(biāo)記的水平距離或垂直距離設(shè)為40 μ m，相鄰的兩個(gè)輔助對(duì)位標(biāo)記的水平距離或垂直距離設(shè)為8 μ m0
8.—種如權(quán)利要求1所述的雙面光刻機(jī)中對(duì)位結(jié)構(gòu)的對(duì)位方法，其特征在于，所述方法包括: S1、通過(guò)CXD成像系統(tǒng)獲取靜態(tài)掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)，并通過(guò)圖像采集系統(tǒng)采集圖像數(shù)據(jù)并通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行對(duì)位結(jié)構(gòu)的處理、定位及顯示，其中，所述對(duì)位結(jié)構(gòu)包括“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記及若干對(duì)稱設(shè)于主對(duì)位標(biāo)記上下左右的輔助對(duì)位標(biāo)記，所述“ + ”字型的主對(duì)位標(biāo)記由水平主對(duì)位標(biāo)記和垂直主對(duì)位標(biāo)記垂直交叉形成，所述輔助對(duì)位標(biāo)記為階梯狀，輔助對(duì)位標(biāo)記由若干寬度相同、長(zhǎng)度成等差數(shù)列的長(zhǎng)方形組成； S2、將圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與掩膜版上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的正面曝光； S3、翻轉(zhuǎn)圓片放置于掩膜版上，調(diào)節(jié)圓片的位置，使圓片上的左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)與計(jì)算機(jī)中記錄的掩膜版上左右兩個(gè)對(duì)位結(jié)構(gòu)重合，完成圓片的背面曝光。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103713477SQ201210369733
【公開(kāi)日】2014年4月9日 申請(qǐng)日期:2012年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月28日
【發(fā)明者】徐春云 申請(qǐng)人:無(wú)錫華潤(rùn)上華半導(dǎo)體有限公司