專利名稱：相機的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及諸如單鏡頭反光相機等相機(camera)，更特別地，涉及包括抑制可轉動鏡的跳動(回彈)的機構的相機。
背景技術：
單鏡頭反光相機包括主鏡和副鏡，其中主鏡用于反射來自被攝體的光并將被反射的光導向取景器的光學系統(tǒng)，副鏡用于將已經(jīng)透過主鏡的光導向焦點檢測器。主鏡和副鏡均能移位到鏡下降狀態(tài)和鏡上升狀態(tài)，其中在鏡下降狀態(tài)中，兩個鏡都位于攝影用光路中，在鏡上升狀態(tài)中，兩個鏡都從攝影用光路退避。當主鏡和副鏡移位到鏡下降狀態(tài)時，主鏡和副鏡碰撞布置于鏡盒的止動件，由此導致主鏡和副鏡跳動(回彈離開止動件)。通過抑制主鏡的跳動能使取景器圖像穩(wěn)定。另夕卜，通過抑制副鏡的跳動能夠較早地開始焦點檢測操作。日本特開平9-203972號公報公開了下述技術。主鏡I和主鏡保持框架2被移位到鏡下降狀態(tài)并且與處于觀察位置的主鏡接收構件29碰撞。當主鏡I和主鏡保持框架2與主鏡接收構件29碰撞時，慣性制動板21和主鏡接收構件29轉動。與慣性制動板21和主鏡接收構件29的轉動連動地，副鏡保持構件31轉動以進入副鏡11的跳動軌跡中。結果，副鏡保持構件31的副鏡保持部32與副鏡11接觸，從而減小副鏡11的跳動。

發(fā)明內容
利用日本特開平9-203972號公報中公開的技術，當主鏡I和主鏡保持框架2與主鏡接收構件29碰撞時，主鏡I和主鏡保持框架2的動量被傳遞到慣性制動板21和主鏡接收構件29。然而，在日本特開平9-203972號公報中，副鏡并不包括如為主鏡所設置的跳動抑制機構那樣的跳動抑制機構，并且僅限制副鏡的跳動范圍。另外，當調節(jié)鏡的鏡下降位置時，鏡跳動范圍被改變。本發(fā)明的實施方式提供一種相機，該相機包括鏡(mirror);鏡接觸構件，所述鏡能與所述鏡接觸構件接觸；以及跳動限制構件，其包括跳動限制部，當所述鏡從所述鏡接觸構件跳動時，所述鏡能與所述跳動限制部接觸，其中，所述鏡接觸構件被設置成能繞轉動中心轉動，所述鏡接觸構件包括第一偏心部和第二偏心部，所述第一偏心部相對于所述鏡接觸構件的所述轉動中心偏心，所述第二偏心部相對于所述鏡接觸構件的所述轉動中心以與所述第一偏心部的偏心量相同的偏心量偏心，當所述鏡被移位到鏡下降狀態(tài)時，所述鏡與所述第一偏心部接觸，所述跳動限制構件被布置成能繞所述第二偏心部轉動。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，能夠獲得包括如下鏡驅動機構的相機在該鏡驅動機構中，當調節(jié)鏡的鏡下降位置時，鏡跳動范圍不會被改變。從下面參照附圖對示例性實施方式的說明，本發(fā)明的其他特征將變得明顯。

圖I是示出根據(jù)本發(fā)明的實施方式的相機的整體構造的示意圖。圖2A至圖2C是用于說明鏡驅動機構的操作的說明圖。圖3是用于說明鏡驅動順序的圖。圖4是示出主鏡平衡器的構造和副鏡平衡器的構造的說明圖。圖5A和圖5B是用于說明主鏡平衡器的操作和副鏡平衡器的操作的說明圖。圖6是示出位于副鏡框架左側的副鏡平衡器機構的分解立體圖。圖7是用于說明位于副鏡框架左側的副鏡平衡器機構的操作的說明圖。
圖8A和圖SB是用于說明位于副鏡框架左側的副鏡平衡器機構的操作的說明圖。圖9是快門裝置的主視圖。圖IOA至圖IOC是示出鏡盒的詳細結構的說明圖。
具體實施例方式下面將參照

根據(jù)本發(fā)明的實施方式的相機。根據(jù)本實施方式的相機被實施為使用鹵化銀膠片的單鏡頭反光靜態(tài)相機或實施為使用CCD傳感器或MOS型固態(tài)攝像元件(image pickup element)的單鏡頭反光數(shù)字式相機。圖I是示出根據(jù)本實施方式的單鏡頭反光數(shù)字式相機的內部整體構造的示意圖。在圖I中，攝影透鏡10被可拆裝地安裝到數(shù)字式相機的主體。被攝體像被攝影透鏡10聚焦于成像面(image plane)。盡管未示出，攝影透鏡10由透鏡驅動器、曝光控制用的光圈葉片單元、用于驅動光圈葉片單元的光圈驅動器等構成。主鏡100被構成為半透半反鏡(half mirror)。當主鏡100處于鏡下降狀態(tài)時，主鏡100將由攝影透鏡10聚焦的被攝體像朝向調焦屏反射。此時，主鏡100允許被攝體像的一部分朝向副鏡200透過主鏡100。副鏡200朝向焦點檢測器11反射被攝體像(光)的已經(jīng)透過主鏡100的部分。主鏡100由鏡驅動機構(后面說明)驅動，使得主鏡100移位到鏡下降狀態(tài)或鏡上升狀態(tài)，其中在鏡下降狀態(tài)，主鏡100位于被攝體光束的光路中，從而將被攝體像導向調焦屏，在鏡上升狀態(tài)，主鏡100從被攝體光束的光路退避，從而將被攝體像導向攝像元件13。當主鏡100被鏡驅動機構(后面說明)驅動時,副鏡200與主鏡100連動地移位。更具體地，當主鏡100處于鏡下降狀態(tài)時，副鏡200將已經(jīng)透過主鏡100的光束導向(指向)焦點檢測器11。另一方面，當主鏡100處于鏡上升狀態(tài)時，副鏡200與主鏡100 —起從被攝體光束的光路退避。五棱鏡14在將聚焦于調焦屏的被攝體像轉換成正立正像之后反射該被攝體像。目鏡透鏡15將已經(jīng)被五棱鏡14轉換成正立正像并反射的被攝體像導向攝影者的眼睛。測光裝置16經(jīng)由五棱鏡14測量已經(jīng)被聚焦于調焦屏的被攝體像的亮度。根據(jù)測光裝置16的輸出信號進行曝光期間的曝光控制。焦點檢測器11檢測被攝體像的離焦量。根據(jù)焦點檢測器11的輸出信號控制攝影透鏡10用的透鏡驅動器，由此進行焦點調節(jié)。
快門裝置12機械地控制被攝體光束到成像面的入射。攝像元件13拍攝由攝影透鏡10聚焦的被攝體像并且將該被攝體像轉換成電信號。例如，CXD或MOS型二維攝像器件被用作攝像元件13。下面將說明根據(jù)本實施方式的數(shù)字式相機中的攝影操作。在開始攝影之前，使經(jīng)由攝影透鏡10入射的被攝體像處于攝影者能夠經(jīng)由目鏡透鏡15確認由主鏡100和五棱鏡14定向的被攝體像的狀態(tài)。此時，被攝體像的一部分經(jīng)由副鏡200入射到焦點檢測器11。當攝影者操作開關時，根據(jù)焦點檢測器11所檢測的被攝體距離信息驅動攝影透鏡10。以上述方式，能夠進行調焦。另外，測光裝置16測量被攝體亮度，由此確定透鏡光圈值和快門曝光時間。 當利用攝影者的釋放操作進行攝影時，主鏡100和副鏡200從攝影用光路向上退避并且快門裝置12的葉片打開，由此使被攝體像入射到攝像元件13。在經(jīng)過適當?shù)钠毓鈺r間之后，快門裝置12的葉片被操作以關閉圖像框架(image frame)的開口，并且主鏡100和副鏡200返回到攝影用光路中。由此完成攝影操作。下面將參照圖2A至圖2C說明鏡驅動機構的操作。圖2A示出釋放之前的待機狀態(tài)、即鏡下降和加載操作完成之后的狀態(tài)。安裝有鏡驅動機構的基板300包括嵌合主鏡100的轉軸101的孔以及主鏡100的驅動軸102轉動所沿著的弧形孔。用于沿向下方向對主鏡100施力的鏡下降彈簧IOOSp被保持為抵罪王軸100的驅動軸102。鏡桿310繞轉動中心3IOd轉動。下彎鉤桿340被安裝到鏡桿310。下彎鉤桿340繞轉動中心340a轉動。吸引桿370和分離桿360彼此成為一體并且兩者均繞分離桿360的轉動中心360a轉動。能被電磁體380吸引的吸引部380a被固定到吸引桿370的末端。電磁體380包括磁體、線圈和磁軛。在未通電的狀態(tài)下，吸引部380a通過磁力被保持為與磁軛緊密接觸。當線圈被通電時，磁力被消除，從而吸引部380a與磁軛分離。分離彈簧360Sp沿使吸引部380a與磁軛分離的方向對吸引部380a施力。換言之，分離彈簧360Sp沿使吸引桿370繞分離桿360的轉動中心360a向圖2A中觀察到的右方轉動的方向對吸引桿370施力。當吸引部380a被吸引到磁軛時，吸引部380a被比分離彈簧360Sp的施力大的力保持于磁軛。如圖2A所示，在釋放之前的待機狀態(tài)下，上彎鉤桿350與鏡桿310的接合部310a彼此接合。利用該接合，鏡桿310抵抗鏡上升彈簧310Sp的施力而被保持在圖2A所示的狀態(tài)。另外，在圖2A所示的狀態(tài)中，下彎鉤桿340和鏡驅動桿320的接合部320a彼此接合。下面將說明鏡上升操作。當根據(jù)釋放信號將脈沖供給到電磁體380時，固定有吸引部380a的吸引桿370以及與吸引桿370成為一體的分離桿360由于分離彈簧360Sp的彈簧力而繞分離桿360的轉動中心360a向左(逆時針)轉動。當分離桿360向左轉動時，分離桿360的輥360b與上彎鉤桿350的接觸部350b接觸，因此上彎鉤桿350繞轉動中心350a向左轉動。在上彎鉤桿350向左轉動的情況下，上彎鉤桿350與鏡桿310的接合部310a之間的接合被解除。當上彎鉤桿350與鏡桿310的接合部310a之間的接合被解除時，鏡桿310由于鏡上升彈簧310Sp的彈簧力而繞轉動中心310d向左轉動。此時，因為鏡驅動桿320的接合部320a與下彎鉤桿340接合，所以鏡驅動桿320繞鏡桿310的轉動中心310d向左轉動。在鏡驅動桿320向左轉動的情況下，鏡驅動桿320的凸輪部320b向上推主鏡的驅動軸102，由此進行鏡上升操作。鏡上升彈簧310Sp的彈簧力充分地大于鏡下降彈簧IOOSp的彈簧力。因此，能夠高速地進行鏡上升操作。圖2B示出鏡上升操作完成之后的狀態(tài)。操作傳感器330被固定到鏡驅動桿320，并且由包括光斷路器的上升開關(UPSff) 303檢測鏡上升操作的完成。鏡桿310包括吸引凸輪部310b。當鏡桿310向左轉動時，吸引凸輪部310b與分離桿360的輥360c接觸，由此使分離桿360抵抗分離彈簧360Sp的彈簧力而向右(順時針)、轉動。在分離桿360向右轉動的情況下，處于與電磁體380分離的狀態(tài)的吸引部380a再次被吸引到電磁體380。 另外，因為鏡驅動桿320的接合部320a與下彎鉤桿340接合，所以下彎鉤桿340與鏡桿310以及鏡驅動桿320 —起繞鏡桿310的轉動中心310d向左轉動。下彎鉤桿340的解除部340b移動到能夠與分離桿360的輥360b接觸的位置。在隨著鏡上升操作而產(chǎn)生的跳動結束之后，進行曝光操作，在曝光操作之后進程前進到鏡下降步驟。下面將說明鏡下降操作。當在圖2B的鏡上升狀態(tài)下將脈沖供給到電磁體380時，均與吸引部380a關聯(lián)的吸引桿370和分離桿360由于分離彈簧360Sp的彈簧力而向左(逆時針)轉動。當分離桿360向左轉動時，分離桿360的輥360b與下彎鉤桿340的解除部340b接觸，從而下彎鉤桿340繞轉動中心340a向右(順時針)轉動。在下彎鉤桿340向右轉動的情況下，下彎鉤桿340與鏡驅動桿320的接合部320a之間的接合被解除。當下彎鉤桿340與鏡驅動桿320的接合部320a之間的接合被解除時，導致鏡下降彈簧IOOSp的彈簧力作用于主鏡的驅動軸102。結果，鏡驅動桿320繞鏡桿310的轉動中心310d向右轉動。圖2C示出鏡下降操作完成之后的狀態(tài)。主鏡平衡器400被布置于鏡盒的基板300。當主鏡100與主鏡平衡器400接觸時，主鏡平衡器400抵抗主鏡平衡器彈簧400Sp的彈簧力而向右轉動，由此緩和隨著主鏡100的鏡下降操作而產(chǎn)生的沖擊。此外，主鏡平衡器400在向右轉動時碰撞位于主鏡平衡器400的前端處的緩沖部302，由此進一步緩和施加于主鏡平衡器400的沖擊。副鏡平衡器500被布置于鏡盒的基板300。當副鏡200與副鏡平衡器500接觸時，副鏡平衡器500抵抗副鏡平衡器彈簧500Sp (參見圖5A和圖6)的彈簧力而向右轉動，由此緩和隨著副鏡200的鏡下降操作而產(chǎn)生的沖擊。下面將說明鏡加載操作。在圖2C的狀態(tài)下，布置于鏡桿310的加載部的輥310c被加載桿(未示出)向左壓，由此鏡桿310抵抗鏡上升彈簧310Sp的彈簧力而繞鏡桿310的轉動中心310d向右轉動。在鏡桿310向右轉動的情況下，鏡桿310的吸引凸輪部310b與分離桿360的輥360c接觸，由此分離桿360抵抗分離彈簧360Sp的彈簧力而向右轉動。在分離桿360向右轉動的情況下，吸引桿370也向右轉動，從而處于分離狀態(tài)的吸引部380a再次被吸引到電磁體380。
當在圖2C的狀態(tài)下鏡桿310向右轉動時，下彎鉤桿340與鏡驅動桿320的接合部320a接合，并且上彎鉤桿350與鏡桿310的接合部310a接合。結果，完成鏡加載操作并且鏡驅動機構返回到圖2A的狀態(tài)。雖然在本實施方式中，如上所述，電磁體被用作開始鏡上升操作和鏡下降操作用的觸發(fā)器并且彈簧被用作鏡上升操作和鏡下降操作用的驅動源，但是，鏡驅動機構不限于上述配置。例如，電磁馬達、步進馬達或超聲馬達也可以用作鏡驅動機構中的驅動源。然而，當電磁馬達用于進行鏡操作時，操作開始時間由于例如馬達的慣性和溫度特性等而趨于變化。另外，需要減速機構并且在傳遞驅動力時產(chǎn)生機械延遲時間。因此，如上述實施方式那樣，在需要高速和高精度的鏡驅動機構中，采用電磁體作為觸發(fā)器并且使用彈簧力來進行鏡操作是恰當?shù)摹D3是說明根據(jù)本實施方式的相機的鏡驅動順序(sequence)的圖。在根據(jù)本實施方式的相機的鏡驅動順序中，如圖3所示，在完成鏡下降操作之前開始加載操作。因此， 即使在AF(自動調焦)和AE(自動曝光)用的算術運算期間，也能夠不管使鏡停止的精度而持續(xù)加載操作。另外，加載操作的變化不影響鏡操作速度以及AF和AE用的算術運算時間。這種變化對連續(xù)拍攝的影響也小。下面將參照圖4、圖5A和圖5B說明主鏡平衡器400和410的構造以及副鏡平衡器
500和510的構造。用于保持主鏡100的主鏡框架IOOa具有鉸接(hinge)軸部(轉軸)101，所述鉸接軸部101分別形成于主鏡框架IOOa的左右側并且用作轉動中心。用于使主鏡100轉動的驅動軸102形成于主鏡框架IOOa的一側。由與主鏡框架IOOa不同的構件形成的接觸板103和104相應地布置于主鏡100的左右末端。主鏡框架IOOa在很多情況下由諸如鋁或樹脂等輕質材料制成以減小慣性矩。如果接觸板103和104由與主鏡框架IOOa的材料相同的材料制成，則接觸板103和104的耐久性可能會劣化。因此，接觸板103和104由諸如不銹鋼等具有比主鏡框架IOOa的材料的強度高的強度的材料制成，或由具有沖擊吸收性能的橡膠構件形成。如圖4和圖5A所示，主鏡平衡器400布置于主鏡框架IOOa的左側(一側)。主鏡平衡器400包括用作轉動中心的軸部401、接觸軸402、主鏡角度調節(jié)部403以及平衡器配重404，該平衡器配重404由諸如黃銅等具有大質量的材料制成。如圖4和圖5B所示，主鏡平衡器410布置于主鏡框架IOOa的右側(另一側)。主鏡平衡器410包括用作轉動中心的軸部411、接觸軸412、主鏡角度調節(jié)部413以及平衡器配重414，該平衡器配重414由諸如黃銅等具有大質量的材料制成。在鏡下降狀態(tài)中，主鏡角度調節(jié)部403通過彈簧400Sp的彈簧力而與調節(jié)構件301接觸。另外，接觸軸402與主鏡100的接觸板103接觸的狀態(tài)由鏡下降彈簧IOOSp的彈簧力保持。類似地，在鏡下降狀態(tài)中，主鏡角度調節(jié)部413通過彈簧410Sp的彈簧力而與調節(jié)構件420接觸。另外，接觸軸412與主鏡100的接觸板104接觸的狀態(tài)由鏡下降彈簧IOOSp的彈黃力保持。調節(jié)構件301具有偏心軸。因此，通過利用工具使調節(jié)構件301轉動，主鏡平衡器400繞軸部401轉動，由此接觸軸402與主鏡100的接觸板103之間的接觸位置被改變。類似地，調節(jié)構件420具有偏心軸。因此，通過利用工具使調節(jié)構件420轉動，主鏡平衡器410繞軸部411轉動，由此接觸軸412與主鏡100的接觸板104之間的接觸位置
被改變。以所述方式，能夠調節(jié)主鏡框架IOOa繞鉸接軸部101的角度以及主鏡框架IOOa的在左右方向上的傾斜。副鏡200以能繞位于主鏡框架IOOa的側面的轉動中心轉動的方式由副鏡框架200a保持。接觸部201和202相應地形成于副鏡框架200a的左右側。如圖4和圖5A所示，副鏡平衡器500布置于副鏡框架200a的左側(一側)。副鏡平衡器500包括用作副鏡平衡器500用的轉動中心的軸部501、接觸軸502、調節(jié)部503以及副鏡鎖定桿504，該副鏡鎖定桿504設置有鎖定銷505。接觸軸502用作鏡接觸構件，副鏡鎖定桿504用作跳動限制構件，副鏡平衡器500用作轉動構件。在鏡下降狀態(tài)中，副鏡平衡器500的調節(jié)部503通過彈簧500Sp的彈簧力而與調節(jié)構件313接觸。彈簧500Sp用作施力構件。接觸軸502與副鏡框架200a的接觸部201 接觸的狀態(tài)由副鏡彈簧(未示出)的彈簧力保持。如圖4和圖5B所示，副鏡平衡器510布置于副鏡框架200a的右側(另一側)。副鏡平衡器510包括用作副鏡平衡器510用的轉動中心的軸部511、接觸軸512、調節(jié)部513以及副鏡鎖定桿514，該副鏡鎖定桿514設置有鎖定銷515。接觸軸512用作鏡接觸構件，副鏡鎖定桿514用作跳動限制構件，副鏡平衡器510用作轉動構件。在鏡下降狀態(tài)中，副鏡平衡器510的調節(jié)部513通過彈簧510Sp的彈簧力而與調節(jié)構件520接觸。彈簧510Sp用作施力構件。接觸軸512與副鏡框架200a的接觸部202接觸的狀態(tài)由副鏡彈簧(未示出)的施力保持。在圖4和圖5A所示的位于副鏡框架200a左側的平衡器機構中，與副鏡框架200a的接觸部201接觸的接觸軸502具有偏心軸。換言之，接觸軸502以能轉動的方式安裝到副鏡平衡器500，但是接觸軸502的轉動中心偏離接觸軸502的外周部502a(參見圖6)的中心。因此，特別地，外周部502a的距轉動中心的半徑(距離)以一側的最大半徑比相反側的最大半徑長的方式變化。因此，通過使接觸軸502相對于副鏡平衡器500轉動，接觸軸502的外周部502a與副鏡框架200a的接觸部201之間的接觸位置被改變。利用所述機構，能夠調節(jié)處于鏡下降狀態(tài)的副鏡200的角度。另外，副鏡鎖定桿504能相對于接觸軸502的圓筒部502b (參見圖6)轉動。如接觸軸502的外周部502a那樣，圓筒部502b相對于接觸軸502的轉動中心偏心。接觸軸502的外周部502a用作第一偏心部，接觸軸502的圓筒部502b用作第二偏心部。因此，即使當通過使接觸軸502相對于副鏡平衡器500轉動而調節(jié)副鏡200的角度時，副鏡200的跳動將要結束所處于的間隙的尺寸不改變。換言之，跳動限制范圍不根據(jù)副鏡200的鏡下降位置而改變。在圖4和圖5B所示的位于副鏡框架200a右側的平衡器機構中，與副鏡框架200a的接觸部202接觸的接觸軸512被形成為不能相對于副鏡平衡器510轉動的軸。調節(jié)構件520具有偏心圓筒部520a，偏心圓筒部520a相對于調節(jié)構件520的轉動中心偏心。副鏡平衡器510的調節(jié)部513與偏心圓筒部520a接觸。因此，通過使調節(jié)構件520轉動，副鏡平衡器510繞軸部511轉動，并且接觸軸512與副鏡框架200a的接觸部202之間的接觸位置被改變。利用所述機構，能夠調節(jié)處于鏡下降狀態(tài)的副鏡200的角度。另外，副鏡鎖定桿514能相對于接觸軸512轉動。因此，即使當通過使調節(jié)構件520轉動而改變接觸(定位)軸512與副鏡框架200a的接觸(定位)部202之間的接觸位置時，鎖定銷515與副鏡框架200a的接觸部202之間的間隙的尺寸也不改變。由此，即使當通過使調節(jié)構件520轉動而調節(jié)副鏡200的角度時，副鏡200的跳動將要結束所處于的間隙的尺寸也不改變。換言之，跳動狀態(tài)不根據(jù)副鏡200的鏡下降位置而改變。在本實施方式中，位于主鏡100和副鏡200左右側的平衡器機構的結構和形狀彼此不同。在本實施方式中位于副鏡框架200a右側的平衡器機構可以設置于副鏡框架200a的左側，并且在本實施方式中位于副鏡框架200a左側的平衡器機構可以設置于副鏡框架200a的右側。 另外，在本實施方式中，用作主鏡平衡器400的轉軸的軸部401和用作主鏡平衡器410的轉軸的軸部411以同軸的關系配置。換言之，主鏡平衡器400和主鏡平衡器410被配置為使得軸部401和軸部411被同軸地定位。用作副鏡平衡器500的轉軸的軸部501和用作副鏡平衡器510的轉軸的軸部511以同軸的關系配置。換言之，副鏡平衡器500和副鏡平衡器510被配置為使得軸部501和軸部511被同軸地定位。利用所述配置，較容易設計使得主鏡100左右側的主鏡平衡器400和410的慣性矩彼此相等的鏡驅動機構。還較容易設計使得左右側的副鏡平衡器500和510的慣性矩彼此相等的鏡驅動機構。而且，即使當使得主鏡100左右側的兩個主鏡平衡器的慣性矩彼此不同時，或者即使當使得副鏡200左右側的兩個副鏡平衡器的慣性矩彼此不同時，也能夠容易地確定慣性矩之間的差。圖6是示出圖4中的位于副鏡框架200a的左側的平衡器機構的細節(jié)的分解立體圖。接觸軸502包括與副鏡框架200a的接觸部201接觸的(偏心)外周部502a、以及插入并貫穿副鏡鎖定桿504的接合孔504a的(偏心)圓筒部502b。外周部502a相對于接觸軸502的轉動中心的偏心量基本上等于接觸軸502的圓筒部502b相對于接觸軸502的轉動中心的偏心量。因此，外周部502a的距轉動中心的半徑的變化與圓筒部502b的距轉動中心的半徑的變化基本上相同，使得外周部502a的距轉動中心的半徑最大的點與圓筒部502b的距轉動中心的半徑最大的點在轉動軸線的方向上排列。因此，在特別的實施方式中，外周部502a與圓筒部502b優(yōu)選地是同軸安裝的、直徑基本上相同的圓筒部，并且對于外周部502a和圓筒部502b而言，轉動中心與幾何中心的錯開量基本上相同。如圖6所示，副鏡鎖定桿504、墊圈W1、副鏡平衡器500以及墊圈W2被順次安裝到接觸軸502，并且接觸軸502的末端被彎邊(crimped)。因此，副鏡鎖定桿504被保持在接觸軸502和副鏡平衡器500之間。在該狀態(tài)下，接觸軸502的圓筒部502b與副鏡鎖定桿504的接合孔504a的內周面接觸。由于墊圈Wl被配置在副鏡鎖定桿504和副鏡平衡器500之間，所以副鏡鎖定桿504能繞圓筒部502b平滑地轉動。另外，由于如圖6中所觀察的那樣墊圈W2被配置在副鏡平衡器500的右側，所以，即使在接觸軸502的末端被彎邊之后，接觸軸502也能相對于副鏡平衡器500轉動。扭力螺旋彈簧500Sp被配置于副鏡平衡器500的軸部501，軸部501用作副鏡平衡器500的轉動中心。扭力螺旋彈簧500Sp的可動端被保持為抵靠固定到鎖定桿504的鎖定銷505，鎖定桿504能繞作為轉動中心的接觸軸502轉動。由此，通過扭力螺旋彈簧500Sp的彈簧力而對副鏡鎖定桿504施力。接觸軸502的末端被形成為有槽的形狀(參見例如圖7)。通過將諸如改錐等工具插入形成于接觸軸502的末端的槽中并且通過使接觸軸502轉動來調節(jié)副鏡200的角度。下面將參照圖7、圖8A和圖8B說明在圖4中位于副鏡框架200a左側的平衡器機構的操作。 如上所示，扭力螺旋彈簧500SP被布置于用作副鏡平衡器500的轉動中心的軸部501。扭力螺旋彈簧500Sp的固定端被保持為抵靠固定部(未示出)，并且扭力螺旋彈簧500Sp的可動端被保持為抵靠固定到鎖定桿504的鎖定銷505。扭力螺旋彈簧500SP的彈簧力由圖7中的力F表示。根據(jù)鎖定銷505與扭力螺旋彈簧500Sp的可動端之間的接觸角度，力F被分解成(解析成)與副鏡鎖定桿504的轉動方向垂直的方向上的分力Fl以及與分力Fl正交的方向上的分力F2。扭力螺旋彈簧500Sp被設為使得分力Fl比分力F2大，即Fl > F2，其中分力Fl作用為使副鏡平衡器500轉動的力，分力F2作用為使副鏡鎖定桿504轉動的力。分力Fl在副鏡框架200a的動能傳遞到副鏡平衡器500時提供負載。由此，即使當副鏡平衡器500的慣性矩不能被設定得太大時，副鏡框架200a的碰撞能量也能夠被扭力螺旋彈簧500Sp的彈簧力所提供的負載吸收。分力F2是施加于副鏡鎖定桿504的彈簧力。分力F2不僅用于在鎖定銷505與副鏡框架200a的接觸部201接觸時提供負載，而且還用于在副鏡框架200a的接觸部201在越過鎖定銷505之后從接觸軸502回彈時使副鏡鎖定桿504返回到回彈限制位置。圖8A示出完成鏡下降操作之前的狀態(tài)、即緊接在鎖定銷505與副鏡框架200a的接觸部201接觸之前的狀態(tài)。當接觸部201與鎖定銷505接觸時，鎖定銷505轉動，然后接觸部201與接觸軸502接觸。此時所產(chǎn)生的碰撞能量被轉換成用于使副鏡平衡器500轉動的能量，從而副鏡平衡器500如圖8B所示地轉動。鎖定銷505也與副鏡平衡器500 —起轉動使得在副鏡框架200a的接觸部201回彈時鎖定銷505 —直能實現(xiàn)回彈限制。如果副鏡平衡器500的外形尺寸增大，則可能發(fā)生與其他部件干涉的問題?？紤]到該問題，副鏡平衡器500形成為僅沿一個方向從用作副鏡平衡器500的轉動中心的軸部
501延伸到調節(jié)部503的細長形狀。由此，接觸軸502能有效地用作平衡器配重。換言之，在一個實施方式中，由接觸軸502與接觸部201之間的接觸點和調節(jié)部503與調節(jié)構件313之間的接觸點相對于副鏡平衡器500的轉動中心所形成的角度被設為不大于90°。當副鏡200向鏡下降狀態(tài)移位時，副鏡200在接近攝像面的方向上轉動。因此，副鏡平衡器500和510也在朝向攝像面的方向上移動。如圖I所示，快門裝置12被布置在攝像元件13的緊前方。由此，存在副鏡平衡器500和510在平衡操作中可能會與快門裝置12干涉的風險。圖9是快門裝置12的主視圖。如圖9所示，凹部12b和12c形成于布置在快門裝置12的被攝體側的板，由此允許副鏡平衡器500和510的移動。所述配置能夠增大由副鏡平衡器500和510所吸收的能量的量，并且能夠提供吸收副鏡200的跳動用的滿意機構。凹部12b和12c可以呈孔形狀，所述孔形狀即使在形成為與攝影用開口 12a連續(xù)時也能提供類似的有益效果。圖IOA至圖IOC是示出鏡盒的詳細結構的說明圖。圖IOA是鏡盒的主視立體圖，圖IOB是鏡盒的后視立體圖。圖IOC是示出圖9所示的快門裝置12被安裝到鏡盒的狀態(tài)的后視立體圖。圖2A至圖2C所示的鏡驅動機構被布置于鏡盒的兩側，并且鏡加載機構31和鏡加載馬達30被布置于鏡驅動機構的一側。 在本實施方式中，當從后側看相機時，鏡加載機構31和鏡加載馬達30關于光軸被布置在左側，并且快門裝置12和快門加載馬達20被布置于光軸的右側。下面將說明用于調節(jié)主鏡100和副鏡200的方法。對主鏡100的轉軸101進行定位，使得位于左側的轉軸101接合到形成于鏡驅動機構的基板300的孔中并且位于右側的轉軸101嵌合到調節(jié)板105 (參見圖10B)。能夠通過調節(jié)調節(jié)板105的位置來調節(jié)主鏡100的位于右側的轉軸101的位置。在上面的說明中，通過接觸軸402與主鏡100的接觸板103接觸以及通過接觸軸412與主鏡100的接觸板104接觸來確定主鏡100的在其轉動方向上的角度。然而，更精確地說，接觸軸402與主鏡100的接觸板103之間的接觸以及接觸軸412與主鏡100的接觸板104之間的接觸不同時發(fā)生。換言之，當主鏡100被移位到鏡下降狀態(tài)時，在建立接觸軸402與主鏡100的接觸板103之間的接觸和接觸軸412與主鏡100的接觸板104的接觸中的任一方時，尚未建立與另一方有關的接觸板和接觸軸之間的接觸并且在該接觸板和接觸軸之間仍留有間隙。更具體地，通過三個點處的接觸確定平面。在本實施方式中，主鏡100的在主鏡100被移位到鏡下降狀態(tài)時的平面通過以下三個點處的接觸確定該三個點由支承主鏡100的轉軸101的兩個軸承部、以及接觸軸402和接觸軸412中的一方提供。在本實施方式中，使主鏡100的接觸板103在較早定時與接觸軸402接觸，其中接觸板103被定位于左側，在左側不能進行主鏡100的轉軸101的位置的調節(jié)。之后，使主鏡100的接觸板104與接觸軸412接觸，其中接觸板104被定位于右側，在右側能夠根據(jù)調節(jié)板105的位置來進行主鏡100的轉軸101的位置的調節(jié)。利用所述配置，能夠以主鏡100的轉軸101被固定地保持的那側為基準來調節(jié)主鏡100的在主鏡100的轉動方向上的角度。如果以主鏡100的轉軸101可動的那側為基準來調節(jié)主鏡100的在主鏡100的轉動方向上的角度，這意味著以包括誤差的那側為基準來調節(jié)主鏡100在主鏡100的轉動方向上的角度。換言之，與主鏡100的轉軸101的位置有關的誤差影響主鏡100的在主鏡100的轉動方向上的角度。與上面的說明類似地，通過接觸軸502與副鏡框架200a的接觸部201接觸以及通過接觸軸512與副鏡框架200a的接觸部202接觸來確定副鏡200的在副鏡200的轉動方向上的角度。
然而，更精確地說，接觸軸502與副鏡框架200a的接觸部201之間的接觸以及接觸軸512與副鏡框架200a的接觸部202之間的接觸不同時發(fā)生。換言之，當副鏡200被移位到鏡下降狀態(tài)時，在建立接觸軸502與副鏡框架200a的接觸部201之間的接觸和接觸軸512與副鏡框架200a的接觸部202之間的接觸中的任一方時，尚未建立與另一方有關的接觸板和接觸軸之間的接觸并且在該接觸板和接觸軸之間仍留有間隙。在本實施方式中，副鏡200的在副鏡200被移位到鏡下降狀態(tài)時的平面通過以下三個點處的接觸確定該三個點由支承副鏡200的轉軸的兩個軸承部、以及接觸軸502和接觸軸512中的一方提供。在本實施方式中，接觸軸512與副鏡框架200a的接觸部202接觸，接觸部202和接觸軸512位于主鏡100的右側，在該右側，主鏡100的在其轉動方向上的角度沒有被固定地設定。另一方面，副鏡框架200a的接觸部201不與接觸軸502接觸，接觸部201與接觸軸502位于主鏡100的左側，在該左側，主鏡100的在其轉動方向上的角度被固定地設定。由此，在本實施方式中，當副鏡200被移位到鏡下降狀態(tài)時用于限定副鏡200的平 面的機構以及當主鏡100被移位到鏡下降狀態(tài)時用于限定主鏡100的平面的機構被定位成對角關系。在從主鏡100與位于左側的主鏡平衡器400接觸的定時到主鏡100與位于右側的主鏡平衡器410接觸的定時的時間段內，產(chǎn)生作用于主鏡100以使主鏡100傾斜的力。類似地，在從副鏡200與位于右側的副鏡平衡器510接觸的定時到副鏡200與位于左側的副鏡平衡器500接觸的定時的時間段內，產(chǎn)生作用于副鏡200以使副鏡200傾斜的力。然而，由于作用于主鏡100以使主鏡100傾斜的力以及作用于副鏡200以使副鏡200傾斜的力彼此方向相反，所以提高了主鏡100和副鏡200的定位精度。另外，在本實施方式中，主鏡100首先與位于左側的主鏡平衡器400接觸，然后與位于右側的主鏡平衡器410接觸。另一方面，副鏡200首先與位于右側的副鏡平衡器510接觸，然后與位于左側的副鏡平衡器500接觸。結果，主鏡100和副鏡200被移位到鏡下降狀態(tài)時所產(chǎn)生的沖擊能夠被分散到左側和右側，并且能夠在較短時間內結束沖擊。上面已經(jīng)結合實施方式詳細說明了本發(fā)明。已經(jīng)結合單鏡頭反光數(shù)字式相機說明了本發(fā)明的實施方式，其中例如在該單鏡頭反光數(shù)字式相機中鏡頭是可更換的，但是本發(fā)明還能夠被實施于以下結構相機主體和鏡頭彼此成為一體并且鏡頭是不能更換的。雖然已經(jīng)參照示例性實施方式說明了本發(fā)明，但是應當理解的是本發(fā)明不限于所公開的示例性實施方式。所附的權利要求書的范圍應符合最寬泛的解釋，從而涵蓋所有的變型、等同結構和功能。
權利要求
1.ー種相機,其包括 鏡; 鏡接觸構件，所述鏡能與所述鏡接觸構件接觸；以及 跳動限制構件，其包括跳動限制部，當所述鏡從所述鏡接觸構件跳動時，所述鏡能與所述跳動限制部接觸， 其中，所述鏡接觸構件被設置成能繞轉動中心轉動， 所述鏡接觸構件包括第一偏心部和第二偏心部，所述第一偏心部相對于所述鏡接觸構件的所述轉動中心偏心，所述第二偏心部相對于所述鏡接觸構件的所述轉動中心以與所述第一偏心部的偏心量相同的偏心量偏心， 當所述鏡被移位到鏡下降狀態(tài)時，所述鏡與所述第一偏心部接觸， 所述跳動限制構件被布置成能繞所述第二偏心部轉動。
2.根據(jù)權利要求I所述的相機，其特征在于，所述相機還包括 轉動構件，所述轉動構件被配置成當所述鏡與所述鏡接觸構件彼此接觸時，所述轉動構件轉動， 其中，所述鏡接觸構件和所述跳動限制構件以能轉動的方式設置于所述轉動構件。
3.根據(jù)權利要求2所述的相機，其特征在干，所述跳動限制構件被保持在所述鏡接觸構件和所述轉動構件之間。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的相機，其特征在于，所述相機還包括 施カ構件，所述施カ構件被配置成對所述轉動構件施力， 其中，所述施カ構件沿與當所述鏡與所述鏡接觸構件彼此接觸時所述轉動構件的轉動方向相反的方向對所述轉動構件施力， 所述施カ構件對所述跳動限制構件施力。
全文摘要
相機。該相機包括鏡接觸構件。鏡接觸構件包括第一偏心部和第二偏心部，第一偏心部相對于鏡接觸構件的轉動中心偏心，第二偏心部相對于鏡接觸構件的轉動中心以與第一偏心部的偏心量相同的偏心量偏心。當鏡被移位到鏡下降狀態(tài)時，鏡與第一偏心部接觸。跳動限制構件被布置成能繞第二偏心部轉動。
文檔編號G03B19/12GK102736372SQ201210102129
公開日2012年10月17日 申請日期2012年4月9日 優(yōu)先權日2011年4月8日
發(fā)明者清田真人 申請人:佳能株式會社