專利名稱：萘主鏈聚合物及含有該聚合物的抗反射硬掩模組合物以及材料層的圖案化方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及萘主鏈聚合物及含有該聚合物的抗反射硬掩模組合物以及材料層的圖案化方法。
背景技術(shù)：
可以將抗反射涂層(ARC)材料加入平版印刷操作過程中使用的成像層中，以將制造裝置過程中成像層與目標(biāo)材料層之間的反射率最小化。然而，當(dāng)加入ARC材料的成像層與目標(biāo)材料層具有相似的組成時(shí)，成像層會(huì)顯示出很差的蝕刻選擇性，使得在蝕刻目標(biāo)材料層的過程中部分成像層會(huì)損耗。因此，可以包括硬掩模作為中間層，該硬掩模設(shè)置在成像層和目標(biāo)材料層之間。硬掩模可以從上面的成像層接受圖案，并可被用于將圖案轉(zhuǎn)移至下面的材料層。然而，需要顯示抗反射性能的硬掩模材料。于2006年12月30日提交至韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的、發(fā)明名稱為“High Etch Resistant Hardmask Composition Having Antireflective Properties with High Carton Content and Method for Forming Patterned Material Layer Using the Same (具有高抗發(fā)射性和高碳含量的高抗蝕刻硬掩模組合物和使用該組合物形成圖案化材料層的方法)”的韓國專利申請(qǐng)No. 10-2006-0139169的全部內(nèi)容在此引入作為參考。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明提供萘主鏈聚合物及含有該聚合物的抗反射硬掩模組合物以及材料層的圖案化方法，這些基本上克服了由相關(guān)的技術(shù)的限制和缺點(diǎn)產(chǎn)生的一個(gè)或多個(gè)問題。因此，實(shí)施方式的一個(gè)特征提供了萘主鏈聚合物。因此，實(shí)施方式的另一個(gè)特征提供了含有該聚合物的抗反射硬掩模組合物。因此，實(shí)施方式的另一個(gè)特征提供了材料層的圖案化方法。通過提供由式B表示的萘主鏈聚合物來實(shí)現(xiàn)至少一個(gè)上述和其它特征及優(yōu)點(diǎn)
權(quán)利要求
1.一種萘主鏈聚合物，該聚合物由式B表示
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，其中，所述萘基為取代的，使得式B由式2表示
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚合物，其中R3、R4和も中的至少ー個(gè)為10個(gè)碳以下的烴基，且所述10個(gè)碳以下的烴基包括C1-Ciq 烷基、C6-Cltl芳基、或者烯丙基。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，其中，R1為
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，其中，所述聚合物的重均分子量為1000至30000。
6.ー種抗反射硬掩模組合物，該組合物含有 有機(jī)溶劑；引發(fā)劑；和由式B表示的聚合物
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物，其中，基于100重量份的所述有機(jī)溶劑，所述組合物含有1-30重量份的所述至少一種聚合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物，其中，所述組合物還含有交聯(lián)劑和催化劑，其中 所述組合物含有1-20重量％的所述至少一種聚合物，所述組合物含有0. 001-5重量％的所述引發(fā)劑， 所述組合物含有75-98. 8重量％的所述有機(jī)溶劑， 所述組合物含有0. 1-5重量％的所述交聯(lián)劑，且所述組合物含有0. 001-0. 05重量％的所述催化劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物，其中，所述組合物還含有交聯(lián)劑，其中所述交聯(lián)劑包括醚化的氨基樹脂、N-甲氧基甲基三聚氰胺樹脂、N- 丁氧基甲基三聚氰胺樹脂、甲基化的脲樹脂、丁基化的脲樹脂、甘脲衍生物、2，6-雙(羥甲基)_對(duì)甲酚化合物、或雙環(huán)氧化合物中的一種或幾種。
10.一種材料層的圖案化方法，該方法包括使用根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物在所述材料層上形成硬掩模層； 在所述硬掩模層上形成輻射敏感成像層；以形成圖案的方式將成像層暴露到輻射下，以在所述成像層中形成輻射曝光區(qū)域的圖案；選擇性地除去部分所述成像層和所述硬掩模層以暴露部分所述材料層；以及蝕刻通過所述硬掩模層中的開口暴露的部分材料層。
全文摘要
提供了萘主鏈聚合物和含有該萘主鏈聚合物的抗反射硬掩模組合物以及材料層的圖案化方法。所述硬掩模組合物含有有機(jī)溶劑、引發(fā)劑、和由式B表示的萘主鏈聚合物，這些在說明書中有描述。本發(fā)明的硬掩模組合物可以用于提供以很高的縱橫比圖案化的多層薄膜，并且可以將良好的圖像轉(zhuǎn)移至下層。另外，通過旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)可以很容易地施覆組合物。
文檔編號(hào)G03F7/09GK102432841SQ20111030644
公開日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2007年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月30日
發(fā)明者吳昌一, 尹敬皓, 李鎮(zhèn)國, 邢敬熙, 金旼秀, 金鐘涉, 魚東善 申請(qǐng)人:第一毛織株式會(huì)社