專利名稱：用于實現(xiàn)符合多重圖樣化技術(shù)的設(shè)計布局的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及集成電路領(lǐng)域，更具體地，涉及用于實現(xiàn)符合多重圖樣化技術(shù)的設(shè)計布局的方法和裝置。
背景技術(shù)：
集成電路(IC)技術(shù)被不斷地改進(jìn)。這種改進(jìn)通常涉及縮小器件的幾何尺寸來實現(xiàn)更低的制造成本、更高的器件集成密度、更快的速度以及更好的性能。光刻被頻繁用于形成集成電路器件的部件。通常，曝光工具使光穿過光掩?；驑?biāo)線或者將光聚集到晶片的光刻膠層上，使得光刻膠層在其中具有集成電路部件的圖像。通過曝光工具的最小間距印刷分辨率來限制具有小間隔的印刷器件圖樣。因此，實現(xiàn)雙重圖樣化技術(shù)(DPT)以隨著器件密度的增加而提高圖樣分辨率。DPT將圖樣布局分為兩個掩模，基本上將圖樣布局的一些特征(feature，也可稱作“部件”)分配給一個掩模以及將其他特征分配給另一掩模。然后， 兩個掩模都被用在于將圖樣布局轉(zhuǎn)印到晶片，增加了光刻限制。為了實現(xiàn)符合雙重圖樣化的圖樣布局，一種示例性DPT方法基于各種DPT規(guī)則為圖樣布局的每一個特征分配第一顏色或第二顏色。分配有第一顏色的特征被形成在第一掩模上，以及分配有第二顏色的特征被形成在第二掩模上。被實施以分解圖樣布局的DPT規(guī)則通常是復(fù)雜的，并且還觀察到所生成的圖樣布局仍然不符合DPT。一些DPT方法規(guī)定不允許縫合，這大大犧牲了布線靈活性。因此，盡管用于實現(xiàn)符合雙重圖樣化的圖樣布局的現(xiàn)有方法一般都足以用于它們所預(yù)期的目的，但隨著器件小型化的持續(xù)，它們不能在所有方面都令人滿意。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種方法，包括設(shè)置具有布線軌跡的布線柵格； 向布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種；將具有多個特征的圖樣布局應(yīng)用到布線柵格，其中，多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；應(yīng)用特征分裂約束以確定圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局；當(dāng)圖樣布局不是符合多重圖樣化的布局時，修改圖樣布局，直到實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局；以及當(dāng)圖樣布局是符合多重圖樣化的布局時，基于每個特征的對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模，其中，每個掩模都包括單種顏色的特征。其中，向布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種包括向在優(yōu)選方向上延伸的布線軌跡指定至少兩種顏色中的一種。其中，應(yīng)用特征分裂約束以確定圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局包括確定多個特征是否符合非分裂約束。其中多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在與優(yōu)選方向垂直的非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且確定多個特征是否符合非分裂約束包括識別包括在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的任何特征；確定是否有所識別的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，以及當(dāng)有所識別的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡時，將圖樣布局指定為不是符合多重圖樣化的布局。該方法還包括在將圖樣布局指定為不是符合多重圖樣化的布局之后修改圖樣布局，其中，修改包括重新設(shè)計圖樣布局。其中多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在與優(yōu)選方向垂直的非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且應(yīng)用特征分裂約束以確定圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局包括在優(yōu)選方向上不應(yīng)用特征分裂，以及在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂。其中，在優(yōu)選方向上不應(yīng)用特征分裂包括確定優(yōu)選方向上的特征之間的間隔是否等于或大于閾值；以及當(dāng)優(yōu)選方向上的特征之間的間隔小于閾值時，將圖樣布局指定為不是符合多重圖樣化的布局。其中，在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂包括確定是否有特征需要分裂。其中優(yōu)選布線軌跡指定有第一顏色和第二顏色，使得每隔一個優(yōu)選布線軌跡都為第一顏色或第二顏色；以及確定是否有特征需要分裂包括識別沒有占用奇數(shù)個布線軌跡的任何特征。該方法還包括對沒有占用奇數(shù)個布線軌跡的任何特征執(zhí)行接縫插入。此外，還提出了一種方法，包括設(shè)置具有在優(yōu)選方向上定向的布線軌跡的布線柵格，其中，布線軌跡的每一個都指定有至少兩種顏色中的一種；將具有多個特征的圖樣布局應(yīng)用至布線柵格，其中，多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；確定圖樣布局是否符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的第一特征分裂約束和應(yīng)用于與優(yōu)選方向垂直的非優(yōu)選方向上的第二特征分裂約束；以及當(dāng)圖樣布局符合第一特征分裂約束和第二特征分裂約束時，基于每個特征的對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模，其中，每個掩模都包括單種顏色的特征。其中多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且確定圖樣布局是否符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的第一特征分裂約束包括檢查任何特征之間在優(yōu)選方向上的間隔是否小于閾值；以及當(dāng)任何特征之間在優(yōu)選方向上的間隔小于閾值時，將圖樣布局指定為不符合第一特征分裂約
束ο該方法還包括當(dāng)任何特征之間在優(yōu)選方向上的間隔小于閾值時，修改圖樣布局， 直到其圖樣布局符合第一特征分裂約束。其中，多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且確定圖樣布局是否符合應(yīng)用于非優(yōu)選方向的第二特征分裂約束包括確定是否有具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，以及當(dāng)有具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡時，將圖樣布局指定為不符合第二特征分裂約束。該方法還包括當(dāng)有具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡時，修改圖樣布局，直到其符合第二特征分裂約束。
其中，修改圖樣布局包括對開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡的、具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的任何特征執(zhí)行接縫插入。其中，對開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡的、具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的任何特征執(zhí)行接縫插入包括確定對應(yīng)于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的布線軌跡的數(shù)量是否小于或等于布線軌跡制造閾值；當(dāng)對應(yīng)于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的布線軌跡的數(shù)量小于或等于布線軌跡制造閾值時，確定在非優(yōu)選方向上定向的特征部分是否為線或線末端；以及基于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分是否為線或線末端來確定最大接縫重疊長度MSOL。其中，確定在非優(yōu)選方向上定向的特征部分是否為線或線末端包括確定特征部分的寬度是否大于或等于線末端寬度閾值，其中，當(dāng)其大于或等于線末端寬度閾值時，在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線，而當(dāng)其小于線末端寬度閾值時，在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線末端。其中，基于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分是否為線或線末端來確定MSOL包括當(dāng)在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線末端時，將最大接縫重疊長度設(shè)置為MS0L = 3P-W/2-W/2-2L其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及L是線和線末端之間的最小間隔，以及當(dāng)在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線時，將最大接縫重疊長度設(shè)置為MSOL = 3P-W/2-W/2-2R其中，R是線之間的最小間隔，最小行進(jìn)間隔。其中，當(dāng)在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線末端時臨近在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的每個端部預(yù)留至少一個沒有特征的區(qū)域；以及確定MOSL包括將最大接縫重疊長度設(shè)置為MSOL = P+W/2+W/2其中，P是布線軌跡之間的最小間距，以及W是最小線寬度。其中，當(dāng)在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線末端且為包括在優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征的一部分，以使在非優(yōu)選方向上定向的特征部分延伸穿過在優(yōu)選方向上定向的特征部分時臨近在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的每個端部預(yù)留至少一個沒有特征的區(qū)域；以及確定MOSL包括將最大接縫重疊長度設(shè)置為MSOL = 5P-W/2-W/2-2L其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及L是線和線末端之間的最小間隔。其中，當(dāng)在非優(yōu)選方向上定向的特征部分為線且為包括在優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征的一部分，以使在非優(yōu)選方向上定向的特征部分延伸穿過在優(yōu)選方向上定向的特征部分時臨近在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的每個端部預(yù)留至少一個沒有特征的區(qū)域；以及確定MOSL包括將最大接縫重疊長度設(shè)置為MSOL = 5P-W/2-W/2-2R其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及R是線之間的最小間隔，最小行進(jìn)間隔。其中，修改圖樣布局包括重新設(shè)計圖樣布局。
其中，設(shè)置具有在優(yōu)選方向上定向的布線軌跡的布線柵格，其中，布線軌跡的每一個都指定有至少兩種顏色中的一種包括為在優(yōu)選方向上延伸的布線軌跡指定第一顏色和第二顏色中的一種，使得每隔一個布線軌跡都為第一顏色和第二顏色中的一種。其中多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且確定圖樣布局是否符合應(yīng)用于非優(yōu)選方向的第二特征分裂約束包括確定是否有具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征占用偶數(shù)個布線軌跡；以及對占用偶數(shù)個布線軌跡的、具有在非優(yōu)選方向上定向的特征部分的任何特征執(zhí)行接縫插入。該方法還包括臨近不對應(yīng)于至少一個布線軌跡的任何特征預(yù)留至少一個沒有特征的區(qū)域。其中，多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在非優(yōu)選方向上定向的特征部分或者二者；并且還包括臨近不是非最小寬度的任何特征部分預(yù)留至少一個沒有特征的區(qū)域。此外，還提出了一種裝置，包括計算機(jī)可讀介質(zhì)，存儲用于由至少一個計算機(jī)處理器執(zhí)行的多個指令，其中，指令用于設(shè)置具有布線軌跡的布線柵格；向布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種；將具有多個特征的圖樣布局應(yīng)用至布線柵格，其中，多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；應(yīng)用特征分裂約束以確定圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局；當(dāng)圖樣布局不是符合多重圖樣化的布局時，修改圖樣布局，直到實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局；以及當(dāng)圖樣布局是符合多重圖樣化的布局時，基于每個特征的對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模，其中，每個掩模都包括單種顏色的特征。


當(dāng)讀取符合時，根據(jù)以下詳細(xì)描述更好地理解本公開的各個方面。應(yīng)該強(qiáng)調(diào)的是， 根據(jù)工業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)實踐，各個部件沒有按比率繪制。實際上，為了討論的目的，可以任意增加或減小各個部件的尺寸。圖1是根據(jù)本公開各個方面的用于實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局的方法的流程圖。圖2至圖4示出了根據(jù)圖1的方法所估計的各種圖樣布局。圖5至圖8示出了根據(jù)圖1的方法的作為符合多重圖樣化的布局的各種圖樣布局。圖9至圖13示出了根據(jù)圖1的方法的作為符合多重圖樣化的布局的具有縫合插入的各種圖樣布局。圖14示出了根據(jù)圖1的方法的作為符合多重圖樣化的布局的圖樣布局。
具體實施例方式以下公開提供了用于實現(xiàn)各個實施例的不同特征的許多不同的實施例或?qū)嵗?。以下描述了組件和配置的具體實例以簡化本公開。當(dāng)然，它們僅僅是實例并且不是用于限制的目的。此外，本公開可以在各個實例中重復(fù)參考標(biāo)號和/或字母。這種重復(fù)時為了簡化和清楚的目的，并不是用于表示所討論的各個實施例和/或結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系。此外，以下描述中在第二部件上方或上形成第一部件可包括第一和第二部件被形成為直接接觸的實施例， 并且還包括可以在第一和第二部件之間形成附加部件的實施例，使得第一和第二部件可以不直接接觸。圖1是根據(jù)本公開各個方面的用于實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局的方法10的流程圖。方法10開始于塊12和14，提供具有布線軌跡的布線柵格以及對每一個布線軌跡指定至少兩個顏色中的一種。在所示實施例中，布線柵格包括在優(yōu)選方向上定向的布線軌跡。 布線柵格可包括在垂直于優(yōu)選方向的非優(yōu)選方向上定向的布線軌跡。在塊16中，具有多個特征的圖樣布局被應(yīng)用于布線柵格。多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的特征部分、在非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者在兩個方向上定向的特征部分。當(dāng)圖樣布局被應(yīng)用于布線柵格時，多個特征的每一個都對應(yīng)于至少一個布線軌跡。在一些情況下，特征可以為“偏離軌跡”或“偏離柵格”，例如，特征可以位于兩個布線軌跡之間，諸如在兩個優(yōu)選布線軌跡之間。在塊18中，將特征分裂約束(feature splitting constraint)應(yīng)用于圖樣布局， 以確定圖樣布局是否是多重圖樣化布局。特征分裂約束評估應(yīng)用于布線柵格的圖樣布局的特征，并且可以在優(yōu)選反向和/或非優(yōu)選方向上應(yīng)用。例如，應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束可以評估相同布線軌跡內(nèi)的特征之間在優(yōu)選方向上的間隔。在另一實例中，應(yīng)用于非優(yōu)選方向的特征分裂約束可以評估被圖樣布局的特征所占用的布線軌跡的開始和結(jié)束顏色， 以確定該特征是否表示分裂結(jié)果。在另一實例中，應(yīng)用于非優(yōu)選方向的特征分裂約束可以評估被圖樣布局的特征所占用的布線軌跡的數(shù)量，以確定該特征是否表示分裂結(jié)果。在一個實例中，特征分裂約束指明在優(yōu)選和/或非優(yōu)選方向上不允許分裂。在塊20中，如果圖樣布局不是符合多重圖樣化的布局，則通過修改圖樣布局來繼續(xù)方法10，直到實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局。在一個實例中，重新設(shè)計圖樣布局以實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局。在另一實例中，將縫合插入(stitch insertion)應(yīng)用于圖樣布局以實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局。是否重新設(shè)計圖樣布局或是否將縫合插入應(yīng)用于圖樣布局都可以取決于特征分裂約束。例如，特征分裂約束可以表明不允許分裂或縫合插入，在這種情況下將重新設(shè)計圖樣布局來實現(xiàn)不分裂。在塊22中，如果圖樣布局是符合多重圖樣化的布局，則多個特征的每一個都基于對應(yīng)于至少一個布線軌跡的每個特征的顏色來著色。例如，包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分的特征可對應(yīng)于指定為第一顏色的優(yōu)選布線軌跡，因此，該特征將被分配有第一顏色。包括在非優(yōu)選方向上定向的單個特征部分的特征可對應(yīng)于(換句話說，占用)多于一個的優(yōu)選布線軌跡，因此，該特征將根據(jù)特征的精確定向而被分配有單一顏色或者多重顏色。然后，以著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模。每個掩模都包括單一顏色的特征。 例如，如果著色圖樣布局的特征著有第一顏色和第二顏色中的一種顏色，則制造具有第一顏色的特征的第一掩模和具有第二顏色的特征的第二掩模。在方法10之前、期間和之后可以設(shè)置附加步驟，并且對于該方法的其他實施例，可以替代或取消所描述的一些步驟。以下討論示出了根據(jù)圖1的方法10的用于實現(xiàn)符合多重圖樣化的技術(shù)設(shè)計布局的各個實施例。圖2示出了根據(jù)圖1的方法10的作為符合多重圖樣化的布局的圖樣布局。在圖 2中，設(shè)置具有布線軌跡31、32、33、34、35、36和37的布線柵格30。布線軌跡31至37被定向為彼此平行，并且在優(yōu)選方向上(例如，垂直地)定向(或延伸)。垂直于優(yōu)選方向來定
8向非優(yōu)選方向，例如水平。布線軌跡31至37的每一個都可以表示用于集成電路器件的潛在布線路徑。在所示實施例中，布線軌跡31至37的每一個都分別與相鄰的布線軌跡31至 37隔開相等距離。例如，布線軌跡31與相鄰的布線軌跡32隔開距離d。距離d提供了充足的空間來放置特征(例如，集成電路器件的線)以及緊鄰該特征的任何所需間隔。更具體地，距離d可以表示(特征之間的)最小間隔規(guī)則加上(特征的)最小寬度規(guī)則。布線軌跡31至37的每一個都指定有一種顏色。例如，在所示實施例中，布線軌跡 31至37的每一個都指定有兩種顏色中(諸如顏色A和顏色B)的一種。從布線軌跡31開始，布線軌跡31至37的每一個都指定有顏色A或顏色B，使得兩個相鄰的布線軌跡不是相同的顏色。在所示實施例中，每隔一個布線軌跡都指定有相同顏色，布線軌跡31、33、35和 37指定有顏色A，布線軌跡32、34和36指定有顏色B?？蛇x地，根據(jù)圖樣布局將分裂(分解)為多少掩模，布線柵格30可以按三種顏色、四種顏色或任何其他數(shù)量的顏色進(jìn)行限定。 例如，如果圖樣布局將被分裂為三個掩模，則布線柵格30的布線軌跡31至37的每一個可以指定有三種顏色(顏色A、顏色B和顏色C)中的一種，使得布線軌跡31、34和37指定有顏色A，軌跡32和35指定有顏色B，以及布線軌跡33和36指定有顏色C。圖樣布局40被應(yīng)用于具有顏色限定的布線軌跡31至37的布線柵格30。圖樣布局40表示集成電路器件的一部分的布局。典型地，使用多重圖樣布局來制造集成電路器件，其中，每一個圖樣布局都限定集成電路器件的一層。在所示實施例中，為了簡化和清楚， 本文的實例是指單一圖樣布局。然而，本文所公開的方法10旨在利用集成電路器件的所有圖樣布局來實現(xiàn)。圖樣布局40可包括集成電路器件、金屬線、通孔連接、溝槽、其他集成電路元件或它們的組合的布局?？梢砸杂嬎銠C(jī)輔助設(shè)計(CAD)格式(諸如GDS格式)來設(shè)置圖樣布局(還被稱為設(shè)計布局)。在所示實施例中，圖樣布局40包括特征(或圖樣)41、42、 43、44、45、46和47。特征41至47可以為多晶硅柵極線、金屬線、觸點(diǎn)、溝槽、其他集成電路器件特征或它們的組合。圖樣布局40的特征41至47可以被成型為線、線末端、接觸孔、彎管形、T形、L形、Z形、其他適當(dāng)?shù)男螤罨蛘咚鼈兊慕M合。在所示實施例中，特征41至47均包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。換句話說，與布線軌跡31至37類似，每個特征都垂直延伸。可選地，特征41至47可包括多于一個的特征部分，并且特征41至47可包括在優(yōu)選方向、非優(yōu)選方向或兩個方向上定向的一個或多個特征部分。在所示實施例中，圖樣布局40相對于布線柵格30進(jìn)行布置，具體地，布線軌跡31 至37限定了形成圖樣布局40的各個特征41至47的位置。特征41至47的每一個都對應(yīng)于布線軌跡31至37的至少一個。例如，特征41和42在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡31。換句話說，特征41和42占用布線軌跡31?？紤]其他特征，特征43對應(yīng)于(占用) 布線軌跡32，特征44對應(yīng)于(占用)布線軌跡33，特征45對應(yīng)于(占用)布線軌跡34，以及特征46和47對應(yīng)于(占用)布線軌跡36。在目前的實例中，沒有特征對應(yīng)于布線軌跡 35和37。如以下將進(jìn)一步討論的，特征41至47可以基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來著色，從而提供著色的圖樣布局。在所示實施例中，由于特征41、42和44分別對應(yīng)于指定為顏色A軌跡的布線軌跡31和33，所以特征41、42和44著有顏色A。類似地，由于特征 43、45、46和47分別對應(yīng)于指定為顏色B軌跡的布線軌跡32、34和36，所以特征43、45、46 和47著有顏色B。然而，在對各個特征進(jìn)行著色之前，評估圖樣布局40以基于其對應(yīng)的布線軌跡確定其是否符合多重圖樣化。
更具體地，向圖樣布局40應(yīng)用特征分裂約束以確定該圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局。術(shù)語“符合多重圖樣化的布局”是指可以用于多重圖樣化技術(shù)分解的圖樣布局，指的是該圖樣布局可以被分解為多個(至少兩個)子圖樣，每一個子圖樣都形成在獨(dú)立的掩模上，使得在其上具有子圖樣的掩模可用于重新組合這些子圖樣來形成原始的圖樣布局，同時制造集成電路器件的一部分。在所示實施例中，特征分裂約束基于光刻系統(tǒng)的最小間隔/間距分辨率。對于給定的光刻系統(tǒng)，必須符合相鄰特征之間的最小間距或最小距離，以防止印刷圖樣布局的特征時的變形。最小間距可包括相鄰線之間的最小間隔、線末端之間的最小間隔、相鄰觸點(diǎn)的最小間距或者其他適當(dāng)?shù)拈g隔。在所示實施例中，最小間距/ 間隔被稱為GO間隔或者分裂閾值或分解標(biāo)準(zhǔn)，其限定了相同掩模內(nèi)相鄰特征之間的最小間隔。具有小于GO間隔的間距或間隔的相鄰特征彼此太靠近，在集成電路器件制造期間， 當(dāng)在光刻膠層上印刷時這種特征非常有可能變形。因此，這些特征需要分解為不同的掩模。 在所示實施例中，如果兩個相鄰特征的間隔小于給定的GO間隔(分裂閾值)，則它們具有分裂約束。參照圖2，在所示實施例中，特征分裂約束包括應(yīng)用于優(yōu)選方向的間隔約束以及應(yīng)用于非優(yōu)選方向的另一間隔約束。例如，在優(yōu)選方向上(換句話說，對相同布線軌跡內(nèi)的特征)應(yīng)用寬松的間隔/間距規(guī)則，以及在非優(yōu)選方向上(換句話說，對不同布線軌跡內(nèi)的特征)應(yīng)用嚴(yán)格的間隔/間距規(guī)則。假設(shè)GO間隔(最小間距/間隔)由χ表示，寬松的間隔 /間距規(guī)則可以將相同軌跡內(nèi)特征之間的最小間隔限定為大于或等于x(G0間隔)的一些值，而嚴(yán)格的間隔/間距規(guī)則可以將不同布線軌跡中特征之間的最小間隔限定為小于x(G0 間隔)的一些值。例如，作為符合多重圖樣化的布局，相同布線軌跡內(nèi)特征之間的間隔必須通過閾值大于或等于X，以及不同布線軌跡中特征之間的最小間隔可通過閾值小于χ。在一個實例中，寬松的間隔(相同布線軌跡內(nèi)特征之間的間隔)必須大于或等于X，嚴(yán)格的間隔 (不同布線軌跡內(nèi)特征之間的間隔)大約為0.4x。優(yōu)選和非優(yōu)選方向上的閾值可以為相同或不同的值。如上所述，特征41至47可以基于它們對應(yīng)的布線軌跡來著色，并且在所示實施例中，由于布線軌跡31至37在兩種顏色之間交替，所以特征41至47將在兩種顏色之間交替，使得相鄰布線軌跡中的兩個特征不會著有相同顏色，因此將不會形成在相同掩模中。 另一方面，相同軌跡內(nèi)的特征將著有相同顏色，因此將形成在相同的掩模中。因此，不同布線軌跡中特征之間的間隔可以小于指定的GO間隔，相同布線軌跡中特征之間的間隔需要大于或等于GO間隔，以確保相同布線軌跡(換句話說，相同掩模)內(nèi)的特征將不會變形。在所示實施例中，特征41至47之間的間隔符合間隔/間距規(guī)則，因此，圖樣布局 40被著色并分解為兩個掩模，其中顏色A特征形成在掩模A上，顏色B特征形成在掩模B 上。更具體地，在圖2中，特征41、42和44被指定為顏色A并形成在掩模A上，特征43、45、 46和47被指定為顏色B并形成在掩模B上。在掩模A和B上限定的特征41至47表示圖樣布局40。掩模A和B可用于在集成電路器件制造期間將圖樣布局40的圖像印刷到光刻膠層中。在圖2中，由于特征41至47均在優(yōu)選方向上定向并且特征41至47的每一個均占用單一布線軌跡，所以特征41至47都沒有表現(xiàn)出特征分解/分裂問題。換句話說，特征41至47的每一個都形成在掩模A或掩模B上而不是必須分解任何特征(其中，特征的一部分形成在掩模A上，特征的另一部分形成在掩模B上)。以下討論轉(zhuǎn)到表現(xiàn)特征分解/分裂問題的圖樣布局。將特征分裂約束應(yīng)用于圖樣布局以確定該圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局，這可以表明是否允許特征縫合。在一個實例中，特征分裂約束指明在優(yōu)選和 /或非優(yōu)選方向上不允許縫合，因此，要求任何特征分解的圖樣布局都不是符合多重圖樣化的布局。該特征分裂約束可以被稱為無縫合約束(圖幻。在這種情況下，具有任何特征要求分解的圖樣布局將需要進(jìn)行修改，直到其變?yōu)榉隙嘀貓D樣化的布局(換句話說，不要求縫合的圖樣布局)。在另一實例中，特征分裂約束指明在優(yōu)選和/或非優(yōu)選方向上允許縫合。在這種情況下，可通過將接縫插入任何要求分解的特征中來修改具有任何要求分解的特征的圖樣布局，使其變?yōu)榉隙嘀貓D樣化的布局。該特征分裂約束可以稱為縫合約束 (圖4)。在這些情況下(圖2至圖4)，特征分裂約束是基于被特征占用的布線軌跡的數(shù)量或者被特征占用的布線軌跡的開始和結(jié)束顏色。更具體地，如以下詳細(xì)描述的，對于圖樣布局中的每個特征，評估被特征占用的布線軌跡的數(shù)量或者被特征占用的布線軌跡的開始和結(jié)束顏色來確定該圖樣布局是否要求任何特征分解。圖3示出了根據(jù)圖1的方法10的不符合多重圖樣化的布局的圖樣布局。在圖3 中，提供具有限定顏色的布線軌跡31至37的布線柵格30，并且將圖樣布局50應(yīng)用于具有限定顏色的布線軌跡31至37的布線柵格30，使得圖樣布局的特征51至56對應(yīng)于布線軌跡31至37的至少一個。特征51至56可以為多晶硅柵極線、金屬線、觸點(diǎn)、溝槽、其他集成電路器件特征或它們的組合。圖樣布局50的特征51至56可以成型為線、線末端、接觸孔、 彎管形、T形、L形、Z形、其他合適的形狀或它們的組合。在所示實施例中，特征51在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡31，特征53在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡32，特征M 在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡33，以及特征56在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡36。特征52包括對應(yīng)于布線軌跡32和33的在非優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征55對應(yīng)于布線軌跡34至36。更具體地，特征55包括對應(yīng)于布線軌跡34的在優(yōu)選方向上定向的特征部分^A以及對應(yīng)于布線軌跡34、35和36的在非優(yōu)選方向上定向的特征部分 55B。在所示實施例中，特征分裂約束沒有指定對于符合多重圖樣化的布局的特征分裂。特征分裂約束基于被特征占用的布線軌跡的數(shù)量或者被特征占用的布線軌跡的開始和結(jié)束顏色來確定圖樣布局50是否要求任何特征分裂。例如，應(yīng)用于圖樣布局50的特征分裂約束指定允許在相同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束的特征(換句話說，這些特征不要求分裂)，以及不允許在不同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束的特征(換句話說，這些特征要求分裂)。參照圖3，由此通過評估特征的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色來確定圖樣布局50的特征51至56中的一個是否需要分裂。例如，特征51、53、54和56均占用單一顏色的單一布線軌跡，由此不要求分裂。特征55占用三個布線軌跡(布線軌跡34至36)，其中，開始布線軌跡34和結(jié)束布線軌跡36為相同的顏色(顏色B)。由于特征55在相同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束，所以特征55將不要求分裂來用于圖樣分解。相反，特征52占用兩個布線軌跡(布線軌跡32和33)，其中，開始布線軌跡32 (顏色B)和結(jié)束布線軌跡33 (顏色A) 為不同的顏色。這表明特征52將要求分裂來獲得符合多重圖樣化的布局。因此，由于應(yīng)用于圖3的圖樣布局50的特征分裂約束指定沒有分裂(或者沒有縫合)，所以圖樣布局50不能限定為符合多重圖樣化的布局。可以修改圖樣布局50直到其符合無分裂/縫合約束，從而實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局，并且圖樣布局50可以被分解為多于一個的掩模。
圖4示出了根據(jù)圖1的方法10的作為符合多重圖樣化的布局的圖樣布局。在圖 4中，提供具有限定顏色的布線軌跡31至37的布線柵格30，并且將圖樣布局60應(yīng)用于具有限定顏色的布線軌跡31至37的布線柵格30，使得圖樣布局60的特征61至65對應(yīng)于布線軌跡31至37的至少一個。特征61至65可以為多晶硅柵極線、金屬線、觸點(diǎn)、溝槽、其他集成電路器件特征或它們的組合。圖樣布局60的特征61至65可以成型為線、線末端、接觸孔、彎管形、T形、L形、Z形、其他合適的形狀或它們的組合。在所示實施例中，特征61和 62在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡31，以及特征63在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡32。特征64包括對應(yīng)于布線軌跡33的在優(yōu)選方向上定向的特征部分64A以及對應(yīng)于布線軌跡33、34和35的在非優(yōu)選方向上定向的特征部分64B。因此，特征64開始于布線軌跡33并結(jié)束于布線軌跡35。特征65包括特征部分65A、65B和65C。特征部分65A和65C 在優(yōu)選方向上定向并分別對應(yīng)于布線軌跡34和37。特征部分65B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡34、35、36和37。因此，特征部分65開始于布線軌跡34并結(jié)束于布線軌跡 37。在所示實施例中，特征分裂約束指定對于符合多重圖樣化的布局在非優(yōu)選方向上允許分裂的特征。類似于上面參照圖3描述的特征分裂約束，特征分裂約束基于被特征占用的布線軌跡的數(shù)量或者被特征占用的布線軌跡的開始和結(jié)束顏色來確定圖樣布局60是否要求任何特征分裂。例如，應(yīng)用于圖樣布局60的特征分裂約束指定在相同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束的特征不要求分裂，以及在不同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束的特征要求分裂。與上面參照圖3描述的特征分裂約束相反，在所示實施例中，在非優(yōu)選方向上允許特征分裂。參照圖4，由此通過評估特征的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色來確定圖樣布局60的特征61至65中的一個是否要求分裂。特征61、62和63均占用單一顏色的單一布線軌跡， 因此不要求分裂。特征64占用三個布線軌跡(布線軌跡33至35)，其中，開始軌跡33和結(jié)束軌跡35為相同顏色(顏色A)。由于特征64在相同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束，所以特征64將不要求用于圖像分解的分裂。相反，特征65占用四個布線軌跡(布線軌跡34 至37)，其中，開始布線軌跡34 (顏色B)和結(jié)束布線軌跡37 (顏色A)為不同的顏色。這表明特征65將要求分裂來獲得符合多重圖樣化的布局。由于應(yīng)用于圖4的圖樣布局60的特征分裂約束指定在非優(yōu)選方向上允許分裂，所以如果接縫被插入到特征要求分裂中，則圖樣布局60限定為符合多重圖樣化的布局?？赏ㄟ^在特征65的非優(yōu)選方向上定向的特征部分65B中插入接縫來修改圖樣布局60，從而實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局，并且圖樣布局60 可以被分解為多于一個的掩模。然后，基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡來對特征61至65進(jìn)行著色。由于特征61和 62對應(yīng)于布線軌跡31 (指定為顏色A軌跡)，所以特征61和62著有顏色A。由于特征63 對應(yīng)于布線軌跡32 (指定為顏色B軌跡)，所以特征63著有顏色B。由于特征64不要求分裂，所以其指定有其對應(yīng)的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色(顏色A)。如上所述，特征65在不同顏色的布線軌跡上開始和結(jié)束(開始于顏色B的布線軌跡34并結(jié)束于顏色A的布線軌跡37)，因此需要分裂。由于特征分裂約束指定在非優(yōu)選方向上允許分裂，所以特征65的一部分著有顏色B (其開始布線軌跡34的顏色)，而特征65的另一部分著有顏色A (其結(jié)束布線軌跡37的顏色)。更具體地，由于特征部分65A和65C分別對應(yīng)于布線軌跡34和37 (分別指定有顏色B和顏色A)，所以特征部分65A著有顏色B，特征部分65B著有顏色A。特征部分65B開始于顏色A的布線軌跡34并結(jié)束于顏色B的布線軌跡37，因此如圖4所示，特征部分65B著有兩種顏色A和B。特征部分65著有顏色A和顏色B的部分彼此重疊以合并接縫。然后，著色圖樣布局60被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在掩模A上，以及顏色B特征形成在掩模B上。更具體地，在圖4中，特征61、特征62、特征64以及特征65 的一部分被指定為顏色A并形成在掩模A上。特征63以及特征65的一部分被指定為顏色 B并形成在掩模B上。在掩模A和B上限定的特征61至65表示圖樣布局60。掩模A和B 可用于在集成電路器件制造期間將圖樣布局60的圖像印刷到光刻膠層中。參照圖3和圖4，不再關(guān)注特征的對應(yīng)開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，可以評估被每個特征所占用的布線軌跡的數(shù)量來快速地確定是否有任何圖樣特征需要分裂。例如，在圖 3和圖4中，在布線軌跡指定有兩種顏色中的一種的情況下，可以應(yīng)用規(guī)則來指定該特征可以占用奇數(shù)的布線軌跡而不是偶數(shù)的布線軌跡。例如，根據(jù)圖3和圖4，特征52和65占用偶數(shù)的布線軌跡(分別為兩個和四個)。這表示這些特征將要求分裂。另一方面，特征55 和64占用奇數(shù)的布線軌跡(三個)，表明這些特征將不要求分裂。特征51、53、M、56、61、 62和63占用奇數(shù)的布線軌跡(一個)，表明這些特征也不要求分裂。據(jù)此，在特征分裂約束表明無分裂的情況下，快速地確定圖樣布局50不是符合多重圖樣化的布局(因為特征 52占用偶數(shù)的布線軌跡)。另一方面，在特征分裂約束允許分裂的情況下，快速地確定圖樣布局60的哪些特征要求分裂和縫合(特征65需要分裂和縫合，因為其占用偶數(shù)的布線軌跡)。隨著指定給布線軌跡的顏色數(shù)量的增加，可以確定顏色的數(shù)量和分裂之間的關(guān)系，以在評估多重圖樣化符合時應(yīng)用于圖樣布局。圖5至圖8示出了基于各種特征分裂約束的根據(jù)圖1的方法10的作為符合多重圖樣化的布局的圖樣布局。參照圖5，特征分裂約束指定在優(yōu)選方向上不允許特征分裂。在圖 5中，設(shè)置具有布線軌跡101、102和103的布線柵格100。布線軌跡101至103被定向為彼此平行，并且在優(yōu)選方向上(例如，垂直地)被定向(或延伸)。非優(yōu)選方向垂直于優(yōu)選方向進(jìn)行定向，例如水平。布線軌跡101至103的每一個都可以表示集成電路器件的潛在路線路徑。在所示實施例中，布線軌跡101至103的每一個都分別與相鄰的布線軌跡101至 103隔開相等距離。通過(特征之間的)最小間隔規(guī)則加上(特征的)最小寬度規(guī)則，每個布線軌跡與每個相鄰的布線軌跡隔開一定距離。布線軌跡101至103的每一個都指定有一種顏色。例如，在所示實施例中，布線軌跡101至103的每一個都指定有兩種顏色中(諸如顏色A和顏色B)的一種。從布線軌跡101開始，布線軌跡101至103的每一個都指定有顏色A或顏色B，使得兩個相鄰的布線軌跡不是相同的顏色。在所示實施例中，每隔一個布線軌跡都指定有相同顏色，布線軌跡101和103指定有顏色A，以及布線軌跡102指定有顏色 B?？蛇x地，根據(jù)圖樣布局將分裂(分解)為多少掩模，布線柵格100可以限定有三種顏色、 四種顏色或任何其他數(shù)量的顏色。圖樣布局110被應(yīng)用于具有顏色限定的布線軌跡101至103的布線柵格100。圖樣布局110表示集成電路器件的一部分的布局。典型地，使用多重圖樣布局來制造集成電路器件，其中，每一個圖樣布局都限定集成電路器件的一層。在所示實施例中，為了簡化和清楚，本文的實例是指單一圖樣布局。然而，本文所公開的方法10旨在利用集成電路器件的所有圖樣布局來實現(xiàn)。圖樣布局110可包括集成電路器件、金屬線、通孔連接、溝槽、其他集成電路元件或它們的組合的布局?？梢砸杂嬎銠C(jī)輔助設(shè)計(CAD)格式(諸如GDS格式) 來設(shè)置圖樣布局(還被稱為設(shè)計布局)。在所示實施例中，圖樣布局110為一維布局，包括特征(或圖樣)111、112、113和114。特征111至114可以為多晶硅柵極線、金屬線、觸點(diǎn)、 溝槽、其他集成電路器件特征或它們的組合。圖樣布局110的特征111至114可以被成型為線、線末端、接觸孔、彎管形、T形、L形、Z形、其他適當(dāng)?shù)男螤罨蛘咚鼈兊慕M合。在所示實施例中，特征111至114均包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。換句話說，與布線軌跡 101至103類似，每個特征都垂直延伸?？蛇x地，特征111至114可包括多于一個的特征部分，并且特征111至114可包括在優(yōu)選方向、非優(yōu)選方向或兩個方向上定向的一個或多個特征部分。在所示實施例中，圖樣布局110相對于布線柵格100進(jìn)行布置，具體地，布線軌跡 101至103限定了形成圖樣布局110的各個特征111至114的位置。特征111至114的每一個都對應(yīng)于布線軌跡101至103的至少一個。例如，特征111在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡101，特征112和113對應(yīng)于布線軌跡102，以及特征114對應(yīng)于布線軌跡103。如上所述，在目前的實例中，特征分裂約束指定對于符合多重圖樣化的布局在優(yōu)選方向上不允許特征分裂。更具體地，特征分裂約束指定在特征之間的優(yōu)選方向上可以不是GO間隔。因此，評估圖樣布局110以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔-評估優(yōu)選方向上特征111至114之間的間隔以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔。 例如，在相同布線軌跡內(nèi)的特征112和113之間評估間隔S，其大于或等于目前實例中的GO 間隔。因此，圖樣布局110是符合多重圖樣化的，因為在優(yōu)選方向上不要求特征分裂。應(yīng)該注意，因為占用相鄰布線軌跡的特征將分配給不同掩模(兩個相鄰的布線軌跡不指定相同顏色)，所以在相鄰特征之間的非優(yōu)選方向上允許GO間隔。然后，基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征111至114進(jìn)行著色。分別與布線軌跡101和103(指定為顏色A軌跡)相對應(yīng)的特征111和114著有顏色A。特征112 和113與布線軌跡102(指定為顏色B軌跡)相對應(yīng)，所以特征112和113著有顏色B。著色的圖樣布局110可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩模可用于在集成電路器件制造期間將圖樣布局110的圖像印刷到光刻膠層中。參照圖6，特征分裂約束指定在優(yōu)選方向上不允許特征分裂。在圖6中，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡121至124的布線柵格120，并且向具有限定顏色的布線軌跡121至 124的布線柵格120應(yīng)用圖樣布局130，使得圖樣布局130的特征131至136對應(yīng)于布線軌跡121至124的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡121至124的布線柵格120類似于上述布線柵格，具有特征131至136的圖樣布局130類似于上述圖樣布局。在所示實施例中， 特征131在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡121，特征132和133在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡122，特征134和135在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡123，以及特征 136在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡124。在所示實施例中，特征分裂約束指定符合多重圖樣化的布局在優(yōu)選方向上不允許特征分裂。更具體地，特征分裂約束指定在特征之間的優(yōu)選方向上可以沒有GO間隔。因此， 評估圖樣布局130以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔-評估優(yōu)選方向上特征 131至136之間的間隔。例如，在相同布線軌跡122內(nèi)的特征132和133之間評估間隔S，以及在相同布線軌跡123內(nèi)的特征134和135之間評估間隔S。在所示實施例中，間隔特征132和133以及特征134和135大約或等于GO間隔。因此，圖樣布局130符合多重圖樣化。然后，基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征131至136進(jìn)行著色。特征 131與布線軌跡121 (指定為顏色A軌跡)相對應(yīng)，所以特征131著有顏色A。特征132和 133與布線軌跡122(指定為顏色B軌跡)相對應(yīng)，所以特征132和133著有顏色B。特征 134和135與布線軌跡123 (指定為顏色A軌跡)相對應(yīng)，所以特征134和135著有顏色A。 特征136與布線軌跡124(指定為顏色B軌跡)相對應(yīng)，所以特征136著有顏色B。著色的圖樣布局130可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩模可用于在集成電路器件制造期間將圖樣布局130的圖像印刷到光刻膠層中。參照圖7，特征分裂約束指定在優(yōu)選方向或非優(yōu)選方向上不允許特征分裂。在圖7 中，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡141至146的布線柵格140。向具有限定顏色的布線軌跡 141至146的布線柵格140應(yīng)用圖樣布局150，使得圖樣布局150的特征151至159對應(yīng)于布線軌跡141至146的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡141至146的布線柵格140類似于上述布線柵格，具有特征151至159的圖樣布局150類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，圖樣布局150是二維QD)圖樣布局，包括具有在優(yōu)選和非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征。在所示實施例在，特征151、152、153、154、155、156、157、158和159的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征151對應(yīng)于布線軌跡141，特征152對應(yīng)于布線軌跡142，特征153和155對應(yīng)于布線軌跡143，特征156對應(yīng)于布線軌跡144，特征 157和158對應(yīng)于布線軌跡145，以及特征159對應(yīng)于布線軌跡146。特征IM包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并且對應(yīng)于布線軌跡142、143和144。更具體地，特征部分154A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡142，特征部分154B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡142至144，以及特征部分154C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡 144。在所示實施例中，如上所述，特征分裂約束指定符合多重圖樣化的布局在優(yōu)選方向或非優(yōu)選方向上不允許特征分裂。更具體地，特征分裂約束指定(1)在特征之間的優(yōu)選方向上可以沒有GO間隔，以及(2)所有特征必須開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡(或者可選地，所有特征必須占用奇數(shù)的布線軌跡)。在優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估圖樣布局150的特征151至159之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔。例如，在相同布線軌跡142 內(nèi)的特征152和IM之間評估間隔S，在相同布線軌跡143內(nèi)的特征153和IM之間評估間隔S，在相同布線軌跡143內(nèi)的特征155和154之間評估間隔S，在相同布線軌跡144內(nèi)的特征IM和156之間評估間隔S，以及在相同布線軌跡145內(nèi)的特征157和158之間評估間隔S。在所示實施例中，特征之間(152/154、153/154、154/155、154/156和157/158)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局150符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束ο在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征151至159的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。特征151、152、153、155、156、157、158和159都占用單一顏色的單個布線軌跡，因此這些特征不要求分裂。特征154占用三個布線軌跡 (布線軌跡142至144)，其中，開始布線軌跡142和結(jié)束布線軌跡144為相同的顏色(顏色 B)。由于特征IM開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡，所以特征1 將不要求分裂以進(jìn)行圖像分解。因此，所有特征151至159開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡，表明在圖樣分解中不要求特征分裂?？蛇x地，如上所述，在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分離約束可以涉及評估被特征151至159的每一個所占用的布線軌跡的數(shù)量。在所示實施例中，特征151、152、153、 155、156、157、158和159均占用單個布線軌跡，以及特征154占用三個布線軌跡。因此，所有特征151至159都占用奇數(shù)的布線軌跡，表明在圖樣分解中不要求特征分裂。因此，圖樣布局150符合應(yīng)用于非優(yōu)選方向的特征分裂約束。應(yīng)該注意，因為占用相鄰布線軌跡的特征將分配給不同的掩模(由于兩個相同的布線軌跡將不會指定相同顏色)，所以在相鄰特征之間的非優(yōu)選方向上允許有GO間隔。由于圖樣布局150符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，所以特征151 至159基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡來著色。特征151與布線軌跡141 (指定為顏色A軌跡)相對應(yīng)，所以特征151著有顏色A。特征152與布線軌跡142(指定為顏色B軌跡)相對應(yīng)，所以特征152著有顏色B。特征153和155與布線軌跡143(指定為顏色A軌跡)相對應(yīng)，所以特征153和155著有顏色A。特征IM不要求分裂，所以其指定有其對應(yīng)開始 (142)和結(jié)束(144)布線路徑的顏色(顏色B)。特征156與布線軌跡144(指定為顏色B 軌跡)相對應(yīng)，所以特征156著有顏色B。特征157和158與布線軌跡145(指定為顏色A 軌跡)相對應(yīng)，所以特征157和158著有顏色A。特征159與布線軌跡146(指定為顏色B 軌跡)相對應(yīng)，所以特征159著有顏色B。然后，著色的圖樣布局150可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩?？捎糜谠诩呻娐菲骷圃炱陂g將圖樣布局150的圖像印刷到光刻膠層中。參照圖8，特征分裂約束指定在優(yōu)選方向上不允許特征分裂以及在非優(yōu)選方向上允許特征分裂。在圖8中，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡161至169的布線柵格160。向具有限定顏色的布線軌跡161至169的布線柵格160應(yīng)用圖樣布局170，使得圖樣布局170的特征171至184對應(yīng)于布線軌跡161至169的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡161至 169的布線柵格160類似于上述布線柵格，具有特征171至184的圖樣布局170類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，圖樣布局170是二維QD)圖樣布局，包括具有在優(yōu)選和非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特征。在所示實施例中，特征171、172、173、174、176、177、178、 179、180、181、183和184的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征171對應(yīng)于布線軌跡161，特征172對應(yīng)于布線軌跡162，特征173和174對應(yīng)于布線軌跡163，特征176對應(yīng)于布線軌跡164，特征177對應(yīng)于布線軌跡165，特征178和179對應(yīng)于布線軌跡166，特征180和181對應(yīng)于布線軌跡167，特征183對應(yīng)于布線軌跡168，以及特征184 對應(yīng)于布線軌跡169。特征175包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡162、163和164。更具體地，特征部分175A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡 162，特征部分175B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡162至164，以及特征部分175C 在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡164。特征182包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡165、166、167和168。更具體地，特征部分182A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡165，特征部分182B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡165至168，以及特征部分182C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡168。在所示實施例中，如上所述，特征分裂約束指定符合多重圖樣化的布局在優(yōu)選方向上不允許特征分裂并且在非優(yōu)選方向上允許特征分裂。更具體地，特征分離約束指定(1) 在特征之間的優(yōu)選方向上可以沒有GO間隔，以及(2)開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡的特征(或者可選地，占用奇數(shù)的布線軌跡的特征)不要求分裂，以及開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡的特征(或者可選地，占用偶數(shù)的布線軌跡的特征)要求分裂。盡管特征分離約束表明在非優(yōu)選方向上允許特征分裂，但如果圖樣布局要求特征分裂，則其不是符合多重圖樣化的布局，直到任何所要求的接縫插入被應(yīng)用于圖樣布局時。使用在優(yōu)選方向上應(yīng)用的特征分裂約束，評估圖樣布局170的特征171至184之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔。例如，在相同布線軌跡162內(nèi)的特征172和175之間評估間隔S，在相同布線軌跡163內(nèi)的特征173和175 之間評估間隔S，在相同布線軌跡163內(nèi)的特征174和175之間評估間隔S，在相同布線軌跡164內(nèi)的特征175和176之間評估間隔S，在相同布線軌跡165內(nèi)的特征177和182之間評估間隔S，在相同布線軌跡166內(nèi)的特征178和182之間評估間隔S，在相同布線軌跡 166內(nèi)的特征179和182之間評估間隔S，在相同布線軌跡167內(nèi)的特征180和182之間評估間隔S，在相同布線軌跡167內(nèi)的特征181和182之間評估間隔S，以及在相同布線軌跡 168內(nèi)的特征182和183之間評估間隔S。在所示實施例中，特征之間(172/175、173/175、 174/175、175/176、177/182、178/182、179/182、180/182、181/182 和 182/183)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局170符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征171至184的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。特征171、172、173、174、176、177、178、179、 180、181、183和184均占用單一顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征 175占用三個布線軌跡(布線軌跡162至164)，其中，開始布線軌跡162和結(jié)束布線軌跡164 為相同的顏色(顏色B)。由于特征175開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡，所以特征175 將不要求分裂以進(jìn)行圖像分解。相反，特征182占用四個布線軌跡(布線軌跡165至168)， 其中，開始布線軌跡165和結(jié)束布線軌跡168分別為不同的顏色(顏色A和顏色B)。由于特征182開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，所以特征183將要求分裂以進(jìn)行圖樣分解?？蛇x地，如上所述，在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分離約束可以涉及評估被特征171至184的每一個所占用的布線軌跡的數(shù)量。在所示實施例中，特征171、172、173、174、176、177、178、179、 180、181、183和184均占用單個布線軌跡，特征175占用三個布線軌跡，特征182占用四個布線軌跡。因此，可以快速地確定只有占用偶數(shù)個布線軌跡的特征182要求分裂。由于特征182要求分裂，所以圖樣布局150不是符合多重圖樣化的布局。然而，由于應(yīng)用于非優(yōu)選方向的特征分裂約束允許分裂，所以向特征182接縫插入，使得圖樣布局150變?yōu)榉隙嘀貓D樣化的布局。在所示實施例中，向在非優(yōu)選方向上定向的特征182的特征部分182B應(yīng)用接縫插入。例如，向特征部分182B應(yīng)用奇數(shù)的接縫。這可以涉及延伸將分配有顏色A的特征部分182B的部分或者將分配有顏色B的特征部分182B的部分，使得相對于特征182在圖樣布局170中存在重疊區(qū)域。因此，圖樣布局170符合應(yīng)用于非優(yōu)選方向的特征分裂約束。應(yīng)該注意，由于占用相鄰布線軌跡的特征將分配給不同掩模(由于兩個相鄰的布線軌跡不會指定相同的顏色)，所以在相鄰特征之間的非優(yōu)選方向上允許GO間隔。
一旦將接縫插入應(yīng)用于圖樣布局170以使圖樣布局170符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，就基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡來對特征171至184進(jìn)行著色。 特征171對應(yīng)于布線軌跡161 (指定為顏色A軌跡)，所以特征171著有顏色A。特征172 對應(yīng)于布線軌跡162 (指定為顏色B軌跡)，所以特征172著有顏色B。特征173和174對應(yīng)于布線軌跡163 (指定為顏色A軌跡)，所以特征173和174著有顏色A。特征176對應(yīng)于布線軌跡164 (指定為顏色B軌跡)，所以特征176著有顏色B。特征177對應(yīng)于布線軌跡165 (指定為顏色A軌跡)，所以特征177著有顏色A。特征178和179對應(yīng)于布線軌跡 166(指定為顏色B軌跡)，所以特征178和179著有顏色B。特征180和181對應(yīng)于布線軌跡167 (指定為顏色A軌跡)，所以特征180和181著有顏色A。特征183對應(yīng)于布線軌跡168 (指定為顏色B軌跡)，所以特征183著有顏色B。特征184對應(yīng)于布線軌跡169 (指定為顏色A軌跡)，所以特征184著有顏色A。特征175不要求分裂，所以其指定有其對應(yīng)的開始(162)和結(jié)束(164)布線軌跡的顏色。相反，特征182開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡(開始于顏色A布線軌跡165以及結(jié)束于顏色B布線軌跡168)，因此要求分裂。特征182的一部分著有顏色A (其開始布線軌跡165的顏色)，以及特征182的另一部分著有顏色B (其結(jié)束布線路徑168的顏色)。更具體地，由于特征部分182A和182C分別對應(yīng)于布線軌跡165和168 (分別指定為顏色A和顏色B)，所以特征部分182A著有顏色A，以及特征部分182C著有顏色B。特征部分182B開始于顏色A的布線軌跡165且結(jié)束于顏色B的布線軌跡168，因此如圖8所示，特征部分182B著有顏色A和B。特征部分182B著有顏色A 和顏色B的部分彼此重疊以合并接縫。然后，著色的圖樣布局170可以被分解為兩個掩模， 其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩?？捎糜谠诩呻娐菲骷圃炱陂g將圖樣布局170的圖像印刷在光刻膠層中。圖9至圖13示出了根據(jù)圖1的方法10的作為符合多重圖樣化的布局的具有接縫插入的圖樣布局。在圖9至圖13中，應(yīng)用于圖樣布局的特征分裂約束類似于應(yīng)用于圖8的圖樣布局170的特征分裂約束。更具體地，應(yīng)用于圖9至圖13的圖樣布局的特征分裂約束指明對于符合多重圖樣化的布局在優(yōu)選方向上不允許特征分裂以及在非優(yōu)選方向上允許特征分裂。更具體地，特征分裂約束指定(1)在特征之間的優(yōu)選方向上可以沒有GO間隔， 以及O)開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡的特征(或者可選地，占用奇數(shù)的布線軌跡的特征)不要求分裂，以及開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡的特征(或者可選地，占用偶數(shù)的布線軌跡的特征)要求分裂。在圖9至圖13中，所要求的接縫插入應(yīng)用于在圖樣布局中要求分裂的特征，以實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局。根據(jù)在將接收接縫插入的非優(yōu)選方向上定向的特征部分的特性，圖9至圖13的每一個都提供了可對接縫插入實施的各種縫合方法(參數(shù))。典型地，具有用于制造的充足重疊長度的接縫插入是否可被插入到在非優(yōu)選方向上定向的特征部分取決于制造能力。在所示實施例中，具體地在圖9至圖13中，具有用于制造的充足重疊長度的接縫插入可以被容易地插入到對應(yīng)于多于兩個的布線軌跡的在非優(yōu)選方向上定向的特征部分(換句話說，“長嚙合(jog)”)。例如，接縫插入可被放置在具有用于制造的充足接縫重疊長度的長嚙合的中心。相反，對應(yīng)于兩個或更少布線軌跡的在非優(yōu)選方向上定向的特征部分(換句話說，“小嚙合”)有時候表現(xiàn)出很難提供具有用于制造的充足重疊長度的接縫插入。因此，可以設(shè)置布線軌跡制造閾值，用于限定在非優(yōu)選方向上定向的特征的多個布線軌跡必須對應(yīng)，以確保用于制造的充足的接縫插入重疊長度。在所示實施例中，布線軌跡制造閾值表明占用(對應(yīng)于)兩個或更少布線軌跡的在非優(yōu)選方向上定向的特征部分將表現(xiàn)出很難提供具有用于制造的充足重疊長度的接縫插入。因此，圖9至圖13提供了可以對“小嚙合”中的接縫插入實施的各種縫合方法(參數(shù))，換句話說，在非優(yōu)選方向上定向的特征部分對應(yīng)于小于或等于布線軌跡制造閾值(這里為兩個以下的布線軌跡)的多個布線軌跡。參照圖9，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡201至204的布線柵格200。向具有限定顏色的布線軌跡201至204的布線柵格200應(yīng)用圖樣布局210，使得圖樣布局210的特征 211至215對應(yīng)于布線軌跡201至204的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡201至204 的布線柵格200類似于上述布線柵格，以及具有特征211至215的圖樣布局210類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，特征211、213、214和215的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征211對應(yīng)于布線軌跡201，特征213對應(yīng)于布線軌跡202，特征214 對應(yīng)于布線軌跡203，特征215應(yīng)于布線軌跡204。特征212包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡202和203。更具體地，特征部分212A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡202，特征部分212B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡202至 203，以及特征部分212C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡204。在優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估圖樣布局210的特征211至215之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔。在所示實施例中，特征之間012/213和212/214)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局210符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征211至215 的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。特征211、213、214 和215均占用單種顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征212占用兩個布線軌跡(布線軌跡202至203)，其中，開始布線軌跡202和結(jié)束布線軌跡203為不同的顏色(分別為顏色A和顏色B)。由于特征212開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，所以特征212將要求分裂以進(jìn)行圖樣分解。在所示實施例中，向在非優(yōu)選方向上定向的特征212 的特征部分212B應(yīng)用接縫插入SA。由于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分212B(也被稱為嚙合)僅占用兩個布線軌跡(換句話說，占用小于或等于布線軌跡制造閾值的多個布線軌跡)，所以SA的重疊長度被限制。特征部分212B還是被限定為相對較薄圖樣的端部的線末端，其中，線末端被限定為其線寬度小于線末端寬度閾值D的線。在所示實施例中，線末端寬度閾值D大約為54mm，特征部分212小于D，因此被指定為線末端。因此，SA的最大重疊長度小于或等于最大接縫重疊長度=3P-W/2-W/2-2L其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及L是線和線末端之間的最小間隔。在一個實例中，最小布線間距P大約為66nm，最小線寬度W大約為34nm，以及線和線末端之間的最小間隔L大約為78nm。因此，最大接縫重疊長度大約為8nm。向所示實施例應(yīng)用最大接縫重疊長度，因此接縫重疊長度可以約為Onm至約8nm。一旦將接縫插入應(yīng)用于圖樣布局210使得圖樣布局210符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，就基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征211至215進(jìn)行著色。特征211對應(yīng)于布線軌跡201(指定為顏色A軌跡)，所以特征211著有顏色A。特征213對應(yīng)于布線軌跡202 (指定為顏色B軌跡)，所以特征213著有顏色B。特征214對應(yīng)于布線軌跡203 (指定為顏色A軌跡)，所以特征214著有顏色A。特征215對應(yīng)于布線軌跡204(指定為顏色B軌跡)，所以特征215著有顏色B。特征212開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡(開始于顏色B布線軌跡202以及結(jié)束于顏色A布線軌跡203)。特征212的一部分著有顏色B (其開始布線軌跡202的顏色)，以及特征212的另一部分著有顏色A (其結(jié)束布線路徑203的顏色)。更具體地，由于特征部分212A對應(yīng)于布線軌跡202 (指定為顏色 B軌跡)且212C對應(yīng)于布線軌跡203 (指定為顏色A軌跡)，所以特征部分212A和212C分別著有顏色B和顏色A。特征部分212B開始于顏色B的布線軌跡202且結(jié)束于顏色A的布線軌跡203，因此如圖9所示，特征部分212B著有顏色A和B。如上所述，特征部分212B著有顏色A和顏色B的部分彼此重疊以合并接縫。然后，著色的圖樣布局210可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩模可用于在集成電路器件制造期間將圖樣布局210的圖像印刷在光刻膠層中。參照圖10，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡221至224的布線柵格220。向具有限定顏色的布線軌跡221至2M的布線柵格220應(yīng)用圖樣布局230，使得圖樣布局230的特征 231至235對應(yīng)于布線軌跡221至224的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡221至224 的布線柵格220類似于上述布線柵格，以及具有特征231至235的圖樣布局230類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，特征231、233、234和235的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征231對應(yīng)于布線軌跡221，特征233對應(yīng)于布線軌跡222，特征234 對應(yīng)于布線軌跡223，以及特征235對應(yīng)于布線軌跡224。特征232包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡222和223。更具體地，特征部分232A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡222，特征部分232B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡 222至223，以及特征部分232C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡224。在優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估圖樣布局230的特征231至235之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO。在所示實施例中，特征之間 (232/233和232/234)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局230符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征231至235的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。特征231、233、234和 235均占用單一顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征232占用兩個布線軌跡(布線軌跡222至223)，其中，開始布線軌跡222和結(jié)束布線軌跡223為不同的顏色(分別為顏色B和顏色A)。由于特征232開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，所以特征 232將要求分裂以進(jìn)行圖樣分解。在所示實施例中，向在非優(yōu)選方向上定向的特征232的特征部分232B應(yīng)用接縫插入SA。由于在非優(yōu)選方向上定向的特征232僅占用兩個布線軌跡 (換句話說，占用小于或等于布線軌跡制造閾值的多個布線軌跡)，所以SA的重疊長度被限制。此外，特征部分232B的寬度大于或等于線末端寬度閾值D，所以特征部分232B被稱為 “粗嚙合(fat jog)，，(或“小粗嚙合”，因為特征232還占用小于或等于布線軌跡制造閾值的多個布線軌跡)。因此，接縫插入的重疊寬度可以大于允許用于接收接縫插入(諸如圖9 中的特征部分212B)的最小寬度特征部分(指定為具有小于線末端寬度閾值的寬度的線末端的特征部分)的重疊長度。例如，在所示實施例中，SA的最大重疊長度小于或等于最大接縫重疊長度=3P-W/2-W/2-2R
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其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及R是最小行進(jìn) (run-run)間隔(兩個非線末端圖樣(線)之間的間隔)，其通常大于上述線和線末端之間的最小間隔。在一個實例中，最小布線間距P大約為66nm，最小線寬度W大約為34nm，以及最小行進(jìn)間隔R大約為60nm，以及D大于或等于約5^m。因此，最大接縫重疊長度大約為 44nm。向所示實施例應(yīng)用最大接縫重疊長度，因此接縫重疊長度可以約為Onm至約44nm。一旦將接縫插入應(yīng)用于圖樣布局230以使圖樣布局230符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，就基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征231至235進(jìn)行著色。如圖10所示，特征232至235與上面參照圖9描述的特征211至215類似地進(jìn)行著色。 然后，著色的圖樣布局230可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩模可用于在集成電路器件制造期間將圖樣布局230的圖像印刷在光刻膠層中。參照圖11，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡241至M6的布線柵格M0。向具有限定顏色的布線軌跡241至246的布線柵格240應(yīng)用圖樣布局250，使得圖樣布局250的特征 251至259對應(yīng)于布線軌跡241至M6的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡241至M6 的布線柵格240類似于上述布線柵格，以及具有特征251至259的圖樣布局250類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，特征251、252、253、255、256、257、258和259的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征251對應(yīng)于布線軌跡M1，特征252和253對應(yīng)于布線軌跡M2，特征255對應(yīng)于布線軌跡M3，特征256對應(yīng)于布線軌跡M4，特征257和 258對應(yīng)于布線軌跡M5，以及特征259對應(yīng)于布線軌跡M6。特征2M包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡243和M4。更具體地，特征部分254A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡243，特征部分254B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡243至M4，以及特征部分254C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡M4。在優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估圖樣布局250的特征251至259之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO。在所示實施例中，特征之間 (252/253,254/255,254/256和257/258)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局250符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征251至259的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。特征251、252、253、255、256、257、258和259均占用單種顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征254占用兩個布線軌跡(布線軌跡243至M4)，其中，開始布線軌跡 243和結(jié)束布線軌跡244為不同的顏色(分別為顏色A和顏色B)。由于特征邪4開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，所以特征2M將要求分裂以進(jìn)行圖樣分解。在所示實施例中，向在非優(yōu)選方向上定向的特征254的特征部分254B應(yīng)用接縫插入SA。由于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分254B(也被稱為嚙合)僅占用兩個布線軌跡(換句話說，占用小于或等于布線軌跡制造閾值的多個布線軌跡)，所以SA的重疊長度被限制。在所示實施例中，臨近在非優(yōu)選方向上定向的特征部分254B的每個端部預(yù)留疏排(ke印out)區(qū)域(沒有圖樣的區(qū)域)。沒有圖樣的區(qū)域避免任何布線決策(或設(shè)計決策)生成占用或與沒有圖樣的區(qū)域重疊的另一特征。這確保了圖樣布局250將保持符合任何最小寬度或最小間隔規(guī)則，同時允許比可能的其他方式(圖9)長的接縫重疊長度。在所示實施例中，臨近特征部分254B的每個端部預(yù)留的沒有圖樣的區(qū)域使得SA的最大重疊長度小于或等于
最大接縫重疊長度=P+W/2+W/2其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度。在一個實例中，最小布線間距P大約為66nm，最小線寬度W大約為34nm。因此，最大接縫重疊長度大約為lOOnm。向所示實施例應(yīng)用最大接縫重疊長度，因此接縫重疊長度可以約為Onm至約lOOnm。一旦將接縫插入應(yīng)用于圖樣布局250使得圖樣布局250符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，就基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征251至259進(jìn)行著色。特征251對應(yīng)于布線軌跡Ml (指定為顏色A軌跡)，所以特征251著有顏色A。特征 252和253對應(yīng)于布線軌跡242 (指定為顏色B軌跡)，所以特征252和253著有顏色B。特征255對應(yīng)于布線軌跡243 (指定為顏色A軌跡)，所以特征255著有顏色A。特征256對應(yīng)于布線軌跡244 (指定為顏色B軌跡)，所以特征256著有顏色B。特征257和258對應(yīng)于布線軌跡245 (指定為顏色A軌跡)，所以特征257和258著有顏色A。特征259對應(yīng)于布線軌跡246 (指定為顏色B軌跡)，所以特征259著有顏色B。特征2M開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡(開始于顏色A布線軌跡M3以及結(jié)束于顏色B布線軌跡M4)。因此， 特征254的一部分著有顏色A (其開始布線軌跡M3的顏色)，以及特征254的另一部分著有顏色B (其結(jié)束布線路徑M4的顏色)。更具體地，由于特征部分254A對應(yīng)于布線軌跡 243 (指定為顏色A軌跡)且特征部分254C對應(yīng)于布線軌跡244 (指定為顏色B軌跡)，所以特征部分254A和254C分別著有顏色A和顏色B。特征部分254B開始于顏色A的布線軌跡243且結(jié)束于顏色B的布線軌跡M4，因此如圖11所示，特征部分254B著有顏色A和B。 如上所述，特征部分254B著有顏色A和顏色B的部分彼此重疊以合并接縫。然后，著色的圖樣布局250可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩?？捎糜谠诩呻娐菲骷圃炱陂g將圖樣布局250的圖像印刷在光刻膠層中。參照圖12，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡261至沈6的布線柵格沈0。向具有限定顏色的布線軌跡261至266的布線柵格260應(yīng)用圖樣布局270，使得圖樣布局270的特征 271至279對應(yīng)于布線軌跡261至沈6的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡261至沈6 的布線柵格260類似于上述布線柵格，以及具有特征271至279的圖樣布局270類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，特征271、272、273、275、276、277、278和279的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征271對應(yīng)于布線軌跡，特征272和273對應(yīng)于布線軌跡沈2，特征275對應(yīng)于布線軌跡沈3，特征276對應(yīng)于布線軌跡沈4，特征277和 278對應(yīng)于布線軌跡沈5，以及特征279應(yīng)于布線軌跡沈6。特征274包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡263和沈4。更具體地，特征部分274A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡263，特征部分274B在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡263至沈4，以及特征部分274C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡沈4。在優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估圖樣布局270的特征271至279之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO。在所示實施例中，特征之間 (272/273,274/275,274/276和277/278)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局270符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征271至279的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。 特征271、272、273、275、276、277、278和279均占用單種顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征274占用兩個布線軌跡(布線軌跡263至沈4)(因此特征274可被稱為“小嚙合”)，其中，開始布線軌跡263和結(jié)束布線軌跡沈4為不同的顏色(分別為顏色A和顏色B)。由于特征274開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，所以特征274將要求分裂以進(jìn)行圖樣分解。在所示實施例中，向在非優(yōu)選方向上定向的特征274的特征部分274B 應(yīng)用接縫插入SA。由于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分274B(也被稱為嚙合)僅占用兩個布線軌跡(換句話說，占用小于或等于布線軌跡制造閾值的多個布線軌跡)，所以SA的重疊長度被限制。在所示實施例中，特征部分274B延伸越過在優(yōu)選方向上定向的特征部分274A 和274C。該特征可被稱為“延伸嚙合”。臨近在非優(yōu)選方向上定向的特征部分274B的每個端部預(yù)留疏排區(qū)域(沒有圖樣的區(qū)域)。這確保了圖樣布局270將保持符合任何最小寬度或最小間隔規(guī)則。在所示實施例中，由于特征部分274B是延伸嚙合，且臨近特征部分274B 的每個端部預(yù)留沒有圖樣的區(qū)域，所以SA的最大重疊長度被增加到小于或等于最大接縫重疊長度=5P-W/2-W/2-2L其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及L是線末端與線之間的最小間隔。在一個實例中，最小布線間距P大約為66nm，最小線寬度W大約為34nm，以及線末端與線之間的最小間隔L大約為78nm。因此，最大接縫重疊長度大約為140nm。向所示實施例應(yīng)用最大接縫重疊長度，因此接縫重疊長度可以約為Onm至約140nm。一旦將接縫插入應(yīng)用于圖樣布局270使得圖樣布局270符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，就基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征271至279進(jìn)行著色。如圖12所示，特征271至279與上面參照圖11描述的特征251至259類似地進(jìn)行著色。然后，著色的圖樣布局270可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩?？捎糜谠诩呻娐菲骷圃炱陂g將圖樣布局270 的圖像印刷在光刻膠層中。參照圖13，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡281至觀6的布線柵格觀0。向具有限定顏色的布線軌跡281至286的布線柵格280應(yīng)用圖樣布局四0，使得圖樣布局290的特征 291至299對應(yīng)于布線軌跡281至觀6的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡281至觀6 的布線柵格280類似于上述布線柵格，以及具有特征291至四9的圖樣布局290類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，特征四1、四2、四3、四5、四6、四7、298和四9的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征291對應(yīng)于布線軌跡，特征292和293對應(yīng)于布線軌跡觀2，特征295對應(yīng)于布線軌跡觀3，特征296對應(yīng)于布線軌跡觀4，特征297和 298對應(yīng)于布線軌跡觀5，以及特征299對應(yīng)于布線軌跡觀6。特征294包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡觀3和觀4。更具體地，特征部分^MA在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡觀3，特征部分在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡283至觀4，以及特征部分在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡觀4。在優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估圖樣布局四0的特征291至299之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO。在所示實施例中，特征之間 (292/293,294/295,294/296和四7/四8)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局290符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征291至四9的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。 特征四1、四2、四3、四5、四6、四7、298和299均占用單種顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征四4占用兩個布線軌跡(布線軌跡283至觀4)(因此特征294可被稱為“小嚙合”)，其中，開始布線軌跡283和結(jié)束布線軌跡觀4為不同的顏色(分別為顏色A和顏色B)。由于特征四4開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，所以特征294將要求分裂以進(jìn)行圖樣分解。在所示實施例中，向在非優(yōu)選方向上定向的特征四4的特征部分^MB 應(yīng)用接縫插入SA。由于在非優(yōu)選方向上定向的特征部分四48(也被稱為嚙合)僅占用兩個布線軌跡(換句話說，占用小于或等于布線軌跡制造閾值的多個布線軌跡)，所以SA的重疊長度被限制。在所示實施例中，特征部分延伸越過在優(yōu)選方向上定向的特征部分 294A和^4C，并且特征部分為非最小寬度線(換句話說，特征部分的寬度大于或等于線末端寬度閾值D)。該特征可被稱為“粗延伸嚙合”。臨近在非優(yōu)選方向上定位的特征部分^MB的每個端部預(yù)留疏排區(qū)域(沒有圖樣的區(qū)域)。這確保了圖樣布局290將保持符合任何最小寬度或最小間隔規(guī)則。在所示實施例中，由于特征部分是粗延伸嚙合，且臨近特征部分^MB的每個端部預(yù)留沒有圖樣的區(qū)域，所以SA的最大重疊長度被增加到小于或等于最大接縫重疊長度=5P-W/2-W/2-2R其中，P是布線軌跡之間的最小間距，W是最小線寬度，以及R是最小行進(jìn)間隔。在一個實例中，最小布線間距P大約為66nm，最小線寬度W大約為34nm，最小行進(jìn)間隔R大約為60nm，并且線末端寬度閾值D大約為Mnm。因此，最大接縫重疊長度大約為176nm。向所示實施例應(yīng)用最大接縫重疊長度，因此接縫重疊長度可以約為Onm至約176nm。一旦將接縫插入應(yīng)用于圖樣布局四0以使圖樣布局290符合應(yīng)用于優(yōu)選和非優(yōu)選方向的特征分裂約束，就基于每個特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征291至299進(jìn)行著色。如圖13所示，特征291至四9與上面參照圖11描述的特征251至259類似地進(jìn)行著色。然后，著色的圖樣布局290可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩?？捎糜谠诩呻娐菲骷圃炱陂g將圖樣布局四0 的圖像印刷在光刻膠層中。還可以臨近在優(yōu)選方向上定向的非最小寬度特征或偏離柵格(off-grid)特征預(yù)留疏排區(qū)域(沒有圖樣的區(qū)域)，該疏排區(qū)域是臨近要求接縫插入的特征預(yù)留的。例如，在圖14中，設(shè)置具有限定顏色的布線軌跡301至309的布線柵格300。向具有限定顏色的布線軌跡301至309的布線柵格300應(yīng)用圖樣布局310，使得圖樣布局310的特征311至321 對應(yīng)于布線軌跡301至309的至少一個。具有限定顏色的布線軌跡301至309的布線柵格 300類似于上述布線柵格，具有特征311至321的圖樣布局310類似于上述圖樣布局。在所示實施例中，特征311、312、314、315、316、317、319、320和321的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的單個特征部分。特征311對應(yīng)于布線軌跡301，特征312對應(yīng)于布線軌跡302，特征314對應(yīng)于布線軌跡303，特征315對應(yīng)于布線軌跡304，特征316對應(yīng)于布線軌跡305， 特征317對應(yīng)于布線軌跡306，特征319對應(yīng)于布線軌跡307，以及特征321對應(yīng)于布線軌跡309。特征320是偏離柵格特征，其可以指定為與布線軌跡307或布線軌跡308相對應(yīng)。 特征313包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡302、303和 304。更具體地，特征部分313A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡302，特征部分31 在非優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡302至304，以及特征部分313C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡304。在所示實施例中，特征部分313C是非最小寬度特征。特征318包括在優(yōu)選方向和非優(yōu)選方向上定向的特征部分，并對應(yīng)于布線軌跡306、307和308。更具體地，特征部分318A在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡306，特征部分318B在非優(yōu)選方向上定線并對應(yīng)于布線軌跡306至308，以及特征部分318C在優(yōu)選方向上定向并對應(yīng)于布線軌跡308。特征分裂約束指定對于符合多重圖樣化的布局在優(yōu)選方向上不允許特征分裂以及在非優(yōu)選方向上允許特征分裂。更具體地，特征分裂約束指定(1)在特征之間的優(yōu)選方向上可以沒有GO間隔，以及O)開始和結(jié)束于相同顏色的布線軌跡的特征(或者可選地， 占用奇數(shù)的布線軌跡的特征)不要求分裂，以及開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡的特征 (或者可選地，占用偶數(shù)的布線軌跡的特征)要求分裂。使用在優(yōu)選方向上應(yīng)用的特征分裂約束，評估圖樣布局310的特征311至321之間優(yōu)選方向上的間隔，以確保在特征之間的優(yōu)選方向上不存在GO間隔。在所示實施例中， 特征之間(312/313、313/314、313/315、317/318、319/318 和 318/320)優(yōu)選方向上的間隔大于或等于GO間隔。因此，圖樣布局310符合應(yīng)用于優(yōu)選方向的特征分裂約束。在非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂約束，評估特征311至321的每一個的開始和結(jié)束布線軌跡的顏色，以確定是否有特征要求分裂。特征311、312、314、315、316、317、319、320 和321均對應(yīng)于單一顏色的單個布線軌跡，因此對于這些特征不要求分裂。特征313占用三個布線軌跡(布線軌跡302至304)，其中，開始布線軌跡302和結(jié)束布線軌跡304為相同的顏色(顏色B)。因此，特征313將不要求分裂以進(jìn)行圖樣分解。特征318也占用三個布線軌跡(布線軌跡306至308)，其中，開始布線軌跡306和結(jié)束布線軌跡308為相同的顏色 (顏色B)。因此，特征318將不要求分裂。在所示實施例中，臨近非最小寬度特征部分313C 和偏離特征320預(yù)留疏排(沒有圖樣的)區(qū)域。這確保了圖樣布局310將保持符合任何最小寬度或最小間隔規(guī)則，防止非最小寬度特征部分和偏離柵格特征周圍的GO間隔。因此， 圖樣布局310符合應(yīng)用于非優(yōu)選方向的特征分裂約束，而不是必須修改圖樣布局310來包括接縫插入?；诿總€特征的對應(yīng)布線軌跡的顏色來對特征311至321進(jìn)行著色。特征311對應(yīng)于布線軌跡301 (指定為顏色A軌跡)，所以特征311著有顏色A。特征312對應(yīng)于布線軌跡302 (指定為顏色B軌跡)，所以特征312著有顏色B。特征313不要求分裂，所以其指定有其對應(yīng)的開始(302)和結(jié)束(304)布線軌跡的顏色(顏色B)。特征314和315分別對應(yīng)于布線軌跡303和304 (分別指定為顏色A和顏色B軌跡)，所以特征314和315分別著有顏色A和顏色B。特征316對應(yīng)于布線軌跡305 (指定為顏色A軌跡)，所以特征316著有顏色A。特征317對應(yīng)于布線軌跡306 (指定為顏色B軌跡)，所以特征317著有顏色B。 特征318不要求分裂，所以其指定有其對應(yīng)的開始(306)和結(jié)束(308)布線軌跡的顏色(顏色B)。特征319和321分別對應(yīng)于布線軌跡307和309 (指定為顏色A軌跡)，所以特征 319和321著有顏色A。特征320可以著有顏色A或顏色B，因為疏排區(qū)域確保在特征320 周圍不會出現(xiàn)GO間隔。在所示實施例中，特征320著有顏色B。然后，著色的圖樣布局310 可以被分解為兩個掩模，其中，顏色A特征形成在一個掩模上，顏色B特征形成在另一掩模上。掩?？捎糜谠诩呻娐菲骷圃炱陂g將圖樣布局310的圖像印刷在光刻膠層中。因此，本公開提供了實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局的布線方法。符合多重圖樣化的圖樣布局可以容易地被分解為多個掩模。所公開的方法在布線靈活性和接縫使用之間進(jìn)行了平衡，使布線靈活性最大且使縫合使用最小化到最完全的擴(kuò)展可能。通過平衡布線靈活性和接縫使用，所公開的方法可以減小循環(huán)時間并減化目前的電子設(shè)計自動化流程。應(yīng)該理解，不同的實施例可具有不同的優(yōu)點(diǎn)，并且任何實施例都不是必須具有任何特定優(yōu)點(diǎn)。本公開可以采取整體硬件實施例、整體軟件實施例或者包含硬件和軟件元件的實施例的形式。在一個實例中，電子設(shè)計自動化(EDA)設(shè)備可以實現(xiàn)本文所描述的方法10。 此外，本公開的實施例可以采用可以從實際的計算機(jī)可用或計算機(jī)可讀介質(zhì)(提供被計算機(jī)或任何指令執(zhí)行系統(tǒng)使用或與計算機(jī)或任何指令執(zhí)行系統(tǒng)有關(guān)的程序代碼)進(jìn)行訪問的計算機(jī)程序產(chǎn)品的形式。為了描述的目的，實際的計算機(jī)可用或計算機(jī)可讀介質(zhì)可以為任何裝置，其可以包含、存儲、通信、傳播或傳輸被指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備使用或與指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設(shè)備有關(guān)的程序。介質(zhì)可以為電、磁、光、電磁、紅外、半導(dǎo)體系統(tǒng)(或裝置或設(shè)備)或傳播介質(zhì)。前面已經(jīng)概述了若干實施例的特征，使得本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以更好地理解上述詳細(xì)描述。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，他們可以容易地使用本公開作為設(shè)計或修改用于執(zhí)行與本文所引入實施例相同的目的和/或?qū)崿F(xiàn)相同優(yōu)點(diǎn)的其他工藝和結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員能還應(yīng)該意識到，這些等效限制并不背離本公開的精神和范圍，并且在不背離本發(fā)明的精神和公開的情況下，它們可以進(jìn)行各種改變、替換和變化。
權(quán)利要求
1.一種方法，包括設(shè)置具有布線軌跡的布線柵格；向所述布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種；將具有多個特征的圖樣布局應(yīng)用到所述布線柵格，其中，所述多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；應(yīng)用特征分裂約束以確定所述圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局； 當(dāng)所述圖樣布局不是符合多重圖樣化的布局時，修改所述圖樣布局，直到實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局；以及當(dāng)所述圖樣布局是符合多重圖樣化的布局時，基于每個特征的對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對所述多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用所述著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模，其中，每個掩模都包括單種顏色的特征。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，向所述布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種包括向在優(yōu)選方向上延伸的布線軌跡指定所述至少兩種顏色中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，應(yīng)用所述特征分裂約束以確定所述圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局包括確定所述多個特征是否符合非分裂約束。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中所述多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在與所述優(yōu)選方向垂直的非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且確定所述多個特征是否符合非分裂約束包括 識別包括在所述非優(yōu)選方向上定向的特征部分的任何特征； 確定是否有所識別的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡，以及當(dāng)有所識別的特征開始和結(jié)束于不同顏色的布線軌跡時，將所述圖樣布局指定為不是符合多重圖樣化的布局。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括在將所述圖樣布局指定為不是符合多重圖樣化的布局之后修改所述圖樣布局，其中，修改包括重新設(shè)計所述圖樣布局。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述多個特征的每一個都包括在優(yōu)選方向上定向的至少一個特征部分、在與所述優(yōu)選方向垂直的非優(yōu)選方向上定向的特征部分、或者二者皆有；并且應(yīng)用所述特征分裂約束以確定所述圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局包括 在所述優(yōu)選方向上不應(yīng)用特征分裂，以及在所述非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，在所述優(yōu)選方向上不應(yīng)用特征分裂包括 確定所述優(yōu)選方向上的特征之間的間隔是否等于或大于閾值；以及當(dāng)所述優(yōu)選方向上的特征之間的間隔小于所述閾值時，將所述圖樣布局指定為不是符合多重圖樣化的布局。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，在所述非優(yōu)選方向上應(yīng)用特征分裂包括確定是否有特征需要分裂。
9.一種方法，包括設(shè)置具有在優(yōu)選方向上定向的布線軌跡的布線柵格，其中，所述布線軌跡的每一個都指定有至少兩種顏色中的一種；將具有多個特征的圖樣布局應(yīng)用至所述布線柵格，其中，所述多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；確定所述圖樣布局是否符合應(yīng)用于所述優(yōu)選方向的第一特征分裂約束和應(yīng)用于與所述優(yōu)選方向垂直的非優(yōu)選方向上的第二特征分裂約束；以及當(dāng)所述圖樣布局符合所述第一特征分裂約束和所述第二特征分裂約束時，基于每個特征的對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對所述多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用所述著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模，其中，每個掩模都包括單種顏色的特征。
10. 一種裝置，包括計算機(jī)可讀介質(zhì)，存儲用于由至少一個計算機(jī)處理器執(zhí)行的多個指令，其中，所述指令用于設(shè)置具有布線軌跡的布線柵格；向所述布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種；將具有多個特征的圖樣布局應(yīng)用至所述布線柵格，其中，所述多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；應(yīng)用特征分裂約束以確定所述圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局； 當(dāng)所述圖樣布局不是符合多重圖樣化的布局時，修改所述圖樣布局，直到實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局；以及當(dāng)所述圖樣布局是符合多重圖樣化的布局時，基于每個特征的對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對所述多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用所述著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模，其中，每個掩模都包括單種顏色的特征。
全文摘要
本發(fā)明提供了用于實現(xiàn)符合多重圖樣化的技術(shù)設(shè)計布局的方法和裝置。一種示例性方法包括設(shè)置具有布線軌跡的布線柵格；向布線軌跡的每一個指定至少兩種顏色中的一種；向布線柵格應(yīng)用具有多個特征的圖樣布局，其中，多個特征的每一個均對應(yīng)于至少一個布線軌跡；以及應(yīng)用特征分裂約束，以確定圖樣布局是否為符合多重圖樣化的布局。如果圖樣布局不是符合多重圖樣化的布局，則可以修改圖樣布局直到實現(xiàn)符合多重圖樣化的布局。如果圖樣布局是符合多重圖樣化的布局，則基于每個特征對應(yīng)的至少一個布線軌跡的顏色對多個特征的每一個進(jìn)行著色，從而形成著色圖樣布局，并利用著色圖樣布局的特征生成至少兩個掩模。每個掩模都包括單種顏色的特征。
文檔編號G03F7/20GK102479280SQ20111022904
公開日2012年5月30日 申請日期2011年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月24日
發(fā)明者侯元德, 劉如淦, 李芳松, 田麗鈞, 范芳瑜, 謝艮軒, 陳皇宇, 魯立忠, 黃文俊 申請人:臺灣積體電路制造股份有限公司