專利名稱：液晶顯示裝置、液晶顯示裝置的制造方法以及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體上涉及液晶顯示裝置、液晶顯示裝置的制造方法以及電子設(shè)備。具體 地，本發(fā)明涉及這樣的液晶顯示裝置及其制造方法以及電子設(shè)備，在該液晶顯示裝置中，在 第一基板側(cè)提供形成為抵接第二基板側(cè)的第一間隔物和形成為與第二基板側(cè)隔開(kāi)的第二 間隔物。
背景技術(shù)：
迄今，人們已經(jīng)知曉了這樣的液晶顯示裝置及其制造方法以及電子設(shè)備，在該液 晶顯示裝置中，形成為抵接第二基板側(cè)的第一間隔物和形成為與第二基板側(cè)隔開(kāi)的第二間 隔物提供在第一基板側(cè)上。例如，見(jiàn)日本專利特開(kāi)第2003-121857號(hào)公報(bào)、第2007-171715 號(hào)公報(bào)和第2008-242035號(hào)公報(bào)。日本專利特開(kāi)第2003-121857號(hào)公報(bào)披露了這樣的液晶顯示裝置，其包括形成在 透明基板(第一基板)和相對(duì)基板(第二基板)中的透明基板側(cè)的第一柱狀間隔物(第一 間隔物)和第二柱狀間隔物(第二間隔物)，透明基板(第一基板)和相對(duì)基板(第二基 板)彼此相對(duì)設(shè)置。在日本專利特開(kāi)第2003-121857號(hào)公報(bào)描述的液晶顯示裝置中，第一 柱狀間隔物在相對(duì)基板側(cè)的前表面設(shè)置為抵接相對(duì)基板的前表面。第二柱狀間隔物在相對(duì) 基板側(cè)的前表面設(shè)置為與相對(duì)基板的前表面隔開(kāi)。如果給透明基板和相對(duì)基板施加負(fù)載， 則透明基板和相對(duì)基板朝著提供在透明基板和相對(duì)基板之間的液晶層彎曲。這樣的話，第 二柱狀間隔物將變?yōu)榈纸?充分接觸)相對(duì)基板的前表面，這限制了透明基板和相對(duì)基板 之間的盒間隙(cell gap)。日本專利特開(kāi)第2007-171715號(hào)公報(bào)披露了這樣的液晶顯示裝置，其包括第一 間隔物和第二間隔物，形成在彼此相對(duì)設(shè)置的上基板(第一基板)和下基板(第二基板) 中的上基板側(cè)；平坦化膜，由光敏樹(shù)脂制成并形成在下基板側(cè)；以及凹部，形成在下基板側(cè) 的平坦化膜對(duì)應(yīng)于第二間隔物的區(qū)域中。在日本專利特開(kāi)第2007-171715號(hào)公報(bào)描述的 液晶顯示裝置中，第一間隔物在下基板側(cè)的前表面設(shè)置為抵接平坦化膜在上基板側(cè)的前表 面。第二間隔物在下基板側(cè)的前表面設(shè)置為與凹部的前表面隔開(kāi)。凹部的前表面形成為是 平坦的。當(dāng)給上基板和下基板施加負(fù)載時(shí)，第二間隔物將變?yōu)榈纸?充分接觸)凹部的平 坦前表面，這限制了上基板和下基板之間的盒間隙。日本專利特開(kāi)第2008-242035號(hào)公報(bào)披露了這樣的液晶顯示裝置，其包括第一 柱狀結(jié)構(gòu)(第一間隔物)和第二柱狀結(jié)構(gòu)(第二間隔物)，形成在彼此相對(duì)設(shè)置的第一基板 和第二基板中的第一基板側(cè)；絕緣層，由光敏樹(shù)脂制成并形成在第二基板側(cè)；以及凹部，形 成在絕緣層對(duì)應(yīng)于第二柱狀結(jié)構(gòu)的區(qū)域中。在日本專利特開(kāi)第2008-242035號(hào)公報(bào)描述的 液晶顯示裝置中，第一柱狀結(jié)構(gòu)在第二基板側(cè)的前表面設(shè)置為抵接絕緣層在第一基板側(cè)的 前表面。第二柱狀結(jié)構(gòu)在第二基板側(cè)的前表面設(shè)置為與凹部在第一基板側(cè)的前表面隔開(kāi)。 凹部在第一基板側(cè)的前表面形成為是平坦的。當(dāng)給第一基板和第二基板施加負(fù)載時(shí)，第二 柱狀結(jié)構(gòu)將變?yōu)榈纸?充分接觸)凹部在第一基板側(cè)的平坦前表面，這限制了第一基板和
4第二基板之間的盒間隙。

發(fā)明內(nèi)容
在日本專利特開(kāi)第2003-121857號(hào)公報(bào)描述的液晶顯示裝置中，當(dāng)給透明基板和 相對(duì)基板施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，預(yù)先設(shè)置為抵接相對(duì)基板的前表面的第一柱狀間隔物的抵接 面很難被損壞。這是因?yàn)槭┘咏o透明基板和相對(duì)基板的過(guò)大負(fù)載被分散了。另一方面，當(dāng) 變得抵接(充分接觸)相對(duì)基板的平坦前表面時(shí)，提供為與相對(duì)基板的前表面隔開(kāi)的第二 柱狀間隔物的抵接面很可能經(jīng)受大的負(fù)載。這造成在某些情形下第二柱狀間隔物可能被損 壞的問(wèn)題。在日本專利特開(kāi)第2007-171715號(hào)公報(bào)描述的液晶顯示裝置中，當(dāng)給上基板和下 基板施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，預(yù)先設(shè)置為與下基板的前表面抵接的第一間隔物的抵接面很難被 損壞。這是因?yàn)槭┘咏o上基板和下基板的過(guò)大負(fù)載被分散了。另一方面，當(dāng)變得與凹部的 平坦前表面抵接(充分接觸)時(shí)，提供為與下基板的前表面隔開(kāi)的第二間隔物的抵接面可 能經(jīng)受大的負(fù)載。這造成在某些情形下第二間隔物可能被損壞的問(wèn)題。在日本專利特開(kāi)第2008-242035號(hào)公報(bào)描述的液晶顯示裝置中，當(dāng)給第一基板和 第二基板施加負(fù)載時(shí)，預(yù)先設(shè)置為與第二基板的前表面抵接的第一柱狀結(jié)構(gòu)的抵接面很難 被損壞。這是因?yàn)槭┘咏o第一基板和第二基板的過(guò)大負(fù)載被分散了。另一方面，當(dāng)變得與 凹部的平坦前表面抵接(充分接觸)時(shí)，提供為與第二基板的前表面分開(kāi)的第二柱狀結(jié)構(gòu) 的抵接面可能經(jīng)受大的負(fù)載。這造成在某些情形下第二柱狀結(jié)構(gòu)可能被損壞的問(wèn)題。在日本專利特開(kāi)第2003-121857號(hào)公報(bào)、第2007-171715號(hào)公報(bào)和第2008-242035 號(hào)公報(bào)的每一個(gè)描述的液晶顯示裝置中，第二間隔物形成為以給定的間隙與第二基板隔 開(kāi)。在此情形下，如果第二間隔物和第二基板之間的間隙太大，則第一間隔物變形過(guò)大，從 而在第二間隔物與第二基板進(jìn)行彼此接觸前第一間隔物可能被損壞。另一方面，第二間隔 物和第二基板之間的間隙可能太窄。在此情形下，當(dāng)液晶顯示裝置中的液晶層在低溫下收 縮時(shí)，第二間隔物和第二基板將過(guò)早地進(jìn)行彼此接觸。間隔物和基板之間的抵接面積突然 增大，使得間隔物不能跟隨液晶層的收縮，繼而可能產(chǎn)生氣泡。因此，存在很難最佳地調(diào)整 第二間隔物與第二基板之間的間隙的問(wèn)題。因此，所希望的是提供這樣的液晶顯示裝置、液晶顯示裝置的制造方法以及電子 設(shè)備，其能夠在給第一基板和第二基板施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)防止第二間隔物受到損壞，并且 其可以容易地調(diào)整第二間隔物和第二基板之間的間隙。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，提供了液晶顯示裝置，該液晶顯示裝置包括第一基板和 第二基板，彼此相對(duì)設(shè)置；第一間隔物，形成在第一基板側(cè)并直接或間接抵接第二基板側(cè)； 以及第二間隔物，形成在第一基板側(cè)并與第二基板側(cè)隔開(kāi)；其中在第二基板對(duì)應(yīng)于第一基 板側(cè)的第二間隔物的區(qū)域中形成有凹凸部分。在根據(jù)第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置中，液晶顯示裝置中的液晶層可能在低溫下 收縮。在此情形下，因?yàn)榈诙g隔物和第二基板形成為彼此隔開(kāi)，即間隔物與基板接觸的面 積很小，所以基板間隙能夠充分地跟隨液晶層的收縮。因此，能夠防止氣泡的產(chǎn)生。如上所 述，在第二基板對(duì)應(yīng)于第一基板側(cè)的第二間隔物的區(qū)域中形成有凹凸部分。因此，當(dāng)給第一 基板和第二基板施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面首先與凹凸部分的凸部的頂部進(jìn)行接觸，這與第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面與形成在第二基板側(cè)的凹部 的平坦前表面進(jìn)行抵接(充分接觸)的情形不同。然后，凹凸部分的凸部被擠壓而彈性變 形。此時(shí)，第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面也從平坦的表面形狀彈性變形為反應(yīng)凹凸部 分的前表面形狀的形狀。另外，第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面彈性變形，直到其與凹凸 部分的凹部的前表面抵接。這樣，第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面與凹凸部分的凸部頂 部進(jìn)行抵接，然后與凹凸部分的凹部的前表面進(jìn)行抵接。據(jù)此，能夠緩解施加給第一基板和 第二基板的過(guò)大負(fù)載集中在第二間隔物的抵接部分上。因此，當(dāng)給第一基板和第二基板施 加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，能夠防止第二間隔物受到損壞。因?yàn)樵诘诙鍌?cè)采用了凹槽和凸起，第 二間隔物和第二基板之間的抵接面積可以緩和地變化。因此，能夠抑制基板和間隔物之間 的抵接面積的快速變化。因此，即使第二間隔物和第二基板之間的間隙窄到一定程度，基板 間隙也能夠充分地跟隨液晶層的收縮。因此，能夠比從前更容易地調(diào)整第二間隔物和第二 基板之間的間隙。優(yōu)選地，根據(jù)上述第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置包括由光敏樹(shù)脂制成并形成在第 二基板的第一基板側(cè)的平坦化膜，并且在平坦化膜對(duì)應(yīng)于第二間隔物的區(qū)域中形成有凹凸 部分。對(duì)于該構(gòu)造，如果采用由光敏樹(shù)脂制成的平坦化膜，則通過(guò)光刻技術(shù)凹凸部分可以容 易地形成在平坦化膜上。在此情形下，優(yōu)選地，凹凸部分包括與平坦化膜一體形成的凹陷部分，第一間隔物 和第二間隔物形成為在垂直于第一基板的前表面的方向上具有大體相同的高度，并且凹陷 部分的凸部的頂部形成為低于平坦化膜除凹陷部分之外的區(qū)域中的上表面。對(duì)于該構(gòu)造， 可以容易地在第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面與凹陷部分的凸部的頂部之間提供間隙。優(yōu)選地，在提供有平坦化膜的液晶顯示裝置中，凹凸部分形成在平坦化膜的前表 面上并獨(dú)立于平坦化膜，在垂直于第一基板的前表面的方向上第二間隔物的高度形成為低 于第一間隔物的高度，并且凹凸部分的凸部的頂部形成為高于平坦化膜的上表面。對(duì)于該 構(gòu)造，例如，高度小于第二間隔物和第二基板之間的間隙的凹凸部分形成在第二間隔物和 第二基板之間。因此，能夠容易地在第二間隔物在第二基板側(cè)的前表面和凹陷部分的凸部 的頂部之間提供間隙。在根據(jù)上述第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置中，優(yōu)選地，第一基板和第二基板包括 多個(gè)子像素，每個(gè)子像素包括用于透射光的透射區(qū)域和用于反射光的反射區(qū)域，當(dāng)從上方 觀察時(shí)第一間隔物和第二間隔物形成在子像素的反射區(qū)域中，并且凹凸部分形成在反射區(qū) 域的平坦化膜對(duì)應(yīng)于第二間隔物的區(qū)域中。對(duì)于該構(gòu)造，與凹凸部分形成在透射區(qū)域中的 情形相比，能夠抑制透射區(qū)域的透光率下降。優(yōu)選地，根據(jù)第一實(shí)施方式的液晶顯示裝置還包括形成在第二基板的前表面上的 薄膜晶體管，并且凹凸部分形成在薄膜晶體管的上方。對(duì)于該構(gòu)造，凹凸部分和第二間隔物 設(shè)置在對(duì)應(yīng)于薄膜晶體管形成區(qū)域的區(qū)域中，該薄膜晶體管形成區(qū)域是被遮光膜遮光的區(qū) 域。因此，除了薄膜晶體管，并不需要提供用于對(duì)第二間隔物進(jìn)行遮光的遮光膜。這樣，因 為可以抑制遮光區(qū)域的增加，所以能夠抑制透光率的下降。根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式，提供了液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置 包括第一基板和第二基板，彼此相對(duì)設(shè)置；第一間隔物，形成在第一基板側(cè)并直接或間接 抵接第二基板側(cè)；以及第二間隔物，形成在第一基板側(cè)并與第二基板側(cè)隔開(kāi)。該方法包括在第二基板側(cè)形成由光敏材料制成的絕緣膜的步驟；以及曝光步驟，采用形成有用于形成 凹凸部分的圖案的掩模，通過(guò)使對(duì)應(yīng)于第二間隔物的區(qū)域曝光，在絕緣膜上形成凹凸部分 以對(duì)應(yīng)于第二間隔物。在根據(jù)第二實(shí)施方式的液晶顯示裝置的制造方法中，優(yōu)選地，用于形成凹凸部分 的圖案由寬度小于曝光極限分辨率的開(kāi)口形成。根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施方式的電子設(shè)備包括具有上述任何構(gòu)造的液晶顯示裝置。對(duì) 于該構(gòu)造，可以提供具有液晶顯示裝置的電子設(shè)備，該液晶顯示裝置即使在給第一基板和 第二基板施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)也能夠防止第二間隔物被損壞。


圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的液晶顯示裝置的平面圖；圖2是沿著圖1的線200-200剖取的截面圖；圖3是幫助說(shuō)明當(dāng)給根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的液晶顯示裝置施加過(guò)大的負(fù)載時(shí) 所經(jīng)歷的行為的視圖；圖4是幫助說(shuō)明當(dāng)給根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的液晶顯示裝置施加過(guò)大的負(fù)載時(shí) 所經(jīng)歷的行為的視圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的液晶顯示裝置的截面圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的液晶顯示裝置的平面圖；圖7是沿著圖6的線300-300剖取的截面圖；圖8是根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的液晶顯示裝置的平面圖；圖9是幫助說(shuō)明采用根據(jù)本發(fā)明第一至第四實(shí)施例中每個(gè)的液晶顯示裝置的電 子設(shè)備第一示例的視圖；圖10是幫助說(shuō)明采用根據(jù)本發(fā)明第一至第四實(shí)施例中每個(gè)的液晶顯示裝置的電 子設(shè)備第二示例的視圖；以及圖11是幫助說(shuō)明采用根據(jù)本發(fā)明第一至第四實(shí)施例中每個(gè)的液晶顯示裝置的電 子設(shè)備第三示例的視圖。
具體實(shí)施例方式下面，將參考附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。(第一實(shí)施例)將參考圖1和2描述根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的液晶顯示裝置100的構(gòu)造。附帶地， 第一實(shí)施例描述了體現(xiàn)本發(fā)明的縱向電場(chǎng)模式的液晶顯示裝置100。參考圖1，第一實(shí)施例的液晶顯示裝置100包括多條掃描線1和與掃描線1交叉設(shè) 置的多條信號(hào)線2。多個(gè)子像素3(子像素3a、3b、3c)提供為與掃描線1和信號(hào)線2彼此交 叉的各位置相對(duì)應(yīng)。多個(gè)子像素3(子像素3a、3b和3c)的每個(gè)提供有底柵型薄膜晶體管 (TFT)4。參考圖2，在子像素3 (子像素3a至3c)的截面結(jié)構(gòu)中，柵極電極6形成在TFT基 板5的前表面上。附帶地，TFT基板5是本發(fā)明實(shí)施例的“第二基板”的示例。包括由SiN 制成的柵極絕緣膜7a的絕緣膜7形成在柵極電極6和TFT基板5的前表面上。半導(dǎo)體層
78形成為隔著絕緣膜7面對(duì)柵極電極6。附帶地，半導(dǎo)體層8由a-Si和n+Si制成。源極電 極9和漏極電極10形成在半導(dǎo)體層8上。柵極電極6、絕緣膜7、半導(dǎo)體層8、源極電極9和 漏極電極10構(gòu)成薄膜晶體管4。由SiN制成的鈍化層11形成為覆蓋源極電極9和漏極電極10。由可彈性變形的 光敏丙烯酸樹(shù)脂制成的平坦化膜12形成在鈍化層11的前表面上。平坦化膜12形成有接 觸孔12a。在第一實(shí)施例中，平坦化膜12在對(duì)應(yīng)于子像素3c的區(qū)域中形成有凹陷部分12b。 凹陷部分12b與平坦化膜12 —體地形成。附帶地，凹陷部分12b是本發(fā)明實(shí)施例的“凹凸 部分”的一個(gè)示例。該凹陷部分12b形成在薄膜晶體管4的上方(箭頭Z2的方向)。凹陷 部分12b的表面具有凹凸的形狀(波紋形狀)。平坦化膜12的平坦表面(上表面)12c和 凹陷部分12b的前表面上的凸部的頂部12d之間的距離Ll約為0. 5 μ m。在第一實(shí)施例中， 凹陷部分12b的凸部的頂部12d形成為比平坦化膜12的凹陷部分12b之外的區(qū)域中的上 表面12c低。凹陷部分12b的前表面的凸部的頂部12d和凹陷部分12b的凹部的底部12e 之間的距離L2約為0.4μπι。接下來(lái)描述形成凹陷部分(凹凸部分)12b的方法。在形成平坦化膜的步驟中，首 先，通過(guò)涂布法將由丙烯酸光敏材料制成的平坦化膜12形成在鈍化層11的前表面上。附 帶地，平坦化膜12是本發(fā)明實(shí)施例的“絕緣膜”的示例。在形成凹陷部分(凹凸部分)的 步驟(曝光步驟)中，掩模(未示出)設(shè)置為面對(duì)平坦化膜12。該掩模使由諸如鉻等的金 屬制成的遮光膜形成在玻璃基板的前表面上。掩模的遮光膜形成有用于形成凹陷部分(凹 凸部分)12b且寬度小于曝光極限分辨率的多個(gè)開(kāi)口部分(用于形成凹陷部分(凹凸部分) 的圖案)。在第一實(shí)施例中，通過(guò)進(jìn)行采用該掩模的曝光步驟，凹陷部分(凹凸部分)12b形 成在平坦化膜12的與稍后描述的副柱狀間隔物20b對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。這樣，具有多個(gè)凸部和 凹部的凹陷部分(凹凸部分)12b形成在平坦化膜12的前表面上。附帶地，可以想到的是， 采用半色調(diào)掩模作為用于在曝光步驟中形成凹陷部分的掩模。該半色調(diào)掩模包括基本上 完全透射發(fā)射光的透射部分；由透射率使發(fā)射光的一部分透射的膜形成的半透射部分；以 及不透射發(fā)射光的遮光部分。半色調(diào)掩模的半透射部分用低透射率的膜形成；因此，半色 調(diào)掩模的結(jié)構(gòu)相應(yīng)地比較復(fù)雜，并且很難將半透射部分調(diào)整到所希望的曝光強(qiáng)度。另一方 面，采用如上所述形成有寬度小于曝光極限分辨率的多個(gè)開(kāi)口部分的掩模通常不會(huì)有半色 調(diào)掩模的上述問(wèn)題。因此，凹陷部分可以非常簡(jiǎn)單地形成。由諸如ITO (氧化銦錫)或IZO (氧化銦鋅)等的透明電極構(gòu)成的像素電極13形 成為覆蓋平坦化膜12。像素電極13的前表面形成為具有反映平坦化膜12的凹陷部分12b 前表面的凹凸形狀的形狀。像素電極13經(jīng)由鈍化層11的接觸孔Ila和平坦化膜12的接 觸孔12a連接到漏極電極10。由諸如聚酰亞胺等的有機(jī)膜制成的取向膜14形成在像素電 極13的前表面上。取向膜14的前表面形成為具有反映平坦化膜12凹陷部分12b和像素 電極13的前表面的凹凸形狀的形狀。相對(duì)基板15提供為面對(duì)TFT基板5。附帶地，相對(duì)基板15是本發(fā)明實(shí)施例的“第 一基板”的示例。由樹(shù)脂等制成的黑矩陣16形成在相對(duì)基板15的前表面上。濾色器(CF，color filter) 17形成在黑矩陣16的前表面上。附帶地，如圖1所 示，濾色器17包括紅(R)、綠(G)和藍(lán)⑶的三種濾色器17，分別提供在子像素3a、3b和3c 上。如圖2所示，用作保護(hù)層的上涂層(OC) 18形成在濾色器17的前表面上。由諸如ITO或IZO等的透明電極構(gòu)成的相對(duì)電極19形成在上涂層18的前表面上。在第一實(shí)施例中，由可彈性變形的光敏樹(shù)脂(諸如光敏丙烯酸樹(shù)脂)制成的主柱 狀間隔物(PS) 20a提供在相對(duì)電極19對(duì)應(yīng)于子像素3b的前表面上。附帶地，主柱狀間隔 物20a是本發(fā)明實(shí)施例的“第一間隔物”的示例。主柱狀間隔物20a具有調(diào)整盒間隙(TFT 基板5和相對(duì)基板15之間的距離)的功能。在第一實(shí)施例中，由與主柱狀間隔物20a相同的可彈性變形光敏樹(shù)脂(諸如光敏 丙烯酸樹(shù)脂)制成的副柱狀間隔物20b提供在相對(duì)電極19對(duì)應(yīng)于子像素3c的前表面上。 附帶地，副柱狀間隔物20b是本發(fā)明實(shí)施例中“第二間隔物”的示例。當(dāng)從上方觀察時(shí)，副 柱狀間隔物20b設(shè)置在面對(duì)凹陷部分12b的區(qū)域中。形成在子像素3c中的副柱狀間隔物 20b的箭頭Zl方向的前表面與凹陷部分12b的箭頭Z2方向的前表面隔開(kāi)預(yù)定的間隙。在第一實(shí)施例中，如圖1所示，當(dāng)從上方觀察時(shí)，主柱狀間隔物20a和副柱狀間隔 物20b提供為重疊對(duì)應(yīng)的薄膜晶體管4并且其每一個(gè)都形成為基本上圓形的形狀。如圖2 所示，主柱狀間隔物20a的Z方向高度hi近似等于副柱狀間隔物20b的Z方向高度h2。由 諸如聚酰亞胺的有機(jī)膜制成的取向膜21形成在主柱狀間隔物20a和副柱狀間隔物20b的 前表面上。形成在主柱狀間隔物20a的前表面上的取向膜21設(shè)置為抵接TFT基板5側(cè)的 取向膜14。這樣，在第一實(shí)施例中，主柱狀間隔物20a間接抵接形成在TFT基板5側(cè)的取向 膜14。液晶層22提供在取向膜14和取向膜21之間。背光40提供在TFT基板5的箭頭 Zl方向側(cè)。背光40構(gòu)造為從TFT基板5側(cè)朝著相對(duì)基板15側(cè)(箭頭Z2方向側(cè))出射光。參考圖2至4，接下來(lái)描述當(dāng)給液晶裝置100施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)主柱狀間隔物 20a，副柱狀間隔物20b和凹陷部分12b的彈性變形情形。如果在Z方向上沒(méi)有負(fù)載施加給液晶顯示裝置100，則形成在子像素3b中的主柱 狀間隔物20a不彈性變形。形成在主柱狀間隔物20a的前表面上的取向膜21的前表面抵 接(充分接觸)形成在TFT基板5側(cè)的取向膜14的前表面。形成在子像素3c中的副柱狀 間隔物20b設(shè)置為與TFT基板5側(cè)隔開(kāi)。在Z方向上可能施加負(fù)載給液晶顯示裝置100，或者液晶顯示裝置100中的液晶 層22可能在低溫下收縮。在此情形下，相對(duì)基板15沿箭頭Zl方向彎曲，并且TFT基板5 沿箭頭Z2方向彎曲。如圖3所示，從主柱狀間隔物20a的前表面上的取向膜21抵接(充 分接觸)TFT基板5側(cè)的取向膜14的狀態(tài)，形成在子像素3b中的主柱狀間隔物20a在Z方 向上被相對(duì)基板15和TFT基板5擠壓并彈性變形，如圖3所示。具體地講，主柱狀間隔物 20a彈性變形為在Z方向上壓縮并在X方向上膨脹。形成在副柱狀間隔物20b (該副柱狀間 隔物20b形成在子像素3c中)的前表面上的取向膜21的前表面首先變?yōu)榫植拷佑|取向膜 14的與凹陷部分12b的凸部頂部12d對(duì)應(yīng)的前表面，此為第一階段。如果在Z方向上進(jìn)一步施加負(fù)載給液晶顯示裝置100，則相對(duì)基板15和TFT基板 5在Z方向上進(jìn)一步彎曲，如圖4所示。在主柱狀間隔物20a的前表面上的取向膜21抵接 (充分接觸)TFT基板5側(cè)的取向膜14的狀態(tài)下，形成在子像素3b中的主柱狀間隔物20a 在Z方向上被相對(duì)基板15和TFT基板5擠壓并進(jìn)一步彈性變形。在此情形下，形成在主柱 狀間隔物20a的前表面上的取向膜21設(shè)置為預(yù)先抵接形成在TFT基板5側(cè)的取向膜14。 因此，施加給液晶裝置100的負(fù)載被分散，而沒(méi)有集中在抵接面上。因此，能夠防止主柱狀
9間隔物20a被損壞。從抵接取向膜14的與凹陷部分12b的凸部頂部12d對(duì)應(yīng)的前表面的狀態(tài)，形成在 副柱狀間隔物20b (該副柱狀間隔物20b形成在子像素3c中)的前表面上的取向膜21的 前表面在Z方向上被相對(duì)基板15和TFT基板5擠壓并彈性變形，此為第二階段。副柱狀間 隔物20b彈性變形為在Z方向上壓縮并在X方向上膨脹。在此情形下，副柱狀間隔物20b 在TFT基板5側(cè)的前表面以及取向膜21的與副柱狀間隔物20b在TFT基板5側(cè)的前表面 對(duì)應(yīng)的部分以反映凹陷部分12b的前表面的凹凸形狀的凹凸形狀彈性變形。凹陷部分12b 的凸部也在Z方向上被擠壓并彈性變形。最后，取向膜21的與副柱狀間隔物20b在TFT基板5側(cè)的前表面對(duì)應(yīng)的部分彈性 變形，直到它抵接取向膜14與凹陷部分12b的凹部底部12e的前表面對(duì)應(yīng)的部分。此時(shí)， 該部分不再?gòu)椥宰冃?。這樣，副柱狀間隔物20b和凹陷部分12b以第一階段和第二階段的 兩個(gè)階段進(jìn)行彈性變形。因此，能夠緩解施加給液晶顯示裝置100的過(guò)大負(fù)載突然施加給 副柱狀間隔物20b。另外，能夠在第一階段和第二階段之間逐漸增加間隔物與基板進(jìn)行接 觸的面積。之后，當(dāng)沒(méi)有負(fù)載施加給液晶顯示裝置100時(shí)，相對(duì)基板15返回到箭頭Z2方向 側(cè)，TFT基板5也返回到箭頭Zl方向側(cè)。這樣，主柱狀間隔物20a和副柱狀間隔物20b的 形狀返回到圖2所示的狀態(tài)。在上述第一實(shí)施例中，TFT基板5的與相對(duì)基板15側(cè)的副柱狀間隔物20b對(duì)應(yīng)的 區(qū)域形成有凹陷部分12b。例如，當(dāng)給相對(duì)基板15和TFT基板5施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，副柱 狀間隔物20b的在TFT基板5側(cè)的前表面可能抵接(充分接觸)形成在TFT基板5側(cè)的凹 部的平坦的前表面。然而，與該情形不同，副柱狀間隔物20b的在TFT基板5側(cè)的前表面首 先接觸與凹陷部分12b的凸部頂部12d對(duì)應(yīng)的取向膜14。凹陷部分12b的凸部被擠壓而 彈性變形。在此情形下，副柱狀間隔物20b的在TFT基板5側(cè)的前表面以及副柱狀間隔物 20b的TFT基板5側(cè)的取向膜21的前表面從平坦的形狀彈性變形為反映凹陷部分12b的 表面形狀的形狀。另外，取向膜21的與副柱狀間隔物20b在TFT基板5側(cè)的前表面對(duì)應(yīng)的 部分彈性變形，直到它抵接取向膜14的與凹陷部分12b的凹部底部12e的前表面對(duì)應(yīng)的部 分。這樣，取向膜21的與副柱狀間隔物20b在TFT基板5側(cè)的前表面對(duì)應(yīng)的部分抵接取向 膜14的與凹陷部分12b的凸部頂部12d對(duì)應(yīng)的部分，然后抵接取向膜14的與凹陷部分12b 的凹部底部12e對(duì)應(yīng)的部分。從而，可以緩解施加給相對(duì)基板15和TFT基板5的過(guò)大的負(fù) 載集中在副柱狀間隔物20b上。因此，當(dāng)給相對(duì)基板15和TFT基板5施加過(guò)大的負(fù)載時(shí)， 可以防止副柱狀間隔物20b被損壞。另外，能夠逐漸增加間隔物和基板彼此進(jìn)行接觸的面 積。因此，即使副柱狀間隔物20b與TFT基板5側(cè)的前表面之間的距離短到一定程度，也可 以使間隔物跟隨液晶層22在低溫下發(fā)生的收縮。在上述的第一實(shí)施例中，凹陷部分12b形成在平坦化膜12的對(duì)應(yīng)于副柱狀間隔物 20b的區(qū)域中。因此，如果采用由光敏樹(shù)脂膜制成的平坦化膜12，則凹陷部分12b可以通過(guò) 光刻技術(shù)容易地形成在平坦化膜12中。在上述的第一實(shí)施例中，凹陷部分12b的凸部頂部12d形成為低于平坦化膜12在 凹陷部分12b之外的區(qū)域中的上表面12c。因此，能夠容易地在取向膜21的與副柱狀間隔 物20b在TFT基板5側(cè)的前表面對(duì)應(yīng)的部分和取向膜14的與凹陷部分12b的凸部頂部12d 對(duì)應(yīng)的部分之間提供間隙。
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在上述的第一實(shí)施例中，通過(guò)在薄膜晶體管4的上方形成凹陷部分12b，凹陷部分 12b和副柱狀間隔物20b設(shè)置在與薄膜晶體管4的形成區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域中，該區(qū)域是被黑矩 陣16遮光的區(qū)域。因此，除了薄膜晶體管4外，不必提供用于遮蔽副柱狀間隔物20b的黑 矩陣16。這抑制了遮光區(qū)域的增加。因此，能夠抑制透光率的下降。(第二實(shí)施例)接下來(lái)，將參考圖5描述本發(fā)明的第二實(shí)施例。不同于凹陷部分12b與平坦化膜 12 —體形成的第一實(shí)施例，第二實(shí)施例描述了凹凸部分112提供在平坦化膜121的前表面 上且獨(dú)立于平坦化膜121的示例參考圖5，在根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的液晶顯示裝置110中，凹凸部分112形成在 子像素3c中的平坦化膜121的前表面上。在第二實(shí)施例中，凹凸部分112形成在平坦化 膜121的前表面上并獨(dú)立于平坦化膜121。通過(guò)在平坦化膜121的前表面上涂敷可彈性變 形的丙烯酸光敏樹(shù)脂膜并然后對(duì)其進(jìn)行光刻(曝光步驟)來(lái)形成凹凸部分112。凹凸部分 112的前表面形成為凹凸形狀。在第二實(shí)施例中，凹凸部分112的凸部的頂部112a形成為 高于平坦化膜121的上表面121c。由諸如ITO或IZO等的透明電極構(gòu)成的像素電極131形成在凹凸部分112的前表 面上。像素電極131形成為反映凹凸部分112的前表面形狀(凹凸形狀)的形狀。由諸如 聚酰亞胺等的有機(jī)膜制成的取向膜141形成在像素電極13的前表面1上。取向膜141的 前表面形成為反映凹凸部分112和像素電極13的前表面形狀(凹凸形狀)的形狀。在相對(duì)基板15側(cè)，由光敏樹(shù)脂膜制成的副柱狀間隔物20c形成在子像素3c中。附 帶地，副柱狀間隔物20c是本發(fā)明實(shí)施例的“第二間隔物”的一個(gè)示例。副柱狀間隔物20c 形成在凹凸部分112的上方(在箭頭Z2方向側(cè))。在第二實(shí)施例中，形成在凹凸部分112 上方(在箭頭Z2方向側(cè))的副柱狀間隔物20c的高度h3低于形成在子像素3b中的主柱 狀間隔物20a的高度hi。由諸如聚酰亞胺等的有機(jī)膜制成的取向膜211形成在主柱狀間隔物20a和副柱狀 間隔物20c的前表面上。形成在副柱狀間隔物20c的箭頭Zl方向側(cè)的前表面上的取向膜 211的前表面與形成在凹凸部分112的箭頭Z2方向側(cè)的取向膜141的前表面隔開(kāi)。附帶地，第二實(shí)施例的其他構(gòu)造與第一實(shí)施例相同。當(dāng)給液晶裝置110施加過(guò)大 的負(fù)載時(shí)，主柱狀間隔物20a、副柱狀間隔物20c和凹凸部分112所經(jīng)歷的彈性變形行為與 上述的第一實(shí)施例相同。在上述的第二實(shí)施例中，凹凸部分112的凸部的頂部112a形成為高于平坦化膜 121的上表面121c。因此，能夠容易地在取向膜211的與副柱狀間隔物20c在TFT基板5 側(cè)的前表面對(duì)應(yīng)的部分和取向膜141的與凹凸部分112的凸部頂部112a對(duì)應(yīng)的部分之間 限定間隙。附帶地，第二實(shí)施例的其他效果與上述的第一實(shí)施例相同。(第三實(shí)施例)接下來(lái)，將參考圖6和7描述本發(fā)明的第三實(shí)施例。第三實(shí)施例描述了主柱狀間 隔物20a和副柱狀間隔物20b中的任何一個(gè)設(shè)置在每個(gè)子像素3 (3a至3c)的反射區(qū)域中 的示例。該示例與第一實(shí)施例的區(qū)別在于，第一實(shí)施例中主柱狀間隔物20a和副柱狀間隔 物20b中的任何一個(gè)設(shè)置在每個(gè)子像素3 (3a至3c)的透射區(qū)域中。
在根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的液晶顯示裝置120中，每個(gè)子像素3 (3a至3c)提供 有在子像素3的箭頭Yl方向上用于透射光的透射區(qū)域和在子像素3的箭頭Y2方向上用于 反射光的反射區(qū)域。因此，構(gòu)造了半透射型液晶顯示裝置120。參考圖7，在反射區(qū)域中，由可彈性變形的光敏丙烯酸樹(shù)脂制成的平坦化膜122形 成在TFT基板5側(cè)。在子像素3b中，平坦化膜122的與可彈性變形主柱狀間隔物20a的箭 頭Zl方向側(cè)抵接的上表面122a形成為平面形狀。在反射區(qū)域的設(shè)置有主柱狀間隔物20a 的區(qū)域之外的區(qū)域中，具有凹凸前表面的凹凸部分122b形成在平坦化膜122的前表面上。 凹凸部分122b的凸部的頂部122c形成為低于形成有主柱狀間隔物20a的區(qū)域中的平坦化 膜122的上表面122a。由用于反射光的Al (鋁)層制成的反射膜50形成在對(duì)應(yīng)于平坦化膜122的凹凸 部分122b的前表面上。反射膜50的前表面形成為反映平坦化膜122的凹凸部分122b前 表面的凹凸形狀的形狀。像素電極132形成在反射膜50的前表面上。形成在設(shè)置有主柱狀間隔物20a的 區(qū)域之外的區(qū)域中的像素電極132的前表面形成為反映凹凸部分122b和反射膜50的前表 面的凹凸形狀的形狀。取向膜142形成在像素電極132的前表面上。形成在形成有主柱狀間隔物20a的 區(qū)域之外的區(qū)域中的取向膜142的前表面形成為反映反射膜50和像素電極132的前表面 的凹凸形狀的形狀。附帶地，第三實(shí)施例的其他構(gòu)造與上述的第一實(shí)施例相同。當(dāng)給液晶裝置120施 加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，主柱狀間隔物20a、副柱狀間隔物20b和凹凸部分122b所經(jīng)歷的彈性變形 行為與上述的第一實(shí)施例相同。在上述的第三實(shí)施例中，凹凸部分122b形成在反射區(qū)域的平坦化膜122的對(duì)應(yīng)于 柱狀間隔物20b的區(qū)域中。因此，與凹凸部分122b形成在透射區(qū)域中的情形相比，能夠抑 制透射區(qū)域中透光率下降。附帶地，第三實(shí)施例的其他效果與上述的第一實(shí)施例相同。(第四實(shí)施例)參考圖2和8，將描述本發(fā)明的第四實(shí)施例。第四實(shí)施例描述了主柱狀間隔物20a 和副柱狀間隔物20b 二者都形成在每個(gè)子像素3 (3a至3c)中的示例。該示例與第一實(shí)施 例的區(qū)別在于，第一實(shí)施例中主柱狀間隔物20a和副柱狀間隔物20b中的任一個(gè)設(shè)置在每 個(gè)子像素3 (3a至3c)中。參考圖8，在根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的液晶顯示裝置130中，主柱狀間隔物20a和 副柱狀間隔物20b 二者形成在每個(gè)子像素3 (3a至3c)中。凹陷部分12b (凹凸部分)(見(jiàn) 圖2)在TFT基板5側(cè)形成在平坦化膜12對(duì)應(yīng)于副柱狀間隔物20b的區(qū)域中。換言之，凹 陷部分12b (凹凸部分)形成在每個(gè)子像素3 (3a至3c)中。附帶地，第四實(shí)施例的其他構(gòu)造與上述的第一實(shí)施例相同。當(dāng)給液晶裝置130施 加過(guò)大的負(fù)載時(shí)，主柱狀間隔物20a、副柱狀間隔物20b和凹陷部分12b所經(jīng)歷的彈性變形 行為與上述的第一實(shí)施例相同。第四實(shí)施例的效果與上述的第一實(shí)施例相同。圖9、10和11的視圖用于幫助說(shuō)明采用分別根據(jù)第一、第二、第三和第四實(shí)施例的液晶裝置100、110、120和130中的每個(gè)的電子設(shè)備的第一、第二和第三示例。參考圖9、10 和11，將描述采用分別根據(jù)第一、第二、第三和第四實(shí)施例的液晶裝置100、110、120和130 中的每個(gè)的電子設(shè)備。分別根據(jù)第一、第二、第三和第四實(shí)施例的液晶顯示裝置100、110、120和130中的 每個(gè)都可以用在作為第一示例的個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC)400中、作為第二示例的移動(dòng)電話410中 和作為第三示例的個(gè)人數(shù)字助理(PDA)420中。在圖9所示的第一示例的PC 400中，分別根據(jù)第一、第二、第三和第四實(shí)施例的液 晶顯示裝置100、110、120和130的每個(gè)都可以用在諸如鍵盤(pán)等的輸入部分400a中和顯示 屏幕400b中。在圖10所示的第二示例的移動(dòng)電話410中，分別根據(jù)第一、第二、第三和第 四實(shí)施例的液晶顯示裝置100、110、120和130的每個(gè)都可以用在顯示屏幕410a中。在圖 11所示的第三示例的個(gè)人數(shù)字助理420中，分別根據(jù)第一、第二、第三和第四實(shí)施例的液晶 顯示裝置100、110、120和130的每個(gè)都可以用在顯示屏幕410a中。附帶地，從各方面來(lái)看，這里所公開(kāi)的實(shí)施例應(yīng)當(dāng)理解為示范性的，而不是限制性 的。本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求而不是所描述的實(shí)施例限定。從而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可能 進(jìn)行的任何和所有的修改、變化或等同方案都應(yīng)被認(rèn)為落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。例如，第一至第四實(shí)施例給出了采用縱向電場(chǎng)模式的液晶顯示裝置的示例；然而， 本發(fā)明不限于此。例如，可以采用縱向電場(chǎng)模式之外的類(lèi)型的液晶顯示裝置。第一至第四實(shí)施例給出了凹陷部分(凹凸部分)形成在TFT基板的平坦化膜對(duì)應(yīng) 于相對(duì)基板側(cè)的副柱狀間隔物的區(qū)域中的示例。然而，本發(fā)明不限于此。例如，如果凹陷部 分(凹凸部分)形成在對(duì)應(yīng)于副柱狀間隔物的區(qū)域中，則它可以形成在平坦化膜之外的區(qū) 域中。第一至第四實(shí)施例給出了主柱狀間隔物形成為隔著取向膜間接抵接TFT基板側(cè) 的示例。然而，本發(fā)明不限于此。例如，主柱狀間隔物的前表面和TFT基板側(cè)彼此直接抵接 而不在主柱狀間隔物的前表面上形成取向膜也是可以接受的。第二實(shí)施例描述了由與平坦化膜相同的材料制成的凹凸部分形成在平坦化膜的 前表面上的示例。然而，本發(fā)明不限于此。例如，如果凹凸部分形成在平坦化膜的前表面上， 則由與平坦化膜不同的材料制成的凹凸部分形成在平坦化膜上。第一至第三實(shí)施例給出了主柱狀間隔物和副柱狀間隔物的任一個(gè)形成在每個(gè)子 像素中的示例。然而，本發(fā)明不限于此。例如，主柱狀間隔物和副柱狀間隔物的任一個(gè)可以 以兩個(gè)子像素為基礎(chǔ)或者以三個(gè)子像素為基礎(chǔ)形成。第一至第四實(shí)施例給出了紅、綠和藍(lán)三種顏色的子像素構(gòu)成像素的示例。然而，本 發(fā)明不限于此。例如，兩種、四種或多種顏色的子像素可以構(gòu)成像素。第一至第四實(shí)施例描述了 TFT基板側(cè)的平坦化膜對(duì)應(yīng)于主柱狀間隔物的區(qū)域中 的前表面形成為平坦的示例。然而，本發(fā)明不限于此。例如，TFT基板側(cè)的平坦化膜對(duì)應(yīng)于 主柱狀間隔物的區(qū)域中的前表面可以形成為具有凹凸形狀的凹陷部分。本申請(qǐng)包含2009年7月14日提交至日本專利局的日本優(yōu)先權(quán)專利申請(qǐng)JP 2009-165339中公開(kāi)的相關(guān)主題事項(xiàng)，其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用結(jié)合于此。
權(quán)利要求
一種液晶顯示裝置，包括第一基板和第二基板，彼此相對(duì)設(shè)置；第一間隔物，形成在第一基板側(cè)并直接或間接抵接第二基板側(cè)；以及第二間隔物，形成在所述第一基板側(cè)并與所述第二基板側(cè)隔開(kāi)；其中在所述第二基板的與所述第一基板側(cè)的所述第二間隔物對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有凹凸部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，還包括平坦化膜，由光敏樹(shù)脂制成并形成在所述第二基板的第一基板側(cè)， 其中所述凹凸部分形成在所述平坦化膜的與所述第二間隔物對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其中所述凹凸部分包括與所述平坦化膜一體形成的凹陷部分；所述第一間隔物和所述第二間隔物形成為在與所述第一基板的前表面垂直的方向上 具有相同的高度；并且所述凹陷部分的凸部的頂部形成為低于所述平坦化膜的在所述凹陷部分之外的區(qū)域 中的上表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其中所述凹凸部分形成在所述平坦化膜的前表面上并獨(dú)立于所述平坦化膜； 在與所述第一基板的前表面垂直的方向上，所述第二間隔物的高度形成為低于所述第 一間隔物的高度；并且所述凹凸部分的凸部的頂部形成為高于所述平坦化膜的上表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其中 所述第一基板和所述第二基板包括多個(gè)子像素；所述多個(gè)子像素的每個(gè)包括用于透射光的透射區(qū)域和用于反射光的反射區(qū)域； 當(dāng)從上方觀察時(shí)，所述第一間隔物和所述第二間隔物形成在所述子像素的反射區(qū)域 中；并且所述凹凸部分形成在所述反射區(qū)域中的所述平坦化膜的對(duì)應(yīng)于所述第二間隔物的區(qū) 域中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，還包括 薄膜晶體管，形成在所述第二基板的前表面中；其中所述凹凸部分形成在所述薄膜晶體管的上方。
7.一種電子設(shè)備，包括液晶顯示裝置，所述液晶顯示裝置包括 第一基板和第二基板，彼此相對(duì)設(shè)置；第一間隔物，形成在第一基板側(cè)并直接或間接抵接第二基板側(cè)；以及 第二間隔物，形成在所述第一基板側(cè)并與所述第二基板側(cè)隔開(kāi)； 其中在所述第二基板的與所述第一基板側(cè)的所述第二間隔物對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有凹 凸部分。
8.一種液晶顯示裝置的制造方法，所述液晶顯示裝置包括 第一基板和第二基板，彼此相對(duì)設(shè)置，第一間隔物，形成在第一基板側(cè)并直接或間接抵接第二基板側(cè)，以及第二間隔物，形成在所述第一基板側(cè)并與所述第二基板側(cè)隔開(kāi)，所述方法包括如下步驟在所述第二基板側(cè)形成由光敏材料制成的絕緣膜；并且采用形成有用于形成凹凸部分的圖案的掩模，通過(guò)使與所述第二間隔物對(duì)應(yīng)的區(qū)域曝 光，在所述絕緣膜上形成與所述第二間隔物對(duì)應(yīng)的凹凸部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置的制造方法，其中 所述用于形成凹凸部分的圖案由寬度小于曝光極限分辨率的開(kāi)口部分形成。
全文摘要
液晶顯示裝置、液晶顯示裝置的制造方法以及電子設(shè)備。這里公開(kāi)的液晶顯示裝置包括第一基板和第二基板，彼此相對(duì)設(shè)置；第一間隔物，形成在第一基板側(cè)并直接或間接抵接第二基板側(cè)；以及第二間隔物，形成在第一基板側(cè)并與第二基板側(cè)隔開(kāi)，其中在第二基板的對(duì)應(yīng)于第一基板側(cè)的第二間隔物的區(qū)域中形成有凹凸部分。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK101957519SQ20101022470
公開(kāi)日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2010年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月14日
發(fā)明者中西康裕, 田中慎一郎 申請(qǐng)人:索尼公司