專利名稱：一種掩模版附著顆粒物比對管理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導體制 造的光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模版附著顆粒物比對管
理方法。
背景技術(shù)：
在半導體制造工藝中，光刻工藝是較為復(fù)雜的工藝之一。掩模版是用來通過光刻工藝將復(fù)雜的電路圖案投影到晶片表面上的輔助器件，故掩模版是與用在具體制造工藝中的機器或者設(shè)備相關(guān)聯(lián)的部件。因此，取決于所要進行的制造工藝，不同的掩模版必須被分配給不同的機器或者設(shè)備。另外，在給定時刻，可能有若干個掩模版需被分配給某一特定的機器或者設(shè)備。為此，通常會開發(fā)一種計算機掩模版管理系統(tǒng)優(yōu)化對掩模版的調(diào)配管理?，F(xiàn)有技術(shù)中，掩模版在進入掩模版管理系統(tǒng)前通常需被放入至掃描機臺上進行顆粒物掃描， 以確定該掩模版上的顆粒物是否符合標準。若掩模版上的顆粒物超標則該掩模版被停止進入掩模版管理系統(tǒng)；若掩模版上的顆粒物符合標準則該掩模版進入掩模版管理系統(tǒng)被分配至一特定的機器或設(shè)備。但現(xiàn)有技術(shù)中對于經(jīng)掃描后掩模版上的顆粒物是否超標通常只是人工在掩模版管理系統(tǒng)外單獨設(shè)定一個固定標準，通過人工讀取掃描機臺上的顆粒物掃描結(jié)果來人工判定經(jīng)掃描的掩模版上的顆粒物是否在設(shè)定的標準范圍內(nèi)。但通常掩模版根據(jù)其上圖案的精細程度被劃分為多個等級(例如A-Z級)，不同等級的掩模版上存在顆粒物的允許值是不同的，因此，通過現(xiàn)有技術(shù)的方法判斷掩模版上的顆粒物是否超標并不能做到精細準確，且需耗費較多人力成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種掩模版附著顆粒物比對管理方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)的掩模版附著顆粒物比對方法不能做到精細準確且需耗費較多人力成本的問題。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種掩模版附著顆粒物比對管理方法，包括以下步驟依據(jù)掩模版的等級設(shè)定不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準；將掩模版送入掃描機臺中進行顆粒物掃描，得出掃描結(jié)果；依據(jù)掩模版的等級選擇已設(shè)定的相應(yīng)等級的掩模版附著顆粒物的比對標準，并將掃描結(jié)果同該比對標準進行比較，若符合標準則該掩模版被列入待分配掩模版陣列，若不符合標準則該掩模版被列入待清潔掩模版陣列?？蛇x的，所述掃描結(jié)果包括掩模版上各個顆粒物的大小。可選的，所述不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準包括該等級掩模版上附著顆粒物的大小等級的判斷標準以及各個大小等級的顆粒物所能允許存在的最多個數(shù)?？蛇x的，所述將掃描結(jié)果同該比對標準進行比較的步驟包括首先依據(jù)選定的比對標準中設(shè)定的顆粒物大小等級比對標準確定所述掃描結(jié)果中各顆粒物的大小等級；其次，對各個大小等級的顆粒物數(shù)量進行統(tǒng)計；最后將統(tǒng)計得到的各個大小等級的顆粒物數(shù)量與選定的比對標準中所設(shè)定的各個大小等級的顆粒物所能允許存在的最多個數(shù)進行比較?？蛇x的，所述符合標準為任一大小等級的顆粒物數(shù)量小于等于比對標準中相應(yīng)大小等級的顆粒物允許存在的最多個數(shù)。本發(fā)明提供的掩模版附著顆粒物比對管理方法可實現(xiàn)為多等級掩模版設(shè)定不同的附著顆粒物比對標準并可自動化的實現(xiàn)將掩模版的顆粒物掃描結(jié)果同相應(yīng)等級的掩膜版附著顆粒物比對標準相比對，從而可確定該掩模版為需清洗掩模版還是可分配掩模版。 本發(fā)明方法可精細準確的確定不同等級的掩模版上的顆粒物是否超標且可節(jié)約大量人力成本，方便操作，提高了工作效率。
圖1為本發(fā)明的掩模版附著顆粒物比對管理方法的流程圖。
具體實施例方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
做詳細的說明。本發(fā)明所述的掩模版附著顆粒物比對管理方法可利用多種替換方式實現(xiàn)，下面是通過較佳的實施例來加以說明，當然本發(fā)明并不局限于該具體實施例，本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員所熟知的一般的替換無疑涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。其次，本發(fā)明利用示意圖進行了詳細描述，在詳述本發(fā)明實施例時，為了便于說明，示意圖不依一般比例局部放大，不應(yīng)以此作為對本發(fā)明的限定。請參閱圖1，圖1為本發(fā)明的掩模版附著顆粒物比對管理方法的流程圖。如圖1所示，本發(fā)明的掩模版附著顆粒物比對管理方法包括以下步驟首先，在掩模版管理系統(tǒng)中依據(jù)掩模版所分的等級設(shè)定不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準，所述不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準包括該等級掩模版上附著顆粒物的大小等級的判斷標準以及各個大小等級的顆粒物所能允許存在的最多個數(shù)。請參看表1，表1為依據(jù)掩模版所分的等級設(shè)定不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準的一種實施例示例。
權(quán)利要求
1.一種掩模版附著顆粒物比對管理方法，包括以下步驟依據(jù)掩模版的等級設(shè)定不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準；將掩模版送入掃描機臺中進行顆粒物掃描，得出掃描結(jié)果；依據(jù)掩模版的等級選擇已設(shè)定的相應(yīng)等級的掩模版附著顆粒物的比對標準，并將掃描結(jié)果同該比對標準進行比較，若符合標準則該掩模版被列入待分配掩模版陣列，若不符合標準則該掩模版被列入待清潔掩模版陣列。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模版附著顆粒物比對管理方法，其特征在于，所述掃描結(jié)果包括掩模版上各個顆粒物的大小。
3.如權(quán)利要求1所述的掩模版附著顆粒物比對管理方法，其特征在于，所述不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準包括該等級掩模版上附著顆粒物的大小等級的判斷標準以及各個大小等級的顆粒物所能允許存在的最多個數(shù)。
4.如權(quán)利要求3所述的掩模版附著顆粒物比對管理方法，其特征在于，所述將掃描結(jié)果同該比對標準進行比較的步驟包括首先依據(jù)選定的比對標準中設(shè)定的顆粒物大小等級比對標準確定所述掃描結(jié)果中各顆粒物的大小等級；其次，對各個大小等級的顆粒物數(shù)量進行統(tǒng)計；最后將統(tǒng)計得到的各個大小等級的顆粒物數(shù)量與選定的比對標準中所設(shè)定的各個大小等級的顆粒物所能允許存在的最多個數(shù)進行比較。
5.如權(quán)利要求1或4所述的掩模版附著顆粒物比對管理方法，其特征在于，所述符合標準為任一大小等級的顆粒物數(shù)量小于等于比對標準中相應(yīng)大小等級的顆粒物允許存在的最多個數(shù)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種掩模版附著顆粒物比對管理方法，包括以下步驟依據(jù)掩模版的等級設(shè)定不同等級的掩模版上附著顆粒物的比對標準；將掩模版送入掃描機臺中進行顆粒物掃描，得出掃描結(jié)果；依據(jù)掩模版的等級選擇已設(shè)定的相應(yīng)等級的掩模版附著顆粒物的比對標準，并將掃描結(jié)果同該比對標準進行比較，若符合標準則該掩模版被列入待分配掩模版陣列，若不符合標準則該掩模版被列入待清潔掩模版陣列。本發(fā)明方法可精細準確的確定不同等級的掩模版上的顆粒物是否超標且可節(jié)約大量人力成本，方便操作，提高了工作效率。
文檔編號G03F1/00GK102314072SQ20101021646
公開日2012年1月11日 申請日期2010年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月30日
發(fā)明者樊鄉(xiāng), 車永強, 郭偉凱 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司