專利名稱：：表面凹凸的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及制作微細凹凸的方法，尤其涉及適于制作在光擴散板、光控制薄膜、微透鏡等透明材料的表面具有凹凸的光學(xué)材料的表面凹凸的制作方法。
背景技術(shù)：
：在各種光學(xué)儀器或螢?zāi)弧⒁壕э@示器等顯示裝置中，使用在表面設(shè)置有微細凹凸以控制透射光或反射光的出射方向的光擴散薄膜或微透鏡等光學(xué)材料。作為上述光學(xué)材料，己提案出不僅具有不規(guī)則的凹凸，還以高精度界定凹部或凸部的形狀、間隔等以控制光路的光學(xué)材料(專利文獻l)。一般作為將材料表面形成為凹凸的方法，已采用在形成表面的層內(nèi)混合消光材料(matmaterial)的化學(xué)消光法或浮雕(Emboss)、模具壓紋等。但是在化學(xué)消光法中，由于消光材料本身存在有粒徑分布，而且在分散狀態(tài)下也非完全均勻，因此無法形成具有規(guī)則性的表面形態(tài)或以高精度予以界定的表面形態(tài)。此外，在浮雕、或模具壓紋的情況下，雖然也有因凹凸形狀而難以制作模具的情況，但是具有若一次^作好模具，之后即可輕易形成表面凹凸的優(yōu)點。但是，依材料的材質(zhì)或按壓時的壓力等條件的不同，即使在同一模具所形成的表面凹凸并不一定相同，而難以對所有材料有良好重現(xiàn)性地形成凹凸。另一方面，在半導(dǎo)體裝置的制造等中，也己提案利用屬于一般方法的光刻法來制造光擴散板或微透鏡的方法(專利文獻2、專利文獻3)。在專利文獻3中記載的技術(shù)中所揭示的方法是利用使用灰色標度掩模圖案，來控制因曝光而予以可溶化的感光膜的厚度，而制造出具有所希望形狀的凸部的微透鏡。灰色標度掩模是指利用濃淡圖案而形成光透過率分布的掩模，在專利文獻3中是記載一種利用設(shè)在掩模薄膜的開口大小或開口數(shù)來控制透過率的技術(shù)內(nèi)容。國際公開2004/021052號公報[專利文獻2]日本特開2004-294745號公報[專利文獻3]日本特開2004-310077號公報
發(fā)明內(nèi)容但是，在利用開口大小或開口數(shù)來控制光透過率的灰色標度掩模中，為了形成一個凸或凹部，必須在較小區(qū)域設(shè)置經(jīng)控制間距或大小的多個開口，在使用縮小投影型曝光裝置的情況下，作為掩模而言，也要求非常精密的加工。此外，為了將凹凸的形狀形成為不具有錯層的連續(xù)性曲面，必須使用多種掩模來進行多重曝光，凹凸形成工程較為繁雜。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種使用一般的光掩模，而無須使用灰色標度掩模，即可輕易且以高精度形成所希望的凹凸形狀的方法。本發(fā)明的表面凹凸的制作方法是在材料表面制作微細凹凸的方法，其中，包括在包含感光性樹脂組合物的感光膜的一側(cè)，相對所述感光膜保持間隔而配置具有光透射部和光不透射部的掩模構(gòu)件的工序；在所述掩模構(gòu)件的與所述感光膜相反的一側(cè)配置光擴散構(gòu)件的工序；由配置在所述光擴散構(gòu)件的與掩模構(gòu)件相反的一側(cè)的光源照射光，并通過所述光擴散構(gòu)件和所述掩模構(gòu)件的光透射部而對所述感光膜進行曝光的工序；以及利用顯影除去所述感光膜的曝光部或未曝光部，并在所述感光膜制作取決于曝光部或未曝光部的形狀的凹凸的工序，在所述進行曝光的工序中，控制曝光條件，控制所述曝光部或未曝光部的形狀。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，其特征為所述曝光條件包含所述光擴散構(gòu)件的濁度(JISK7136:2000)。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，其特征為所述曝光條件包含自所述掩模構(gòu)件的遮光面至所述感光膜的距離。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，其特征為所述感光膜包含經(jīng)曝光后不被溶化的負型感光性樹脂組合物。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，其特征為所述感光膜實質(zhì)上被形成于透明的第1基材上或者被粘附設(shè)置于透明的第1基材上，5并且從所述第1基材側(cè)予以曝光。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，其特征為在進行曝光的工序之后，使所述感光膜的掩模構(gòu)件側(cè)的面貼合于第2基材之后進行顯影并在第2基材制作凹凸表面。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法是使用在表面形成有微細凹凸的模具，制作在表面具有與形成在所述模具的表面凹凸相反的凹凸的構(gòu)件的方法，其特征為使用利用上述的本發(fā)明的表面凹凸的制作方法予以制作的模具作為所述模具。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法是使用在表面形成有微細凹凸的模具，制作在表面具有與形成在所述模具的表面凹凸相反的凹凸的構(gòu)件的方法，其特征為第2模具是使用利用上述本發(fā)明的表面凹凸的制作方法來制作的第1模具而制作的，使用所述第2模具作為所述模具，制作在表面具有與所述第1模具相同的凹凸的構(gòu)件。此外，本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，其特征為形成有表面凹凸的構(gòu)件為光學(xué)構(gòu)件。其中，在本發(fā)明中，光不僅包含可見光，也包含紫外線或遠紫外線等波長短的光。以下說明本發(fā)明的概念。在以形成制版等的一定膜厚的凹凸為目的的光刻法中，為了正確重現(xiàn)掩模圖案，用于曝光的光為平行光線乃為其條件。在公知的使用灰色標度掩模的表面凹凸形成方法中，也以平行光線為前提，通過控制掩模側(cè)的光透射率，對曝光部的曝光量賦予分布。此外，在形成凸部高度(膜厚)較高的特殊凹凸形狀時，為了防止曝光不足或顯影不足，也己提出一種在透明基板上形成抗蝕劑(感光膜)，由基板側(cè)(背面)進行曝光的方法(專利文獻4)，但一般而言，為了防止因光的衍射而使抗蝕劑曝光部的邊緣形狀破壞，掩模以與抗蝕劑粘附的方式放置。日本特開2000-103062號公報相對于此，在本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，雖使用平行光線，但并非使掩模構(gòu)件與感光膜(抗蝕劑)相粘附，而是隔著間隔配置掩模構(gòu)件，進而將光擴散構(gòu)件配置在掩模構(gòu)件的感光膜的相反側(cè)，由此利用通過光擴散構(gòu)件予以擴散的光的擴展，對曝光量賦予分布。接著，利用調(diào)整光擴散構(gòu)件的濁度來調(diào)整因光擴散所導(dǎo)致的光的擴展，控制利用曝光量分布即利用曝光所形成的凹凸的形狀。艮P，如圖1及圖2所示，當(dāng)使平行光透過光擴散構(gòu)件30及掩模構(gòu)件20而照射感光膜10時，由于平行光利用光擴散構(gòu)件30予以擴散，因此通過掩模構(gòu)件20的光透射部(開口部)的光是比開口徑更為擴展。該光的擴展對應(yīng)光擴散構(gòu)件30的濁度H的值而變化，因此在通過掩模構(gòu)件的光透射部的光束的周邊部，使光量減少等而對光量賦予分布。這樣，利用光擴散構(gòu)件30予以擴散的光在通過掩模構(gòu)件20的光透射部之后，對應(yīng)自掩模構(gòu)件20的遮光面至感光膜10的距離T而使擴展擴大(圖l、圖2的虛線箭號a)，相較于光束的中央部，在光束的周邊部的每單位面積的光量會減少。此外，通過掩模構(gòu)件20的光透射部的光對應(yīng)自掩模構(gòu)件20的遮光面至感光膜10的距離T，利用衍射而產(chǎn)生擴展(圖1、圖2的細的虛線箭號b)，相較于光束的中央部，在光束的周邊部中，每單位面積的光量會減少。如上所示，光在通過掩模構(gòu)件20的光透射部之后，也利用衍射，相較于光束的中央部，在光束的周邊部中，每單位面積的光量會減少而產(chǎn)生分布。最后，到達感光膜10的光的分布(曝光量分布)取決于光擴散構(gòu)件30的濁度H、自掩模構(gòu)件20的遮光面至感光膜10的距離T而發(fā)生變化。其中，關(guān)于光擴散構(gòu)件30與掩模構(gòu)件20的遮光面的距離t，相較于照射平行光線的區(qū)域的寬度，當(dāng)其距離t與掩模構(gòu)件20的光透射部的大小十分小時，并不會對于入射至掩模構(gòu)件20的光透射部的光的光量及擴散程度造成影響。即，當(dāng)距離t由圖1的狀態(tài)變化成圖2的狀態(tài)時，在圖1中入射至掩模光透射部的擴散光a的強度在圖2中距離t變長，由此與距離的平方成反比變?nèi)酰趫D2中，由于入射至開口部的擴散光的范圍變大而予以消除。即可知即使距離t改變，圖l及圖2的光透射部通過后的光的狀態(tài)(光量、擴散程度)并沒有改變。如上所述，入射至感光膜的光的分布(曝光量分布)取決于光擴散構(gòu)件的濁度H及自掩模構(gòu)件的遮光面至感光膜的距離T。另一方面，將使光固化性樹脂(抗蝕劑)予以光固化而不被溶化所需曝光量稱為臨界曝光量Ec，可知將規(guī)定曝光量E0供予該光固化性樹脂時的固化深度Cd與臨界曝光量Ec有下式的關(guān)系。Cd=Dpxln(E0/Ec)......(1)在此，Dp是照射于樹脂表面的紫外線光的強度為1/e的深度(稱為透射深度)，是感光性樹脂固有的值。因此，當(dāng)照射具有曝光量分布的光時，對應(yīng)該分布而在固化深度發(fā)生分布，結(jié)果可形成高度或深度產(chǎn)生變化的凸部或凹部。在本發(fā)明中，通過控制光擴散構(gòu)件的濁度H(以下有時也僅稱為"濁度H")，或通過控制濁度H、及自掩模構(gòu)件的遮光面至感光膜的距離T(以下有時也僅稱為"距離T")，可控制曝光量分布，形成所希望的表面凹凸。根據(jù)本發(fā)明，利用調(diào)整曝光的條件，無須進行使用多重曝光或灰色標度掩模等的曝光，即可高精度制作所希望的凹凸圖案。圖1是用于說明本發(fā)明的凹凸形成原理的圖。圖2是用于說明本發(fā)明的凹凸形成原理的圖。圖3是顯示本發(fā)明的表面凹凸的制作方法的一實施形態(tài)的圖。圖4是顯示將距離T予以固定時的外部濁度H所造成的凸形狀的不同的圖。圖5是顯示將距離T予以固定時的內(nèi)部濁度H所造成的凸形狀的不同的圖。圖6是顯示將外部濁度H予以固定時的距離T所造成的凸形狀的不同的圖。圖7是顯示將內(nèi)部濁度H予以固定時的距離T所造成的凸形狀的不同的圖。圖8是顯示形狀及縱橫尺寸比不同的凸部的具體例的顯微鏡照片。圖9是顯示本發(fā)明的表面凹凸的制作方法的其他實施形態(tài)的圖。圖IO是顯示本發(fā)明的表面凹凸的制作方法的一工序的圖。圖中，IO—感光膜，ll一基材，20—掩模構(gòu)件，30—光擴散構(gòu)件。具體實施例方式以下說明本發(fā)明的實施形態(tài)。將本發(fā)明的表面凹凸的制作方法的概要顯示于圖3。本發(fā)明的表面凹凸的制作方法主要是包含以下工序準備包含利用曝光予以固化或可被溶化的感光性樹脂組合物的感光膜10的工序(a);經(jīng)由光擴散構(gòu)件30及掩模構(gòu)件20對感光膜10曝光的曝光工序(b);以及將曝光后的感光膜10進行顯影，去除曝光部或非曝光部的顯影工序(c)。在曝光工序中，如圖3(b)所示，對感光膜IO隔著規(guī)定間隔而配置掩模構(gòu)件20,.并且在掩模構(gòu)件20的感光膜10的相反側(cè)配置光擴散構(gòu)件30，然后通過光擴散構(gòu)件30及掩模構(gòu)件20的光透射部將來自光源的光照射在感光膜10而進行曝光。其中，在圖中，感光膜10雖然形成在基材11上，但并非必須設(shè)置基材ll。在顯影工序中，將感光膜10進行顯影，去除曝光部或未曝光部，在感光膜IO制作取決于曝光部或未曝光部的形狀的凹凸15。之后，視需要，使未予以去除而殘留下來的感光膜的部分固化(不溶化)。在本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，利用濁度H來控制該凹凸的形狀，最好是利用濁度H與距離T，來控制該凹凸的形狀。光擴散構(gòu)件的濁度H也依目的凹凸形狀而異。濁度愈小，愈可提高曝光部的縱橫尺寸比(高度對底面寬度的比)。由此，在曝光部不溶化并形成凸形狀的負型中，可獲得高度較高的凸形狀，在曝光部可被溶化并形成凹形狀的正型中，則可獲得深度較深的凹形狀。濁度有因光擴散構(gòu)件的表面凹凸所引起的濁度(以下稱為"外部濁度")、及因光擴散構(gòu)件中的粘合劑樹脂與光擴散劑的折射率差所引起的濁度(以下稱為"內(nèi)部濁度")。根據(jù)利用外部濁度、內(nèi)部濁度的哪一濁度而可使凹凸形狀不同。具體而言，在利用外部濁度所形成的凸形狀中，斜率由凸部頂點朝向底部部分依序變大，底面擴展并不那么大。因此，有獲得縱橫尺寸比較大的凹凸形狀的傾向。另一方面，在利用內(nèi)部濁度所形成的凸形狀中，凸部頂點的傾斜較小的部分較寬，斜率朝向底部急劇變大之后，再次傾斜變得較為平緩，底面擴展地較大。因此，有縱橫9尺寸比變小的傾向。因此，若比較二者可知，外部濁度控制較接近凸部頂點的部分的剖面形狀，內(nèi)部濁度控制較接近底部的部分的剖面形狀。利用如上所示的傾向，配合作為目的的凹凸剖面形狀，可使用外部濁度、內(nèi)部濁度的任一者或加以選擇。此外，也可并用外部濁度及內(nèi)部濁度二者，此時，可獲得同時具有各傾向的凹凸形狀。關(guān)于自掩模構(gòu)件的遮光面至感光膜的距離T，也依目的凹凸形狀而異，但當(dāng)凹凸形狀(高度、底面的寬度)為超微(submicnm)至數(shù)百微米級(order)時，當(dāng)將介于掩模構(gòu)件的遮光面至感光膜之間的介質(zhì)的折射率為N時，以T/N為2mm以下為佳，以5|iim以上、lmm以下為更佳。以距離T除以折射率N是基于折射率愈高，波數(shù)愈大之故，為了利用衍射而獲得相同的光擴展效果，必須使波數(shù)為相同之故。在設(shè)計相同的凹凸形狀時，相較于高折射率介質(zhì)介在的情況，例如折射率較低的介質(zhì)介在時使距離(材料的厚度)較短。此外，若存在2種以上的介質(zhì)，當(dāng)將各介質(zhì)的厚度設(shè)為T1、T2…，將折射率設(shè)為N1、N2…時，若T1/Nl+T2/N2+…滿足上述范圍即可。另一方面，利用擴散所致光的擴展，由如圖1及圖2可知，與距離T成正比，不受介于其間的介質(zhì)的折射率影響。因此，為了獲得所需形狀，考慮因擴散及衍射所造成的光的擴展，來適當(dāng)調(diào)整距離T。此外，距離并不必需一定，也可按照目的凹凸的分布，朝1維方向或2維方向傾斜，或可使距離本身視位置而改變。關(guān)于自光擴散構(gòu)件至掩模構(gòu)件的遮光面的距離t，如上所述，當(dāng)平行光的大小(其照射到掩模的面積)相對于距離t為非常大時，雖不會影響掩模開口部通過后的光的狀態(tài)，但為了減小進行大面積曝光時所需平行光的大小，以100mm左右或100mm以下為佳。其中，關(guān)于掩模構(gòu)件的開口，可形成為任意形狀，而不限于圓形。例如，當(dāng)掩模構(gòu)件的開口為細縫狀時，形成為細長形狀的凹部或凸部。此外，凹凸的排列或間距依形成在掩模的開口的排列、間距而決定。在圖4圖7顯示使用負型感光性樹脂，使用具有直徑30pm時及4(Hxm時的2種圓形開口的掩模構(gòu)件，進行曝光顯影所得的凹凸的剖面形狀。在此，圖4圖7的縱軸及橫軸的單位均為"^im"。其中，其中任何曝光量均為lOOmJ/cm2，光擴散構(gòu)件與掩模構(gòu)件的遮光面的距離t均為8.3mm。圖4是將距離T固定為100pm(T/N=61^im)并使?jié)岫菻(外部濁度)改變時的凹凸剖面形狀。圖5是將距離T固定為100nm(T/N=61pm)并使?jié)岫菻(內(nèi)部濁度)改變時的凹凸剖面形狀。圖6是將濁度H(外部濁度)固定為30X并使距離T(T/N)改變時的凹凸剖面形狀。此外，圖7是將濁度H(內(nèi)部濁度)固定為29X并使距離T(T/N)改變時的凹凸形狀。如圖4及圖5所示，在使用外部濁度及內(nèi)部濁度的光擴散構(gòu)件的任一者的情況下，將距離T(T/N)固定而使?jié)岫菻的值改變的情況下，光的擴展隨著濁度H的值變大而變大，因此所得凹凸形狀有隨著濁度H的值的增加而使凹凸高度變低并且底面擴展而成為縱橫尺寸比較低的傾向。但是，在使用外部濁度時及使用內(nèi)部濁度時，會呈現(xiàn)所得凹凸的剖面形狀為不同的傾向。若為使用外部濁度的光擴散構(gòu)件(圖4)，則斜面斜率不取決于濁度值H，而會有自凸部頂點朝向底部部分逐漸變大的傾向。另一方面，若為使用內(nèi)部濁度的光擴散構(gòu)件(圖5)，則會有凸部頂點的傾斜的平緩部分稍寬，朝向底部而自途中傾斜變?yōu)槎讣保缓髢A斜再次變?yōu)槠骄?，而使底面大幅變寬的傾向。此外，該傾向隨著濁度值H愈大愈為明顯。以對凹凸形狀賦予變化的濁度值的范圍而言，若為外部濁度，在30%至86%的較高的濁度值的廣范圍內(nèi)進行變化(雖未圖示，但外部濁度不滿30%的凹凸形狀與外部濁度30%的凹凸形狀并沒有顯著差別)，相對于此，若為內(nèi)部濁度，濁度值在30%以下的區(qū)域較窄的范圍內(nèi)，形狀也大幅改變。尤其，當(dāng)比較圖4的濁度值H二30X與圖5的濁度值H二29%時可知，雖然為大致相同的濁度值，但以外部濁度的光擴散構(gòu)件與內(nèi)部濁度的光擴散構(gòu)件所得的形狀會有很大的差異。圖6及圖7是顯示將濁度值H固定而使距離T(T/N)的值改變時所得的凹凸的剖面形狀。在為使用外部濁度及內(nèi)部濁度的光擴散構(gòu)件的任何情況下，由于隨著距離T(T/N)變大，光的擴展愈大，因此所得凹凸形狀會有隨著距離T(T/N)的值的增加，而使凹凸的高度變低，并且底面擴展而成為縱橫尺寸比較低的傾向。圖6及圖7是濁度值分別為30%及29%大致相同的條件。若為使用外部濁度的光擴散構(gòu)件(圖6)，則會有斜面斜率不取決于距離T(T/N)而自凸部頂點朝向底部部分逐漸變大的傾向，距離T(T/N)愈大，則斜面傾斜愈為平緩。相對于此，若為使用內(nèi)部濁度的光擴散構(gòu)件(圖7)，則會有凸部頂點的傾斜的平緩部分稍寬，朝向底部而自途中傾斜變?yōu)槎讣保缓髢A斜再次變?yōu)槠骄?，而使底面大幅變寬的傾向。關(guān)于自頂點至底部的部分的傾斜，會有距離T(T/N)愈大，斜面中央部的傾斜陡急的部分愈長，另外，底部的傾斜平緩部分的傾斜變?yōu)檩^為平緩的傾向。在此，在圖7中，T二250nm的凸部的底面比T二100(im的凸部的底面小，此是基于底部附近的傾斜平緩部分的光過于擴散，以致未達臨界曝光量而使感光性樹脂未予以固化所致。在圖8中顯示關(guān)于掩模構(gòu)件的開口為圓形時，形狀及縱橫尺寸比(凸部的高度對底面寬度的比)為不同的凸部的具體例。在圖示的例中，雖僅顯示單一的凸部，但可利用使用設(shè)置有多個微細開口(光透射部)者作為掩模，而形成多個微細凸部。如上所示，在本發(fā)明的表面凹凸的制作方法中，在曝光工序中，利用調(diào)整濁度H、距離T、及光源的光能量(曝光量)，可控制凸部或凹部的剖面形狀及其縱橫尺寸比(凸部的高度對底面寬度的比)。在顯影工序中，使用用以將構(gòu)成感光膜的感光性樹脂組合物溶解的溶劑作為顯影液，去除感光膜中利用曝光予以不溶化的部分以外的部分(負型)。或去除利用曝光予以可溶化的部分(正型)。在任何情況下，均將形成在透明基材(第1基材)上的感光膜通過其基材而進行曝光，之后，將感光膜表面(基材相反側(cè)的面)進行顯影，并可在該表面形成微細的凹部或凸部。之后，視需要，另外使末予以去除而殘留下來的感光膜的部分固化。其中，當(dāng)末存在有基材(第1基材)時，也可在曝光工序之后、顯影工序之前，將感光膜的其中一面，例如掩模構(gòu)件側(cè)的面貼合于其他基材(第2基材)。此外，當(dāng)存在有基材(第l基材)時，也可將基材配置成與掩模構(gòu)件呈相反側(cè)，而從感光膜側(cè)進行曝光，在曝光工序之后、顯影工序之前，將感光膜的掩模構(gòu)件側(cè)的面貼合于其他基材(第2基材)，而將最初的基材(第l基材)予以剝離。接著說明實施本發(fā)明的表面凹凸的制作方法所使用的材料。感光膜IO也可為作為單一薄膜予以制造的薄膜，但以使用利用涂布干燥而形成在基材(第1基材)11上者、或粘附設(shè)置在基材11上者為佳。當(dāng)形成在基材ll上時，感光膜10可為固體，也可為液體。以形成感光膜10的感光性樹脂組合物而言，一般可使用在光刻法領(lǐng)域中所使用的抗蝕劑或光固化性樹脂。作為利用光予以不溶化或可被溶化的樹脂而言，列舉在聚乙烯醇、酚醛清漆樹脂、丙烯酸系樹脂、環(huán)氧系樹脂等中導(dǎo)入有桂皮酸殘基、查耳酮殘基、丙烯酸殘基、重氮鎗鹽殘基、迭氮苯殘基、鄰-迭氮醌殘基、香豆素殘基、2，5-二甲氧基二苯乙烯殘基、苯乙烯基吡啶殘基、a-苯基馬來酰亞胺、蒽殘基、吡喃酮殘基等感光基的感光性聚合物。此外，作為光固化性樹脂，可使用利用光的照射而進行交聯(lián)固化的光聚合性預(yù)聚物。作為光聚合性預(yù)聚物，可列舉環(huán)氧系丙烯酸酯、聚酯系丙烯酸酯、聚氨酯系丙烯酸酯、多元醇系丙烯酸酯等具有丙烯酸基的樹脂、多硫醇多烯樹脂等。光聚合性預(yù)聚物雖可單獨使用，但為了提升交聯(lián)固化性、交聯(lián)固化膜的硬度，也可加入光聚合性單體。作為光聚合性單體，使用丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、丙烯酸丁氧基乙酯等單官能丙烯酸單體、1,6-己二醇丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸酯新戊二醇二丙烯酸酯等雙官能丙烯酸單體、二季戊四醇六丙烯酸酯、三甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等多官能丙烯酸單體等1種或2種以上。除了上述的感光性聚合物或光聚合性預(yù)聚物及光聚合性單體以外，感光性樹脂組合物也可視需要而添加光聚合引發(fā)劑或紫外線增感劑等。作為光聚合引發(fā)劑而言，可使用苯偶姻醚系、縮酮系、苯乙酮系、噻噸酮系等自由基型光聚合引發(fā)劑、重氮錄鹽、二芳基碘鑰鹽、三芳基锍鹽、三芳基吡喃鐵鹽、芐基吡啶鐵硫代氰酸酯、二烷基苯酰甲基锍鹽、二垸基羥基苯基锍鹽、二垸基羥基苯基鱗鹽等或復(fù)合系陽離子型光聚合引發(fā)13劑等。此外，作為紫外線增感劑而言，可使用正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等。當(dāng)感光膜IO在形成表面凹凸之后直接用于光擴散薄膜、光控制薄膜等光學(xué)構(gòu)件時，以使用具有高光透射性的材料為佳。作為該材料而言，在上述光固化性樹脂中，以丙烯酸系樹脂為尤佳。當(dāng)利用形成在感光膜的凹凸作為模具時，或依形成有表面凹凸的構(gòu)件的不同用途，也可將感光膜予以著色。感光膜io的厚度并未特別限定，若為比欲形成的凸部高度(凹部深度)為厚者即可。作為基材ll而言，若為對用于曝光的光具有透射性的材料，則無特別限定，可使用由玻璃或塑料構(gòu)成的板或薄膜等。具體而言可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、聚芳酯、丙烯酸、醋酸纖維素、聚氯乙烯等塑料薄膜或片材，以尺寸安定性來看，以經(jīng)拉伸加工者為佳，尤以經(jīng)雙軸拉伸加工者為特佳。如圖3所示，基材11的厚度是在掩模構(gòu)件20的遮光面20a與感光膜10之間提供間隔的厚度，依應(yīng)形成在感光膜10的凹凸形狀而適當(dāng)選擇。光擴散構(gòu)件30可為由單層所構(gòu)成的光擴散構(gòu)件，但是當(dāng)難以制作或處理單層的光擴散構(gòu)件時，也可在基材上形成光擴散層。基材可使用與作為掩模構(gòu)件的基材所例示的相同的基材。光擴散構(gòu)件30或光擴散層可由球狀微粒和粘合劑樹脂予以制作。或者也可為利用消光處理或浮雕或蝕刻等方法而在表面設(shè)置凹凸者。作為球狀微粒而言，可使用二氧化硅、氧化鋁、滑石、氧化鋯、氧化鋅、二氧化鈦等無機系微粒、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、苯并鳥糞胺、硅酮樹脂等有機系微粒。作為易得球形形狀方面來看，有機系微粒特別適合。作為粘合劑樹脂而言，若為透明并且可將球狀微粒均勻予以分散保持者即可，也可為液體或液晶等流體，而不限定于固體。其中，為了以光擴散層單體維持形狀，以玻璃或高分子樹脂為佳。作為玻璃而言，若非為失去光擴散構(gòu)件的光透射性者，即無特別限定，一般而言可列舉硅酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃等氧化玻璃等。作為高分子樹脂而言，若非為失去光擴散構(gòu)件的光透射性者，即無特別限定，可使用聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯酸氨基甲酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯丙烯酸酯系樹脂、環(huán)氧丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙縮醛系樹脂、乙烯基系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、蜜胺系樹脂、酚醛樹脂、硅酮系樹脂、氟系樹脂等熱塑性樹脂、熱固化樹脂、電離放射線固化性樹脂等。當(dāng)未使用球狀微粒而形成表面凹凸時，在由與上述粘合劑樹脂相同的樹脂所構(gòu)成的薄片狀構(gòu)件的表面施予消光處理或浮雕或蝕刻，在表面形成凹凸。此時，光擴散構(gòu)件是僅具有外部濁度，通過使凹凸程度不同，可調(diào)整濁度。凹凸的程度是依目的濁度而異，但中心線平均粗糙度(Ra)以0.5至3.5pm的范圍為佳。使用球狀微粒的光擴散構(gòu)件30的濁度H可調(diào)整為如下所示。關(guān)于內(nèi)部濁度，可利用球狀微粒與粘合劑樹脂的折射率差、球狀微粒的平均粒徑、球狀微粒的粒度分布、球狀微粒的含量、光擴散構(gòu)件的厚度予以調(diào)整。此外，外部濁度可利用球狀微粒的平均粒徑、球狀微粒的粒度分布、球狀微粒的含量、光擴散構(gòu)件的厚度，使表面凹凸改變而予以調(diào)整。作為掩模構(gòu)件20而言，可使用一般在光刻法領(lǐng)域所使用的光掩模。當(dāng)感光膜10為負型時，使用形成有多個與目的圖案相對應(yīng)的微細開口(孔)的掩模構(gòu)件20，當(dāng)為正型時，則使用形成有與目的圖案相對應(yīng)的遮光圖案的掩模構(gòu)件20。開口或遮光部例如為圓形或橢圓形，但并不限定于此。也可為較細的細縫狀開口或遮光部。開口或遮光部的排列依目的圖案而異，有不規(guī)則的情況，也有規(guī)則排列的情況。凸部或凹部的底面形狀與掩模構(gòu)件20的開口或遮光部的形狀相同。光源若為發(fā)生上述感光性樹脂組合物具有感光性的波長的光即可。具體而言，若為因紫外線反應(yīng)的感光性樹脂組合物，則可使用高壓水銀燈、鹵化金屬燈、氙燈等UV燈。當(dāng)利用本發(fā)明的表面凹凸的制作方法而在表面制作出微細凹凸的感光膜(稱為表面凹凸構(gòu)件)為透明時，可直接作為光學(xué)構(gòu)件或與其他光學(xué)構(gòu)件組合使用?；蛘呷鐖D9所示，也可以利用本發(fā)明的表面凹凸的制作方法所制作的表面凹凸構(gòu)件50為模具，進而制造電鑄模具60，使用該電鑄模具60，而以任意材料大量生產(chǎn)與表面凹凸構(gòu)件為相同表面形狀的構(gòu)件70。具體而言，利用濺射等，在表面凹凸構(gòu)件50表面形成導(dǎo)電膜51，且利用一般的電鑄法，在導(dǎo)電膜51的表面形成電鑄層之后，除掉表面凹凸構(gòu)件50而形成為電鑄模具60。在該電鑄模具60充滿例如光固化性樹脂71后，以透明的薄膜72覆蓋，透過薄膜72而使光固化性樹脂71固化，由此制作具有與原本的表面凹凸相同的凹凸的構(gòu)件70。當(dāng)使用如上所示的電鑄模具60時，由于材料選擇范圍大，因此可選擇目的用途(例如光學(xué)構(gòu)件)所需要的特性較佳的材料，而輕易且大量制造以高精度形成有凹凸的目的構(gòu)件。例如，通過使用透明的材料作為流入模具的材料，可制作光擴散板、光控制薄膜、微透鏡等光學(xué)材料。以下利用實施例，進一步說明本發(fā)明。[實施例1]在厚度100nm的包含聚酯薄膜(CoslnoshineA4300:東洋紡織公司，折射率1.64)的基材11上涂布抗蝕劑(EKIRESINPER-800RB-2203:互應(yīng)化學(xué)工業(yè)公司)并予以干燥而形成厚度lOOjLim的感光膜10。接著，準備具有外部濁度30%的光擴散構(gòu)件的薄膜(Light-UpTL2:木本(KIMOTO)公司)。接著，將感光膜lO的基材ll與形成有多個圓形開口的鉻掩模20(以下稱Cr掩模)的遮光面20a相對向疊合，進而在距離Cr掩模的遮光面上方8.3mm處設(shè)置具有光擴散構(gòu)件30的薄膜之后(圖10)，從Cr掩模側(cè)以以下條件對感光膜進行曝光。其中，Cr掩模準備的是掩模直徑30pm和40jim的2種Cr掩模，使用各掩模來進行曝光。<曝光、顯影處理>曝光是使用將高壓水銀燈作為光源的曝光器(JetLightJL-2300:ORC制作所)并使光平行化來進行的。曝光量利用積算光量計(UIT-102(受16光部UVD-365PD):USHIO電機公司)來測量以365nm為中心的光，并成為100mJ/cm2。在曝光后，利用顯影液(碳酸鈉1%水溶液)進行顯影，之后，利用流水予以水洗、干燥，獲得在基材表面形成有凹凸的試料。除了將成為感光膜10的基材11的聚酯薄膜厚度及光擴散構(gòu)件30的外部濁度變更為如表1所示以外，其余與實施例1相同地，獲得在基材表面形成有凹凸的試料。其中，作為具有外部濁度65%的光擴散構(gòu)件的薄膜而言，使用木本(KIMOTO)公司的Light-UpSP6(產(chǎn)品名)，作為具有外部濁度86%的光擴散構(gòu)件的薄膜而言，使用木本(KIMOTO)公司的Light-UpDP8(產(chǎn)品名)。[實施例6]作為具有光擴散構(gòu)件的薄膜而言，除了使用以下實施例6的薄膜以外，其余與實施例l相同地，獲得在基材表面形成有凹凸的試料。在厚度50jam的包含聚酯薄膜(CosmoshineA4300:東洋紡織公司)的基材上，以使干燥后的厚度為5pm的方式涂布下述配方的光擴散構(gòu)件涂布液并干燥之后，在光擴散構(gòu)件上層壓同一聚酯薄膜，從而形成內(nèi)部濁度5%的光擴散構(gòu)件30，獲得具有光擴散構(gòu)件的薄膜(實施例6的薄膜)。<光擴散構(gòu)件涂布液〉*丙烯酸樹脂100份(ACRYDICA-807:大日本油墨化學(xué)工業(yè)公司)(固體組分50%)*球狀微粒(二氧化硅)3份(TOSPEARL105:GE東芝硅酮公司)(折射率1.43，平均粒徑0.5pm)固化劑19.5份(TAKENATED110N:三井化學(xué)聚氨酯公司)(固體組分60%)乙酸乙酯100份甲苯100份除了將成為感光膜10的基材11的聚酯薄膜厚度及光擴散構(gòu)件30的內(nèi)部濁度變更為如表1所示以外，其余與實施例6相同地，獲得在基材表面形成有凹凸的試料。其中，在實施例710中，當(dāng)將濁度設(shè)為17%、29%時，在將實施例6的光擴散構(gòu)件的厚度維持在5jxm的情況下，將實施例6的光擴散構(gòu)件涂布液中的球狀微粒的添加量變更為10份、23份。此外，將實施例110的距離T一起顯示于表1。此外，將介于掩模構(gòu)件的遮光面至感光膜之間的介質(zhì)的折射率設(shè)為N時的T/N—起顯示于表l。<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>利用激光顯微鏡(VK-9500:基恩斯(Keyence)公司)測定在實施例110所得試料的表面形狀。圖4顯示在實施例13所得凹凸形狀(圖4下段為實施例1、圖4中段為實施例2、圖4上段為實施例3)，圖6顯示在實施例4、5所得凹凸形狀(圖6下段為實施例4、圖6上段為實施例5、在圖6中段是作為參考顯示實施例1)，圖5顯示在實施例68所得凹凸形狀(圖5下段為實施例6、圖5中段為實施例7、圖5上段為實施例8)，圖7顯示在實施例9、IO所得凹凸形狀(圖7下段為實施例9、圖7上段為實施例10，在圖7中段是作為參考顯示實施例8)。實施例13中將距離T(T/N)予以固定而改變濁度(外部濁度)H的值。如圖4所示，在實施例13所得試料的表面凹凸隨著濁度H的值的增加，而光的擴展變大，凹凸高度變低并且底部擴展。實施例4、5中將濁度(外部濁度)H予以固定而使距離T(T/N)的值改變。如圖6所示，在實施例4、5所得凹凸形狀隨著距離T的值的增加，而光的擴展變大，凹凸高度變低并且底部擴展。實施例68中將距離T(T/N)予以固定而使?jié)岫?內(nèi)部濁度)H的值改變。如圖5所示，在實施例68所得試料的表面凹凸隨著濁度H的值的增加，而光的擴展變大，凹凸高度變低并且底部擴展。實施例9、IO中將濁度(內(nèi)部濁度)H予以固定而使距離T(T/N)的值改變。如圖7所示，在實施例9、IO所得凹凸形狀隨著距離T的值的增加，而光的擴展變大，凹凸高度變低并且底部擴展。但是，若T二250pm(T/N二152pm)，則底部傾斜平緩的部分由于光過于擴展而未達到臨界曝光量，因此無法使感光性樹脂充分固化，而使底面小于T=100,。[實施例11]除了將感光膜10的基材11(第1基材)變更為厚度100nm的聚酯薄膜(商品名LumirrorT60，東麗(TORAY)公司，折射率1.64)以夕卜，其余與實施例110相同進行至曝光為止。曝光結(jié)束后，剝離聚酯薄膜，隔著粘合劑使因剝離露出的感光膜10的面貼合于鋁板(第2基材)。之后，與實施例110相同地進行顯影、水洗、干燥，從而獲得在鋁板表面形成有凹凸的IO種試料。本實施例所得試料的表面形狀與利用實施例110的同條件所得形狀大致相同。由該結(jié)果顯示，在曝光后，在使感光膜10的掩模構(gòu)件側(cè)的面貼合于其他基材之后，通過進行顯影而在其他基材也可形成凹凸。由此，即使為不透射光的基材，也可通過使用本方法而形成凹凸。[實施例12]在實施例110所制作的凹凸表面流入2液固化型硅酮樹脂(KE-108，固化劑CAT-108，信越化學(xué)工業(yè)公司)，固化后將凹凸表面予19以剝離而獲得形成有表面凹凸的硅酮樹脂。本實施例所得硅酮樹脂的表面凹凸是具有與原來的表面凹凸相反的凹凸的形狀。[實施例13]在實施例110所制作的凹凸表面，如圖9所示，利用濺射形成鎳薄膜51，并將表面導(dǎo)電化。利用一般的鎳電鑄法，在該表面形成鎳層60。該鎳層60的表面是具有與原來的表面凹凸相反的凹凸的形狀。此外，以該鎳層60為模具，在該模具中充滿光固化性樹脂71之后，以透明的聚酯薄膜72覆蓋，透過聚酯薄膜72而使光固化性樹脂71固化，由此可在聚酯薄膜72上形成具有與原來的表面凹凸相同的凹凸的形狀。權(quán)利要求1.一種表面凹凸的制作方法，其是在材料表面制作微細凹凸的方法，其中，包括在包含感光性樹脂組合物的感光膜的一側(cè)，相對所述感光膜保持間隔而配置具有光透射部和光不透射部的掩模構(gòu)件的工序；在所述掩模構(gòu)件的與所述感光膜相反的一側(cè)配置光擴散構(gòu)件的工序；由配置在所述光擴散構(gòu)件的與掩模構(gòu)件相反的一側(cè)的光源照射光，并通過所述光擴散構(gòu)件和所述掩模構(gòu)件的光透射部而對所述感光膜進行曝光的工序；以及利用顯影除去所述感光膜的曝光部或未曝光部，并在所述感光膜制作取決于曝光部或未曝光部的形狀的凹凸的工序，在所述進行曝光的工序中，控制曝光條件，控制所述曝光部或未曝光部的形狀。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述曝光條件包括所述光擴散構(gòu)件的濁度(JISK7136:2000)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述曝光條件包括自所述掩模構(gòu)件的遮光面至所述感光膜的距離。4.根據(jù)權(quán)利要求13中任意一項所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述感光膜包含經(jīng)曝光后不被溶化的負型感光性樹脂組合物。5.根據(jù)權(quán)利要求14中任意一項所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述感光膜實質(zhì)上被形成于透明的第1基材上或者被粘附設(shè)置于透明的第l基材上，并且從所述第l基材側(cè)予以曝光。6.根據(jù)權(quán)利要求15中任意一項所述的表面凹凸的制作方法，其中，在進行曝光的工序之后，使所述感光膜的掩模構(gòu)件側(cè)的面貼合于第2基材之后進行顯影，在所述第2基材制作凹凸表面。7.—種表面凹凸的制作方法，其是使用在表面形成有微細凹凸的模具，制作在表面具有與形成在所述模具的表面凹凸相反的凹凸的構(gòu)件的方法，其中，使用利用權(quán)利要求16中任意一項所述的表面凹凸的制作方法來制作的模具作為所述模具。8.—種表面凹凸的制作方法，其是使用在表面形成有微細凹凸的模具，制作在表面具有與形成在所述模具的表面凹凸相反的凹凸的構(gòu)件的方法，其中，第2模具是使用利用權(quán)利要求16中任意一項所述的表面凹凸的制作方法來制作的第1模具而制作的，使用所述第2模具作為所述模具，制作在表面具有與所述第1模具相同的凹凸的構(gòu)件。9.根據(jù)權(quán)利要求18中任意一項所述的表面凹凸的制作方法，其中，形成有表面凹凸的構(gòu)件為光學(xué)構(gòu)件。全文摘要本發(fā)明提供一種使用光掩模，可輕易且以高精度形成所希望的凹凸形狀的表面凹凸的制作方法。在包含感光性樹脂組合物的感光膜(10)的一側(cè)，相對于感光膜(10)隔著間隔而配置具有光透射部與光不透射部的掩模構(gòu)件(20)，在掩模構(gòu)件(20)的感光膜(10)的相反側(cè)配置光擴散構(gòu)件(30)。從配置在光擴散構(gòu)件(30)的掩模構(gòu)件(20)的相反側(cè)的光源照射光，通過光擴散構(gòu)件(30)與掩模構(gòu)件(20)的光透射部而將感光膜(10)進行曝光。利用顯影來除去感光膜(10)的曝光部或未曝光部，在感光膜(10)制作取決于曝光部或未曝光部的形狀的凹凸。在進行曝光時，控制光擴散構(gòu)件(30)的濁度等曝光條件，控制曝光部或未曝光部的形狀。文檔編號G02B5/02GK101636671SQ200880008970公開日2010年1月27日申請日期2008年3月19日優(yōu)先權(quán)日2007年3月26日發(fā)明者餌取英樹申請人:木本股份有限公司