專利名稱：：光學疊層體、偏振板和圖像顯示裝置的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及光學疊層體、其制造方法、以及具有前述光學疊層體的偏振板(偏光板)、具有光學疊層體和偏振板中的任何一個的圖像顯^置。
背景技術：
：io在陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)、電致發(fā)光顯示器(ELD)等圖像顯示裝置的最表面設有包含具有各種功能的功能層的光學疊層體。作為這樣的光學疊層體，已知具有在基材上依次設置防弦層和低折射率層等功能層的觀結構，在這些功能層中含有作為防炫齊啲微粒子的光學觀體(例如參照專禾忟獻1和2)。其具有優(yōu)異的防弦性能。15在這樣的光學疊層體的防弦層中，廣泛應用二氧化硅粒子作為防弦劑含有二氧化硅粒子作為防炫劑的防炫層例如通過在基材上涂布含有二氧化硅粒子和固化性樹脂的防弦層形成用樹脂組合物而形成。但是在用含有二氧化硅粒子作為防弦劑的防弦層形成用樹脂組合物形成光學疊層體盼瞎況下，存在防弦層形成用樹脂組合物中的二氧化硅粒子的分散穩(wěn)20定性降低而7験，所形成的防炫層的光學特性低的問題。專利文獻1:日本特開20074)90717號公報專利文獻2:日本特開2006-267556號公報
發(fā)明內容25針對上述現(xiàn)狀，本發(fā)明的目的是采用在用于形成含有二氧化硅粒子的防弦層的防弦層形成用樹脂組合物中二氧化硅粒子適度凝集并且分散穩(wěn)定性優(yōu)異的組糊，提供一種光學特性優(yōu)異的光學觀體。本發(fā)明的光學疊層體的特征在于，具有透光性基材、含有二氧化硅粒子的防炫層，，二氧化硅粒子的介電常數(shù)(比誘電率)小于4.0。30tm二氧化硅粒子的比表面積為2000m2/g以下。雌二氧化硅粒子是無定形二氧化硅粒子。4腿相對于防弦層的樹脂成分畫質量份，二氧化硅粒子的含量為1050質量份。此外，本發(fā)明提供圖像顯^置，其特征在于在最表面具有上述光學疊層5體。此外，本發(fā)明提供偏振板，其特征在于具有偏光元件(偏光素子)，在偏光元件表面上具有，光學ftjl體。此外，本發(fā)明提供圖像顯示裝置，其特征在于在最表面上具有上述光學疊層體或上述偏振板。10此外，本發(fā)明提供光學特性得到改善的光學疊層體的制造方法，該光學疊層體包括透光性基材和含有二氧化硅粒子的防弦層，該方法的特征在于包括以下步驟(a)(e):(a)將二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)至lj小于4.0的步驟；(b)將粘合齊附脂和根據(jù)需要的其它成分與前述二氧化硅粒子一起分散到15溶劑中并混合，調制防炫層形成用組合物的步驟，此時，該二氧化硅粒子間的靜電弓l力得到抑制，獲得二氧化硅粒子的凝集得到控制的組合物；(c)提供透光性基材的步驟；(d)在前^it光性St才上涂布步驟(b)中調制的防弦層形成用組合物，形^^布膜的步驟；20(e)使前述涂布膜千燥、固化，得到光學疊層體的步驟；在此，所獲得的光學4M體兼制尤異的黑色再現(xiàn)性(黒色再現(xiàn)性)及防弦性。tt^地，在步驟(a)中，通過使用中空二氧化硅粒子作為二氧化硅粒子，改變其空隙率(空隙率)，將前述二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)到小于4.0。此外，，在步驟(a)中，iM^參雜二氧化硅粒子，將前述二氧化硅粒子25的介電常數(shù)調節(jié)到小于4.0。itWhj繼在步驟(a)中，aiw二氧化硅粒子的表面進行化學^t布，將前述二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)到小于4.0。進一步地，im二氧化硅粒子的表面化學修飾是^ffi硅氧烷材料的疏水化表面化學鵬。30下面詳細地說明本發(fā)明。5本發(fā)明中，只要不特別說明，將單體、低聚物、預聚物等固化性樹脂前體總稱為"樹月g"。本發(fā)明的光學疊層透光性5#上具有含有二氧化硅粒子的防弦層。，二氧化硅粒子的介電常數(shù)為1.5以上，且小于4.0。具有含有這樣的二5氧化硅粒子的防弦層的本發(fā)明的光學4M體顯示出優(yōu)異的光學特性的理由推測如下艮P，現(xiàn)有的光學疊層體含有二氧化硅粒子從而具有了高防弦性。但是，由于現(xiàn)有的二氧化硅粒子一般使用顯示高介電常數(shù)的二氧化硅粒子，因此在防弦層形成用樹脂組合物中會發(fā)生凝集。認為因此得不到二氧化硅粒子均勻分散的10防弦層，所形成的光學fijl體的光學特性低。與此相對，由于本發(fā)明的光學疊層tt防炫層中含有的二氧化硅粒子顯示出特定范圍的介電常數(shù)，因此二氧化硅粒子間的靜電弓l力被抑制，二氧化硅粒子適度她驗，顯示出優(yōu)良的光學特性。，二氧化硅粒子的介電常數(shù)小于4.0。如果為4.0以上，則二氧化硅粒子15變得容易凝集，光學特性低。戰(zhàn)介電常數(shù)越小越好。現(xiàn)在可得到的介電常數(shù)的下限為1.5，更im是2.0。tt^戰(zhàn)介電常數(shù)的上限為3.3，更雌是3.0。二氧化硅粒子的介電常數(shù)可以測定二氧化硅粒子狀態(tài)、或含有二氧化硅粒子的油墨組合物(一乂年組合物)的狀態(tài)以及使用該組合物涂布、固化的光學疊層體的膜狀態(tài)中的任何一個。作為其方法，有探針法、開放型共振器法20(開放型共振器法)、擾動空洞共^法(摂動空洞共振法)、傳播遲延法(伝播遅延法)、橢圓偏光法等，根據(jù)介電常數(shù)的范圍適當?shù)剡x擇各測定方法。測定物在凝膠狀或液體形態(tài)的情況下可以使用專用的測定電Mi2行導通，以確定介電常數(shù)。在測定物為固化膜狀的情況下可以使含有二氧化硅粒子的層作為最表面的光學疊層體導通，從而確定介電常數(shù)。通過切削等僅切出固化膜的含有二氧化硅粒子25的層部分^iS行觀啶，育,更好地確定介電常數(shù)。二氧化硅的介電常數(shù)例如可以ffii改變中空二氧化硅粒子的空隙率、在二氧化硅粒子中摻雜、對二氧化硅粒子表面進行化學修飾等方法來改變。向二氧化硅粒子摻雜的情況可以舉出氟、硼、磷等非金屬元素摻雜，鈦、鉍、鎳等過渡金屬、金屬元素摻雜，或多元摻雜、氧化物摻雜等，可通過適當選擇摻雜的30元素或調節(jié)摻雜濃度來改變介電常數(shù)。對于前述化學修飾，將在下面描述，在對二氧化硅粒子表面進行誘導物處理時，通過調節(jié)表面處理的程度或者適當選擇表面處理劑，可以改變介電常數(shù)。作為，二氧化硅粒子，優(yōu)選t該面積為2000m2/g以下。皿2000m2/g時會變成多L質，存在凝集控制困難的可能性。更上述比表面積的上限為51500m2/g。此外，imJd悉比表面積的下限為100m2/g，更tt^為500m2/g。上述比表面積可以使用BET比表面積測定裝置(島津制作所制卜，^7夕-3000)進行測定。ttelh^二氧化硅粒子的表面實施有機物處理。通逝OT這樣的二氧化硅粒子，不會使下面詳述的防弦層形鵬樹脂組合物的粘度上升，能夠使二氧10化硅粒子的分散性良好。作為實施了，有機物處理的二氧化硅粒子，不特別限定，可以是結晶性、溶膠狀、凝膠狀、中空、多孑L質等中的任何一種狀態(tài)的二氧化硅粒子。此外，也可以是無定形二氧化硅粒子。此外，作為實施了上述有機物處理的二氧化硅粒子，可以使用市售品，例如可列舉無定形二氧化硅(大日精化工業(yè)社制造)、15了工口、》p(f夕，公司制造)、脇二氧化硅(日產(chǎn)化學工業(yè)制造)等。從形成有效的凹凸形狀、表現(xiàn)防弦性的角度考慮，優(yōu)^J^二氧化硅粒子是無定形二氧化硅粒子。上述有機物處理有在二氧化硅粒子表面化學地結合化合物的方法、不與粒子表面化學結合而浸透到粒子內或粒子間的空隙等的物理方法，可以使用任一20禾中。一般地，從處理效率的角度考慮，雌使用禾,羥基或硅醇基(、"/—々基)等二氧化硅粒子表面的活性基的化學處理法。通過實施上述有機物處理而進行的疏水化可以通過三甲基氯硅烷等甲硅烷基化劑(、》"w匕剤)等進行，可衝i甲，基化劑的添加量、反應ME等調節(jié)25gl7W七率進行處理?？紤]到甲硅烷基化處理二氧化硅粒子的分散穩(wěn)定性等，疏水化率，為5090%左右。作為在處理中使用的化合物，可以使用和上述二氧化硅粒子表面的活性基反應性高的硅烷系、硅氧烷系(y口年廿y系)、^E^系材料等。例如，可以列舉甲基三氯硅烷等的直^s單魏代硅氧烷材料(、"y材料)、支麟基30單取代的硅，材料(、>y3—V材料)、或二正丁基二氯娃院、乙基二甲基氯硅烷等的多取代直麟基硅鄉(xiāng)化合物(乂y〕一v化合物:)、多取^^:鏈烷基硅氧烷化合物(^y〕一y化合物:)。同樣地，也可以有效地fOT直g基或支li^基的單取代、多取代硅氧烷材料(、乂口年廿少材料)、硅，材料。根據(jù)需要的功能，也可以^^在烷的末端或中間部位具有雜原子、不5飽和結合基(不飽和結合基)、環(huán)狀結合基(環(huán)狀結合基.)、芳香族官能團等的材料。由于這些化合物所含的烷基顯示出疏水性，因此可以將被處理材料表面從親水性容易地變換成^7K性，在未處理時缺乏親和性的高針材料也能夠得到高親和性。相對于防弦層的樹脂成分100質量份，上述二氧化硅粒子的含量優(yōu)選為io1050質量份。小于10質量份時，防弦性可能不夠。更^j:也，戰(zhàn)含量的下限為20質量份。此外，艦50質量份時，光透過率降低，在用作光學疊層體的情況下，可能會對光學特性產(chǎn)生不好的影響。更tt^h述含量的上限為40質量份。mid^二氧化硅粒子的平均粒徑為0.510.0Mm。小于0.5Mm時，凝集力15增大，;驗控制可能變得困難，而且防炫性降低，可能需要大量添加。艦IO.Omhi時，，過率降低，在制成光學疊層體的情況下，可能會對光學特性產(chǎn)生不好的影響。更，，平均粒徑為1.05.0miti。上述平均粒徑是利用庫爾特顆粒計數(shù)儀。一小夕一力々y夕一)測定得到的值。20，二氧化硅粒子可以單獨使用，也可以與有機樹脂珠并用。，有機樹脂珠可以舉出聚苯乙烯珠(折射率i.60)、三聚mi安珠(折射率1.57)、丙烯酸類珠(7列/Mf—X、)(折射率1.491.53)、丙烯酸-苯乙烯珠(7夕y/W7千l^乂匕、、一X、)(折射率1.541.58)、苯基胍胺-甲醛縮合物珠(折射率1.66)、三聚氰胺-甲醛縮合物(折射率1.66)、聚碳酸酯珠(折射率1.57)、聚乙25烯珠(折射率1.50)等。j雄戰(zhàn)有機樹脂珠的表面具有船K性基，作為這樣的珠，例如可以舉出聚苯乙烯珠、折射轉易改變的丙烯酸-苯乙烯珠。mi^有機樹脂郷過粒子微是否齊整等毅讎機擇。^J^有機樹脂珠的平均粒徑為0.510.0Mm。小于0.5Mm時，^據(jù)力增大，；驗控制可能變得困難，而且得不到足夠的防弦性，可能需要大量地添加。30MIO.Omhi時，光M:率斷氏，在制成光學艱體時，可能會對光學特性產(chǎn)生不好的影響。更imt也，平均粒徑為1.05.0Mm。戰(zhàn)平均粒徑是利用庫爾特顆粒計數(shù)儀(3—》力々y夕一)測定得到的值。相對于100質量份的二氧化硅粒子，上述有機樹脂珠的含量雌為1050質量份。小于10質量份時，可能得不至促夠的防弦性。5超過50質量份時，^iffl:率斷氏，在制成光學疊層體時，可能會對光學特性產(chǎn)生不好的影響。更優(yōu)i^i^含量的下限是20質量份。此外，更ttit上限是40質量份。im防弦層還含有防污劑。對于現(xiàn)有的光學疊層體，如果為了賦予防污性而使防炫層形成用樹脂組合io物中含有防污劑時，會產(chǎn)生防污劑和二氧化硅粒子凝集而使防炫層的光學特性降低的問題。但是，用于形成本發(fā)明的光學疊層體的防弦層的防弦層形成用樹脂組合物中含有的二氧化硅粒子由于顯示出上述特定范圍的介電常數(shù)，因此即使在防炫層形鵬樹脂組合物中含有上述防污齊啲情況下，也可以抑制靜電引九二氧15化硅粒子和防污劑難以凝集。因此，在要求帝隨的光學疊層體的防污性高而在防炫層形成用樹脂組合物中添加防污劑盼瞎況下，也不會降低光學特性，從而育辦得到顯示出高防污性的光學観體。對上述防污劑不特別限定，可以使用公知的防污劑，例如可舉出氟系化合物和/或硅系化合物。具體地，可舉出大日本^V年化學工業(yè)社制的乂力、77、乂夕20F-482。上述防炫層含有防污劑時，特別構成最表面。由此，上述光學疊層體育詢多充分發(fā)揮防污性。含有上述二氧化硅粒子的防弦層是表面具有凹凸m、用于抑制外部光對圖像的映照(映0込W、反射以及面閃光(閃爍)等導致的可視性斷氐的層。25作為在，表面上形成凹凸形仗的方法，可舉出禾傭上述二氧化硅粒子以及根據(jù)需要的上述有機樹脂珠形成凹凸的方法、M51實施壓花賦型處理形成的方法。上述防弦層可以調制含有上述二氧化硅粒子、粘合劑樹脂、溶劑和任意成分的防弦層形成用柳旨組合物來形成。30在上述防弦層形成用樹脂組合物中，粘合齊卿脂雌具有透明性，例如可舉出通過紫外線或電子束固化的樹脂即電離方M線(電離放射線)固4I^樹脂、電離方謝線固化型樹脂和溶齊扦燥型柳旨(熱塑性樹脂等僅使涂布時用于調節(jié)固體成分而添加的溶劑干燥即成為被膜的樹脂)的混合物、或熱固性樹脂。更{，為電離方M線固化型樹脂。5作為上述電離方i(l寸線固化型樹脂，例如可舉出具有丙烯酸酯類的官能團的化合物等具有1個或2個以上不飽和鍵的化合物。作為具有1個不飽和鍵的化合物，例如可舉出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯勘比咯烷酮等。作為具有2個以上不飽和鍵的化合物，例如可舉出聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二io醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等的多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等的反應生鵬(例如多元醇的多(甲基)丙烯酸酯)等。財卜，在本說明書中，"(甲基)丙烯酸酯"指的是甲基丙烯酸酯禾吶烯酸酯。15除了上述化合物，也可以使用具有不飽和雙鍵的較低分子量的聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸類樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇聚烯樹脂(求y于才一々求y工^榭脂o等作為上述電離放射線固化型樹脂。上述電離方婦寸線固化型樹脂可以和歸旰燥型樹脂并用。通過并用竊扦20燥型樹脂，可有效地防止涂布面的被膜缺陷，這樣可以獲得優(yōu)異的亮黑感。一般地，作為可以與上述電離方婦寸線固化型樹脂并用的M斤燥型樹脂，不特別限定，可以使用熱塑性樹脂。對戰(zhàn)熱塑性樹脂不特別限定，例如可舉出苯乙烯類樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂、乙酸乙烯酯類樹脂、乙烯基醚類樹脂、含卣樹脂、月旨環(huán)^fc希烴類樹脂、25聚碳酸酯類樹脂、聚酯類樹脂、聚翻安類樹脂、纖維素衍生物、硅，類樹脂以及繊或彈性體等。雌上述熱塑性樹脂為非結晶性的、并在有機翻」(特另提可溶解多種聚合物、固化性化合物的通用溶劑)中可溶。特別地，從制膜性、透明性或耐氣候性的角度考慮，^乙烯類樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂、月旨環(huán)^)i烴類樹脂、聚酯類樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。30在本發(fā)明的光學疊層體中，后述的透光性基材的材料為三乙酰纖維素10(TAC)等纖維素類樹脂時，作為戰(zhàn)熱塑性樹脂的雌具體實例，可舉出纖維素類樹脂，例如硝酸纖維素、乙酰纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙基羥基乙基纖維素、乙酰丁基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物等。通)i使用纖維素類樹脂，可以提高與透光性基材、根據(jù)需要形成的防靜電層等層的密5合性禾隨吸性。進而，除了上述纖維素類樹脂，還可以舉出乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯類樹脂，聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁瞎縮醛樹脂，丙烯酸類樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸類樹脂及其共聚物等丙烯酸類樹脂，聚苯乙烯樹脂，聚,安樹脂，聚碳酸酯樹脂等。10作為上述粘合劑樹脂f頓的熱掛性樹脂，可舉出酚醛樹脂、尿素樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酉旨樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基醇酸樹脂、三聚氰胺-尿素共縮合樹脂、硅樹脂、聚硅氧烷樹麟。上述防弦層形成用樹脂組合物tt^含有光聚合弓l發(fā)劑。作為上述光聚合弓I15發(fā)劑，可舉出作為苯乙酮類(例如商品名為一^力、年-7184，于/《.7X夕十》亍^.亇^力々義社制造)市售的l-羥基-環(huán)a^-苯基-酮、二苯甲酮類、噻噸酮類、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、芳香族重氮像鹽、芳香族锍鹽、芳香族碘鴒"鹽、金屬茂(少夕ir口y)化合物、苯偶姻磺酸酯等。這些光聚合引發(fā)劑可以^^蟲使用或者將兩種以上并用。20上述光聚合引發(fā)劑的添加量相對于上述電離放射線固化型樹脂固體成分100質量份，優(yōu)選為0.110質量份。在不會對本發(fā)明的效果產(chǎn)生影響的情況下，可以根據(jù)需要向上述防弦層形成用樹脂組合物添加其它任意成分。作為上述任意成分，可舉出，有機樹脂珠、戰(zhàn)防污劑、上述以夕卜的樹脂、表面活性劑、偶聯(lián)劑、增粘劑、著色防止25齊U、顏料或染料等的著色劑、消泡劑、流平劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、粘著賦與劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改性劑等。這些成分可以〈頓在防弦層中通常4柳的公知物質。上述防弦層形成用樹脂組合物例如可通過^i:述二氧化硅粒子、粘合劑樹月旨、光聚合弓l發(fā)劑以及其它任意成分與翻嗨合并進行分散處理獲得。在上述30混合分散中，可以4柳涂料調配器(^t*z卜、>工一力一)或珠磨機(匕、、-乂$/10作為戰(zhàn)竊U，可舉出水、醇(如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、苯甲醇)、酮(如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮)、酯(如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯)、脂肪5族烴(如己烷、環(huán)己烷)、卣代烴(如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(如苯、甲苯、二甲苯)、醐安(如二甲基甲醐安、二甲基乙醐安、n-甲勘比咯烷酮)、醚(如二乙醚、OS烷、四氫呋喃)、醚醇(如l-甲氧基-2-丙醇)等，但不限于上述二此外，這些翻呵以適當?shù)鼗旌?種以上來使用。其中尤其{腿酮類、酯類、芳香族烴類，在分散性、分散穩(wěn)定性、安全性方面，更4繼io^il至少一種酮類激U，進一步^it為甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮。地，上述防弦層是在透光性St才上涂布，防炫層形成用樹脂組合物、根據(jù)需要進行干燥并利用活性能量線照射使其固化而形成的。作為涂布上述防炫層形成用樹脂組合物的方法，可舉出輥涂法、邁耶繞線#^布法、凹槽輥涂布法、口模涂布法。15作為上述活性能量線照射，可舉出利用紫外線或電子束的照射。作為紫外線源的具體實例，可舉出超高壓汞燈、高壓汞燈、低壓汞燈、碳弧燈、背光源熒光燈、金屬卣化物燈等的光源。紫外線的波長可以f頓190380nm的波長范圍。作為電子束的具體實例，可舉出Cockcroft-Walton型、VandeGraaff型(/^f'夕、'，:7卜型)、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型(絶縁〕7変圧器型)、或20直線型、Dynamitron型(夕V于$卜口乂型)、高頻型等各種電子束加it器。，防炫層的厚度,為1.07.5(Lun。當小于1.0Mm時，可能得不到足夠的防弦性。艦7.5Mm時，itM率降低，在制成光學疊層體時，可能會對光學特性產(chǎn)生不好的影響。更t^i:述厚度的下限為2.0Mm。此外，更±限為3.0,。25此外，戰(zhàn)防炫層的厚度可禾,激光顯微鏡、SEM、TEM進行截面觀察而測定。例如，作為禾,激光顯微鏡的膜厚測定方法，可以使用激光共聚焦顯微鏡(LeicaTCS-NT:，^力社制造倍率2001000倍)，對防弦層的截面進t豫過觀察。例如具體地，為了獲得沒有光暈的鮮明圖像，可以在激光共聚焦顯微鏡中使用濕式物鏡，同時為了消除物鏡和防弦層截面間的空氣層在防弦層截面30上加入大約2ml折射率為1.518的油進行觀察。接著，對于顯微IM察的1個畫面，對每l點觀啶凹凸的Max部、Mn部的膜，共測定2點。共測定5個畫面，10點，算出平均值，由此可以求出平均膜厚。在SEM、TEM的截面觀察中，也可以如上所述地觀察5個畫面，求出平均值。雌地，上腿光性基材是具有透明性、平滑性、耐熱性且機械強度優(yōu)異5的基材。作為形成上M光性基材的材料的具體實例，可舉出聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯)、三乙酰纖維素(TAC)、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚翻安、聚酰亞胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚氨酯等熱塑性樹脂，優(yōu)io選地可舉出聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酰纖維素(TAC)。此外，作為上^光性基材，可以使用具有脂環(huán)結構的非晶質烯烴聚合物(環(huán)烯烴聚合物(COP)膜。其是采用降冰片烯類聚合物、單環(huán)的環(huán)狀烯烴類聚合物、環(huán)狀共軛二烯烴類聚合物、乙烯基脂環(huán)幼5，合物樹月誇的基材，15例如可舉出曰本if才y(株)制的廿才氺、乂夕7、'廿才/7(降冰片烯類樹脂)、住友《一夕，Y卜(株)制的7《，,卜FS-1700、JSR(株)制7—卜:/(改性降冰片烯類樹脂)、三井化學(株)制的7々u(環(huán)狀烯烴共聚物)、Ticona公司制Topas(環(huán)^:希烴共聚物)、日立化成(株)制的才7卜卜,乂OZ-1000系列(脂環(huán)式丙烯酸類樹脂)等。另外，作為三乙酰纖維素的替代基材，還雌旭化成20女^力AX、(株)制的FV系列(低雙折射率、低光彈性模)。上M光性S^雄將上述熱塑性樹月雜喊柔軟性好的膜狀體f頓，但是也可以根據(jù)固化性所要求的使用方式來4OT這些熱塑性樹脂的板，或者也可以4OT玻璃板的板狀體。Jd^t光性謝的厚度雌為20300,更雌為30200,在透光25性基材為板狀體的情況下，其厚度可以超過，厚度，為300inm5000Mm。在基材上形成防靜電層等時，為了提高粘著性，除了電暈放電處理、氧化處理等物理M之外，也可以預先涂布被稱為錨固劑(7乂力一剤)^漆的涂料。本發(fā)明的光學疊層體{，在±^防弦層上還具有低折射率層。上述低折射率層形成在防弦層的表面上，其折射率比防弦層低。根據(jù)本發(fā)明的im方式，30防炫層的折射率為1.48以上，低折射率層的折射率小于1.48，為1.45以下。低折射率層可以由1)含有二氧化硅或氟化鎂的材料，2)作為低折射率樹脂的氟系材料，3)含有二氧化硅或氟化鎂的氟系材料，4)二氧化硅或氟化鎂的薄膜等的任一種構成。上述氟系材料是至少分子中含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。對聚5合性化合物不特別限定，例如優(yōu)選具有通過電離方婦寸線固化的官能團(電離放射線固化性基)、通過熱固化的極性基(熱固化極性基)等固化反應性基團的聚合性化合物。此外，也可以是同時具有這些反應性基團的化合物。作為含有氟原子的具有電離細寸線固化性基的聚合性化合物，可廣泛^ffi具有乙烯性不飽和鍵的含氟單體。更具體地，可列舉氟微希烴類(例如氟乙烯、io偏氯乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-l,3-二氧雜環(huán)戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯酰氧基的聚合性化，，有2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、a-三氟甲基丙烯酸甲酯、15a-三氟甲基丙烯酸乙酯等分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中具有下述基團的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等具有至少3個氟原子的碳數(shù)為114的織基、氟環(huán)烷基或氟亞烷基、和至少2個(甲基)丙烯酰氧基。作為含氟原子的具有熱固化性極性基的聚合性化合物，例如可以舉例4-氟20乙烯-全織基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯基醚共聚物；環(huán)氧、聚氮酯、纖維素、酚醛、聚亞胺等各種樹脂的氟改性品等。作為上述熱固化性極性基例如ttit舉出羥基羧基、氨基環(huán)氧基等氫鍵形成基。這些不僅與涂膜的密合性優(yōu)良，而且與二氧化硅等無機超微粒子的親和性也優(yōu)異。作為同時具有電離放射線固化性基和熱固化性極性基的聚合性化合物(氟25系樹脂)，可以列舉丙烯或甲基丙烯酸的部分和完全氟化烷基、烯基芳基酯類，完全或部分氟化乙烯基醚類、完全或部分氟化乙烯基酯類、完全或部分氟化乙烯基酮類等。作為含有氟原子的上述聚合性化合物的聚合物，例如可以舉出包含至少一種具有上述電離放射線固化性基的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化30合物的單體或單體混合物的聚合物；至少一種含氟(甲基)丙烯酸酯化合物與(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、U,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯這樣的含氟單體的均聚物或共聚物；等。5此外，在這類共聚物中含有硅氧烷成分的含硅氧烷偏氟乙烯也可以作為上述聚合性化合物的聚合物使用。作為這種情況下的硅^^成分，可以列舉(聚)二甲基硅氧院、(聚)二乙基硅氧院、(聚)二苯基硅氧垸、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基的(聚)二甲基硅鄉(xiāng)、二甲基硅氧烷、苯基甲基硅氧烷、烷基芳烷基改性硅氧烷、氟硅氧烷、聚醚改性的硅10氧烷、月旨肪酸酯改性的硅氧烷、甲驢硅氧烷、含硅醇基的硅氧烷、含烷氧基的硅氧垸、含苯酚基(7-/—》基)的硅氧垸、甲基丙烯酸改性硅氧烷夕夕y》変性y3—y)、丙烯酸改性的硅氧烷cr夕u/w変性^i;3—y)、氨基改性的硅氧烷、羧酸改性的硅氧烷、甲醇改性的硅氧烷、環(huán)氧基改性的硅氧烷、巰基改性的硅氧烷、氟改性的硅氧院、聚醚改性的硅氧烷等。其中具15有二甲基硅氧院結構的。此外，除了戰(zhàn)的以外，進一步地，也可以采用分子中具有至少1個異氰酸酯基的含氟化合物和肝中具有至少1個氨基、羥基羧基等與異氰酸酉旨基反應的官能團的化合物反應而得到的化合物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟s-己內酯改性的多元醇等含氟的多元醇和具有異氰20酸酯基的化合物反應而得到的化合物割乍為氟系材料。在形成低折射率層時，例如可以使用含原料成分的組合物(折射率層形成用組合物)來形成。更具體地，根據(jù)原料成分(樹脂等)和需要，使用將添加劑(例如后述的"具有空隙的微粒子"、聚合引發(fā)劑、防靜電齊轉)溶解或分散到歸忡而成的溶液或分散液作為低折射率層形鵬組合物，禾擁上述組合物25形^^膜，{肚述涂膜固化而獲得低折射率層。此外，聚合引發(fā)劑等添加劑可以舉出在防弦層中所述的添加劑。溶劑例如也可列舉在防弦層中所述的溶劑，雌地是甲基異丁基酮、環(huán)己酮、異丙醇(IPA)、正丁醇、叔丁醇、二乙酮、PGME等。上述組合物的制備方法可以將成分均勻地混合即可，可以按照公知方法實30施。例如，可以{頓在防弦層的形成中所述的公知體來混合。15涂膜的形成方法可以按照公知的方法。例如可以使用在防弦層的形成中所述的各種方法。得到的涂膜的固化方法可以根據(jù)組合物的內容等適當進行選擇。例如，如果是紫外線固化型，貝何以MXt凃膜照射紫外線使其固化。5在Jl^低折射率層中，低折射率劑tt^用"具有空隙的微粒子"。"具有空隙的微粒子"能夠保持防弦層的層強度的同時，降低其折射率。在本發(fā)明中，"具有空隙的微粒子"是指，形成微粒子的內部填充有氣體的結構和/或含有氣體的多孔質結構體、與微粒子本身的折射率相比折射率與微粒子中的氣體占有率成反比例地降低的微粒子。此外，在本發(fā)明中，根據(jù)微粒子的形態(tài)、結構、凝集狀10態(tài)、被膜內部中微粒子的分散狀態(tài)，也包含內部和/^面的至少一部分可形成納米多孔結構的微粒子。使用該微粒子的低折射率層的折射率可以調節(jié)到1.301.45。作為具有空隙的無機系微粒子，可以舉出例如根據(jù)日本特開2001-233611號公報中記載的方法制備的二氧化硅微粒子?？梢允歉鶕?jù)日本特開平7-13310515號公報、日本特開2002-79616號公報、日本特開2006-106714號公報等中記載的制造方法得到的二氧化硅微粒子。由于具有空隙的二氧化硅微粒子容易制造，且其自身的硬度高，因此在與粘合劑混合形成低折射率層時，層5驢提高，并且，可以將折射率調節(jié)到1.20-1.45左右的范圍內。特別±也，作為具有空隙的有機系微粒子的具體實例，例如雌列樹頓日本特開2002-80503號公報中公開20的技術制備的中空聚合tr微粒子。作為可在被膜的內部和/皿面的至少一部分形成納米多孔結構的微粒子，除了前述的二氧化硅微粒子，還可以歹U舉為了增大比表面積而帝i遺的、以組入到填充用的柱以及表面的多孑L質部分中吸附各種化學物質的緩釋材料(除放材)、催化劑固定用的多孔,微粒子或隔熱材料和低電介材料中為目的的中空微粒子25的分散體、凝集體。作為這樣的具體實例，可以采用如日本、乂U力工業(yè)株式會社制造的商品名為Nipsil、Nipgel中的多孑L質二氧化硅微粒子的集合體，由日產(chǎn)化學工業(yè)(株)制造的具有二氧化硅微粒子的fil^l^i接結構的膠態(tài)二氧化硅UP系列(商品名)中的粒徑在本發(fā)明范圍的。"具有空隙的微粒子"的平均粒徑為5nm300腦，4腿下限為8nm以上，30上限為100nm以下，更j雌下限為10nm以上，上限為80nm以下。ffl31微粒子的平均粒徑在該范圍，可以使防弦層具有優(yōu)異的透明性。要說明的是，上述平均粒徑是利用動態(tài)光翻寸法等方法測定的值。"具有空隙的微粒子"在上述低折射率層中相對于勵質量份的基糊B誕常為0.1500質量份左右，是10200質量份左右。5在形成低折射率層時，使上述低折射率層形成用組合物的粘度為可得到優(yōu)選涂布性的0.55cps(25°C)，i^為0.73cps(25°C)。育g夠實現(xiàn)優(yōu)良的可見光的鄉(xiāng)防止膜，并且，能夠形成均勻地沒有涂布不勻的薄膜，從而形成對于基材的密合性特另批異的低折射率層。樹脂的固化方法可以和在防弦層中所說明的方法相同。為了固化處理而利io用加熱方法時，優(yōu)選將通過加熱例如產(chǎn)生自由基而使聚合性化合物開始聚合的熱聚合弓1發(fā)劑添加至愾系樹脂組，中。tt^t也，低折射率層的膜厚(腿)dA滿足下式(I):dA=mA7(4nA)(I)(上式中，nA表示低折射率層的折射率，mg正奇數(shù)，iM表示l，凍15示波長，優(yōu)選為480580nm范圍的值)。此外，在本發(fā)明中，從低反射率化方面tt^低折射率層滿足以下數(shù)學式(n):12(KnAdA<145(U)本發(fā)明的光學疊層體除了上述防弦層和低折射率層之外根據(jù)需要可以設置防污染層、防靜電層、高折射率層或中折射率層等任意的層。20上述防污染層、防靜電層、高折射率層、中折射率層可以制備添加了一般使用的防污劑、高折射率劑、中折射率劑、防靜電劑或樹月誇的組合物，禾,公知方法形成各^^層。本發(fā)明的光學疊層體的表面具有凹凸形狀。對于上述凹凸形狀，在設光學ftM體最表面的層的凹凸的平均間隔為Sm、凹凸部的平均傾斜角為ea、凹25凸的十點平均粗糙度為Rz的情況下，(Sm、0a、Rz的定義依據(jù)JISB06011994)。i^Sm為40iom600nm，6a為0.3度5.0度，Rz為0.3idm4.0fjm。下面描述用于求出Sm、ea、Rz所用的表面粗糙度測定器的測定條件。表面粗糙度測定器(型號S&3400/(株)小坂研究所制造)1)表面粗糙度檢測部的探針(觸針)30型號/SE2555N(2p標準)(株)小坂研究所制造(前端曲率半徑2一頂角90獻材料金剛石)2)表面粗糙度測定器的測定斜牛掛隹長度(粗糙度曲線的iUh值k):0.8mm刑介長度(難長度(截止值入c)x5):4.0匪5探針的移動鵬0.1mm/s本發(fā)明的光學疊層體的可見光iffl:率im為90%以上。小于90%時，在安裝于顯示器表面時，可能有損色再現(xiàn)性。更{^^可見光^1率為95%以上，進一步為98%以上。戰(zhàn)光學觀體的表面濁度值(八,x'値)4腿為10%以下。超過10%時，io在安裝于顯示^^面的情況下，可能有損色再現(xiàn)性。更imJl^濁度為0.25%。戰(zhàn)表面濁度值是禾擁RI寸'艦率計HM-150(村上色彩技術研究所制造)測定得到的值。，光學疊層體的內部濁度值，為70%以下。上述內部濁度值處于上述范圍內時，可以得到改善將本發(fā)明的光學疊層體用于LCD等時的表面閃光(閃15爍)的效果。上述表面濁度值和內部濁度il^利用后述的方法得到的值。g口，在光學疊層體的最表層(例如防炫層或低折射率層)的凹凸上用邁耳際線,布將季戊四醇三丙烯酸酯等樹脂(包含單體或低聚物等的樹脂成分)用甲苯等稀釋，使固體成分為60%的物質，使干燥膜厚為8nm。由此，最表面的表面凹凸，贓壞20而形成平坦的層。其中，由于在形成該最表層的組合物中添加了流平劑等，在再涂(y〕-卜)劑易于被排斥而不易潤濕的情況下，可以通過預先對防炫膜進行皂化鵬(2mol/l的NaOH(或KON)溶液在55度下浸漬3射中后，7夂洗，用kimwipes(年厶17^7。)完全除去7jC滴后，在50度的烘箱中干燥1分鐘)，實施親水處理。該表面經(jīng)平坦化的膜成為不具有由表面凹凸而產(chǎn)生的濁度、只具有25內部濁度的狀態(tài)。該濁度可以作為內部濁度而求出。因此，從原先的光學疊層體的濁度(整體濁度)減去內部濁度的值，可以求出僅由表面凹凸產(chǎn)生的濁度(表面濁度)。此外本發(fā)明提供一種具有偏光元件的偏振板，上述偏振板在偏光元件表面具有戰(zhàn)的光學觀體。30對上述偏光元件不特別限定，例如，可以{頓通過碘進行染色的、拉伸的聚乙烯醇膜，聚乙烯醇縮甲醛膜，聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏光元件和本發(fā)明的光學疊層體的層合處理中，優(yōu)選對透光性對才進行皂化M。禾,皂化處理，可以獲得粘著性良好的防靜電效果。本發(fā)明還提供在最表面具有上述光學疊層體或上述偏振板的圖像顯示裝5置。Jd悉圖像顯^置可以舉出LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等。上述圖像顯^置的代表例LCD包括M性顯示體、和從背面照射該顯示體的光源裝置。本發(fā)明的圖像顯^S為LCD時，其M性顯示體的表面形成io有本發(fā)明的光學疊層體或本發(fā)明的偏振板。本發(fā)明為在具有上述光學疊層體的液晶顯示裝置的情況下，光源裝置的光源從光學4il體的下側照謝。此外，在STN型液晶顯碟置中，可以在液晶顯示元件和偏振板之間插入相位差板。該液晶顯示裝置的各層間可以根據(jù)需要設置粘著劑層。15上述圖像顯^置的一個例子PDP具有表面玻璃基板、與該表面玻璃相對配置且在它們之間封入放電氣體的背面玻璃基板。在本發(fā)明的圖像顯示裝置是PDP的情況下，，表面玻璃基板的表面，面板(玻璃基板基板)上具有上述光學疊層體。上述圖像顯示裝置也可以是在玻璃基板上蒸鍍了施加電壓時發(fā)光的硫化20鋅、二胺類物質發(fā)光體，控制施加于繊上的電壓^iS行顯示的ELD裝置，或者是將電子信號變換成光、產(chǎn)生人眼可以看至啲圖像的CRT等圖像顯碟置。在這種情況下，如上所述的各顯^置的最表面或前面板的表面上具有上述的光學觀體。本發(fā)明的光學疊層體任一情況下可以用于電視機、計算機、文字處理機等25的顯示器顯示。特別地，可以適用于CRT、液晶面板、PDP、ELD等高清晰圖像用顯示器的表面。發(fā)明彭深本發(fā)明的光學疊層體由于具有上述結構，因此防弦性、防污性和色再現(xiàn)性30優(yōu)異。因此，可以l^!子iM用于陰mi寸線管顯^g(CRT)、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)、電致發(fā)光顯示器(ELD)等中。實施發(fā)明的最佳方式下面，根據(jù)實施例和比較例更加詳細地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明的內容并5不解釋為限定于這些實施方式。如不特別說明，"份'和"％"是質量基準。(無定形二氧化硅粒子的制備)在下述的實施例和比較例中使用的無定形二氧化硅是利用硅勝內和硫酸的中和反應的濕式法(例如日本t封午第1781081號、日本t封午第1409252號、曰本#1午第2667071號、日本牛封午第3719687號)第隨的。對得到的無定形二氧io化硅粒子利用三甲基氯硅烷進行疏水化表面化學處理，將其疏水化率調節(jié)到5090%的范圍，得到介電常數(shù)不同的各種無定形二氧化硅粒子。(介電常數(shù)的觀啶)制作各分散了1種在M實施例和比較例中使用的無定形二氧化硅粒子的分散液，制備介電常數(shù)測定用的i^。15介電常數(shù)是使用v—，卜口y公司制造的1260型阻抗測定器(2端子法)、在頻率范圍lKHz-100KHz、測定Mit為25。C下測定。此外，介電常數(shù)也可以在前述的分散液狀態(tài)以夕卜的在涂布、固化成為光學疊層fl^t態(tài)之后，通過切削等僅切出固化膜的含有二氧化硅的層部分^6t行測定。這樣，可以在該切出的膜的兩面濺射金，進一步地在膜周圍適當?shù)卣持y20糊料荊吏其導通，加溫到8CTC進行減壓千燥，從而得至階電常數(shù)測定用的試樣。在成為固化膜盼瞎況下，含有幾種無定形二氧化硅粒子時為其平均值。(防弦層形成用柳旨組合物的審'J備)(制備例l)25防弦層形J^樹脂組合物1的制備紫外線固4a樹脂季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)20質量份醋酸丙酸纖維素(分子量50000)0.25質量份30光固化引發(fā)劑201.2質量份0.2質量份1.24質量份^》;if年-7184(^只.7^0亇》亍^r.^"《力々義(株)制)^T/Mf^工7907(千只.7^p亇小xY.^$力少義(株)制)無定形二氧化硅粒子(介電常數(shù)2.5)(平均粒徑1.0pm，禾傭麟偶聯(lián)劑進行了表面船K鵬)硅織類流平劑甲苯甲基異丁基酮充分混合±^材料，制成組合物。用孔徑為30pm的聚丙烯制濾器過濾該組合物，制備固體成分為35%的防弦層形]^樹脂組合物1o0.013質量份34.0質量份8.5質量份25(制備例2)防弦層形成用樹脂組合物2的制備紫外線固4鵬樹脂季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)醋酸丙酸纖維素(分子量50000)光固化引發(fā)劑^r》力-年-7184(千z.7X^"W"亍Y.々s力々義(株)帝u)<々力々二7907(于".7^^"W"亍^'，3力々X(株)制)無定形二氧化硅粒子(平均粒徑1.5pm，介電常數(shù)2.5)無定形二氧化硅粒子(平均粒徑l雞m，介電常數(shù)3.0)硅敏類流平劑甲苯甲基異丁基酮充分混合，材料，制成組合物。用？L徑為30pm的聚丙烯制濾器過濾該組合物，制備固體成分為38.5%的防弦層形成用樹脂組合物2。38質量份0.76質量份2.3質量份0.4質量份1.16質量份7.27質量份0.079質量份60.2質量份14.1質量份(制備例3)防弦層形,樹脂組合物3的制備紫外線固化型樹脂30季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)2.20質量份異,酸改性二丙烯酸酉旨M215(日本化藥(株)制，折射率1.51)1.21質』0.34質』聚甲基丙烯酸甲酯(分子量75000)光固化引發(fā)劑5^乂i^f年-7184(千".7人^卞/"于吖.^$力^乂(株)制)0.22質量^/M/年工7907(于"7乂^亇^于吖.女《力/W^(株)制)0.04質量透光性第一粒子單分散丙烯酸類珠(粒徑9、m，折射率1.535)0J2質透光性第二粒子1.73質io無定形二氧化硅油墨(不定形^y力一y年)(平均粒徑1.5pm，固體成分60%，介電常數(shù)2.5)t份t份份份量份量份流平劑硅織類流平劑0.02質量份15歸U:甲苯5.88質量份環(huán)己酮1.55質量份充分混合J:M材料，制成固體成分為40.5%的組合物。用孔徑為30^im的聚丙烯制濾器過濾該組合物，制備防弦層形成用樹脂組合物3。20(制備例4)防弦層形成用樹脂組合物4的制備將防弦層用柳旨組合物1記載的無定形二氧化硅粒子(介電常數(shù)為2.5)改，無定形二氧化硅粒子(介電常數(shù)為4.0)，除此之外，配合比等完全相同地25制備防炫層形成用樹脂組合物4。(制備例5)防弦層形成用樹脂組合物5的制備將防炫層形/^ffl樹脂組合物2記載的無定形二氧化硅粒子(平均粒徑1.5p30m，介電常數(shù)為2.5)改無定形二氧化硅粒子(平均粒徑1.5pm，介電常數(shù)4.0)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制備防弦層形鵬樹脂組合物5。(制備例6)防弦層形成用樹脂組合物6的制備5將防弦層形自樹脂組合物3記載的"無定形二氧化硅油墨(平均粒徑lm，固體成分為60%，介電常數(shù)為2.5)"改無定形二氧化硅油墨(平均粒徑lm，固體成分為60%，介電常數(shù)為4.0)的材料，除lfct外，配合比等完全相同地制備防弦層形鵬樹脂組合物6。io(制備例7)防弦層形成用樹脂組合物7的制備將防弦層形J^樹脂組合物3記載的"無定形二氧化硅油墨(平均粒徑lm，固體成分為60%，介電常數(shù)為2.5)"改無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1.5pm，固體成分為50%，介電常數(shù)為l.O)的材料，除lt[^外，配合比等完15全相同地制備防弦層形鵬樹脂組合物7。(制備例8)防弦層形成用扭J脂組合物8的制備將防炫層形自樹脂組合物3記載的"無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1、20m，固體成分為60%,介電常數(shù)為2.5)"改無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1.5pm，固體成分為50%，介電常數(shù)為1.5)的材料，除lifct外，配合比等完全相同地制備防弦層形鵬樹脂組合物8。(制備例9)25防'炫層形,樹脂組合物9的制備將防弦層形l^樹脂組合物3記載的"無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1.5pm，固體成分為60%，介電常數(shù)為2.5)"改無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1.5pm，固體成分為60%，介電常數(shù)為2.5)的材料，除lth^外，配合比等完全相同地制備防弦層形鵬樹脂組合物9。30(制備例10)防弦層形成用樹脂組合物10的制備將防弦層形自樹脂組合物3記載的"無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1.5pm，固體成分為60%,介電常數(shù)為2.5)"改，無定形二氧化硅油墨(平均粒5徑1.5)im，固體成分為50%，介電常數(shù)為3.0)的材料，除ltk^外，配合比等完全相同地制備防弦層形鵬樹脂組合物10。(制備例ll)防弦層形成用樹脂組合物ll的制備io將防弦層形l^樹脂組合物3記載的"無定形二氧化硅油墨(平均粒徑lm，固體成分為60%,介電常數(shù)為2.5)"改無定形二氧化硅油墨(平均粒徑1.5pm，固體成分為50%，介電常數(shù)為3.3)的材料，除jfet外，配合比等完全相同地制備防炫層形鵬樹脂組合物11。15(制備例12)低折射率層形成用組合物的制備中空二氧化硅漿9.57質量份(IPA，MIBK分散，固體成分為20%，粒徑50nm)20季戊四醇三丙烯酸酯PET300.981質量份(紫外線固化型樹腺日本化藥制)AR1106.53質量份(氟聚合物；固體成分為15。/o的MBK溶液；^V年y工業(yè)制造)^/P力'年a71840.069質量份25(光固化引發(fā)劑；千只只^少卞々亍^，$力汝義(株)制造)硅^K類流平劑0.157質量份丙二醇單甲基醚(PGME)28.8質量傷、甲基異丁基酮53,9質量份充分混合i:^成分，用孔徑為lO)im的聚丙;):躺鵬器過濾該組合物，制備固30體成分為4%的低折射率層形鵬樹脂組合物。其折射率為1.40。24(實施例l)防弦層的形成f柳三乙酰纖維素膜(TD80U，富士寫真7心"(株)帝U;厚度80nm)5作為透明St才，在膜上^OT涂布用繞線棒(邁耶繞線棒)#6涂布防弦層形自樹脂組合物8，在7(TC的烘箱中加熱^P燥1辦中，使M喊分蒸發(fā)后，在氮氣氛中(氧濃度為200ppm以下)，照射紫外線使得照射線量為100mJ，使涂膜固化形成防弦層。低折射率層的層疊io在防弦層上{頓涂布用繞線棒(邁耳際線棒)#2涂布制備例12制備的低折射率層形成用組合物，在7(TC的烘箱中加熱^P燥1併中，使M(J成分蒸發(fā)后，在氮氣氛中(氧濃度為200ppm以下)，照射紫外線使得照射線量為100mJ，使涂膜固化，得到層疊了低折射率層的光學疊層體l。15(實施例2)將防弦層形自樹脂組合物8改防炫層形自樹脂組合物9，除lfct夕卜，與實施例l同樣地得到光學4M體2。(實施例3)20將防炫層形i^樹脂組合物8改防炫層形自樹脂組合物1，除lttlt夕卜，與實施例l同樣地得到光學ftjl體3。(實施例4)將防弦層形鵬樹脂組合物8改艦防弦層形鵬樹脂組合物2，除紋25夕卜，與實施例l同樣地得到光學ftjl體4。(實施例5)^頓和實施例1相同的三醋酸纖維素膜(TD80U，富士寫真7—々厶(株)制；厚度80pm)作為透明S^才，在膜上f頓涂布用繞線棒(邁耶繞線棒)#1430涂布防弦層形成用樹脂組合物3，在7(TC的烘箱中加熱千燥1併中，使翻喊分蒸發(fā)后，照射紫外線使照射線量為30mJ，使涂膜固化形成防弦層。低折射率層的疊層在防炫層上j頓涂布用繞線棒(邁耶繞線棒)#2涂布在制備例12中制備的低折射率層形成用組合物，在7(TC的烘箱中加熱千燥1併中，使翻喊分蒸發(fā)5后，在氮氣氛(氧濃度為200ppm以下)中，照射紫外線使照射線量為歸mJ，使涂膜固化得至'展疊了低折射率層的光學疊層體5。(實施例6)將防弦層形鵬樹脂組合物8改防炫層形鵬樹脂組合物10，除ifetio夕卜，與實施例l同樣地得到光學4M體6。(實施例7)將防炫層形自樹脂組合物8改^防弦層形，樹脂組合物11，除fe夕卜，與實施例1同樣地得到光學SM體7。15(比較例l)將防炫層形鵬樹脂組合物8改頓防弦層形鵬樹脂組合物4，除te夕卜，與實施例l同樣地得到光學ftM體8。20(比較例2)將防弦層形自樹脂組^tl8改M防炫層形自樹脂組合物5，除;fet夕卜，與實施例l同樣地得到光學ft)l體9。(比較例3)25將防弦層形鵬樹脂組合物3改頓防弦層形鵬樹脂組合物6，除紋夕卜，與實施例5同樣地得到光學ftjl體10。進行下述評價，其結果記載于表l中。30i刊介l:光學特性i微、表面形狀對實施例和比較例的光學疊層體，按照本說明書的定義，測定光學疊層體整體的濁度Ha值、前述光學ftJl體的內部濁度值Hi、薩a的值、反射Y值(5度反射)。5對于反射率測定，4柳具有5。C正反射觀啶體的分光度計(島津制作所(株)制，UV-3100PC)進行測定。此外，{頓反射率在波長550歸附近變成極小值(衝氐劍寸率)時的值。粥介2:黑色再現(xiàn)性試驗(明室環(huán)境)io在與實施例和比較例的光學疊層體的膜面的相反側貼合正交尼科爾棱鏡的偏振板后，在30W的三波長熒光下(從與防炫層面成45。的方向照射)進行功能iWT(從樣品面上方50cm、大約45。的角度用眼觀察)，并根據(jù)下述的^t詳細地評價黑色再現(xiàn)性(黑看上去是不是黑)。此時作為黑的基準樣品，使用正交尼科爾棱鏡偏振板來比較黑色。15iTO鋭隹評價(D:育,再現(xiàn)黑色。(沒有乳白色的感覺)評價〇大體上肯,再現(xiàn)黑色。(有些乳白色的感覺，覺察不到的7jC平)評價A:黑色再現(xiàn)不充分。(稍微的乳白色的感覺，覺察到的ZK平)評價x:不能再現(xiàn)黑色。(乳白色的感覺強烈，明顯覺察到的水平)20評價3:防弦性評艇驗對實施例和比較例中得到的光學疊層體的背面進4，占著處理，粘貼在黑色丙烯板(了列/l4及)上，作為評價用i辦。準備寬度為20匪的白黑條紋板，25以與試樣面的法線成20度的角度在J^試樣(試樣面向上方傾斜約30度)上映入該條紋，然后進行觀察。此時試樣面的照度為2501x(勒克司)，條紋的亮度(白)為65cd/m2。財卜，條紋板和試樣的距離為1.5m，試樣和觀察者的距離為lm。根據(jù)觀察者觀察其時看到條紋的方式按下述定義進行評價。評價難30評價O):看不到條紋，防弦性良好評價〇看得到條紋，不明顯的水平刑介x:倉,看到條紋<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>產(chǎn)業(yè)實用性本發(fā)明的光學疊層體適用于陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)、電致發(fā)艦示器(ELD)等。權利要求1.一種光學疊層體，其特征在于，具有透光性基材、和含有二氧化硅粒子的防炫層，前述二氧化硅粒子的介電常數(shù)小于4.0。2.如權利要求1所述的光學疊層體，其中，二氧化硅粒子的t該面積為2000m々g以下。3.如權利要求l或2所述的光學ftjl體，其中，二氧化硅粒子為無定形二氧化硅粒子。4.如權利要求13中任何一項所述的光學觀體，其中，相對于防弦層io的樹脂成分100質量份，二氧化硅粒子的含量為1050質量份。5.如木又利要求14中任何一項所述的光學SM體，其中，防弦層上還具剤氐折射率層。6.—種圖像顯^置，其特征在于，最表面上具有權利要求15中任何一項所述的光學疊層體。7.—種偏振板，其特征在于，具有偏光元件，在偏光元件表面具有權利要求15中任何一項所述的光學疊層體。8.—種圖像顯^g，其特征在于，最表面具有權利要求15中任何一項所述的光學疊層體。9.一禾中圖像顯^g，其特征在于，最表面具有權利要求7所述的偏振板。2010.—種光學特性得到改善的光學疊層體的制造方法，該光學疊層體具有透光性S^才和含有二氧化硅粒子的防弦層，其特征在于包括以下步驟(a)(e):(a)將二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)至W、于4.0的步驟；(b)將粘合齊U樹脂和根據(jù)需要的其它成分與前述二氧化硅粒子一起分散、混合到翻忡，制備防炫層形成用組合物的步驟，此時，該二氧化硅粒子間的25靜電引力得至柳制，得到該二氧化硅粒子的驗得到控制的組合物；(c)提供透光性基材的步驟；(d)在前述透光性S^才上涂布步驟(b)中制備的防炫層形鵬組合物，形麟布膜的步驟；(e)使前述涂布膜千燥、固化，得到光學疊層體的步驟，30在此，得至啲光學観體兼?zhèn)鋬?yōu)異的黑色再現(xiàn)性和防炫性。11.如權利要求10所述的制造方法，其中，在步驟(a)中，ffi^頓中空二氧化硅粒子作為二氧化硅粒子改變空隙率，將前述二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)到小于4.0。12.如權利要求10所述的制造方法，其中，在步驟(a)中，艦摻雜二氧5化硅粒子，將前述二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)至U小于4.0。13.如權利要求10所述的制造方法，其中，在步驟(a)中，MilX^二氧化硅粒子表面進行化學修飾，將前述二氧化硅粒子的介電常數(shù)調節(jié)至U小于4.0。14.如權利要求13所述的制造方法，其中，二氧化硅粒子的表面化學修飾是^ffi硅^^材料的疏水tt^面化學處理。全文摘要本發(fā)明涉及光學疊層體、偏振板和圖像顯示裝置。本發(fā)明提供雖然防炫層中含有二氧化硅粒子，但該二氧化硅粒子適度地凝集、光學特性優(yōu)良的光學疊層體。該光學疊層體具有透光性基材和含有二氧化硅粒子的防炫層，上述二氧化硅粒子的介電常數(shù)小于4.0。文檔編號G02B1/10GK101458343SQ20081017853公開日2009年6月17日申請日期2008年9月28日優(yōu)先權日2007年9月28日發(fā)明者伊藤潔,山本佳奈申請人:大日本印刷株式會社