專利名稱：：耐熱遮光片及其制造方法、采用它的光圈或光量調(diào)節(jié)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及耐熱遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或者光量調(diào)節(jié)裝置，更具體地說，涉及作為數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)的光圏和鏡頭快門等的快門葉片或光圏葉片、投影儀的光量調(diào)節(jié)用光圏裝置的光圏葉片等光學(xué)儀器部件使用的、遮光性、耐熱性、滑動性、低光澤性、導(dǎo)電性優(yōu)良的耐熱遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或者光量調(diào)節(jié)裝置。
背景技術(shù)：
：目前，由于快門速度的高速化，照相機(jī)用的快門葉片和光圏葉片在極短時間內(nèi)進(jìn)行動作和停止動作，因此要求輕量化以及具有高滑動性。并且，由于它們是擋在膠巻等感光材料、CCD等的攝像元件前面以遮光的部件，因而最起碼要具有遮光性。另外，由于光學(xué)儀器用的葉片是多片相互重疊而進(jìn)行動作的，因而為了順暢地工作必須具有潤滑性。并且，為了防止各葉片之間漏光，要求表面的反射率低。根據(jù)使用環(huán)境，存在照相機(jī)內(nèi)部出現(xiàn)高溫的情況，因而要求具有耐熱性。另外，作為展示、家庭影院等視頻觀賞用投影裝置液晶投影儀的光量調(diào)節(jié)用光圏葉片使用的遮光片，也要求與數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)具有同樣的性能，特別是對于耐熱性，要求比照相機(jī)的性能更高。通常，上述遮光片以聚對苯二曱酸乙二酯(PET)等塑料膜或SUS、SK材料、Al等金屬薄片作為基板而應(yīng)用。在照相機(jī)中，當(dāng)使用基材為金屬性的遮光片作為快門葉片、光圈葉片使用時，在葉片部件開關(guān)時，金屬板之間存在摩擦而產(chǎn)生很大的噪音。另外，在液晶投影儀中，在圖像變化時為了緩和各圖像的亮度變化，需要高速地移動葉片，導(dǎo)致葉片之間反復(fù)出現(xiàn)摩擦噪音。此外，為了降低這種噪音，要使葉片低速運(yùn)動，此時，若不對圖像的變化另外地進(jìn)行光量調(diào)節(jié)，則會出現(xiàn)圖像不穩(wěn)定的問題。從上述問題和輕量化的角度出發(fā)，在近年來遮光片的構(gòu)成中，將塑料膜用于基板已成為主流。從產(chǎn)生灰塵性的角度出發(fā)，還要求具有導(dǎo)電性。由上述可知，遮光片的必要性能包括高遮光性、耐熱性、低光澤性、滑動性、導(dǎo)電性、低產(chǎn)生灰塵性。為滿足這些遮光片的性能，一直以來提出了采用各種材料、膜構(gòu)造的方案。例如，專利文獻(xiàn)1中公開了一種遮光片，從遮光性、低光澤性、導(dǎo)電性的角度出發(fā)，為了吸收從燈光源等發(fā)出的光，將碳黑、鈦黑等導(dǎo)電性黑色微粒浸含在聚對苯二曱酸乙二酯(PET)膜等樹脂片中，使其具有遮光性和導(dǎo)電性，并對遮光片的一面或兩面進(jìn)行糙化處理，使其具有低光澤性。專利文獻(xiàn)2中公開了一種遮光片，其在樹脂片上涂敷具有遮光性和導(dǎo)電性的含碳黑等黑色顏料、潤滑劑和去光劑的熱固化性樹脂層，使其具有遮光性、導(dǎo)電性、潤滑性、低光澤性。專利文獻(xiàn)3中公開了在鋁合金等金屬制葉片材料表面上形成硬質(zhì)碳膜的遮光部件。專利文獻(xiàn)4中公開了一種遮光葉片構(gòu)造，其為了提高遮光葉片的剛性，對塑料基材兩面采用含碳纖維的熱固化性樹脂的預(yù)浸處理片進(jìn)行強(qiáng)化。遮光片作為數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、液晶投影儀等光學(xué)儀器用遮光葉片已被廣泛使用。近年來，對于液晶投影儀來說，對在起居室這樣的明亮環(huán)境下也能夠欣賞到鮮艷、高對比的視頻這種高畫質(zhì)化的要求日益提高。這樣，為了畫質(zhì)的高亮度化，就要提高燈光源的輸出功率，因而就出現(xiàn)光量調(diào)整用的光圏裝置內(nèi)溫度升高的傾向。由于對調(diào)整光量的遮光片照射了大功率的光，形成了使遮光片容易熱變形的環(huán)境。遮光片的基材，例如以聚對苯二甲酸乙二酯作為基材的遮光片，由于比重小而被廣泛使用，然而當(dāng)燈光源輸出功率大時，由于聚對苯二甲酸乙二酯熱變形溫度低，拉伸彈性率等機(jī)械強(qiáng)度遮光葉片變形的可能性。此外，為了使遮光片具有低光澤性和滑動性，采用噴砂法進(jìn)行糙化處理。這種處理使入射光散射而使表面的光澤性下降，具有進(jìn)一步提高可視性的效果。通過上述處理，被認(rèn)為遮光片即使相互接觸，由于遮光片之間接觸面積沒有增大，因而也可以防止滑動性降低。在數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、液晶投影儀中，遮光片作為快門葉片、光圈葉片等必須多片鄰接并重合而使用，因而對于采用有機(jī)成分遮光材料、潤滑劑、去光劑的遮光片來說，數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)和液晶投影儀所處的溫度、濕度這些使用環(huán)境顯得更加惡劣。特別是對于液晶投影儀，如上所述，由于近年來隨著圖像的高亮度化而使得燈光源大功率化，裝置(光量調(diào)節(jié)用裝置、光圏裝置)內(nèi)的溫度上升至200。C左右。在如此惡劣的環(huán)境下，若使用上述以前的遮光片，會發(fā)生變形、變色等，在耐久性方面不是優(yōu)選的，蒞實(shí)用上存在問題。另外，由于遮光片在200°C以上高溫環(huán)境下熱變形，即使是上述表面上具有微細(xì)凹凸構(gòu)造的遮光片，熱變形也很大，遮光片之間相互接觸，使其不能進(jìn)行高速運(yùn)動，不規(guī)則摩擦程度增大，導(dǎo)致滑動性、光澤性劣化等，出現(xiàn)數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、液晶投影儀不能發(fā)揮其原來的功能的可能性。另外，雖然上述基材塑料膜的糙化處理通過在基材塑料膜上形成微細(xì)的凹凸，具有提高基材與該基材上的涂膜之間的粘合力，以及降低表面光澤性的效果，然而，在采用通過噴砂法時，由于薄片的粗糙度依賴于噴射材料的材質(zhì)、粒度、噴射壓力等，雖然粒徑大的噴射材料可以通過水洗或者刷洗等清洗從薄片表面除去，但粒徑不足lpm的小顆粒即使在洗滌后薄片上也會有相當(dāng)一部分殘留下來，不能被完全除去。若殘留噴射材料，則在遮光片所處的高溫環(huán)境下，由于噴射材料與薄片上形成的金屬合金遮光片等膜的熱膨脹系數(shù)不同，出現(xiàn)熱應(yīng)力差而使膜脫離下來，以及噴射材料從薄片上脫離下來，對其周圍部件產(chǎn)生不利影響，導(dǎo)致不能發(fā)揮其原來的功能的問題。專利文獻(xiàn)1日本特開平1-120503號公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開平4-9802號公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本特開平2-116837號公報(bào)專利文獻(xiàn)4日本特開2000-75353號公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的是提供一種耐熱遮光片，作為在使用時處于高溫下的液晶投影儀的光量調(diào)節(jié)裝置用葉片、或在加工時處于高溫下的數(shù)碼照相機(jī)的快門葉片或固定光圈使用，其在基材薄片表面上具有微細(xì)的凹凸構(gòu)造，該遮光片不會出現(xiàn)滑動性、光澤性劣化，也不會發(fā)生變形、變色，具有優(yōu)良的耐久性，不會發(fā)生膜脫離以及噴射材料脫離，導(dǎo)電性優(yōu)良。本發(fā)明者們發(fā)現(xiàn)，為解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題，以表面上具有微小凹凸的耐熱性樹脂片作為基材，在其上根據(jù)需要形成阻氣膜后，再通過濺射法形成具有特定厚度的Ni類金屬遮光片，然后，在該金屬膜上通過濺射法形成低反射性Ni類氧化物膜，這樣，可以獲得即使處于200。C左右的高溫環(huán)境下也不會變形、可保持其特性(遮光性、低光澤性、滑動性、色度、低反射性)的耐熱遮光片，其可以作為數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、液晶投影儀等的光圈部件使用，從而完成了本發(fā)明。即，根據(jù)本發(fā)明的第l項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于包括具有20(TC以上的耐熱性的樹脂片基材(A)、在樹脂片基材(A)—面或兩面上通過濺射法形成的具有50nm以上厚度的Ni類金屬膜(B)、在Ni類金屬膜(B)上通過濺射法形成的低反射性Ni類氧化物膜(C),并且表面粗糙度為0.10.7nm(算術(shù)平均高度Ra)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第2項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于在第1項(xiàng)發(fā)明中，樹脂片基材(A)由從聚酰亞胺、芳族聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚砜中選出的一種以上構(gòu)成，且表面粗糙度為0.20.8nm(算術(shù)平均高度Ra)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第3項(xiàng)發(fā)明，提供第1項(xiàng)發(fā)明中所述的耐熱遮光片，其特征在于，在第l項(xiàng)發(fā)明中，Ni類金屬膜(B)是以鎳為主要成分，含有從由鈥、鉭、鴒、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出的1種以上添加元素的鎳類合金膜。另外，根據(jù)本發(fā)明的第4發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第3項(xiàng)發(fā)明中，Ni類金屬膜(B)的添加元素的含有量為118原子％。另外，根據(jù)本發(fā)明的第5項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于在第l項(xiàng)發(fā)明中，Ni類氧化物膜(C)以鎳為主要成分，并進(jìn)一步含有從由鈥、鉭、鵠、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出的1種以上添加元素。另外，根據(jù)本發(fā)明的第6項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第5項(xiàng)發(fā)明中，Ni類氧化物膜(C)的添加元素的含有量為1~18原子％。另外，根據(jù)本發(fā)明的第7項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第1~6任一項(xiàng)發(fā)明中，Ni類金屬膜(B)的厚度為50250線并且，Ni氧化物膜(C)的厚度為5~240證。另外，根據(jù)本發(fā)明的第8項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在笫l-7任一項(xiàng)發(fā)明中，在樹脂片基材(A)與上述金屬膜(B)的界面之間，夾設(shè)有由濺射法形成的金屬氧化物膜作為阻氣膜(D)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第9項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第8項(xiàng)發(fā)明中，上述阻氣膜(D)為Ni類氧化物膜。另外，根據(jù)本發(fā)明的第10項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第8項(xiàng)發(fā)明中，上述阻氣膜(D)是以從由鈦、鉭、鴒、釩、鉬、鈷、鈮、鐵、鋁以及硅構(gòu)成的群組中選出的l種以上元素為主要成分的氧化物膜。另外，根據(jù)本發(fā)明的第11項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第8~10任一項(xiàng)發(fā)明中，上述阻氣膜(D)的膜厚度為5~30nm。另外，根據(jù)本發(fā)明的第12項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第111任一項(xiàng)發(fā)明中，表面電阻值為1000D/口(讀為歐姆每平方)以下。另外，根據(jù)本發(fā)明的第13項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第12項(xiàng)發(fā)明中，表面電阻值為100Q/口以下。另外，根據(jù)本發(fā)明的第14項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第111任一項(xiàng)發(fā)明中，樹脂片基材(A)的兩面上都形成Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C),以薄片基材作為中心形成對稱結(jié)構(gòu)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第15項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第14項(xiàng)發(fā)明中，兩面上形成的Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)分別具有實(shí)質(zhì)上相同的金屬元素組成。另外，根據(jù)本發(fā)明的第16項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第9項(xiàng)發(fā)明中，樹脂片基材(A)的兩面上都形成Ni類氧化物阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C),以薄片基材作為中心形成對稱結(jié)構(gòu)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第17項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片，其特征在于，在第16項(xiàng)發(fā)明中，兩面上所形成的Ni類氧化物阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)分別具有實(shí)質(zhì)上相同的金屬元素組成。另一方面，根據(jù)本發(fā)明的第18項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第17任一項(xiàng)中，將表面粗糙度為0.20.8pm(算術(shù)平均高度Ra)的樹脂片基材(A)置于濺射裝置中，在不活潑氣體環(huán)境下進(jìn)行濺射，在樹脂片基材(A)上形成Ni類金屬膜(B),然后，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在Ni類金屬膜(B)上形成Ni類氧化物膜(C)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第19項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第8~11任一項(xiàng)中，將表面粗糙度為0.20.8]im(算術(shù)平均高度Ra)的樹脂片基材(A)置于濺射裝置中，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在樹脂片基材(A)上形成阻氣膜(D),然后，在不活潑氣體環(huán)境下進(jìn)行濺射，在阻氣膜(D)上形成Ni類金屬膜(B)后，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在Ni類金屬膜(B)上形成Ni類氧化物膜(C)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第20項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第18或第19項(xiàng)發(fā)明中，濺射壓為0.2~1.0Pa。另外，根據(jù)本發(fā)明的第21項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第18或第19項(xiàng)發(fā)明中，濺射時樹脂片基材的溫度為180。C以上。另外，根據(jù)本發(fā)明的第22項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第18項(xiàng)發(fā)明中，將形成了Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)的耐熱遮光片進(jìn)一步置于濺射裝置中，通過濺射，在樹脂片基材(A)的背面依次形成Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第23項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第19項(xiàng)發(fā)明中，將形成了阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)的耐熱遮光片進(jìn)一步置于濺射裝置中，通過濺射，在樹脂片基材(A)的背面依次形成阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)。另外，根據(jù)本發(fā)明的第24項(xiàng)發(fā)明，提供一種耐熱遮光片的制造方法，其特征在于，在第1823任一項(xiàng)發(fā)明中，樹脂片基材(A)巻成筒狀設(shè)置在濺射裝置的薄片輸送部上。另一方面，根據(jù)本發(fā)明的第25項(xiàng)發(fā)明，提供將第117任一項(xiàng)發(fā)明中制造的耐熱遮光片進(jìn)行加工所制造的耐熱性優(yōu)良的光圈。另外，根據(jù)本發(fā)明的第26項(xiàng)發(fā)明，提供使用第117任一項(xiàng)發(fā)明中制造的耐熱遮光片的光量調(diào)節(jié)裝置。本發(fā)明的耐熱遮光片由于在具有算術(shù)平均高度Ra為0.2-0.8pm的表面粗糙度的耐熱性樹脂片基材上，通過'踐射法形成特定厚度的Ni類金屬膜(以下，也簡稱為金屬膜)、低反射性的Ni類氧化物膜(以下也簡稱為氧化物膜)，因而與由以前涂膜工序所制得的遮光片相比，可以形成致密的表面狀態(tài)，提高表面的磨損性、摩擦性、導(dǎo)電性。在該耐熱遮光片中，由于在金屬膜上層積了作為最表層的低反射性Ni類氧化物膜，因而可以使金屬膜的高反射率得到降低。本發(fā)明的耐熱遮光片，與以前采用在金屬箔板上施加耐熱涂料的耐熱遮光片作為耐熱遮光片使用的遮光葉片相比，由于使用樹脂片作為基材，因而被輕量化，裝載在光圏葉片上時可以提高滑動性，并且可以使驅(qū)動電機(jī)小型化，有利于降低成本。另外，在上述金屬膜和氧化物膜的濺射成膜時，由于可以使用完全相同的靶，因而在裝置設(shè)置方面不需要更換靶，從而可以連續(xù)地進(jìn)行濺射，制造成本下降，并且由于具有以耐熱樹脂片為中心的對稱型膜結(jié)構(gòu)，因而在成膜時不會因膜應(yīng)力而發(fā)生遮光片變形，生產(chǎn)性優(yōu)良。另外，通過使本發(fā)明金屬膜和低反射性氧化物膜的濺射法成膜條件最佳化，可以使上述膜形成致密的膜，由于該致密的最表層膜，使得即使處于200。C左右的高溫環(huán)境下，該耐熱遮光片在動作時也不會出現(xiàn)膜的脫離，因此，在對基材薄片進(jìn)行糙化處理，例如通過噴砂法進(jìn)行膜表面處理時，不會發(fā)生附著的噴射材料殘留物脫離的情況。因此，由于本發(fā)明的耐熱遮光片可以作為裝配時回流工序等要求具有耐熱性的數(shù)碼照相機(jī)或數(shù)碼攝像機(jī)的固定光圏或快門葉片、光圈葉片、以及可以作為使用時要求具有耐熱性的液晶投影儀的光量調(diào)節(jié)裝置的光圏或光圏葉片使用，因而在工業(yè)上很有價(jià)值。圖1是本發(fā)明耐熱遮光片的剖面圖2是演示制造本發(fā)明耐熱遮光片時使用的巻取式濺射裝置的一例的示意圖3是使用本發(fā)明耐熱遮光片的光圈機(jī)構(gòu)的示意圖。具體實(shí)施例方式以下，參照圖1~3對本發(fā)明的耐熱遮光片及其制造方法、采用它的光圈或光量調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行說明。1.耐熱遮光片本發(fā)明的耐熱遮光片的特征在于包括具有200。C以上的耐熱性的樹脂片基材(A)、在樹脂片基材(A)—面或兩面上通過濺射法形成的具有50nm以上厚度的Ni類金屬膜(B)、在Ni類金屬膜(B)上通過濺射法形成的低反射性Ni類氧化物膜(C),并且表面粗糙度為0.10.7pm(算術(shù)平均高度Ra)。圖1是演示本發(fā)明的遮光片構(gòu)成的示意圖。本發(fā)明的遮光片由作為基材的樹脂片1、其表面上形成的Ni類金屬膜2、其上形成的低反射性Ni類氧化物膜3構(gòu)成。并且，其表面粗糙度為0.10.7pm(算術(shù)平均高度Ra),更優(yōu)選為0.20.7pm,最優(yōu)選為0.30.6pm。若不足0.1pm,則從低光澤性角度考慮是不優(yōu)選的，另外若超過0.7pm,則從容易產(chǎn)生表面缺陷的角度考慮是不優(yōu)選的。樹脂片1的厚度優(yōu)選落在12.5~125pm的范圍內(nèi)。當(dāng)薄于12.5pm時，則操作性差，且薄片上容易產(chǎn)生損傷或摺痕，若比125nm更厚，則不能在正在小型化的光圏裝置或光量調(diào)節(jié)裝置上裝載多片遮光葉片。對遮光性Ni類金屬膜(金屬膜)的厚度沒有特別的限制，可以使厚度為30~280nm,優(yōu)選為40~260nm,更優(yōu)選為50250nm。若厚度不足30nm,則會發(fā)生透光，從而不具有足夠的遮光性能，因而不優(yōu)選。另外，若厚度過厚，則雖然遮光性好，若超過280nm，則需要增加材料成本和成膜時間，導(dǎo)致提高了制造成本，并且膜的應(yīng)力也增大，容易發(fā)生變形。對低反射性Ni類金屬氧化物膜(氧化物膜)沒有特別的限制，使厚度為5~250nm,優(yōu)選20~240nm，更優(yōu)選30~200nm時，可以降低可見光區(qū)的反射率。若膜厚度不足5nm,則會出現(xiàn)不能充分降低反射率、光澤度的情況，若超過250nm,則不僅表面電阻增大，從經(jīng)濟(jì)性方面也是不優(yōu)選的。上述Ni類金屬膜和低反射性Ni類氧化物膜可以在樹脂片基材的一面上形成，但優(yōu)選在兩面上都形成。當(dāng)在兩面上都形成時，通過使各面膜的材質(zhì)相同，可以形成以薄片基材為中心的對稱結(jié)構(gòu)，因而更優(yōu)選。薄片基材上所形成的薄片由于對基材產(chǎn)生應(yīng)力，因而成為變形的主要原因。應(yīng)力導(dǎo)致的變形也有在成膜后立即被發(fā)現(xiàn)的情況，特別是若加熱至200。C左右時，容易使變形幅度更大、更顯著。但是，通過如上所述使薄片基材兩面上形成的Ni類金屬膜和低反射性Ni類氧化物膜的材質(zhì)相同，形成以基材為中心的對稱結(jié)構(gòu)，即使在加熱的條件下也可以維持應(yīng)力平衡，很容易實(shí)現(xiàn)平坦的耐熱遮光薄片。也就是說，在兩面上形成的Ni類金屬膜(B)之間，以及Ni類氧化物膜(c)之間，優(yōu)選分別具有實(shí)質(zhì)上相同的金屬元素組成。并且，兩面上形成的Ni類氧化物阻氣膜(D)之間、Ni類金屬膜(B)之間、以及Ni類氧化物膜(C)之間，也優(yōu)選分別具有實(shí)質(zhì)上相同的金屬元素組成。(A)樹脂片基材作為本發(fā)明耐熱遮光片的基材的樹脂片，其表面上必須具有算術(shù)平均高度Ra為0.2~0.8pm、特別是0.30.7^m的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)。算術(shù)平均高度，也稱為算術(shù)平均粗糙度，是從粗糙度曲線上只取其平均線方向上的基準(zhǔn)長度，將從該取樣部分的平均線至測定曲線的偏差的絕對值合計(jì)平均所得的值。若Ra小于0.2pm,則不能實(shí)現(xiàn)與薄片表面上形成的金屬膜的密合性，并且也不能獲得足夠低的光澤性和低反射性。另外，若Ra超過0.8pm,則薄片表面的凹凸過大，凹部不能形成金屬膜，若要覆蓋薄片表面以獲得充分的遮光性，則金屬膜的厚度變厚，成本提高，因而不優(yōu)選。使用作為基材的樹脂片，可以是由透明樹脂構(gòu)成的，也可以由混煉了顏料的著色樹脂構(gòu)成，但是必須具有200。C以上的耐熱性。這里，所謂具有200°C以上耐熱性的薄片，是指玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為200。C以上的薄片，并且對于不存在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的材料，在200°C以上的溫度下不會變質(zhì)。樹脂材料的材質(zhì)，當(dāng)考慮量產(chǎn)性時，需要是能夠通過濺射法進(jìn)行輥涂的具有撓性的材料。在耐熱性樹脂片中，雖然優(yōu)選由聚酰亞胺(PI)、芳族聚酰胺(PA)、聚苯硫醚(PPS)或者聚醚砜(PES)中選出的一種以上材料構(gòu)成的薄片，但只要具有200°C以上的耐熱性，則并不局限于這些。其中聚酰亞胺薄片的耐熱溫度高，是特別優(yōu)選的薄片。樹脂片表面上的凹凸通過對薄片表面進(jìn)行表面處理而形成。例如，可以通過采用噴射材料的糙化處理進(jìn)行加工，這是一種簡易的方法，但并不局限于這些。也可以通過納米印刷加工在表面上形成微細(xì)的凹凸結(jié)構(gòu)。此外，糙化處理時的噴射材料可以利用砂子等，但并不局限于砂子。在糙化處理中，可以一邊輸送薄片，一邊在薄片表面上形成凹凸，然而由于最佳Ra值的凹凸依賴于糙化處理中薄片的輸送速度、噴射材料的種類和大小，因而要使這些條件最優(yōu)化而進(jìn)行表面處理，以使薄片表面的算術(shù)平均高度Ra值為0.2~0.8nm。糙化處理后的薄片，洗滌、除去噴射材料后干燥。當(dāng)在薄片兩面上形成金屬膜和低反射性氧化物膜時，要對薄片的兩面進(jìn)行糙化處理。(B)金屬膜本發(fā)明的耐熱遮光片具有在200°C的高溫環(huán)境下也能夠耐受的耐熱性。這除了歸因于通過濺射法獲得的金屬膜與低反射性氧化物膜由于高致密性而使其耐氧化性良好以外，還歸因于薄片與金屬膜之間的粘合性良好。通常由于金屬膜若被氧化則透明度增加，因而作為遮光片的金屬膜的耐氧化性很重要。本發(fā)明的耐熱遮光片中所用的金屬膜材料，優(yōu)選耐氧化性優(yōu)良的鎳類材料。具體地說，上述金屬膜可以是單純的鎳，但優(yōu)選為以鎳為主要成分，添加l種以上添加元素的鎳類合金膜，該添加元素從由鈦、鉭、鎢、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出。添加上述元素的金屬膜與單純的鎳相比更難氧化。此外，上述Ni類金屬膜的添加元素，相對于全部的構(gòu)成元素，優(yōu)選含有1~18原子％,特別優(yōu)選含有5~14原子％。若不足1原子％，則不能極大地弱化鎳靶的強(qiáng)磁性特性，從而不能采用配設(shè)了磁力小的常用石茲鐵的負(fù)極通過直流磁控管賊射法進(jìn)行成膜。另外，若超過18原子％,則形成過量的金屬互化物，使濺射靶脆性增大，不僅是在濺射時由于熱應(yīng)力等而導(dǎo)致斷裂，出現(xiàn)不能進(jìn)行濺射的危險(xiǎn)，而且存在所得金屬合金膜的膜質(zhì)變差的可能性，因而不優(yōu)選。此外，采用鎳類靶的濺射成膜中成膜速度，具有與采用其它金屬靶的濺射成膜相比速度更快的特征，這一方面對生產(chǎn)性也是有利的。例如，通過釆用鎳靶的直流濺射時鎳膜的成膜速度，與采用鈦耙的同一條件的鈦膜的成膜速度相比，要快至1.52倍。另外，上述Ni類金屬膜也可以含有碳元素、氮元素。向Ni類金屬膜中碳元素、氮元素的引入，可分別通過在金屬膜成膜時的濺射過程中通入烴氣體、氮?dú)獾群荚?、氮元素的添加氣體進(jìn)行'減射成膜，即使不能采用如上所述的添加氣體，也可以使靶中含有碳元素、氮元素而將這些元素引入。特別是若Ni類金屬膜中含有碳元素、氮元素，則可以進(jìn)一步改善耐熱性，因而很有價(jià)值。因此，通過上述方法制得的碳化鎳、氮化鎳、碳氮化鎳等碳化物、氮化物和碳氮化物也是能夠發(fā)揮充分的遮光性和耐熱性的金屬膜材料，并且還能發(fā)揮對樹脂片的高粘合性，因而也被包括在本發(fā)明耐熱遮光片的金屬膜材料之內(nèi)。此外，本發(fā)明的金屬膜中，如果盡量不含氧的話，由于可以維持與樹脂片的高粘合性和高遮光性，因而是優(yōu)選的。然而，若濺射氣體中殘留的氧氣等，在成膜時被引入而含于金屬膜的一部分或者整體中，只要不損害其金屬性、高遮光性以及與樹脂片的高粘合性，則也沒有關(guān)系。金屬膜中氧的含量，為了維持與樹脂片的粘合性，相對于金屬元素，需要為5原子％以下，特別希望為3原子％以下。此外，本發(fā)明耐熱遮光片的金屬膜，還可以是由組成(金屬元素的含量、種類、含碳量、含氮量、含氧量)不同的多種金屬膜的層積膜構(gòu)成的。就粘合性而言，本來，有機(jī)物樹脂片基材與無機(jī)物金屬膜之間很難獲得高粘合性。這是因?yàn)?，?dāng)樹脂片基材與金屬膜的界面之間密合性不夠時，在20(TC的高溫環(huán)境下，樹脂片基材與金屬膜的熱膨脹差異導(dǎo)致容易發(fā)生膜脫離。為了避免這種由熱膨脹差異導(dǎo)致的膜脫離，保持樹脂片基材與膜的高粘合性是很必要的，而本發(fā)明的金屬膜采用l種以上添加元素的鎳類金屬膜是很有效的，該添加元素從由鈦、鉭、鎢、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出。樹脂片的表面具有氧官能團(tuán)，本發(fā)明的金屬膜中含有適量的鈦、鉭、鎢、釩、鋁或銅等容易被氧化的元素，與薄片表面的氧官能團(tuán)形成化學(xué)鍵，增強(qiáng)了薄片與金屬膜之間的粘合性。(c)氧化物膜另外，本發(fā)明的耐熱遮光片具有低反射性的氧化物膜。樹脂片基材上形成的金屬膜的反射率高，而通過在金屬膜上層積低反射性的氧化物膜，可以降低耐熱遮光片的反射率。低反射性的氧化物膜可以由單層構(gòu)成，也可以由含氧量、添加元素種類及添加量不同的多層構(gòu)成。此外，金屬膜上層積的低反射性氧化物膜可以是透明度高的膜，也可以是透明度低的著色膜。本發(fā)明的低反射性氧化物膜優(yōu)選以鎳為主要成分的氧化物膜。因?yàn)?，以鎳為主要成分的氧化物膜在高溫環(huán)境下耐熱性和耐腐蝕性優(yōu)良，并且與以鎳為主要成分的下層金屬膜、金屬成分相同，因而與金屬膜的粘合性良好。具體地說，上述氧化物膜，金屬成分可以是僅由鎳形成的鎳氧化物，但優(yōu)選以鎳為主要成分，進(jìn)一步添加118原子％,特別是5~14原子％的1種以上元素的氧化物膜，該元素從由鈦、鉭、鴒、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出。Ni類氧化物膜的材料，其金屬成分可以與金屬膜的不同，但優(yōu)選與金屬膜相同成分的氧化物膜。這樣，便可以采用同一個濺射靶對金屬膜和低反射性氧化物膜兩者進(jìn)行成膜，可以制造具有單一陰極的'減射裝置，從而可以降低制造成本。對上述以鎳為主要成分的氧化物膜的膜厚沒有特別的限制，使膜厚為5~240nm可以降低可見光區(qū)的反射率。上述Ni類氧化物膜中，除上述金屬元素以外，也可以含有碳元素、氮元素。若使Ni類氧化物膜中含碳元素、氮元素，則可以調(diào)節(jié)折射率，容易實(shí)現(xiàn)低反射性。此外，上述氧化物膜若采用大量缺失氧的金屬氧化物膜這樣的在可見光區(qū)透光率低的(例如單膜透光率為10~60%)的膜，則可以實(shí)現(xiàn)例如在波長380~780nm范圍內(nèi)反射率為2%以下的顯著的低反射性，可以得到呈黑色的耐熱遮光片。這種低反射的黑色薄片當(dāng)作為液晶投影儀的棱鏡元件側(cè)或數(shù)碼攝像機(jī)的攝像元件側(cè)的部件使用時特別優(yōu)選。在棱鏡元件側(cè)或攝像元件側(cè)若部件的反射光強(qiáng)，則會形成漫射光，從而產(chǎn)生不利的影響。上述Ni類氧化物膜，也可以是由組成(含氧量、含碳量、含氮量、金屬元素的含量和種類)不同的多種氧化物膜的層積膜構(gòu)成的。通過使用組成不同從而折射率和消光系數(shù)不同的氧化物膜的層積膜，可以表現(xiàn)出更強(qiáng)的防止反射的效果，從而實(shí)現(xiàn)低反射性。對上述氧化物膜的厚度沒有特別的限制，使膜厚為5~240nm,可以降低可見光區(qū)的反射率。若膜厚不足5nm,則會出現(xiàn)不能充分降低反射率、光澤度的情況，若超過240nm，則不僅表面電阻增大，從經(jīng)濟(jì)性方面考慮也不優(yōu)選。另外，本發(fā)明的耐熱遮光片，為了盡可能地避免由于熱射線照射而導(dǎo)致溫度上升，可以使其具有對熱射線的高反射性能。此時，上述氧化物膜上，與上述相反，要使用可見光區(qū)近紅外光區(qū)透光率盡可能高的氧化物材料，以盡可能地抑制氧化物膜內(nèi)對熱射線的吸收，利用金屬膜對熱線的高反射性能。此外，優(yōu)選增加這種氧化物膜的折射率，并使氧化物膜的膜厚度最佳化，以使氧化物膜/金屬膜界面的近紅外反射光與外界/氧化物界面的近紅外反射光疊加增強(qiáng)，從而使其實(shí)現(xiàn)高反射性能。如上構(gòu)成的具有熱射線高反射性能的耐熱遮光片，可以顯示出在可見光區(qū)最大反射率為37°/。的適當(dāng)反射率。若反射率高至10%以上，則反射光發(fā)生散射而產(chǎn)生不利影響，因而優(yōu)選7%以下。如此構(gòu)成的耐熱遮光片黑色度不好，根據(jù)反射光的波長均衡，呈紅色、紫色、藍(lán)色、黃褐色等。此外，在樹脂片兩面上層積了金屬膜和氧化物膜的本發(fā)明耐熱遮光片中，根據(jù)用途的不同，采取黑色度和反射率在兩面不相同的構(gòu)成也是有效的。例如，當(dāng)本發(fā)明的耐熱遮光片作為接近投影儀用的燈區(qū)域的葉片材料使用時，燈光照射的一側(cè)面避免熱射線加熱視為最重要，因而采取對可見光近紅外光具有高反射性能的黑色度低的構(gòu)成，而與燈側(cè)相反的面，由于不希望可見光的反射被散射，因而采取對可見光區(qū)具有低反射性的黑色度高的構(gòu)成也是有效的。此時，如上所述，在燈一側(cè)采用氧缺失少的透光率高的Ni類氧化物膜，在其相反一側(cè)采用氧缺少多的可見光區(qū)透光率低的Ni類氧化物膜。對于導(dǎo)電性，當(dāng)采用塑料膜時由于具有絕緣性而容易產(chǎn)生靜電，作為遮光葉片動作時會產(chǎn)生靜電，為了防止葉片相互之間被卡住，導(dǎo)電性是很重要的。本發(fā)明的耐熱遮光片中所用的金屬膜和氧化物膜的材料優(yōu)選導(dǎo)電性優(yōu)良的鎳類材料。作為具體的金屬膜和氧化物膜，金屬成分可以是單純的鎳，但優(yōu)選以鎳為主要成分，并添加l種以上元素的鎳類合金膜(復(fù)合金屬氧化物膜)，該元素從由鈦、鉭、鎢、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出。通過添加上述元素，添加元素具有半導(dǎo)體中的摻雜劑的作用，可以降低電阻。在最表面由氧化硅、氧化鋁等絕緣膜形成的遮光片中，表面電阻值閾值為1040/口左右，而本發(fā)明的耐熱遮光片表面電阻值可以為1000Q/口以下，優(yōu)選為500Q/口以下，更優(yōu)選為100Q/口以下。另外，只要不影響本發(fā)明的特征，本發(fā)明的耐熱遮光片也可以在上述氧化物膜的表面上薄薄地涂敷具有潤滑性和低摩擦性的其它薄片(例如，含氟有機(jī)膜、碳膜、類金剛石碳膜等)而使用。(D)阻氣膜通常，在聚酰亞胺等樹脂片基材中，多含有氧氣和水分。聚酰亞胺中的這些氣體在成膜前進(jìn)行加熱處理等而除去。但是，不能完全除去，形成金屬膜和氧化物膜而制得的耐熱遮光片，若處于250。C左右的高溫環(huán)境下，將會從樹脂片中放出氧氣和水分，使金屬膜內(nèi)部分地進(jìn)入氧氣。進(jìn)入氧氣的金屬膜由于光學(xué)常數(shù)不同，使耐熱遮光片的色度發(fā)生了變化。并且，即使是在成膜前充分地進(jìn)行了氣體排除而制得的耐熱遮光片，若將耐熱遮光片置于恒溫恒濕試驗(yàn)(例如85。C，'90%RH，1000小時)的環(huán)境下，水和氧氣將從樹脂片的側(cè)面進(jìn)入，金屬膜靠樹脂片的一側(cè)將部分地進(jìn)入氧氣，基于同樣的原因使色度發(fā)生了變化。為了避免這種色度變化，在本發(fā)明中，優(yōu)選在樹脂片基材與上述金屬膜的界面之間，通過濺射法形成金屬氧化物膜作為阻氣膜。阻氣膜，除了與氧化物膜(C)相同組成的鎳類氧化物膜以外，例如將1種以上元素為主要成分的不含鎳的氧化物膜也是有效的，該元素從由鈦、鉭、鴒、釩、鉬、鈷、鈮、鐵、鋁以及硅構(gòu)成的群組中選出。這些阻氣膜中，與化學(xué)計(jì)量組成相比具有氧缺失的膜由于膜的致密性高，可以更有效地阻止從薄片放出的氣體通過。阻氣膜需要形成5-30nm,優(yōu)選形成8-25nm。若膜厚不足5nm時，則阻氣功能不夠好，若超過30nm,則與金屬膜的粘合力低，因而不優(yōu)選。阻氣膜(D)、金屬膜(B)以及氧化物膜(C)如果是可以由同一Ni類金屬靶制造的膜，則由于可以采用單個靶和單陰極制造耐熱遮光片，與降低制造成本相關(guān)，因而是優(yōu)選的。2.耐熱遮光片的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明的耐熱遮光片的制造方法特征在于將具有算術(shù)平均高度Ra為0.20.8pm的表面粗糙度的樹脂片基材(A)置于濺射裝置中，在不活潑氣體環(huán)境下進(jìn)行濺射，在樹脂片基材(A)上形成Ni類金屬膜(B),然后，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在Ni類金屬膜(B)上形成Ni類氧化物膜(C),制得耐熱遮光片。本發(fā)明的耐熱遮光片，在上述樹脂片基材的表面上，通過濺射法形成Ni類金屬膜，在該Ni類金屬膜上，通過濺射形成具有防止反射效果的Ni類氧化物膜。在本發(fā)明中，由于Ni類金屬膜和低反射性Ni類氧化物膜通過濺射法形成，與油墨涂敷法和真空蒸鍍法相比，具有膜的致密性更好，與下層(基板或膜)的粘合性更好的特征。當(dāng)將耐熱遮光片在200°C的高溫環(huán)境下使用時，這種性質(zhì)很顯著。當(dāng)通過油墨涂敷法或者真空蒸鍍法形成時，發(fā)現(xiàn)有膜脫離或者由于膜的氧化而導(dǎo)致的色度變化，當(dāng)如本發(fā)明通過濺射法形成膜時，不存在這種危險(xiǎn)。在本發(fā)明中，耐熱遮光片如上所述通過濺射法在樹脂片基材上形成金屬膜和低反射性氧化物膜而制造。濺射法是在基材上形成蒸氣壓低的材料的膜時或者需要控制精密的膜厚時有效的薄片形成方法。通常為下述方法，在約lOPa以下的氬氣壓下，以基材作為陽極，將成為膜的原料的濺射靶作為陰極，在它們之間引發(fā)輝光放電，使其產(chǎn)生氬等離子體，等離子體中的氬陽離子撞擊陰極的'減射靶，將濺射耙成分的粒子沖擊飛出，使該粒子堆積在基材上而成膜。-減射法根據(jù)氬等離子體的發(fā)生方法進(jìn)行分類，釆用高頻等離子體的為高頻濺射法，采用直流等離子體的為直流濺射法。此外，磁控管濺射法是在濺射靶的背面安裝磁鐵，使氬等離子體直接集中在濺射靶上，即使在低氣壓下也可以提高氬離子的撞擊效率的成膜方法。在金屬膜和氧化物膜成膜時，可以使用例如圖2所示的巻取式濺射裝置。該裝置構(gòu)造為將筒狀的樹脂片基材1裝于巻出輥4上，通過渦輪分子泵等真空泵5將真空槽6內(nèi)抽氣后，從巻出輥4輸出的薄片1在途中經(jīng)過冷卻罐滾筒7的表面，再被巻取輥8巻取。冷卻罐滾筒7表面的對側(cè)設(shè)有磁控管陰極9,該陰極中裝有作為膜原料的靶10。另外，由巻出輥4、冷卻罐滾筒7、巻取輥8等構(gòu)成的薄片輸送部通過隔板11而與磁控管陰極9相隔離。首先，將筒狀的樹脂片基材1設(shè)置在巻出輥4上，采用渦輪分子泵等真空泵5將真空槽6內(nèi)抽氣。然后，由巻出輥4供給樹脂片基材1，途經(jīng)冷卻罐滾筒7的表面，被巻取輥8巻取，同時，使冷卻罐滾筒7與陰極之間放電，使冷卻罐滾筒表面上貼合輸送的樹脂片基材1成膜。另外，優(yōu)選樹脂片基材在濺射前要在200°C以上的溫度下加熱干燥。在本發(fā)明的耐熱遮光片中，金屬膜層在例如氬氣環(huán)境下通過使用Ni金屬或Ni類合金賊射靶的直流磁控管濺射法在樹脂片基材上形成膜。由于純鎳材料通常是強(qiáng)磁體，當(dāng)上述金屬膜層通過直流磁控管'踐射法成膜時，作用于濺射靶與基材之間的等離子體的濺射粑背面設(shè)置的磁鐵的磁力被鎳靶材屏蔽，表面所泄漏的磁場很小，難以使等離子體集中而高效地成膜。為了避免這種情況，需要采用濺射耙背面設(shè)置的磁鐵磁力增強(qiáng)的陰極，使通過4臬濺射把的磁場增強(qiáng)而濺射成膜。但是，即使在采取這種方法的情況下，在生產(chǎn)時也會產(chǎn)生以下所述的其它問題。即，隨著鎳靶的連續(xù)使用，濺射靶的厚度逐漸減小，濺射靶厚度變薄的部分向等離子體空間泄漏的磁場逐漸增強(qiáng)。一旦向等離子體空間泄漏的磁場增強(qiáng)，造成放電性能改變，從而導(dǎo)致成膜速度發(fā)生變化。也就是說，生產(chǎn)時若長時間連續(xù)使用同一鎳靶，則會出現(xiàn)隨著鎳靶的消耗而使鎳膜的成膜速度發(fā)生改變的問題。因此，在這種情況下，通過使用以鎳為主要成分，添加選自鈦、鉭、鴒、釩、鋁以及銅的1種以上元素的鎳類合金材料作為耙，降低其強(qiáng)磁性，可以避免上述問題，可以形成上述組成的金屬合金膜。在本發(fā)明中，作為靶，希望使用添加元素含量為1~18原子％范圍的Ni類合金材料。添加元素含量如上規(guī)定的原因是，通過使其含有1原子％以上，可以極大地弱化其強(qiáng)磁性特性，從而使得即使采用配置磁力小的一般磁鐵的陰極，也可以進(jìn)行直流磁控管濺射成膜。另外，由于濺射靶對磁場的屏蔽能力低，因而濺射靶消耗所依存的向等離子體空間泄漏磁場的變化也小，從而可以以一定的成膜速度進(jìn)行穩(wěn)定的成膜。另一方面，使添加元素含量為18原子％以下的原因是，當(dāng)含有超過18原子％添加元素時，則形成過量的金屬互化物，使濺射靶脆性增大，會出現(xiàn)濺射時由于熱應(yīng)力等而發(fā)生斷裂，使濺射不能進(jìn)行的危險(xiǎn)，并且，還存在濺射所得的金屬合金膜的膜質(zhì)變差的可能性。在金屬膜成膜時，成膜時的氣壓根據(jù)裝置的種類等而不同，不能統(tǒng)一地^見定，優(yōu)選為1.0Pa以下，例如優(yōu)選為0.2-1.0Pa。這樣，即使噴射材料在樹脂片基材上有微量殘留，在200'C的高溫環(huán)境下也不會由噴射材料、金屬膜、低反射性氧化物膜的熱膨脹差異而導(dǎo)致膜的脫離。若成膜時的氣壓不足0.2Pa,則由于氣壓低而使濺射法中的氬等離子體不穩(wěn)定，從而導(dǎo)致形成的膜的膜質(zhì)變差。另外，當(dāng)成膜時的氣壓超過1.0Pa時，由于金屬膜的顆粒變粗，不能形成高致密的膜質(zhì)，使其與樹脂片基材的粘合力減弱，導(dǎo)致膜脫離。此外，成膜時的膜溫度至少需要為180。C以上。這樣可以制得與具有200。C以上耐熱性薄片的粘合力優(yōu)良且具有致密膜質(zhì)的耐熱遮光薄片。金屬膜的膜厚，可以通過成膜時薄片的專命送速度和向輩巴施加的電力而進(jìn)4亍4空制。另外，成膜過程中樹脂片基材被等離子體自然加熱。通過調(diào)節(jié)氣壓、向耙施加的電力和薄片的輸送速度，可以容易地由從靶向基材射入的熱電子和等離子體的熱輻射使成膜過程中的薄片基板表面溫度維持在180。C以上。氣壓越低，施加的電力越高，薄片輸送速度越慢，則由等離子體的自然加熱的加熱效果就越高。即使在成膜時使薄片與冷卻罐接觸的情況下，由于自然加熱的影響，薄片表面的溫度也遠(yuǎn)比冷卻罐溫度高。然而，自然加熱的薄片表面溫度由于一邊被冷卻罐冷卻一邊降低，因而在很大程度上也取決于罐的溫度，若要盡可能利用成膜時自然加熱的效果，則提高冷卻罐的溫度并減慢輸送速度是很有效的。另外，若采用不通過冷卻罐冷卻薄片而濺射成膜的成膜方法(浮法)，則可以有效地利用自然加熱效果。在該方法中，靶對向的薄片基材不會在背面冷卻，其在成膜室內(nèi)成懸浮狀態(tài)而進(jìn)行成膜。靶和等離子體的熱量照射到薄片上，由于成膜室為真空，蓄積的熱量不容易散失，因而可以有效地加熱。在浮法中，實(shí)際270°C以上的自然加熱效果也能夠很容易地實(shí)現(xiàn)。成膜過程中的基材表面溫度可以通過輻射溫度計(jì)進(jìn)行測定，或者預(yù)先在薄片表面上貼上示溫標(biāo)簽，成膜后觀察標(biāo)簽顏色的變化即可知所達(dá)到的溫度。如上所述，通常，由于聚酰亞胺等樹脂片基材大多含有氧氣和水分，因而在本發(fā)明中，在樹脂片基材上形成上述金屬膜之前，優(yōu)選通過濺射法形成金屬氧化物膜作為阻氣膜。阻氣膜除了與上述氧化物膜(C)相同組成的鎳類氧化物膜以外，例如，以選自1種以上元素為主要成分的不含鎳的氧化物膜也是有效的，該元素從由鈦、鉭、鵠、釩、鉬、鈷、鈮、鐵、鋁以及硅構(gòu)成的群組中選出。作為阻氣膜的氧化物層，可以通過例如在氬氣和氧氣環(huán)境下由Ni金屬或者Ni類合金的'減射耙通過直流磁控管賊射法形成。在氧化物膜成膜時，成膜時的氣壓根據(jù)裝置的種類等而不同，因而不能統(tǒng)一地^見定，優(yōu)選1.0Pa以下，例如0.21.0Pa。若成膜時的氣壓不足0.2Pa,則由于氣壓低而使濺射法中的氬等離子體不穩(wěn)定，從而導(dǎo)致成膜的膜質(zhì)變差。另外，當(dāng)成膜時的氣壓超過l.OPa時，由于氧化物膜的顆粒變粗，不能形成高致密的膜質(zhì)，使其與金屬膜的粘合力減弱，導(dǎo)致膜脫離。此外，最好成膜時的膜溫度至少需要為180。C以上。這樣可以制得具有致密氧化物膜的耐熱遮光薄片。氧化物膜的膜厚，可以通過成膜時薄片的輸送速度和向靶施加的電力而進(jìn)行控制。這些阻氣膜若形成530nm則是有效的。樹脂片基材(A)根據(jù)需要形成阻氣膜(D)，并形成金屬膜(B)后，再在該金屬膜上形成Ni類氧化物膜(C)。低反射性的氧化物層可以通過例如在氬氣和氧氣的環(huán)境下由Ni金屬或者Ni類合金的濺射靶通過直流磁控管'減射法形成。在氧化物膜成膜時，成膜時的氣壓根據(jù)裝置的種類等而不同，因而不能統(tǒng)一地規(guī)定，優(yōu)選l.OPa以下，例如0.21.0Pa。若成膜時的氣壓不足0.2Pa,則由于氣壓低而使濺射法中的氬等離子體不穩(wěn)定，從而導(dǎo)致形成的膜的膜質(zhì)變差。另外，當(dāng)成膜時的氣壓超過1.0Pa時，由于氧化物膜的顆粒變粗，不能形成高致密的膜質(zhì)，使其與金屬膜的粘合力減弱，導(dǎo)致膜脫離。此外，優(yōu)選成膜時的膜溫度至少為18(TC以上。這樣可以制得具有致密氧化物膜的耐熱遮光薄片。氧化物膜的膜厚，可以通過成膜時薄片的輸送速度和向靶施加的電力而進(jìn)行控制。在氧化物膜的成膜工序中，也可以不更換上述金屬膜的濺射中所使用的濺射用靶，而使用完全相同的靶。因此，在裝置設(shè)置上沒有必要更換靶，可以進(jìn)行連續(xù)的濺射，制造成本下降，并且可以形成以耐熱性樹脂片基材為中心的對稱型膜結(jié)構(gòu)，因此，也不會發(fā)生由成膜時的膜應(yīng)力導(dǎo)致遮光片變形，因而生產(chǎn)性優(yōu)良。這樣，可以獲得在基材薄片一面上形成了金屬膜和氧化物膜的耐熱遮光片。若要獲得在兩面上形成金屬膜和氧化物膜的耐熱遮光片，則進(jìn)一步置于上述濺射裝置中，同樣地通過濺射在樹脂片基材的背面依次形成金屬膜和氧化物膜。另外，為了進(jìn)行金屬膜與氧化物膜的成膜，例示了膜巻取式濺射裝置，對連續(xù)成膜的方法進(jìn)行了詳細(xì)說明，但是本發(fā)明并不局限于這些，也可以采用成膜時不移動基材薄片的分批式成膜方法。此時，需要進(jìn)行環(huán)境氣體的更換、薄片的輸入'停止操作，因而很繁瑣。此外，還可以不將基材薄片巻成巻狀，而以切割成規(guī)定大小的狀態(tài)固定在裝置內(nèi)。3.耐熱遮光片的用途本發(fā)明的耐熱遮光片可以作為光圏材料或光量調(diào)節(jié)裝置使用。當(dāng)用作為數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)的固定光圈、快門葉片、光圏葉片或者液晶投影儀的光量調(diào)節(jié)裝置用光圈葉片時，只要進(jìn)行不會產(chǎn)生端面裂縫的沖孔加工即可。圖3是顯示裝載了進(jìn)行沖孔加工后耐熱遮光葉片12的光圏裝置的光圏^/L構(gòu)的示意圖。耐熱遮光葉片12設(shè)有導(dǎo)向孔13和孔17,孔17用于裝配在與驅(qū)動電機(jī)卡合的導(dǎo)向銷14和設(shè)有控制遮光葉片運(yùn)行位置的銷15的基板16上。另外，基板16的中央具有允許燈光通過的開口部18,遮光葉片根據(jù)光圏裝置的結(jié)構(gòu)而可以為各種形狀。此外，本發(fā)明的耐熱遮光片由于以樹脂片作為基材，因而實(shí)現(xiàn)了輕量化，可以使驅(qū)動遮光葉片的驅(qū)動部件小型化并降低耗電量。實(shí)施例接下來，采用實(shí)施例、比較例對本發(fā)明進(jìn)行具體的說明。另外，所得耐熱遮光片的評價(jià)通過以下方法進(jìn)行。(光密度、反射率)采用分光光度計(jì)，測定波長為380nm780nm可見光區(qū)的遮光性和反射率。遮光性由通過分光光度計(jì)測定的透光率(T)按照以下的公式換算。光密度二Log(l/T)為了獲得完全的遮光性，波長為380~780nm處的光密度需要達(dá)到4以上。(表面光澤度)表面光澤度采用光澤度計(jì)按照J(rèn)ISZ8741進(jìn)行測定。若表面光澤度不足5%,則光澤度為良好。(摩擦系數(shù))靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)按照J(rèn)ISD1894進(jìn)行測定。當(dāng)靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)為0.3以下時為良好(O)，超過0.3的為不夠好(x)。(表面粗糙度)通過表面粗糙度計(jì)測定所得耐熱遮光片的算術(shù)平均高度Ra。(耐熱'l"生)所得耐熱遮光片的耐熱性能按照以下的程序進(jìn)行評價(jià)。將制作的耐熱遮光片在設(shè)定加熱至220°C的烘箱(7KA》f7夕社制造)中放置24小時后，取出。當(dāng)沒有彎曲和膜變色時評價(jià)為良好(O),當(dāng)有彎曲或者膜變色時評價(jià)為不夠好(x)。(粘合性)耐熱試驗(yàn)后的膜的粘合性按照J(rèn)ISC0021進(jìn)行評價(jià)。當(dāng)沒有膜脫離時評價(jià)為良好(O),有膜脫離時評價(jià)為不夠好(x)。(導(dǎo)電性)所得耐熱遮光片的表面電阻值按照J(rèn)ISK6911進(jìn)行測定。(實(shí)施例1)釆用如圖2所示的巻取式濺射裝置進(jìn)行金屬遮光片和金屬氧化物膜的成膜。首先，在冷卻罐滾筒7表面對側(cè)的設(shè)有磁控管陰極9的裝置的陰極中，裝上作為膜原料的靶IO。巻出輥4、冷卻罐滾筒7、巻取輥8等構(gòu)成的的薄片輸送部通過隔板11與^f茲控管陰極8相隔離。然后，將筒狀的樹脂片基材1設(shè)置在巻出輥4上。對聚酰亞胺(PI)薄片的表面以規(guī)定的噴射時間、噴射壓力、輸送速度進(jìn)行噴砂加工，在兩面上都形成算術(shù)平均高度Ra為0.5pm的微細(xì)凹凸。將該聚酰亞胺(PI)薄片在濺射前加熱至200。C以上的溫度進(jìn)行干燥。然后，通過渦輪分子泵等真空泵5將真空槽6內(nèi)抽氣后，使冷卻罐滾筒7與陰極之間放電，將樹脂片基材1與冷卻罐滾筒表面貼合而輸送，同時進(jìn)行成膜。首先，將以Ni為主要成分、含6.9原子。/。W的Ni類合金靶置于陰極中，由該陰極通過直流濺射法進(jìn)行金屬膜的成膜。金屬膜采用純氬氣濺射氣體(純度99.999%)進(jìn)行成膜。成膜時通過控制膜的輸送速度和向靶施加的電力來控制金屬膜的厚度。從巻出輥4輸送出的樹脂片基材1途經(jīng)冷卻罐滾筒7的表面，再由巻取輥8巻取。然后，該Ni類合金靶在設(shè)置成陰極的狀態(tài)，設(shè)置形成了金屬膜的輥，置于裝置中，由該陰極通過直流濺射法在金屬膜上形成低反射性金屬氧化物膜。低反射性氧化物膜采用混合了2%氧氣的氬氣濺射氣體進(jìn)行成膜。另外，這種條件下制得的氧化物膜在透明基材上形成300nm左右的厚度，對其進(jìn)行光學(xué)性能評價(jià)，可見光區(qū)透光率低至3050%,可以確定為氧缺失多的膜。成膜時通過控制薄片的輸送速度和向靶施加的電力來控制氧化物膜的厚度。從巻出輥4輸送出的薄片1途經(jīng)冷卻罐滾筒7的表面，再由巻取輥8巻取。這樣，獲得了在樹脂片基材一面上形成了膜厚為100nm的金屬膜和膜厚為50nm的氧化物膜的薄片。在金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C。所得金屬膜、低反射性氧化物膜的組成，由ICP發(fā)光分析和EPMA定量分析可以鑒定，與革巴組成基本相同。然后，采用另一個輥將薄片巻回，使沒有成膜的面處于表面一側(cè)，通過重復(fù)上述濺射工序，制得在厚度為75iLim的聚酰亞胺(PI)樹脂片基材兩面上形成了膜厚為100nm的金屬膜和膜厚為50nm的氧化物膜的耐熱遮光片。通過在薄片兩面的每一面上進(jìn)行如此的成膜，可以制造出以聚酰亞胺(PI)薄片基材為中心的對稱結(jié)構(gòu)的遮光片。然后，對所制作的耐熱遮光片通過上述方法進(jìn)行評價(jià)。其結(jié)果為光密度為4以上，最大反射率為1%。表面光澤度顯示為3%以下的低光澤性。靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)為0.3以下，良好。另夕卜，表面電阻值為100n/口，表面算術(shù)平均高度為0.4nm。加熱后耐熱遮光片沒有發(fā)生彎曲，無變色。沒有膜脫離，為良好。另外，按照J(rèn)ISK5600-5-4進(jìn)行劃痕硬度試驗(yàn)(鉛筆法)，為足夠的硬度水平H以上。遮光性、反射性能、光澤度、摩擦系數(shù)與加熱前也沒有變化。制作的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表l。所得耐熱遮光片光密度、反射率、表面光澤度、耐熱性、摩擦系數(shù)、導(dǎo)電性全都良好，由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例2)除了僅將金屬膜的厚度改為50nm以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C，具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為120n/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。此外，在220。C24小時的加熱試驗(yàn)后的膜的粘合性評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例l同等的耐熱性能。摩擦系數(shù)方面也是良好。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表1。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。(實(shí)施例3)除了僅將金屬膜的厚度改為150nm以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。'制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為90Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm。此外，在220。C24小時的加熱試驗(yàn)后的膜的粘合性評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例l同等的耐熱性能。摩擦系數(shù)方面也是良好。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表1。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200'C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例4)除了使用通過改變噴砂表面加工條件而制得的算術(shù)平均高度Ra為0.2pm的聚酰亞胺片以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。其中，聚酰亞胺的種類、厚度與實(shí)施例1相同。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.1^im。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后的膜的粘合性評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例l同等的耐熱性能。摩擦系數(shù)方面也是良好。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表1。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。(實(shí)施例5)除了使用通過改變噴砂表面加工條件而制得的算術(shù)平均高度Ra為0.8pm的聚酰亞胺片以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。其中，聚酰亞胺的種類、厚度與實(shí)施例1相同。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.7pm。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后的膜的粘合性評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。摩擦系數(shù)方面也是良好。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表l。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例6)除了不在薄片兩面而僅在一面上進(jìn)行金屬遮光片和低反射性氧化物膜成膜以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃i見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是成膜面的光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為100n/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。此外，在220。C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)時，沒有膜的脫離，可見具有與實(shí)施例l同等的耐熱性能。摩擦系數(shù)方面也是良好。至于彎曲，經(jīng)加熱試^r,產(chǎn)生了一些，將加工成5cm見方的樣品置于平面上，最大發(fā)生了2mm的彎曲。這是由僅在一面上成膜而產(chǎn)生的膜應(yīng)力造成的影響。若具有這種程度的彎曲，在作為光圏使用時，可以通過在支持基材上進(jìn)行多處接合固定而使用。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表l。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例7)在制作金屬膜和低反射性氧化物膜時，采用含5原子％量的W的Ni類合金靶，與實(shí)施例1~6同樣地試制耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為20~50%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C，具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是，可以制成具有與實(shí)施例1~6同樣的光學(xué)性能、耐熱性的遮光片。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為120Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。當(dāng)采用W的量為14原子％的Ni類合金乾時也是同樣的。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。(實(shí)施例8)采用以Ni為主要成分，且含9.0原子。/。Ti的Ni類合金耙，按照與實(shí)施例1~5同樣的條件、構(gòu)成制作耐熱遮光片。另外，金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為25~43%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃^L窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm。此外，在220。C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)時，沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在20(TC左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。(實(shí)施例9)在制作金屬膜和低反射性氧化物膜時，采用舍6原子％量的Ti的Ni類合金靶，與實(shí)施例8同樣地試制耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為25~55%，是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃4見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是，可以制成具有與實(shí)施例1~6同樣的光學(xué)性能、耐熱性，表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3|im的遮光片。摩擦系數(shù)方面也是良好。另外，當(dāng)采用Ti的量為18原子％的Ni類合金靶時也是同樣的。因此，這種耐熱遮光片可以作為在20(TC左右高溫環(huán)境下^吏用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例10)采用以Ni為主要成分，且含2.3原子。/。Ta的Ni類合金靶，按照與實(shí)施例1~5同樣的條件、構(gòu)成制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為23~40%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為400Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例11)在制作金屬膜和低反射性氧化物膜時，采用含1原子％量的Ta的Ni類合金靶，與實(shí)施例8同樣地試制耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為18~54%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是，可以制成具有與實(shí)施例1~6同樣的光學(xué)性能、耐熱性，表面電阻值為400CW口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm的遮光片。摩擦系數(shù)方面也良好。當(dāng)采用Ta的量為5原子％的Ni類合金靶時也是同樣的。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。(實(shí)施例12)采用以Ni為主要成分，且含7.9原子Q/。V的Ni類合金靶，按照與實(shí)施例15同樣的條件、構(gòu)成制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為35~65%，是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃4見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為500Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。摩擦系數(shù)方面也是良好。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。(實(shí)施例13)在制作金屬膜和低反射性氧化物膜時，采用含6原子％量的V的Ni類合金耙，與實(shí)施例8同樣地試制耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為3356%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是，可以制成具有與實(shí)施例1~6同樣的光學(xué)性能、耐熱性，表面電阻值為500Ci/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm的遮光片。摩擦系數(shù)方面也是良好。當(dāng)采用V的量為18原子％的Ni類合金靶時也是同樣的。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例14)采用以Ni為主要成分，且含9.1原子o/。Al的Ni類合金靶，按照與實(shí)施例1~5同樣的條件、構(gòu)成制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為36~56%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃4見窗測定，溫度為180~220°C，具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。并且，確認(rèn)表面電阻值為80Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3|im。摩擦系數(shù)方面也是良好。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例15)在制作金屬膜和低反射性氧化物膜時，采用含6原子％量的Al的Ni類合金靶，與實(shí)施例8同樣地試制耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為25~54%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是，可以制成具有與實(shí)施例1~6同樣的光學(xué)性能、耐熱性，表面電阻值為80Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm的遮光片。摩擦系數(shù)方面也是良好。當(dāng)采用Al的量為16原子％的Ni類合金靶時也具有同樣的結(jié)果。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例16)采用以Ni為主要成分且含6.9原子Q/qW的Ni類合金靶，除了僅僅使成膜時的氣壓為0.2Pa以外，按照與實(shí)施例1同樣的條件、構(gòu)成制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為1744%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃#見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行評價(jià)的結(jié)果是光密度、反射率、光澤度、耐熱性等各性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為100D/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm。當(dāng)僅使成膜時的氣壓為0.5Pa、0.7Pa、l.OPa時，也具有同樣的結(jié)果。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例17)除了使聚酰亞胺的厚度改為12.5pm以外，以與實(shí)施例1完全相同的條件制作耐熱遮光片。聚酰亞胺片的表面粗糙度與實(shí)施例1的相同。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃3見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。光密度為4以上，最大反射率為1%,表面光澤度為3%以下。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。所得耐熱遮光片的光密度、反射率、表面光澤度、耐熱性、摩擦系數(shù)、導(dǎo)電性全都是良好，由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。此外，當(dāng)聚酰亞胺片的厚度改為25pm、38pm時，可知也能夠制得同等性能的耐熱遮光片。(實(shí)施例18)除了采用純Ni靶制作金屬膜和低反射性氧化物膜以外，以與實(shí)施例1完全相同的條件制作遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為2050%，是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度、反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為900Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3pm。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，也沒有彎曲，但是發(fā)現(xiàn)輕微的脫離。若對脫離部位通過掃描型電子顯微鏡進(jìn)行觀察，發(fā)現(xiàn)在金屬膜與聚酰亞胺膜界面處脫離。可見，當(dāng)采取金屬膜為Ni膜，低反射性氧化物膜為NiO膜的構(gòu)成時，會出現(xiàn)不能獲得耐熱性高且密合性高的遮光片的情況。制作的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表l。由此可見，這種耐熱遮光片雖然可以用于在常溫下使用的許多光學(xué)類用途，但是不適合用作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件。(實(shí)施例19)采用以Ni為主要成分且含6.9原子。/。W的Ni類合金靶，除了僅僅使成膜時的氣壓為1.2Pa,形成氧化物膜時向'減射氣體中通入氧氣的量為0.5%以外，按照與實(shí)施例1同樣的方法、構(gòu)成制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為26~45%,是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃3見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行評價(jià)的結(jié)果是光密度、反射率、光澤度獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.3|im。耐熱試驗(yàn)后的粘合試驗(yàn)中發(fā)生輕微脫離。由此可見，這種遮光片雖然可以用于在常溫下使用的許多光學(xué)類用途，但是不適合用作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件。(實(shí)施例20)除了使聚酰亞胺的厚度改為50pm,金屬膜和氧化物膜形成時4吏用含5原子。/oCu的Ni類合金靶以外，以與實(shí)施例1完全相同的條件制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為2350%，是氧缺失多的低透光率膜。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C，具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。光密度為4以上，最大反射率為1%,表面光澤度為3%以下。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。所得耐熱遮光片光密度、反射率、表面光澤度、耐熱性、摩擦系數(shù)、導(dǎo)電性全都是良好，由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(實(shí)施例21)除了使聚酰亞胺的厚度改為125pm,金屬膜的厚度改為250nm，金屬氧化物膜的厚度改為240nm以夕卜，以與實(shí)施例1完全相同的條件制作耐熱遮光片。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的'踐射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式'減射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。摩擦系數(shù)方面也是良好。光密度為4以上，最大反射率為1%,表面光澤度為3%以下。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4^m。在22CTC24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。所得耐熱遮光片光密度、反射率、表面光澤度、耐熱性、摩擦系數(shù)、導(dǎo)電性全都是良好，由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200°C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用。(比較例1)除了使用改變了噴砂表面加工條件而制作的算術(shù)平均高度Ra為O.lpm的聚酰亞胺片以外，以與實(shí)施例2完全相同的條件制作耐熱遮光片。其中聚酰亞胺的種類、厚度與實(shí)施例2中相同。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃^見窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制作的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度獲得與實(shí)施例2相同的4以上的結(jié)果，但是反射率最大顯示為15%,光澤度顯示為25%,與實(shí)施例2相比，是反射率和光澤度更大的耐熱遮光片。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為120D/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.03pm。在220°C24小時的加熱試-驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)時，沒有彎曲和膜的脫離。所制作的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表l。如將這種反射率或光澤度值很大的耐熱遮光片用于快門葉片等時，由于受到表面反射的影響而無法使用。(比較例2)除了使用改變了噴砂表面加工條件而制作的算術(shù)平均高度Ra為1.0pm的聚酰亞胺片以外，以與實(shí)施例2完全相同的條件制作耐熱遮光片。其中聚酰亞胺的種類、厚度與實(shí)施例2中相同。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180220°C，具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制作的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是反射率為1%以下，光澤度為3%以下，獲得與實(shí)施例2相同的結(jié)果，但光密度顯示為2，與實(shí)施例2相比，是光密度更小的耐熱遮光片。摩擦系數(shù)方面也是良好。并且，確認(rèn)表面電阻值為120D/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.9[im。在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)時，沒有彎曲和膜的脫離。所制作的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表1。因此，這種光密度小的耐熱遮光片，若與實(shí)施例相比，由于會通過相當(dāng)一部分光，不僅是液晶投影儀的光圈部件，很多光學(xué)用途中都不能應(yīng)用。(比較例3)除了使用厚度為75pm的PET片代替聚酰亞胺片作為樹脂片以外，按照與實(shí)施例1同樣的條件、構(gòu)成制作耐熱遮光片。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C，具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。所得耐熱遮光片光密度為3,反射率為2%以上，光澤度為5%,并且，確認(rèn)了表面電阻值為150Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.5pm。摩擦系數(shù)方面為不良。表面的波紋、皺褶非常大，不適合用作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等葉片部件。又，'作為樹脂片在使用PEN片、PC片的場合也具有同樣的:結(jié)果。(比較例4)除了不形成氧化物膜而僅形成金屬膜以外，通過與實(shí)施例1同樣的方法制作耐熱遮光片。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180220°C。所得耐熱遮光片表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm,光密度為4以上，表面電阻值為100Q/口，具有充分的遮光性和導(dǎo)電性。<旦是，最大反射率高達(dá)11%,光澤度高達(dá)15%。這是因?yàn)楸砻媸歉叻瓷湫缘慕饘倌ぁＳ捎诜瓷渎矢?，若作為棱鏡單元的光學(xué)部件使用，則反射光會發(fā)生散射，因而不優(yōu)選。另夕卜，按照J(rèn)ISK5600-5-4進(jìn)行劃痕硬度試驗(yàn)(鉛筆法)時，為HB水平，與上述所有實(shí)施例(H以上)相比，硬度都要小。這是因?yàn)樵诒容^例4中表面是金屬膜，而在實(shí)施例中，是具有硬度的氧化物膜。因此，若作為光量調(diào)節(jié)裝置或快門的葉片部件使用，葉片部件之間相互摩擦將引起摩的損傷，并進(jìn)一步成為遮光性變差的主要原因。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評4介時，觀察到顯著的膜脫離。膜脫離發(fā)生后的光密度為3,摩擦系數(shù)為不良。這種耐熱遮光片不能作為棱鏡單元側(cè)使用的遮光部件使用，并且由于耐熱性差，也不適合用作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等葉片部件。(比較例5)除了使金屬膜的厚度改為30nm以外，以與實(shí)施例1完全相同的條件制作耐熱遮光片。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的賊射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式賊射裝置的石英玻璃^見窗測定，溫度為180220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。制作的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是反射率、光澤度等性能獲得與實(shí)施例1同等的水平。光密度為2,確定有少量光透過。摩擦系凄t方面也與實(shí)施例1同等。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4jim。在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，也沒有彎曲和膜的脫離，可見具有與實(shí)施例l同等的耐熱性能。所制作的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表1。由此可見，這種光密度小的耐熱遮光片，由于有少量的光透過，因而不能作為數(shù)碼照相機(jī)和液晶投影儀的光圈部件使用。(實(shí)施例22)在樹脂片上形成金屬膜之前，形成阻氣膜，并且改變金屬膜和金屬氧化物膜的厚度，使金屬膜為130nm，最表層的金屬氧化物膜為65nm,除此以外，與實(shí)施例1同樣地制作耐熱遮光片。樹脂片采用種類、表面粗糙度與實(shí)施例1相同但厚度為125pm的聚酰亞胺膜。阻氣膜與金屬膜上所形成的金屬氧化物膜同等，采用20nm厚度的鎳類氧化物膜。即，阻氣膜、金屬膜、金屬氧化物膜采用同一鎳類合金靶，阻氣膜和最表層的金屬氧化物膜通過向?yàn)R射氣體中通入氧氣的反應(yīng)性濺射法進(jìn)行成膜，遮光性的金屬膜在僅為氬氣的'減射氣體中進(jìn)行濺射成膜。在以與實(shí)施例1同樣的方法進(jìn)行阻氣膜、金屬膜和氧化物膜的濺射時，測定薄片的表面溫度，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。將所得遮光片通過與實(shí)施例1同樣的方法進(jìn)行評價(jià)，可知制得了光密度為4以上，380~780nm波長的最大反射率為2%，最小反射率為1.5%,光澤度為3%以下的遮光片。并且對耐熱性也同樣地進(jìn)行評價(jià)，得到與實(shí)施例1完全相同的結(jié)果。此外，確認(rèn)表面電阻值為5D/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pim。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。此外，將該耐熱遮光片在85°C、90%RH下進(jìn)行1000小時的恒溫恒濕試驗(yàn)，光密度、最大反射率、最小反射率、色度、表面電阻完全沒有發(fā)生變化。(實(shí)施例23)除了將阻氣膜的厚度改為5nm以外，與實(shí)施例22同樣地制作耐熱遮光片。與實(shí)施例22同樣地在85°C、90%RH下進(jìn)行1000小時的恒溫恒濕試驗(yàn)，光密度、反射率、色度、表面電阻完全沒有發(fā)生變化。當(dāng)將阻氣膜的厚度改為10nm、30nm時也是同樣的。(實(shí)施例24)除了不在樹脂片基材上形成阻氣膜，而形成金屬膜以外，按照與實(shí)施例22同樣的方法、構(gòu)造制造耐熱遮光片。在以與實(shí)施例1同樣的方法進(jìn)行阻氣膜、金屬膜和氧化物膜的濺射時，測定薄片表面溫度，為180~220°C。將所得遮光片通過與實(shí)施例1同樣的方法進(jìn)行評價(jià)，可知制得了光密度為4以上，380780nm波長處的最大反射率為2%,最小反射率為1.5%,光澤度為3%以下的遮光片。并且對耐熱性也同樣地進(jìn)行評價(jià)，得到與實(shí)施例1完全相同的結(jié)果。此外，確認(rèn)表面電阻值為5Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4|im。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圏等部件使用。此外，將該耐熱遮光片在85°C、90。/。RH下進(jìn)行1000小時的恒溫恒濕試驗(yàn)時，光密度沒有變化，但是發(fā)現(xiàn)了一些色度變化，由黑色變?yōu)榘档纳钏{(lán)色。在380~780nm處進(jìn)行分光測定時，最大反射率升高到5%,最小反射率下降到0.2%,發(fā)現(xiàn)反射率受波長的影響很大。將試-瞼后的耐熱遮光片的截面通過TEM觀察和EDX進(jìn)行局部組成分析時，發(fā)現(xiàn)金屬膜的樹脂片一側(cè)，部分區(qū)域(1020nm)進(jìn)入了38%左右的氧氣。這種金屬膜由于構(gòu)成光學(xué)性能不同的二層結(jié)構(gòu)，因而被認(rèn)為是發(fā)現(xiàn)上述反射率變化的原因。即使具有這種色度的變化，但最大反射率仍為5%以下，因而足夠可以被應(yīng)用，然而，對于對色度變化敏感的用途，如實(shí)施例22、23所示，插入阻氣膜是有效的。(實(shí)施例25)將實(shí)施例23中形成的阻氣膜(鎳類氧化物膜)替換為氧化硅膜(膜厚30nm)的濺射膜，試制耐熱遮光片，在8VC、90。/。RH下進(jìn)行1000小時的恒溫恒濕試驗(yàn)時，沒有色度和反射率的變化，可見作為阻氣膜有效地發(fā)揮了作用。當(dāng)阻氣膜替換為氧化鉭(膜厚10nm)、氧化鎢(膜厚10nm)、氧化釩(膜厚30nm)、氧化鉬(膜厚20nm)、氧化鈷(膜厚10nm)、氧化鈮(膜厚10nm)、氧化鐵(膜厚10nm)或者氧化鋁(膜厚30nm)的濺射膜而試制耐熱遮光片時，也是同樣的。(實(shí)施例26)除了使氧化物膜成膜時濺射氣體中通入的氧氣量為10%以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。金屬膜上形成的氧化物膜單膜的可見光區(qū)透光率在300nm的厚度下為71~82%,是氧缺失少的高透光率膜。制得的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為180~220°C,具有與實(shí)施例1同等的薄片溫度。其結(jié)果是確認(rèn)光密度為4以上，具有充分的遮光性。此外，可見光區(qū)的最大反射率為7%，光澤度為15%,與實(shí)施例l相比更高，呈黃土色。并且，確認(rèn)表面電阻值為120Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。此外，在220。C24小時的加熱試驗(yàn)后進(jìn)行膜粘合性的評價(jià)中，也沒有彎曲和膜脫離，可見具有與實(shí)施例1同等的耐熱性能。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表1對該耐熱遮光片進(jìn)行燈照試驗(yàn)。在離裝有反射鏡的200W超高壓汞燈(UHE燈)20cm位置，面朝光源設(shè)置5cmcJ)的耐熱遮光片，通過輻射溫度計(jì)測定光照1小時時溫度上升情況，實(shí)施例26的耐熱遮光片升溫至85°C。對實(shí)施例1~25的耐熱遮光片進(jìn)行同樣的照射試驗(yàn)，升溫至190~200°C,可見實(shí)施例26的光照升溫較少。這是因?yàn)?，覆蓋在耐熱遮光片表面上的氧化物膜對熱射線的吸收少，金屬膜對熱射線有效地反射，抑制了溫度的升高。由此可見，這種耐熱遮光片可以作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的液晶投影儀的光圈等部件使用，特別是作為設(shè)置于燈光源旁的遮光部件可以特別有效的利用。(實(shí)施例27)采用氧化物膜成膜時向?yàn)R射氣體中通入的氧氣量增加至5~10%、單膜的可見光區(qū)透光率高(65~78%)的氧化物膜，使其厚度為10nm,除此以外，在與實(shí)施例1完全相同的條件下制作耐熱遮光片。耐熱性和遮光性與實(shí)施例1同等，而可見光區(qū)的最大反射率為4%,光澤度為7%,根據(jù)通入氧氣的量，呈現(xiàn)藍(lán)色或紅色。與實(shí)施例26同樣地進(jìn)行燈光照射試驗(yàn)，溫度上升至95。C,比實(shí)施例1~25低。并且，這種趨勢，當(dāng)氧化物膜厚度為5nm時也是相同的。由此可見，可以作為燈光源旁的遮光部件^使用。(實(shí)施例28)采用以Ni為主要成分且含6.9原子。/。W的Ni類合金靶，使冷卻罐溫度為0°C,成膜時薄片基材表面溫度為150°C,除此以外，按照與實(shí)施例1同等的方法、構(gòu)造制作耐熱遮光片。在與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行金屬膜和氧化物膜的濺射時，薄片的表面溫度通過紅外線輻射溫度計(jì)，由巻取式濺射裝置的石英玻璃視窗測定，溫度為150°C。制作的耐熱遮光片的評價(jià)(光學(xué)性能、耐熱性)以與實(shí)施例1同樣的方法、條件進(jìn)行。其結(jié)果是光密度顯示為4,最大反射率為1%,光澤度為3%以下。并且，確認(rèn)表面電阻值為100Q/口，表面算術(shù)平均高度Ra為0.4pm。此外，在220°C24小時的加熱試驗(yàn)后的膜的粘合性評價(jià)時，彎曲大，是膜的粘合性非常差的結(jié)果，觀察到由膜的脫離導(dǎo)致的遮光性下降。摩擦系數(shù)為良好。制得的耐熱遮光片的構(gòu)成、性能一并列于表l。這種耐熱遮光片由于在120°C以下的耐熱試-驗(yàn)(24小時)中為良好，因而可以作為在常溫至IO(TC左右使用的多種遮光部件使用，但是不適合用作為在200。C左右高溫環(huán)境下使用的遮光部件。(實(shí)施例29)對實(shí)施例1~28中制作的耐熱遮光片進(jìn)4亍沖孔加工，制作20mmx30mm的遮光葉片。1片遮光葉片的重量為O.Olg,將2片遮光葉片裝載在光圈裝置中，進(jìn)行耐久試驗(yàn)。在耐久試驗(yàn)中，在燈光照射的同時，在遮光葉片的運(yùn)動范圍最大和最小開口徑的范圍內(nèi)重復(fù)幾萬次，評價(jià)遮光葉片運(yùn)動時遮光葉片的耐熱性和耐磨損性。沒有出現(xiàn)由試驗(yàn)?zāi)p導(dǎo)致的遮光葉片外觀上的變化，光圈裝置內(nèi)沒有發(fā)現(xiàn)由磨損產(chǎn)生的異物附著。因此，可以實(shí)現(xiàn)摩擦、磨損和噪音小，以及樹脂片作為基材而輕量化，驅(qū)動遮光葉片的電機(jī)驅(qū)動扭矩減小，滑動性良好。(比較例6)除了將遮光葉片替換為金屬制的SUS箔板以外，與實(shí)施例29同樣地將遮光片進(jìn)行沖孔加工，以SUS箔板為基材制作20mmx30mm的遮光葉片，進(jìn)行與實(shí)施例29同樣的評價(jià)。遮光葉片的重量為0.3g。沒有出現(xiàn)由試驗(yàn)?zāi)p導(dǎo)致的遮光葉片外觀上的變化，光圈裝置內(nèi)沒有發(fā)現(xiàn)由磨損產(chǎn)生的異物附著。但是由于遮光葉片的重量大，使驅(qū)動遮光葉片的電機(jī)驅(qū)動扭矩增大，滑動性變差。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage55</column></row><table>權(quán)利要求1.一種耐熱遮光片，其特征在于包括具有200℃以上的耐熱性的樹脂片基材(A)、在樹脂片基材(A)一面或兩面上通過濺射法形成的具有50nm以上厚度的Ni類金屬膜(B)、在Ni類金屬膜(B)上通過濺射法形成的低反射性Ni類氧化物膜(C)，并且表面粗糙度以算術(shù)平均高度Ra計(jì)為0.1～0.7μm。2.權(quán)利要求1所述的耐熱遮光片，其特征在于樹脂片基材(A)由從聚酰亞胺、芳族聚酰胺、聚苯硫醚或者聚醚砜中選出的一種以上構(gòu)成，且表面粗糙度以算術(shù)平均高度Ra計(jì)為0.2~0.8nm。3.權(quán)利要求1所述的耐熱遮光片，其特征在于Ni類金屬膜(B)是以鎳為主要成分，含有從由鈥、鉭、鎢、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出的1種以上添加元素的鎳類合金膜。4.權(quán)利要求3所述的耐熱遮光片，其特征在于Ni類金屬膜(B)的添加元素的含有量為1~18原子％。5.權(quán)利要求1所述的耐熱遮光片，其特征在于Ni類氧化物膜(C)以鎳為主要成分，并進(jìn)一步含有從由鈦、鉭、鵠、釩、鋁以及銅構(gòu)成的群組中選出的1種以上添加元素。6.權(quán)利要求5所述的耐熱遮光片，其特征在于Ni類氧化物膜(C)的添加元素的含有量為1~18原子％。7.權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片，其特征在于Ni類金屬膜(B)的厚度為50250nm，并且，Ni類氧化物膜(C)的厚度為5~240nm。8.權(quán)利要求17任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片，其特征在于在樹脂片基材(A)與上述金屬膜(B)的界面之間，夾設(shè)有由濺射法形成的金屬氧化物膜作為阻氣膜(D)。9.權(quán)利要求8所述的耐熱遮光片，其特征在于上述阻氣膜(D)為Ni類氧化物膜。10.權(quán)利要求8或9所述的耐熱遮光片，其特征在于上述阻氣膜(D)是以從由鈦、鉭、鎢、釩、鉬、鈷、鈮、鐵、鋁以及硅構(gòu)成的群組中選出的1種以上元素為主要成分的氧化物膜。11.權(quán)利要求8~10任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片，其特征在于上述阻氣膜(D)的膜厚度為5~30nm。12.權(quán)利要求1~11任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片，其特征在于表面電阻j直為1000Q/口以下。13.權(quán)利要求12所述的耐熱遮光片，其特征在于表面電阻值為100Q/口以下。14.權(quán)利要求17任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片，其特征在于樹脂片基材(A)的兩面上都形成Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C),以樹脂片基材(A)作為中心，形成對稱結(jié)構(gòu)。15.4又利要求14所述的耐熱遮光片，其特征在于兩面上形成的Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)分別具有實(shí)質(zhì)上相同的金屬元素組成。16.權(quán)利要求9所述的耐熱遮光片，其特征在于樹脂片基材(A)的兩面上都形成Ni類氧化物阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C),以樹脂片基材(A)作為中心，形成對稱結(jié)構(gòu)。17.權(quán)利要求16所述的耐熱遮光片，其特征在于兩面上所形成的Ni類氧化物阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)分別具有實(shí)質(zhì)上相同的金屬元素組成。18.權(quán)利要求1~7任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于將表面粗糙度以算術(shù)平均高度Ra計(jì)為0.2-0.8pm的樹脂片基材(A)置于濺射裝置中，在不活潑氣體環(huán)境下進(jìn)行濺射，在樹脂片基材(A)上形成Ni類金屬膜(B),然后，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在Ni類金屬膜(B)上形成Ni類氧化物膜(C)。19.權(quán)利要求8~11任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于將表面粗糙度以算術(shù)平均高度Ra計(jì)為0.20.8pm的樹脂片基材(A)置于濺射裝置中，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在樹脂片基材(A)上形成阻氣膜(D),然后，在不活潑氣體環(huán)境下進(jìn)行濺射，在阻氣膜(D)上形成Ni類金屬膜(B)后，向不活潑氣體環(huán)境中通入氧氣，同時進(jìn)行濺射，在Ni類金屬膜(B)上形成Ni類氧化物膜(C)。20.權(quán)利要求18或19所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于濺射壓為0.21.0Pa。21.權(quán)利要求18或19所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于濺射時樹脂片基材的溫度為180。C以上。22.權(quán)利要求18所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于將形成了Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)的耐熱遮光片進(jìn)一步置于濺射裝置中，通過濺射，在樹脂片基材(A)的背面依次形成Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)。23.權(quán)利要求19所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于將形成了阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)的耐熱、遮光片進(jìn)一步置于濺射裝置中，通過濺射，在樹脂片基材(A)的背面依次形成阻氣膜(D)、Ni類金屬膜(B)和Ni類氧化物膜(C)。24.權(quán)利要求1823任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片的制造方法，其特征在于樹脂片基材(A)巻成筒狀設(shè)置在濺射裝置的薄片輸送部上。25.—種耐熱性優(yōu)良的光圏，通過加工權(quán)利要求1~17任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片而制得。26.—種光量調(diào)節(jié)裝置，其采用權(quán)利要求117任一項(xiàng)所述的耐熱遮光片。全文摘要本發(fā)明提供一種耐熱遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或光量調(diào)節(jié)裝置，該耐熱遮光片作為數(shù)碼照相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)的鏡頭快門等的快門葉片或光圈葉片或者投影儀的光量調(diào)節(jié)用光圈裝置的光圈葉片等光學(xué)儀器部件使用，耐光性、耐熱性、滑動性、低光澤性、導(dǎo)電性優(yōu)良。該耐熱遮光薄片特征在于包括具有200℃以上的耐熱性的樹脂片基材(A)、在樹脂片基材(A)一面或兩面上通過濺射法形成的具有50nm以上厚度的Ni類金屬膜(B)、在Ni類金屬膜(B)上通過濺射法形成的低反射性Ni類氧化物膜(C)，并且表面粗糙度為0.1～0.7μm(算術(shù)平均高度Ra)。文檔編號G02B5/00GK101191843SQ20071018828公開日2008年6月4日申請日期2007年11月30日優(yōu)先權(quán)日2006年11月30日發(fā)明者塚越幸夫,小野勝史,阿部能之申請人:住友金屬礦山株式會社