專利名稱：液浸顯微鏡裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及進(jìn)行基板的液浸觀察的液浸顯微鏡裝置。
背景技術(shù)：
為了以高分辨能力觀察在基板(例如半導(dǎo)體晶片或液晶基板等)上形 成的電路圖形的缺陷或異物等，提出了使用液浸類的物鏡、將該物鏡的前 端與基板之間用水等液體充滿、根據(jù)液體的折射率(>1)而使物鏡的開口 數(shù)變大的技術(shù)(例如參照專利文獻(xiàn)O。此外，還提出了在基板的液浸觀察 后通過有機(jī)溶劑或空氣刀等使基板干燥、使干燥后的基板回到盒中的技術(shù)。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-83800號(hào)公報(bào)
但是，在上述裝置中，氧化膜或印痕等附著在干燥后的基板的表面(與 液體接觸的區(qū)域)中的可能性較高，這些臟污有時(shí)會(huì)成為缺陷而顯著地?fù)p 害基板的品質(zhì)。由于品質(zhì)降低的基板不能成為有用的產(chǎn)品，所以不得不丟 棄。這樣，在上述裝置中，不能非破壞地進(jìn)行基板的液浸觀察(即進(jìn)行非 破壞檢查)。同樣的問題并不限于在局部液浸的狀態(tài)下觀察基板的情況，在 整面液浸的狀態(tài)下觀察的情況下也同樣會(huì)發(fā)生。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種能夠不損害基板的品質(zhì)而非破壞地進(jìn)行基板 的液浸觀察的液浸顯微鏡裝置。
本發(fā)明的液浸顯微鏡裝置具備支承機(jī)構(gòu)，支承觀察對(duì)象的基板；液 浸類的物鏡；第1供給機(jī)構(gòu)，將超純水作為觀察用的液體供給到上述物鏡 的前端與上述基板之間；第1除去機(jī)構(gòu)，在上述基板的觀察后，將上述觀 察用的液體除去；第2供給機(jī)構(gòu)，將與由上述第1除去機(jī)構(gòu)除去的上述觀察用的液體不同的清洗用的液體，供給到上述基板中的與上述觀察用的液
體接觸的區(qū)域中；第2除去機(jī)構(gòu)，在上述基板的清洗后，將上述清洗用的
液體除去。
此外，優(yōu)選的是，上述第2供給機(jī)構(gòu)為了生成上述清洗用的液體，從
上述超純水的循環(huán)路徑取入脫氣后的超純水，或者從上述循環(huán)路徑取入脫 氣前的超純水而進(jìn)行脫氣，通過得到的脫氣后的超純水生成一種上述清洗
用的液體，供給到上述基板的上述區(qū)域中；上述一種清洗用的液體是在脫 氣后的超純水中將臭氧溶解到濃度lppm以上的液體、在脫氣后的超純水 中將氫溶解到濃度0.6ppm以上的液體、和在脫氣后的超純水中溶解了氮的 液體的某個(gè)。
此外，優(yōu)選的是，上述第2供給機(jī)構(gòu)為了生成上述清洗用的液體，從 上述超純水的循環(huán)路徑取入脫氣后的超純水，或者從上述循環(huán)路徑取入脫 氣前的超純水而進(jìn)行脫氣，通過得到的脫氣后的超純水生成兩種以上上述 清洗用的液體，依次供給到上述基板的上述區(qū)域中；上述兩種以上清洗用 的液體是在脫氣后的超純水中將臭氧溶解到濃度lppm以上的液體、在脫 氣后的超純水中將氫溶解到濃度0.6ppm以上的液體、和在脫氣后的超純水 中溶解了氮的液體的某個(gè)。
此外，優(yōu)選的是，具備當(dāng)上述第2供給機(jī)構(gòu)將溶解了上述氫的液體作 為上述清洗用的液體供給時(shí)朝向該溶解了氫的液體發(fā)出超聲波的振蕩機(jī) 構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的液浸顯微鏡裝置，能夠不損害基板的品質(zhì)而非破壞地進(jìn) 行基板的液浸觀察。


圖1是液浸顯微鏡裝置10的整體結(jié)構(gòu)圖。 圖2是說明物鏡14的周邊結(jié)構(gòu)的放大圖。 圖3是說明超純水制造裝置(31 36)和循環(huán)路徑26的圖。
具體實(shí)施方式
以下，利用附圖詳細(xì)地說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，如圖1所示，設(shè)有對(duì)作為觀察
對(duì)象的基板IOA進(jìn)行支承的臺(tái)部(11 13)、液浸類的物鏡14、對(duì)觀察用 的液體進(jìn)行供給的機(jī)構(gòu)(15、 16)、對(duì)清洗用的液體進(jìn)行供給的機(jī)構(gòu)(17 19)、將這些液體除去的機(jī)構(gòu)(20 22)、和控制各部的控制部23。
此外，在液浸顯微鏡裝置10中，雖然圖示省略，但還設(shè)有自動(dòng)輸送照 明光學(xué)系統(tǒng)或觀察光學(xué)系統(tǒng)、基板10A的機(jī)構(gòu)、和TTL方式的自動(dòng)對(duì)焦機(jī) 構(gòu)等。
基板10A是半導(dǎo)體晶片或液晶基板等。液浸顯微鏡裝置10為在半導(dǎo)體 電路元件或液晶顯示元件等的制造工序中進(jìn)行形成在基板10A上的電路圖 形的缺陷及異物等進(jìn)行液浸觀察(外觀檢查)的裝置。電路圖形例如是抗 蝕圖形。
臺(tái)部(11 13)由試料臺(tái)11、 Z臺(tái)12和XY臺(tái)13構(gòu)成?；?0A例 如從顯影裝置被輸送而載置在試料臺(tái)11的上表面，例如通過真空吸附被固 定地支承。試料臺(tái)11能夠在Z臺(tái)12的作用下沿鉛直方向移動(dòng)，能夠在XY 臺(tái)13的作用下沿水平方向移動(dòng)。
Z臺(tái)12的鉛直方向的移動(dòng)在基板10A的對(duì)焦時(shí)進(jìn)行。對(duì)焦動(dòng)作是控制 部23利用自動(dòng)對(duì)焦機(jī)構(gòu)進(jìn)行的。XY臺(tái)13的水平方向的移動(dòng)是在將基板 10A的預(yù)先設(shè)定的觀察點(diǎn)定位在物鏡14的視野內(nèi)時(shí)進(jìn)行的。XY臺(tái)13的基 礎(chǔ)部件固定在液浸顯微鏡裝置10的主體(鏡基24)的下部。
液浸類的物鏡14固定在鏡基24的上部，設(shè)計(jì)為，使得當(dāng)其前端與基 板10A之間被液浸媒質(zhì)(觀察用的液體)充滿時(shí)修正光學(xué)系統(tǒng)的像差。另 外，在未圖示的照明光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)有照明光源，其觀察波長(zhǎng)例如是可視域 或紫外域。在可視域的情況下，能夠進(jìn)行使用接眼透鏡25的基板10A的液 浸觀察。在紫外域的情況下，需要代替接眼透鏡25而設(shè)置CCD照相機(jī)等 進(jìn)行攝像、顯示在監(jiān)視器裝置上來(lái)進(jìn)行液浸觀察。
在物鏡14的周邊，分別固定地配置有用于供給觀察的液體的機(jī)構(gòu)(15、 16)的吐出嘴16、用于供給清洗的液體的機(jī)構(gòu)(17 19)的吐出嘴19、和 將這些液體除去的機(jī)構(gòu)(20 22)的吸引嘴20。此外，這些吐出嘴16、 21和吸引嘴20的各前端如圖2中放大所示，位于物鏡14的前端附近。
為了利用吐出嘴16將觀察用的液體定量吐出到物鏡14的前端與基板
IOA之間，在吐出嘴16上連接有加壓泵15 (圖1)，該加壓泵15連接在超
純水的循環(huán)路徑26的分支點(diǎn)6A上。通過加壓泵15和吐出嘴16構(gòu)成用于
供給觀察用的液體的機(jī)構(gòu)(15、 16)。
此外，為了利用吐出嘴19定量吐出清洗用液體，在吐出嘴19上連接
加壓泵18和清洗液制造裝置17，該清洗液制造裝置17連接在超純水的循
環(huán)路徑26的分支點(diǎn)6B上。通過清洗液制造裝置17、加壓泵18和吐出嘴
19構(gòu)成用來(lái)供給清洗用的液體的機(jī)構(gòu)(17 19)。 這里，對(duì)超純水的循環(huán)路徑26進(jìn)行說明。
在循環(huán)路徑26中，如圖3所示，取入由1次純水系統(tǒng)(31、 32)制造 的純水。在1次純水系統(tǒng)(31、32)中，至少設(shè)有高壓泵31和反浸透膜(R/0) 裝置32。高壓泵31的輸入側(cè)連接到工廠水源30。工廠水源30的水(市政 水)被高壓泵31吸起，經(jīng)由反浸透膜(R/O)裝置32除去雜質(zhì)，成為純水。
在循環(huán)路徑26中，取入由l次純水系統(tǒng)(31、 32)制造的純水，經(jīng)由 2次超純水系統(tǒng)(33 36)進(jìn)一步提高純度，制造能夠用于基板10A的液 浸觀察的水平的超純水。在2次超純水系統(tǒng)(33 36)中，至少設(shè)有循環(huán) 泵33、離子交換樹脂(DI) 34、限外過濾器(UF) 35、和脫氣裝置36。 脫氣裝置36是溶存在超純水中的氧的除去裝置，例如是真空脫氣裝置。
進(jìn)而，由2次超純水系統(tǒng)(33 36)制造的超純水(脫氣后的超純水) 經(jīng)由配管上的分支點(diǎn)6A、 6B被反饋到2次超純水系統(tǒng)(33 36)的循環(huán) 泵33的上游。接著，由循環(huán)泵33進(jìn)行超純水的強(qiáng)制循環(huán)。通過使超純水 在循環(huán)路徑26之中強(qiáng)制地循環(huán)，能夠保持超純水的純度，還能夠防止細(xì)菌 的繁殖。
在將由1次純水系統(tǒng)(31、 32)和2次超純水系統(tǒng)(33 36)構(gòu)成的 全部超純水制造裝置預(yù)先設(shè)置在工廠內(nèi)的情況下，通過在其循環(huán)路徑26的 分支點(diǎn)6A、 6B的各自上連接用來(lái)供給觀察的液體的機(jī)構(gòu)(15、 16)和供 給清洗用的液體的機(jī)構(gòu)(17 19)的各配管，能夠進(jìn)行使用本實(shí)施方式的 液浸顯微鏡裝置10的基板10A的液浸觀察。此外，在僅將2次超純水系統(tǒng)(33 36)預(yù)先設(shè)置在工廠內(nèi)的情況下， 將2次超純水系統(tǒng)(33 36)和循環(huán)路徑26設(shè)在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡 裝置10中，在該裝置內(nèi)的循環(huán)路徑26的分支點(diǎn)6A、 6B的各自上連接上 述機(jī)構(gòu)(15、 16)和機(jī)構(gòu)(17 19)的各配管。并且，通過在裝置內(nèi)的循 環(huán)路徑26上連接工廠的1次純水系統(tǒng)(31、 32)的輸出配管，能夠進(jìn)行使 用本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10的基板10A的液浸觀察。
循環(huán)路徑26中的超純水如上述那樣被保持為能夠用于基板10A的液浸 觀察的較高水平的純度，還防止了細(xì)菌的繁殖，并且被脫氣。超純水的強(qiáng) 制循環(huán)在到從液浸顯微鏡裝置10的控制部23 (圖1)發(fā)出吐出指令為止的 期間內(nèi)，沿著循環(huán)路徑26持續(xù)進(jìn)行。循環(huán)路徑26的分支點(diǎn)6A、 6B也稱 作使用點(diǎn)(-一7求一y卜)。
在上述結(jié)構(gòu)的液浸顯微鏡裝置10中，控制部23在基板10A的液浸觀 察之前發(fā)出觀察用的液體的吐出指令，從循環(huán)路徑26的分支點(diǎn)6A取入規(guī) 定量的超純水，向加壓泵15送出。此外，該規(guī)定量的超純水被從加壓泵15 送到吐出嘴16，從吐出嘴16的前端作為觀察用的液體被供給到物鏡14的 前端與基板IOA的觀察點(diǎn)之間，在表面張力的作用下形成"液滴"。并且， 在局部供給了觀察用液體的局部液浸的狀態(tài)下進(jìn)行基板10A的液浸觀察。
然后，如果某個(gè)觀察點(diǎn)處的液浸觀察結(jié)束，則液浸顯微鏡裝置10的控 制部23發(fā)出觀察用的液體的除去指令，為了利用上述吸引嘴20將觀察用 的液體從基板10A除去，在吸引嘴20上經(jīng)由排液箱21連接有真空泵22。 由吸引嘴20、排液箱21和真空泵22，構(gòu)成將觀察用的液體除去的機(jī)構(gòu)(20 22)。但是，該機(jī)構(gòu)(20 22)也在將清洗用的液體除去時(shí)使用。也可以代 替真空泵22而連接工廠內(nèi)的真空裝置(未圖示)。
如果從控制部23發(fā)出除去觀察用的液體的指令，則真空泵22經(jīng)由排 液箱21和吸引嘴20將物鏡14的前端與基板10A之間的液體與周圍的空氣 一起吸引。即從基板10A除去。被吸引的液體被導(dǎo)引到排液箱21中，在那 里與空氣區(qū)分，匯集到排液箱21之中。并且，只有空氣被導(dǎo)引到真空泵22 中。
這樣，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，在基板10A的液浸觀察時(shí)，根據(jù)來(lái)自控制部23的指示，自動(dòng)地對(duì)觀察用的液體進(jìn)行供給/除去， 因此，幾乎不會(huì)對(duì)作業(yè)者產(chǎn)生負(fù)擔(dān)，能夠在高生產(chǎn)量下進(jìn)行基板10A的液 浸觀察。
并且，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，經(jīng)由吐出嘴16和吸引 嘴20將觀察用的液體局部地供給/除去，僅使基板10A的觀察點(diǎn)和其附近 成為液浸狀態(tài)(即成為局部液浸的狀態(tài))。因此，能夠?qū)⒒?0A的表面的 與觀察用的液體的接觸部分限制在液浸觀察所需的最小限度的范圍內(nèi)。
進(jìn)而，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，僅在需要時(shí)(即僅在開 始基板10A的液浸觀察時(shí))從超純水的循環(huán)路徑26取入規(guī)定量的超純水。 因此，能夠總是將高品質(zhì)的超純水(即保持為能夠在基板IOA的液浸觀察 中使用的較高水平的純度、也防止了細(xì)菌的繁殖、而且已脫氣的超純水) 作為觀察用的液體進(jìn)行供給。
但是，在高品質(zhì)的超純水中，也殘留有一些雜質(zhì)(例如金屬離子、微 粒子、細(xì)菌、氧等)。進(jìn)而，在供給之后，即使是高品質(zhì)的超純水，也會(huì)在 基板IOA的液浸觀察的過程中從周圍析出各種物質(zhì)(例如氧、有機(jī)物、硅 石等)，其水質(zhì)逐漸下降。因此，如果在液浸觀察后使基板10A干燥，則在 干燥后的基板10A的表面(與觀察用的液體接觸的區(qū)域)上附著氧化膜或 印痕等的臟污。并且，這些臟污有時(shí)會(huì)成為缺陷而顯著損害基板10A的品 質(zhì)。
例如，溶存氧對(duì)硅晶片及金屬有強(qiáng)烈的腐蝕效果，與溶存硅石化合而 在晶片表面上形成氧化膜(例如Si02等的絕緣膜)，成為缺陷。有機(jī)物(TOC) 在干燥后容易成為印痕的原因。已知TOC濃度與晶片上的缺陷密度之間有 相關(guān)關(guān)系。硅石容易成為晶片表面的氧化膜的原因。金屬離子即使是微量， 如果附著在晶片表面上，也容易產(chǎn)生不良。微粒子在晶片干燥后進(jìn)入到細(xì) 微的布線圖形之間，成為缺陷。如細(xì)菌那樣的活菌一旦繁殖而形成群體， 則會(huì)帶來(lái)與微粒子相同的危害。
這樣，在基板10A的液浸觀察中，由于在液浸觀察的過程中使基板10A 與觀察用的液體接觸，所以如果在觀察后使基板10A干燥，則在與觀察用 的液體接觸的區(qū)域中，起因于該液體的上述那樣的臟污會(huì)作為缺陷而附著，顯著損害基板10A的品質(zhì)。并且，由于品質(zhì)下降的基板IOA不能成為有用
的產(chǎn)品，不得不丟棄。
所以，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，為了不損害基板10A的 品質(zhì)而非破壞地進(jìn)行基板10A的液浸觀察，在將觀察用的液體除去后，將 基板10A的表面(與液體接觸過的區(qū)域)清洗?；?0A的清洗也可以在 基板10A的干燥后進(jìn)行，但在干燥前進(jìn)行更為有效。在基板10A的清洗中， 使用供給清洗用的液體的機(jī)構(gòu)(17 19)、和將該液體除去的機(jī)構(gòu)(20 22)。
如果結(jié)束觀察用的液體的除去，液浸顯微鏡裝置10的控制部23則發(fā) 出清洗用的液體的吐出指令，并從循環(huán)路徑26的分支點(diǎn)6B取入規(guī)定量的 超純水，向清洗液制造裝置17送出。清洗液制造裝置17由電磁閥7A、 7B、 氣體溶解部7C、和混合部7D構(gòu)成，利用從分支點(diǎn)6B取入的超純水(脫 氣后的超純水)生成清洗用的液體(清洗液)。
例如，在將脫氣后的超純水中溶解了臭氧后的液體(以下稱作"臭氧 水")作為清洗液生成的情況下，使用來(lái)自臭氧源(臭氧精制裝置)的氣體。 臭氧的溶解進(jìn)行到其濃度成為lppm以上。如果設(shè)為這樣的范圍的濃度， 則發(fā)揮對(duì)基板10A的充分的清洗效果。雖然不需要使臭氧溶解到飽和，但 為了提高清洗效果而優(yōu)選地提高濃度。臭氧水的清洗效果是起因于溶存氧 及析出硅石等而形成的氧化膜的除去效果。
此外，在將脫氣后的超純水中溶解了氫后的液體(以下稱作"氫水") 作為清洗液生成的情況下，使用來(lái)自氫源(例如儲(chǔ)氣瓶)的氣體。氫的溶 解進(jìn)行到其濃度成為0.6ppm以上。如果設(shè)為這樣的范圍的濃度，則發(fā)揮對(duì) 基板10A的充分的清洗效果。雖然不需要使氫溶解到飽和，但為了提高清 洗效果而優(yōu)選地提高濃度。氫水的清洗效果是起因于有機(jī)物、微粒子或細(xì) 菌等的微粒的除去效果。
進(jìn)而，在將氮溶解于脫氣后的超純水中的液體(以下稱作"氮水")作 為清洗液生成的情況下，使用來(lái)自氮源(例如儲(chǔ)氣瓶)的氣體。通過氮的 溶解能夠可靠地將氧排除，發(fā)揮對(duì)基板10A的充分的清洗效果。氮水的清 洗效果是防止氧化膜形成的效果。雖然不需要使氮溶解到飽和，但為了提 高清洗效果而優(yōu)選地提高濃度，更優(yōu)選為飽和。在飽和的情況下，對(duì)基板IOA的氧化作用消失。
在本實(shí)施方式中，在清洗液制造裝置17中，將例如上述臭氧水、氫水、
氮水中的任一種作為清洗液生成。 一種清洗液只要根據(jù)作為基板10A的清
洗效果最需要的清洗液(例如氧化膜的除去效果等)選擇就可以。通過使
清洗液為一種，能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行基板10A的清洗。
由清洗液制造裝置17生成的清洗液被送到加壓泵18中，并從加壓泵 18送到吐出嘴19，從吐出嘴19的前端供給到基板10A的表面(與觀察用 液體接觸的區(qū)域)上。通過這樣供給清洗液(例如臭氧水等)，能夠清洗基 板10A的表面(與液體接觸的區(qū)域)。
接著，在基板10A的清洗后，液浸顯微鏡裝置10的控制部23發(fā)出清 洗液的除去指令。在除去清洗液的情況下，也使用與觀察用的液體的除去 相同的機(jī)構(gòu)(20 22)，真空泵22經(jīng)由排液箱21和吸引嘴20將清洗液與 周圍的空氣一起吸引。即從基板10A除去。被吸引的清洗液被導(dǎo)引到排液 箱21中，在那里與空氣區(qū)別，并匯集到排液箱21之中。接著，僅空氣被 導(dǎo)引到真空泵22中。
這樣，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，在基板10A的液浸觀察 時(shí)，在將觀察用的液體除去后，將例如臭氧水等的清洗液供給到基板10A 的表面(與觀察用的液體接觸的區(qū)域)上，將該區(qū)域清洗，所以能夠不損 害基板10A的品質(zhì)而非破壞地進(jìn)行基板10A的液浸觀察。清洗液的供給/ 除去l次也可以，但優(yōu)選根據(jù)需要而反復(fù)進(jìn)行多次供給/除去。反復(fù)次數(shù)越 多，越能夠提高清洗效果。
此外，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，由于能夠不損害基板10A 的品質(zhì)而非破壞地進(jìn)行基板10A的液浸觀察(即進(jìn)行基板10A的非破壞檢 査)，所以能夠不將檢査后的基板10A丟棄而作為合格品取入到下個(gè)生產(chǎn) 線，成品率提高。
進(jìn)而，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，在清洗基板IOA時(shí)，從 與觀察用液體共通的循環(huán)路徑26取入超純水，所以在該循環(huán)路徑26預(yù)先 設(shè)置在工廠內(nèi)的情況下，能夠避免該工廠的大型化。此外，在液浸顯微鏡 裝置10中設(shè)有循環(huán)路徑26的情況下，通過在觀察用和清洗用中使循環(huán)路徑26共通化，能夠避免液浸顯微鏡裝置10的大型化。
此外，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，在清洗基板10A時(shí)，基 于來(lái)自控制部23的指示，自動(dòng)地供給/除去例如臭氧水等清洗液，所以幾 乎沒有對(duì)作業(yè)者產(chǎn)生負(fù)擔(dān)，能夠以高生產(chǎn)率進(jìn)行基板IOA的清洗。因而， 能夠以高生產(chǎn)率進(jìn)行包括基板10A的清洗的整個(gè)液浸觀察。 "
進(jìn)而，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，由于經(jīng)由吐出嘴19和 吸引嘴20局部地供給/除去清洗液，所以能夠僅將基板10A的觀察點(diǎn)和其 附近(只與觀察用液體接觸的區(qū)域)高效率地清洗。
此外，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，僅在需要時(shí)(即僅在開 始基板10A的清洗時(shí))從超純水的循環(huán)路徑26取入規(guī)定量的超純水。因此， 能夠總是使用高品質(zhì)的超純水(即保持為能夠在基板IOA的液浸觀察中使 用的較高水平的純度、防止了細(xì)菌的繁殖、而且已脫氣的超純水)生成清 洗液，能夠供給高品質(zhì)的清洗液。
進(jìn)而，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，在將清洗液供給到基板 IOA的表面(與觀察用液體接觸的區(qū)域)上時(shí)，為了保持為將基板10A的 觀察點(diǎn)定位在物鏡14的視野內(nèi)的狀態(tài)(即與觀察時(shí)相同的狀態(tài))，在將觀 察用的液體除去后，在基板10A干燥之前，迅速地清洗基板10A。此外， 也能夠與基板10A的清洗同時(shí)清洗物鏡14的前端。
作為為了生成清洗液而從循環(huán)路徑26取入超純水的時(shí)刻，也可以是將 觀察用的液體除去后，但優(yōu)選在將觀察用的液體除去之前從循環(huán)路徑26取 入超純水而生成清洗液，以便能夠?qū)⒂^察用的液體除去之后供給清洗液。
此外，在本實(shí)施方式的液浸顯微鏡裝置10中，從循環(huán)路徑26取入脫 氣后的超純水而生成清洗水，所以能夠使臭氧、氫或氮等的規(guī)定的氣體高 效率地溶解到超純水中。 (變形例)
另外，在上述實(shí)施方式中，說明了將臭氧水、氫水和氮水中的任一種 作為清洗液生成的例子，但本發(fā)明并不限于此。也可以生成臭氧水、氫水 和氮水中的任意兩種以上作為清洗液。在此情況下，優(yōu)選地將兩種以上的 清洗液依次供給到基板10A的表面(觀察用的液體接觸的區(qū)域)。g卩，優(yōu)選地以重復(fù)將第1清洗液供給/除去后、將第2清洗液供給/除去的順序進(jìn)行， 以使得不同的清洗效果的清洗液不會(huì)混雜。通過依次供給兩種以上的清洗 液，能夠?qū)⒎N類不同的臟污(氧化膜及印痕等)依次除去，能夠進(jìn)一步提 高檢査后的基板10A的品質(zhì)。
此外，在上述實(shí)施方式中，通過不論清洗液的種類如何都通過供給/除
去清洗液來(lái)清洗基板IOA的例子進(jìn)行了說明，但本發(fā)明并不限于此。在使
用氫水作為清洗液的情況下，優(yōu)選為不單單僅是供給/除去，還通過超聲波
使基板IOA上的氫水振動(dòng)。為此，可以考慮到，在例如試料臺(tái)11等上安裝 朝向氫水產(chǎn)生超聲波振動(dòng)的機(jī)構(gòu)(例如超聲波振子)，以進(jìn)行控制，從而使 其在供給了氫水時(shí)產(chǎn)生超聲波。通過使氫水振動(dòng)，能夠提高微粒的除去效 果。作為超聲波振子等的安裝部位，除了試料臺(tái)11以外，也可以是吐出嘴 16、 19、吸引嘴20、或物鏡14等。
進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中，在超純水的循環(huán)路徑26的2次超純水系統(tǒng) (33 36)中設(shè)置脫氣裝置36、從循環(huán)路徑26取入脫氣后的超純水而生成 清洗液，但本發(fā)明并不限于此。上述脫氣裝置36也可以省略。在此情況下， 從循環(huán)路徑26取入脫氣前的超純水而生成清洗液。
此外，也可以省略上述脫氣裝置36，代替它而在循環(huán)路徑26的分支點(diǎn) 6B與清洗液制造裝置17之間的配管上設(shè)置同樣的脫氣裝置。在此情況下， 從循環(huán)路徑26取入脫氣前的超純水而進(jìn)行脫氣，利用得到的脫氣后的超純 水生成清洗液。
進(jìn)而，在省略了上述脫氣裝置36的情況下，在循環(huán)路徑26的分支點(diǎn) 6A與加壓泵15之間的配管上設(shè)置同樣的脫氣裝置或不設(shè)置都可以。在不 設(shè)置脫氣裝置的情況下，由于脫氣前的超純水作為觀察用的液體被供給， 所以容易通過該液體在基板10A的表面上形成氧化膜，但在將觀察用的液 體除去后，使用例如臭氧水等清洗液將基板IOA清洗，所以沒有問題。
此外，在上述實(shí)施方式中，在將觀察用或清洗用的液體除去時(shí)，通過 吸引嘴20及真空泵22等吸引液體，但本發(fā)明并不限于此。也可以除了這 樣的吸引機(jī)構(gòu)以外，還設(shè)置液體的干燥機(jī)構(gòu)(例如送風(fēng)機(jī)構(gòu))，在吸引中或 吸引后使液體迅速地干燥。進(jìn)而，也可以設(shè)置對(duì)物鏡14的周邊供給清潔的氮的機(jī)構(gòu)。在此情況下，
能夠?qū)⒐┙o到物鏡14的前端和基板IOA之間的液體保持在氮?dú)怏w環(huán)境中， 能夠避免氧向液體的析出。因此，能夠有效地抑制氧化膜的形成。
此外，在上述實(shí)施方式中，為了供給觀察用和清洗用的液體而分別設(shè) 置了吐出嘴16、 19和加壓泵15、 18，但也可以構(gòu)成為使它們共用。為了將 觀察用和清洗用的液體除去而設(shè)置的共用的吐出嘴20及排液箱21等也可 以為其他結(jié)構(gòu)。
進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中，以在局部液浸的狀態(tài)下觀察基板IOA為例 進(jìn)行了說明，但本發(fā)明并不限于此。在整面液浸的狀態(tài)下進(jìn)行基板10A的 觀察的情況下應(yīng)用本發(fā)明也能夠得到同樣的效果。在此情況下，需要能夠 淹沒基板10A的整面和物鏡14的前端的構(gòu)造的臺(tái)。并且，在觀察后，將清 洗液也供給到基板10A的整面(即與觀察用的液體接觸的區(qū)域)上。
權(quán)利要求
1、一種液浸顯微鏡裝置，其特征在于，具備支承機(jī)構(gòu)，支承作為觀察對(duì)象的基板；液浸類的物鏡；第1供給機(jī)構(gòu)，將超純水作為觀察用的液體供給到上述物鏡的前端與上述基板之間；第1除去機(jī)構(gòu)，在上述基板的觀察后，將上述觀察用的液體除去；第2供給機(jī)構(gòu)，將與由上述第1除去機(jī)構(gòu)除去的上述觀察用的液體不同的清洗用的液體，供給到上述基板中的與上述觀察用的液體接觸的區(qū)域；和第2除去機(jī)構(gòu)，在上述基板的清洗后，將上述清洗用的液體除去。
2、 如權(quán)利要求1所述的液浸顯微鏡裝置，其特征在于，上述第2供給機(jī)構(gòu)為了生成上述清洗用的液體，從上述超純水的循環(huán) 路徑取入脫氣后的超純水，或者從上述循環(huán)路徑取入脫氣前的超純水而進(jìn) 行脫氣，通過得到的脫氣后的超純水生成一種上述清洗用的液體，供給到 上述基板的上述區(qū)域中；上述一種清洗用的液體是在脫氣后的超純水中將臭氧溶解到濃度為 lppm以上的液體、在脫氣后的超純水中將氫溶解到濃度為0.6ppm以上的 液體、和在脫氣后的超純水中溶解了氮的液體中的某個(gè)。
3、 如權(quán)利要求1所述的液浸顯微鏡裝置，其特征在于，上述第2供給機(jī)構(gòu)為了生成上述清洗用的液體，從上述循環(huán)路徑取入 脫氣后的超純水，或者從上述循環(huán)路徑取入脫氣前的超純水后進(jìn)行脫氣， 通過所得到的脫氣后的超純水生成兩種以上的上述清洗用的液體，依次供 給到上述基板的上述區(qū)域中；上述兩種以上的清洗用的液體是在脫氣后的超純水中將臭氧溶解到濃 度為lppm以上的液體、在脫氣后的超純水中將氫溶解到濃度為0.6ppm以 上的液體、和在脫氣后的超純水中溶解了氮的液體中的某個(gè)。
4、如權(quán)利要求2或3所述的液浸顯微鏡裝置，其特征在于， 具備振蕩機(jī)構(gòu)，當(dāng)上述第2供給機(jī)構(gòu)將溶解了上述氫的液體作為上述 清洗用的液體供給時(shí)，該振蕩機(jī)構(gòu)向該溶解了氫的液體發(fā)出超聲波。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供一種能夠不損害基板的品質(zhì)而非破壞地進(jìn)行基板的液浸觀察的液浸顯微鏡裝置。因此，本發(fā)明的液浸顯微鏡裝置具備支承機(jī)構(gòu)(11～13)，支承作為觀察對(duì)象的基板(10A)；液浸類的物鏡(14)；第1供給機(jī)構(gòu)(15、16)，將超純水作為觀察用的液體供給到物鏡的前端與基板之間；第1除去機(jī)構(gòu)(20～22)，在基板的觀察后，將觀察用的液體除去；第2供給機(jī)構(gòu)(17～19)，將與由第1除去機(jī)構(gòu)(20～22)除去的觀察用的液體不同的清洗用的液體供給到基板中的與觀察用的液體接觸的區(qū)域中；和第2除去機(jī)構(gòu)(20～22)，在基板的清洗后，將清洗用的液體除去。
文檔編號(hào)G02B21/00GK101292186SQ20068003934
公開日2008年10月22日 申請(qǐng)日期2006年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月21日
發(fā)明者內(nèi)川敏男, 小松學(xué), 柴田浩匡 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康