專利名稱：：使用可去除膜制備浮雕圖像的制作方法使用可去除膜制備浮雕圖像
背景技術(shù)：
：本發(fā)明涉及使用可去除膜制備具有浮雕圖像(reliefimage)的制品的方法，該可去除膜可以重復(fù)使用制備其它具有該浮雕圖像的制口Po在成像技術(shù)中已知很多形成浮雕圖像的方法?？梢詫诠饷艟酆衔锏谋砻嫔系目蔁g掩模層(或者稱為"整體式掩模")的光敏制品在不使用照相底片或其它單獨(dú)的遮蔽裝置的情況下制成具有浮雕圖像的制品。這些光敏制品是如下方法制成浮雕圖像的首先是該光敏制品成像式曝光于激光輻射(通常來自在計(jì)算機(jī)控制下的紅外激光器)以選擇性地去除曝光區(qū)域內(nèi)的掩模層，然后整體曝光于光化輻射以使未遮蔽區(qū)域內(nèi)的光敏層固化。然后通過一種或多種液體顯影方法將掩模層的剩余區(qū)域和光敏層的未硬化部分去除。具有整體式掩模的膠印制品的實(shí)例在Fan的美國(guó)專利號(hào)5262275、VanZoeren的美國(guó)專利號(hào)5705310、Fan的美國(guó)專利號(hào)5719009、Goffing等的美國(guó)專利號(hào)6020108和Loerzer等的美國(guó)專利號(hào)6037102中有所描述。Daems等的美國(guó)專利號(hào)6759175報(bào)道了一種在整體式掩模成像和UV感光材料固化之前使用粘結(jié)劑將可燒蝕的掩模層層壓到UV感光材料上以在該UV感光材料上產(chǎn)生整體式掩模的方法。盡管具有激光可燒蝕掩模層的元件可以直接成像式曝光于激光并不需要單獨(dú)的遮蔽裝置，但由于常見的整體式掩模系統(tǒng)對(duì)紅外輻射的感光度較低，因此形成掩模的成像時(shí)間非常長(zhǎng)。感光度通常不低于約1J/cm2，更通常是大約3J/cm2。最近幾年，為了通過使用熱可燃的聚合物粘結(jié)劑和特定的脂肪族二酯提高可燒蝕掩模層的紅外感光度，進(jìn)行了嘗試，例如在Leinenbach等在美國(guó)專利號(hào)6521390中所報(bào)道的。盡管可以實(shí)現(xiàn)較高的敏感度以及由此較短的曝光時(shí)間，但這種結(jié)構(gòu)遇到了可燒蝕掩模層不適宜地粘結(jié)到在曝光之前必須去除的保護(hù)層上的問題；參見Philipp等的美國(guó)專利號(hào)6599679的CI和C2、表2。整體式掩模結(jié)構(gòu)很難達(dá)到較高的感光度，因?yàn)榧す饪蔁g層必須滿足大量的變化較寬的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)；參見美國(guó)專利號(hào)6599679中第2欄第1~29行。在美國(guó)專利號(hào)6599679中報(bào)道了在可燒蝕層中使用聚醚-聚氨酯粘合劑的方法，但成像速度的提高是有限的(在表2中所報(bào)道的實(shí)施例1~3于只于比例C6;f目比專交)。此外，用于制備膠版印版的整體式掩模方法需要使用特別配置用于使整體式掩模膠版制品成像的裝備有高功率激光器的成像器，例如Esko-Graphics(Kennesaw，Georgia)生產(chǎn)的CYRELDigitalImager(CDISPARK)和Creo(Burnaby,BritishColumbia)生產(chǎn)的ThermoFlex。由于需要根據(jù)特定的印刷應(yīng)用改變膠印板的厚度，因此對(duì)于整體式掩模膠版制品可能需要多于一個(gè)成像器。與此相比，本發(fā)明中可以使用用于"computer-to-plate，，平板印刷應(yīng)用(例如來自Creo的TRENDSETTER)和數(shù)字防護(hù)應(yīng)用(例如來自ECRM的DESERTCAT88)的常規(guī)成像裝置。模擬方法也是已知用于在可成像材料上制備浮雕圖像的方法。在典型的模擬方法中，通過多個(gè)工藝中的一種(例如卣化銀乳液)形成非粘性掩模。然后將該掩模放在用于曝光的光敏材料上。由于這些掩模于該光敏材料并不粘結(jié)，因此其在曝光步驟中容易滑落。為了在該光敏材料曝光于輻射的過程中保持該掩模不會(huì)滑落，該曝光步驟在真空中進(jìn)行。真空將掩模拉到光敏材料上，因此消除了可以在掩模和光敏材料之間滯留的任何孔隙或氣孔，因此在掩模和光敏材料之間提供了光接觸。如果沒有達(dá)到光接觸，當(dāng)曝光步驟中的光到達(dá)氣孔時(shí)會(huì)發(fā)生散射，產(chǎn)生沒有精確表現(xiàn)掩模上的預(yù)期圖像的浮雕圖像。真空還防止了該掩模在曝光步驟中不會(huì)滑落。模擬印刷方法的這一特征通常稱為"真空下吸(vacuumdraw-down)"。在至少一個(gè)方面，本發(fā)明的方法與該模擬方法的區(qū)別在于在固化步驟中本發(fā)明使用了粘結(jié)到該可成像制品上的成像膜，使得不需要真空下吸步驟。然而，該成像膜還具有可以從可成像制品上去除并重復(fù)使用的特征。
發(fā)明內(nèi)容在一種實(shí)施方案中，本發(fā)明包括以下步驟將包含可成像材料的可成像膜成像式曝光于成像性輻射形成成像膜，將該成像膜層壓到包括光敏材料和釋放層的可成像制品上，將該可成像制品通過該成像膜曝光于固化性輻射，將該成像膜從該可成像制品上去除以使該成像膜可重復(fù)使用，使該可成像制品顯影形成浮雕圖像。該釋放層有助于在可成像制品曝光于固化性輻射之后該成像膜的去除。印版前體的商品實(shí)施方案通常包括涂覆到光敏材料上的釋放層。在另一實(shí)施方案中，本發(fā)明包括一種重復(fù)使用成像膜的方法。該實(shí)施方案進(jìn)一步包括將該成像膜層壓到第二可成像制品上，將該第二可成像制品通過該成像膜曝光于固化性輻射，將該成像膜從該第二可成像制品上去除以使該成像膜可重復(fù)使用，使該可成像制品顯影形成浮雕圖像。這些步驟可以對(duì)其它可成像制品重復(fù)操作。通過使用本發(fā)明的方法，可以避免在輥基成像系統(tǒng)涉及厚膠版制品的操作、安裝和旋轉(zhuǎn)(以及相關(guān)的破裂、指紋等趨勢(shì))的問題。例如，如果該可成像制品是厚膠版印版前體，該膠版前體可以在該成像膜轉(zhuǎn)移到該膠版前體之后固化，同時(shí)保持基本平坦。本發(fā)明的另一優(yōu)點(diǎn)在于該成像膜和掩模圖像可以在將該成像膜轉(zhuǎn)移到可成像制品之前進(jìn)行檢查。這就允許在制備浮雕圖像之前可以對(duì)該掩模圖像進(jìn)行"打樣"和校正。由于可成像制品通常比用于制備掩模圖像的可成像膜要昂貴得多，因此在浮雕圖像的生產(chǎn)中可以節(jié)約成本。當(dāng)該可成像制品是膠版前體時(shí)情況更是如此。本發(fā)明提供的方法與形成浮雕圖像的整體式掩模方法相比具有優(yōu)點(diǎn)。例如，由于與整體式掩模制品成像時(shí)相比具有更高得多的成像感光度，因此該掩模圖像可以在明顯較少的時(shí)間內(nèi)制成。在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中，例如為了形成掩模圖像僅需要約0.5J/cm2，與此相比整體式掩模需要1.7~2.0J/cm2,參見Philipp等的美國(guó)專利號(hào)6599679中表2所報(bào)道的實(shí)施例1~3。此外，本發(fā)明的掩模圖像可以重復(fù)使用，而整體式掩模由于是用未固化的光敏材料顯影，因此不能重復(fù)使用。由本發(fā)明在制備掩模圖像中較高的成像敏感度的實(shí)現(xiàn)使得可以使用廉價(jià)的成像器，并有適當(dāng)?shù)纳a(chǎn)量，這是由于比前述已知的整體式掩模成像系統(tǒng)需要較低功率的激光器。由于用于本發(fā)明的實(shí)施中的成像裝置與特定的膠版成像器相比費(fèi)用更低，以及使用更廣泛，因此本發(fā)明可以在更商業(yè)的裝置中制備膠印印版?？缮虡I(yè)得到的用于印版和打樣的computer-to-plate("CTP")裝置的使用使得能夠使用同一成像裝置來制備用于制備膠印印版、用于平版印刷印版的打樣膜、或CTP平版印刷印版的掩模圖像(根據(jù)本發(fā)明)。由于可轉(zhuǎn)印的掩?？梢耘c多種光敏材料和應(yīng)用使用，因此可轉(zhuǎn)印的掩模也提供了制備的靈活性。在如果需要的基礎(chǔ)上，可轉(zhuǎn)移的掩模也可以與市場(chǎng)上可得到的光敏材料結(jié)合使用。附圖簡(jiǎn)述圖1A~IE示例性地描述了本發(fā)明的方法，包括；(1A)由可成像膜數(shù)字產(chǎn)生包括掩?；w和可成像材料層的成像膜；(IB)將該成像膜層壓在包括在光敏基體上的光敏材料和在光敏材料上的釋放層的膠版前體(flexographicprecursor)上；(IC)將該膠版前體曝光于固化性輻射；(ID)從該膠版前體上去除該成像膜；以及(IE)使該膠版前體顯影，提供具有浮雕圖像的膠版印版。圖2A描述了包括掩?；w、膠層和可成像材料的可成像膜的一種實(shí)施方案。圖2B描述了包括掩?；w、可燒蝕層和可成像材料的可成像膜的另一種實(shí)施方案。圖2C描述了包括掩?；w、膠層、可燒蝕層和可成像材料的可成像膜的另一種實(shí)施方案。發(fā)明詳述下面進(jìn)一步描述本發(fā)明的方法的步驟和本方法中所用的組分。/.摔^T成/表度成/,^鎵^f成殺^箱射戶本方法的一個(gè)步驟包括將可成像膜成像式曝光于成像性輻射中形成后面用于形成浮雕圖像的成像膜。將可成像膜成像式曝光于成像性輻射的步驟產(chǎn)生了可成像材料的曝光區(qū)域和未曝光區(qū)域。然后通過各種成像機(jī)制將可成像材料的曝光區(qū)域從膜上去除。多種成像機(jī)制適用于形成成像膜。用于形成成像膜的成像機(jī)制類型的選擇將決定如下所討論的可成像膜的可能變化。A可成像膜可成像膜至少包括掩?；w和可成像材料。該可成像材料通常位于掩?；w之上作為一層或多層相對(duì)均勻的涂層。該可成像的膜任選地可以包括一個(gè)或多個(gè)其它層，例如膠層或可燒蝕層。在一種實(shí)施方案中，如圖2A所示，該可成像膜包括位于掩?；w20上的膠層18和位于膠層18之上的可成像材料16。在另一種實(shí)施方案中，如圖2B所示，該可成像膜包括位于掩?；w26上的可燒蝕層24和位于可燒蝕層24之上的可成像材料22。在另一種實(shí)施方案中，該可成像膜包括位于掩模基體34上的膠層32、位于膠層32之上的可燒蝕層30和位于可燒蝕層30之上的可成像材料28。當(dāng)該可成像膜成像式曝光于通常來自掃描激光光源的成像性輻射中時(shí)，該輻射被可成像材料和可燒蝕層(如果包括在可成像膜中)中的能量吸收劑所吸收，其造成可成像材料從曝光于該成像性輻射的區(qū)域內(nèi)的掩?；w中轉(zhuǎn)移出來。該過程在Patel等的美國(guó)專利號(hào)5935乃8中有所概述，其整體引入此處作為參考。在曝光于成像性輻射之后，保留在掩?；w上的成像膜的可成像材料和其它層統(tǒng)稱為掩模圖像。例如，在一種實(shí)施方案中，該掩模圖像是指可燒蝕層、保留在掩?；w上的可成像材料。掩模圖像和掩?；w的結(jié)合稱為成像膜。該形成掩模圖像的過程在美國(guó)專利申請(qǐng)序列號(hào)11/081,018中也有描述，其整體引入此處作為參考。下面進(jìn)一步描述掩?；w、可成像材料和任選的層。1.掩?；w可成像膜的掩?；w可以是任何適合的基體。適合的基體包括例如塑料片材和膜，例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二曱酸乙二醇酯；藥聚酯聚合物，聚乙烯，聚丙烯，丙烯酸樹脂，聚氯乙烯及其共聚物，和水解和未水解的乙酸纖維素。該掩模基體應(yīng)當(dāng)對(duì)固化性輻射基本透明。該掩模基體對(duì)成像性輻射基本透明會(huì)是適宜的(盡管不是必須的)。在一些實(shí)施方案中，該掩?；w是透明的聚合物膜。通常采用的掩?；w的一種實(shí)例是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯片材。通常，該聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯片材的厚度為約20~200微米。一種市場(chǎng)上可得到的聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯片材的實(shí)例是由DuPontTeijinFilms(Hopewell,Virginia)以名稱MELINEX銷售的，例如MELINEX574。如果需要，該掩?；w可以經(jīng)過表面處理，以改性其潤(rùn)濕性和與后面層的粘結(jié)性。這種表面處理包括電暈放電處理。該掩?；w也可以包括抗靜電涂層。該抗靜電涂層可以涂覆在該掩?；w的任一側(cè)，或者其可以位于多層掩?；w的層中間?？轨o電涂層(也稱為耗散涂層)能為掩?；w提供靜電耗散，與鍍金屬膜類似。一種市場(chǎng)上可得到的抗靜電涂層的實(shí)例是可獲自CZInks(St.Louis，Missouri)的CLEARSTAT抗靜電涂層。其它適合的抗靜電涂層是本領(lǐng)域已知的。2.膠層可成像膜可以包含位于掩模基體上的膠層，也稱為粘結(jié)促進(jìn)劑，或者抗劃傷硬涂層或硬化明膠層。該膠層提供了在層壓之后的光接觸，有助于從成像過程中可成像材料去除的區(qū)域內(nèi)的光敏材料中去除將該掩模圖像。因此，適合的膠層在曝光于成像性輻射時(shí)不會(huì)被成像性輻射隨著可成像材料一起去除。適合的膠層具有高的玻璃轉(zhuǎn)化溫度(Tg)，例如大于約90。C。適用于膠層的組分包括丙烯酸酯，例如乙內(nèi)酰脲六丙烯酸酯。這些膠層組分可以用溶劑施加，然后用UV或加熱固化引發(fā)交聯(lián)。該膠層可以預(yù)涂覆到適合的掩?；w上。例如，涂覆有膠層的掩?；w可在市場(chǎng)上獲自CourtauldsPerformanceFilms(Martinsville,Virginia)，有時(shí)稱為"帶有膠層的PET"。通常，膠層涂覆到掩?；w上的厚度為0.1~2.0微米。3.可燒蝕層該可成像膜也可以包含位于掩?；w和可成像材料之間的可燒蝕層。當(dāng)該成像方法包括燒蝕機(jī)制時(shí)，可燒蝕層會(huì)是特別適合的。例如在Pearce等的美國(guó)專利號(hào)5468591和5576144和Neumann等的美國(guó)專利號(hào)6369844中對(duì)適合的可燒蝕層及其制備方法進(jìn)行了描述?？蔁g層可以包含粘結(jié)劑，更特別地包含"加熱可燃的"粘結(jié)劑。在Leininbach等的美國(guó)專利號(hào)6521390中報(bào)道了適合的加熱可燃的粘結(jié)劑。僅通過實(shí)施例，適合的加熱可燃的粘結(jié)劑包括聚(氰基丙烯酸烷基酯)和硝化纖維素。在Bills等的美國(guó)專利號(hào)5278023和Vogel的美國(guó)專利號(hào)6027849中描述了其它適合的加熱可燃的聚合物，例如縮水甘油基氮化物聚合物("GAP")和其它含疊氮基的聚合物。該可燒蝕層可以包含顆粒材料，例如金屬氧化物顆粒，一種適用于該可燒蝕層的顆粒材津牛為可獲自TodaKogycoCorp.(Hiroshima,Japan)的氧化鐵顆粒。顆粒材料可以提供較高的與成像性或固化性輻射有關(guān)的光密度。金屬氧化物顆粒對(duì)于燒蝕成像機(jī)制會(huì)是有利的，因?yàn)槠淠軌蚣訜岱纸忉尫艊娚渫七M(jìn)氣體。例如在美國(guó)公布申請(qǐng)2001/0026309中才艮道了其它適合的顆粒和金屬氧化物顆粒。該可燒蝕層可以任選地包含紅外吸收染料。特別適用于可燒蝕層的紅外吸收染料為美國(guó)專利號(hào)5935758中報(bào)道的陽(yáng)離子紅外吸收染料。其它適合的紅外吸收染料為可光熱漂白的染料。該可燒蝕層也可以包含交聯(lián)劑。交聯(lián)劑的使用會(huì)為可燒蝕層引入更強(qiáng)的耐熱性。適合的交聯(lián)劑的實(shí)例包括三聚氰胺-曱醛樹脂，例如來自UCBGroup(Belgium)的RESIMENE;二醛，例如乙二醛；酚搭樹脂，例如來自BordenChemicalInc.(Columbus,Ohio)的DURITE;多官能氮丙咬；異氰酸酯，例如來自BayerCorp.(Pittsburgh,Pennsylvania)的DESMODURAP;脲-曱醛，環(huán)氧化物，例如來自ShellChemical(Houston,Texas)的EPON1001。很多其它適合的交聯(lián)劑是本領(lǐng)域已知的。4.可成像材料可成像材料通常位于掩模基體上作為相對(duì)均勻的涂層(即基本連續(xù)并具有相當(dāng)均勻的厚度)。在一些實(shí)施方案中，該可成像材料位于掩?；w上作為單一層。例如，可燒蝕材料和能量吸收劑可以結(jié)合在一層中。在其它實(shí)施方案中，該可成像材料可以包括多于一層，取決于選擇的成像方法。例如，該可成像材料可以包括能量吸收層和與該能量吸收層相鄰的包含可燒蝕材料的層?？沙上癫牧习ǘ喾N組分，例如著色劑(例如染料或顏料)和分散在粘結(jié)劑中的能量吸收劑。其它組分也可以包括在該可成像材料中?？沙上癫牧系囊环N組分是著色劑。該著色劑經(jīng)選擇用于吸收或阻擋固化性輻射，例如通過反射。此處所用的術(shù)語"著色劑"是指基本防止固化性輻射透過掩模圖像的組分。術(shù)語"著色劑，，并不意味著該組分必須為該可成像材料提供或賦予可見的顏色，盡管其可以這樣做。著色劑通常包括一種或多種將提供所需光譜性質(zhì)的顏料或染料。其在可成像材料中的含量?jī)?yōu)選為基于可成像材料固含量的約10-50wt%。該著色劑可以是具有足夠小的顆粒粒徑以至于能夠借助于或不借助于分散劑分散在該可成像材料中的顆粒材料。適用于可成像材料中的著色劑包括顏料、不可升華的染料或可升華的染料。合適地使用顏料和不可升華的染料，因?yàn)槠洳蝗菀滓苿?dòng)。顏料分散體在成像中的應(yīng)用是本領(lǐng)域公知的，在本發(fā)明中可以使用為此目的的任何常^L顏料。在本發(fā)明的一種實(shí)施方案中，該著色劑是黑色染料或顏料。適合的黑色染料或顏料在可見光譜(例如在約350750nm范圍內(nèi))上幾乎所有波長(zhǎng)處都吸收能量。然而，黑色染料或顏料在例如紅外或紫外區(qū)域也可以吸收。適合的黑色染料或顏料也可以包括吸收在可見光語中不同波長(zhǎng)的染料和顏料。例如這些染料或顏料實(shí)際上可以是深藍(lán)色或其它顏色的。黑色染料或顏料可以包括染料或顏料的混合物，或染料和顏料的混合物，其分別可以是或不是黑色的，但當(dāng)混合在一起時(shí)，提供中性黑色。例如，可獲自BASF(Germany)的NEPTUNBlack、BlueShadeMagneta和RedShadeYellowPigment的混合物提供中性黑色，可以是適合的,來自RunnemadeDispersionsKV(UnitedKingdom)的DISPERCELCBJ也可以適用做著色劑。一種適合的黑色顏料是碳黑。碳黑表現(xiàn)出中性色和適合的覆蓋能力。使用具有小顆粒的碳黑對(duì)于最大顏色強(qiáng)度會(huì)是適合的。具有平均粒徑小于30nm的細(xì)粒碳黑商品是特別適合的。適合的碳黑顏料的實(shí)例包括可獲自ColombianChemicalsCo.(Atlanta,Georgia)的RAVEN450、760ULTRA、890、1020、1250及其它，以及可獲自CabotCorp.(Waltham，Massachusetts)的BLACKPEARLS170、BLACKPEARLS480、VULCANXC72、BLACKPEARLS1100及其它。其它適合的碳黑包括Degussa(Germany)的PRINTEXU、PRINTEXL6、SPEZIALSCHWARZ4或SPEZIALSCHWARZ250。碳黑可以占例如可成像材料總固體重量的約10~50wt%，更特別地約10~40wt%,甚至更特別地約10~30Wt%。由于碳黑顆粒對(duì)紅外輻射的固有吸收性，因此僅包含碳黑的可成像材料很難配制。在可成像材料中碳黑的過熱可能導(dǎo)致掩模圖像的密度降低或擴(kuò)散增加。掩模圖像的擴(kuò)散可能造成最終成像制品較差的邊緣清晰度。在不透明輻射敏感材料中與碳黑一起加入一種或多種非紅外吸收黑色染料或顏料會(huì)降低對(duì)輻射的干擾，提高所形成的成像制品的質(zhì)量。即使碳黑的濃度明顯降低，也會(huì)保持適合的色彩中性和不透明性。非碳質(zhì)顆粒材料(例如金屬顆粒或金屬氧化物顆粒)也適用作顏料。在本發(fā)明的另一實(shí)施方案中，著色劑可以為非紅外吸收黑色染料或顏料。非紅外吸收黑色染料或顏料包括吸收很少或不吸收紅外輻射的染料或顏料。在該實(shí)施方案中，使用被單獨(dú)的紅外吸收劑吸收的在紅外區(qū)域中的成像性輻射產(chǎn)生掩模圖像。然后該著色劑對(duì)通常是紫外輻射的固化性輻射將是不透明的(或反射的)。在該實(shí)施方案中，該非紅外吸收著色劑可以吸收一些紅外輻射，只要對(duì)紅外吸收劑產(chǎn)生很少或不會(huì)產(chǎn)生干擾即可。例如，非紅外吸收黑色染料或顏料在使用濃度下可以吸收小于約0.5吸收率單位，更特別地小于約0.1吸收率單位的紅外輻射。非紅外吸收黑色染料和顏料包括，例如可獲自BASF(Germany)的NEPTUNBlackX60、PALIOGENBlackS0084，以及可獲自CibaSpecialtyChemicals(Tarrytown,NewYork)的MICROLITHVioletB-K。在Kidnie等的美國(guó)專利號(hào)6001530中可以找到其它適合的非紅外吸收黑色染料，其整體引入此處作為參考。在另一實(shí)施方案中，可成像材料可以包括紫外吸收染料作為著色劑。該染料通常在光敏材料對(duì)其敏感并作為整個(gè)曝光的固化性輻射的光譜區(qū)域內(nèi)具有強(qiáng)的吸收性。該紫外吸收染料在約250nm~約600nm之間，更通常地在約300nm約500nm之間可以具有吸收最大值。Weise等的美國(guó)專利號(hào)3769019、Dedinas等的美國(guó)專利號(hào)4081278、Simpson等的美國(guó)專利號(hào)5399459中報(bào)道了這種染料的實(shí)例。適合的紫外吸收染料的實(shí)例包括來自BASF(Germany)的以UVINUL銷售的那些，比如UVINUL3050，以及來自KeystoneAnilineCorporation(Chicago,Illinois)的KEYPLASTYELLOWGC?？沙上癫牧弦舶芰课談?。能量吸收劑通過成像性輻射的激發(fā)會(huì)引發(fā)著色劑或可成像材料的轉(zhuǎn)移，或改變成像材料對(duì)固化性輻射的透明度或不透明度的物理或化學(xué)變化。在一些實(shí)施方案中，著色劑用作能量吸收劑，引入單獨(dú)的能量吸收劑是不必要的。換言之，對(duì)于這些實(shí)施方案，著色劑充當(dāng)了雙重的作用。然而，在其它實(shí)施方案中，存在單獨(dú)的能量吸收劑，用于使該可成像材料對(duì)該成像性輻射敏感。在一種實(shí)施方案中，該能量吸收劑可以包括紅外吸收劑。該紅外吸收劑可以例如將紅外輻射轉(zhuǎn)化為熱。該紅外輻射例如可以在750~1200nm范圍內(nèi)。然后在可成像材料中產(chǎn)生的熱可導(dǎo)致可成像材料的其它組分的物理或化學(xué)變化，或者引起燒蝕。適合的紅外吸收劑的實(shí)例包括紅外吸收染料，例如花青紅外吸收染料；紅外吸收顏料，例如碳黑；或金屬，例如鋁。在一些實(shí)施方案中，紅外吸收染料是陽(yáng)離子染料。陽(yáng)離子染料在與粘結(jié)劑和可成像材料中的其它組分混合時(shí)會(huì)產(chǎn)生透明膜。適用于本發(fā)明的轉(zhuǎn)移材料中的陽(yáng)離子染料包括四芳基聚曱川(TAPM)染料、胺陽(yáng)離子基團(tuán)染料及其混合物。優(yōu)選地，該染料是四芳基聚甲川染料。當(dāng)這些類的染料與構(gòu)成可成像膜的涂層的其它組分配制時(shí)通常是穩(wěn)定的而且在通?？傻玫降募す夤庠词褂玫倪m當(dāng)波長(zhǎng)范圍內(nèi)吸收。此外，當(dāng)用激光輻射光激發(fā)時(shí)，這些染料被認(rèn)為會(huì)與下述的潛在交聯(lián)劑反應(yīng)。TAPM染料包括具有奇數(shù)個(gè)(5個(gè)或更多個(gè))碳原子的聚曱川鏈，該鏈的每個(gè)終端碳原子與兩個(gè)芳基取代基連接。TAPM染料通常在700~900nm區(qū)域內(nèi)吸收，使其適用于二極管激光器地址。例如在Patel等的美國(guó)專利號(hào)5935758中描述了適合的TAPM染料。適合的陽(yáng)離子紅外吸收染料包括在國(guó)際公開WO90/12342和EP公開0739748中報(bào)道的胺陽(yáng)離子基染料(也稱為亞銨(immonium)染料)。在Patel等的美國(guó)專利號(hào)5935758中描述了適合的陽(yáng)離子紅外吸收染料。紅外吸收染料的含量?jī)?yōu)選足以在曝光波長(zhǎng)處提供至少約0.5、更優(yōu)選至少約0.75、最優(yōu)選至少約1.0的透射光密度。通常，這通過基于可成像材料固含量的約3~20wt%紅外吸收染料來實(shí)現(xiàn)。在另一實(shí)施方案中，該能量吸收劑可以包含紫外吸收劑。紫外吸收劑可吸收例如約150~400nm范圍內(nèi)的輻射。該可成像材料還包括粘結(jié)劑。適合的粘結(jié)劑能夠溶解或分散可成像材料中包括的其它組分。根據(jù)用于使該可成像膜成像的機(jī)制，粘結(jié)劑可以用于其它目的。全部粘合劑的存在量通常是大約25-75wt%,更合適是大約35-65wt%,基于可成像材料的固含量。在本發(fā)明的實(shí)施中，較寬范圍的粘結(jié)劑種類都可以是適用的，粘結(jié)劑的選擇取決于選擇的成像機(jī)制。該粘結(jié)劑應(yīng)當(dāng)與該可成像材料中的其它選擇組分相兼容，應(yīng)當(dāng)溶于適合的涂覆溶劑中，例如低級(jí)醇、酮、醚、烴、卣代烷等。在一種實(shí)施方案中，該粘結(jié)劑包括低粘性的膠粘劑(low-tackadhesivebinder)。低粘性的膠粘劑的實(shí)例包括可獲自HenkelCorporation(Minneapolis,Minnesota)的MACROMELT6900,和一些聚醜胺杉于月旨，例^口可獲自ArizonaChemicalCo.(Jacksonville,Florida)的UNI-REZ5803。例如如果使用激光誘導(dǎo)膜轉(zhuǎn)移("LIFT")系統(tǒng)作為成像機(jī)制，該粘結(jié)劑可以是包含多個(gè)羥基的聚合材料(即"羥基聚合物，，)。在該實(shí)施方案中，優(yōu)選地，100%的粘結(jié)劑是羥基聚合物。該羥基可以是醇基或酚基，或兩者都有。主要包含醇基的粘結(jié)劑是適合的。羥基聚合物可以由羥基官能單體(例如烯丙醇)和羥烷基丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯的聚合或共聚，或者通過預(yù)聚體的化學(xué)轉(zhuǎn)化(例如乙烯基酯，例如乙酸乙烯酯的聚合物和共聚物的水解)制得。具有較高羧基官能度的聚合物，例如聚乙烯醇、纖維素等，在理論上適用于本發(fā)明。但在實(shí)際中，對(duì)于大多數(shù)應(yīng)用，溶解度和其它理化性質(zhì)都不是理想的狀況。通過大量羥基的酯化、醚化或縮醛化得到的這些聚合物的衍生物通常表現(xiàn)出優(yōu)越的溶解'性和成膜性，只要至少少部分的羥基保持未反應(yīng)，其都適用于本發(fā)明。一種適用作粘結(jié)劑的羥基官能聚合物是由聚乙烯醇和丁醛反應(yīng)制成的反應(yīng)產(chǎn)物。這種反應(yīng)產(chǎn)物的商品等級(jí)通常保留至少5%的羥基未反應(yīng)(即游離的)，通常在常用的有機(jī)溶劑中，具有優(yōu)良的成膜和顏料分散性質(zhì)。一種在市場(chǎng)上可得到的適用的羥基聚合物是可以商標(biāo)BUTVARB-76從Solutia,Inc.(St.Louis,Missouri)得到的聚乙烯基縮丁醛聚合物。這種特殊聚合物的軟化范圍為約140。C約200°C。也可以使用來自BUTVAR系列聚合物的其它羥基粘結(jié)劑?？梢陨虡?biāo)MOWITAL獲自KurarayAmerica,Inc.(NewYork,NewYork)的聚乙烯基縮丁醛聚合物也是適合的?？蛇x4奪地，可以用一種或多種不可交耳關(guān)的粘結(jié)劑與一種或多種羥基官能粘結(jié)劑的混合物。不可交聯(lián)的粘結(jié)劑應(yīng)當(dāng)與本發(fā)明所用的成像機(jī)制兼容，使得其不會(huì)影響著色劑的轉(zhuǎn)移。即其應(yīng)當(dāng)在曝光于在成像過程中所用的條件中時(shí)是非活性的。適合的不可交聯(lián)的粘結(jié)劑包括例如聚酯、聚酰胺、聚氨基甲酸酯、聚烯烴、聚苯乙烯、聚醚、聚乙烯基醚、聚乙烯基酯、聚丙烯酸酯、聚曱基丙烯酸酯等。一種在市場(chǎng)上可得到的可以與可成像材料中的上述羥基粘結(jié)劑組合的適合的不可交聯(lián)的粘結(jié)劑的實(shí)例包括可以商標(biāo)ELVACITE從DuPont(Wilmington,Delaware)得到的聚甲基丙烯酸曱酯。可成像材料可以任選地包含碳氟化合物添加劑，用于提高熔融或軟化的可成像材料的轉(zhuǎn)移，并制備具有清晰的、通常連續(xù)的并具有相對(duì)清晰邊緣的半色調(diào)點(diǎn)(即像素)。在成像條件下，認(rèn)為該碳氟化合物添加劑用于降低在激光曝光加熱區(qū)域和未曝光區(qū)域界面處的可成像材料之中的內(nèi)聚力，因此促使在與可成像材料主表面垂直的方向上曝光區(qū)域的清楚"剪切"。這提供了邊緣清晰的點(diǎn)的完整性的改進(jìn)，這是由于隨著將曝光區(qū)域與剩余的可成像材料分開"撕裂"或其它扭曲的趨勢(shì)很少?？梢允褂脧V泛范圍種類的化合物作為該碳氟添加劑，只要選擇的添加劑在通常的涂覆和干燥條件下基本不揮發(fā)，以及與粘結(jié)劑足以兼容即可。因此，高度不溶的碳氟化合物，例如聚四氟乙烯和聚偏二氟乙烯是不適合的，因?yàn)槠涫菤怏w和較低沸點(diǎn)的液體，例如全氟烷烴。在上述限制內(nèi)，聚合物和低分子量材料都可以使用。在Patel等的美國(guó)專利號(hào)5935758中描述了適合的碳氟化合物添加劑的實(shí)例?？沙上癫牧弦部梢园╓arner等的美國(guó)專利號(hào)6664020中所述的碳氟化合物。在EP公開0602893和此處所引用的參考文獻(xiàn)中報(bào)道了其它適合的碳氟化合物。一種優(yōu)選的碳氟化合物添加劑是亞磺酰氨基化合物N-乙基全氟辛烷磺酰胺，式子為(C8F17)S02NH(CH2CH3),其包括70%的直鏈和30%的支鏈。碳氟化合物添加劑通常的用量為以可成像材料固含量計(jì)的約l~10wt%。優(yōu)選地，碳氟化合物添加劑與著色劑的重量比至少為約1:10,更優(yōu)選為至少約1:5。在可成像材料的一些實(shí)施方案中使用了潛在交聯(lián)劑。當(dāng)LIFT系統(tǒng)用作成像機(jī)制時(shí)，潛在交聯(lián)劑會(huì)是特別適用的。此處所述的"潛在交聯(lián)劑"是僅在激光地址條件下能夠產(chǎn)生交聯(lián)的化合物。認(rèn)為在激光成像過程中，潛在交聯(lián)劑與光激發(fā)的紅外吸收染料進(jìn)行反應(yīng)，引發(fā)羥基粘結(jié)劑的交聯(lián)。因此，在激光成像中發(fā)生交聯(lián)。適合的潛在交聯(lián)劑包括例如由二氫吡啶衍生的化合物。適合的二氫吡啶的衍生物可以在環(huán)的任何位置上被適當(dāng)?shù)娜〈〈?，例如烷基或芳基。特別地，二氳吡啶的3,5-二羧基二酯衍生物適用作潛在交聯(lián)劑。包含結(jié)合到聚合物主鏈中的二氫吡啶的3，5-二羧基二酯衍生物的聚合物也是適合的。Patel等的美國(guó)專利號(hào)5935758中描述了適用于可成像材料中的潛在交聯(lián)劑。這種潛在交聯(lián)劑在可成像材料中的含量為基于可成像材料固含量的至多約30wt%?？蛇x擇地，潛在交聯(lián)劑可以存在于如下所述的受體片材中。認(rèn)為潛在交聯(lián)劑對(duì)于提供轉(zhuǎn)移的可成像材料中的內(nèi)聚力是重要的。這補(bǔ)充了碳氟化合物添加劑的作用，導(dǎo)致曝光的可成像材料作為內(nèi)聚塊轉(zhuǎn)移。也認(rèn)為其對(duì)于防止著色劑再次轉(zhuǎn)移回到膜中，以及著色劑轉(zhuǎn)移回到分離膜(如果在后續(xù)的成像步驟中使用)中是重要的。其它組分，例如增塑劑、涂覆助劑、分散劑、UV吸收劑、填料等也可以添加到可成像材料中。各種添加劑是本領(lǐng)域公知的。為了實(shí)現(xiàn)可成像材料的各種組分在粘結(jié)劑中的最佳分散，分散劑或"彌散劑"會(huì)是適合的。分散劑的一些實(shí)例包括例如聚酯/聚酰胺共聚物、烷基芳基聚醚醇、丙烯酸類粘結(jié)劑和潤(rùn)濕劑。一種適用于可成像材料中的分散劑是與顏料親和性基團(tuán)的嵌段共聚物，其可以商標(biāo)DISPERBYK161從Byk-ChemieUSA(Wallingford,Connecticut)獲得。該分散劑在分散體中的用量?jī)?yōu)選為基于該可成像材料的固含量的約1~6wt%。表面活性劑可以用作涂覆助劑，以提高溶液穩(wěn)定性?？梢允褂脤挿秶谋砻婊钚詣?。一種適合的表面活性劑是用于該可成像材料中以提高涂覆質(zhì)量的碳氟化合物表面活性劑。適合的碳氟化合物表面活性劑包括氟化聚合物，例如在Yonkoski等的美國(guó)專利號(hào)5380644中所描述的氟化聚合物。適合的涂覆助劑的實(shí)例是可獲自3M(St.Paul,Minnesota)的NOVEC含氟表面活性劑，例如FC4432。表面活性劑的適當(dāng)含量可以在約0.05wt%，且小于約5wt%的范圍內(nèi)，通常在約1~2wt%范圍內(nèi)。5.受體片材在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中可以使用受體片材，用于接收來自掩模基體的廢可成像材料。此處所用的詞語"受體片材"是指通常以片材形式的具有至少一個(gè)能夠接收廢可成像材料的主表面的材料。該受體片材可以包含片材支撐體。根據(jù)特定的成像應(yīng)用來選擇用于受體片材的片材支撐體。適合的片材支撐體包括紙或卡片材料、金屬(例如鋼或鋁)、或由各種成膜聚合物構(gòu)成的膜或板。適合的聚合材料包括加聚物(例如聚偏二氯乙烯、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚苯乙烯、聚異丁烯聚合物和共聚物)，和線性縮聚物(例如聚酯，例如聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚己二酸己二酯和聚己二酰己二胺/聚己二酸亞己酯)。片材支撐體可以是透明或不透明的。不透明的片材支撐體可以是漫反射或鏡面反射的。用于受體片材的適合的片材支撐體包括例如塑料片材和膜，例如聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、芴聚酯聚合物、聚乙烯、聚丙烯、丙烯酸樹脂、聚氯乙蜂及其共聚物，和水解和未水解的乙酸纖維素。一種特別適合的支撐體是聚酯膜，例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯片材。例如，DuPontTeijinFlims(Hopewell，Virginia)以MELINEX的名稱銷售的聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯片材，例如MELINEX574是適用的。在實(shí)際中，片材支撐體的厚度通常為20-200微米。如果需要，該支撐體可以經(jīng)過預(yù)處理，以改變其潤(rùn)濕性和與隨后施加的涂層的粘合性。這種表面處理包括電暈放電處理，和膠層或釋放層的施加。該片材支撐體也可以包括含粘結(jié)劑(例如丙烯酸類或乙酸乙烯酯粘合劑)的可剝落層，盡管并不需要，但包括具有紋理的表面或涂層，或在本發(fā)明的受體片材的一側(cè)上同時(shí)包含具有紋理的表面和涂層是有利的。在片材支撐體上的具有紋理的表面或涂層可以由多個(gè)從支撐體或涂層的主表面延伸的凸起提供。該凸起可以以各種方式得到。例如，在涂層中可以包含具有紋理的材^"，以形成凸起，如下所述?？蛇x4奪地，可以通過常規(guī)方法對(duì)該片材支撐體進(jìn)行微復(fù)制，由此形成凸起。例如在DeBoer的美國(guó)專利號(hào)4876235中報(bào)道了一種具有紋理的受體片材。受體片材也可以包含涂層。該涂層可以包括能夠提供在環(huán)境溫度下不粘性的表面以及能夠與將從可成像膜上轉(zhuǎn)移的材料(例如可成像材料或著色劑)兼容的粘結(jié)劑。該涂層可以包含任選的添加劑，例如表面活性劑和抗氧化劑。該涂層也可以包含帶有紋理的材料。在聚合物粘結(jié)劑的選擇中，考慮的要素包括例如聚合物的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)化溫度、軟化點(diǎn)和粘度，等。更寬范圍種類的聚合物粘結(jié)劑適用作本發(fā)明的實(shí)施。該粘結(jié)劑可以包括羥基聚合物(即具有多個(gè)羥基的聚合物)，或者可以包括不含羥基的聚合物。機(jī)制(例如燒蝕或熔粘)。對(duì)于々:使用熔粘機(jī)制的成;機(jī)制中，例如，使用與可成像膜上的可成像材料的粘結(jié)劑相似或同樣的粘結(jié)劑用于受體片材是有利的。對(duì)于一些實(shí)施方案，來自Solutia,Inc.(St.Louis,Missouri)的BUTVARB-76聚乙烯縮丁醛共聚物是非常適合用于受體片材上的涂層中的材料。其它適用于該受體片材的涂層中的聚合物是可以商標(biāo)E-735獲自InternationalSpecialtyProducts,Inc.(Wayne,NewJersey)的聚乙烯基吡咯烷酮/乙酸乙烯酯共聚物粘結(jié)劑。另一種適合的聚合物是可以PLIOLITE獲自GoodyearChemical(Akron，Ohio)的苯乙烯-丁二烯共聚物。另一種適合的聚合物是可以商標(biāo)INCHEMREZPKHM-301獲自InchemCorp.(RockHill，SouthCarolina)的苯氧基樹脂。在該涂層中也可以適宜地包含苯乙烯/烯丙醇共聚物。一種市場(chǎng)上可得到的苯乙烯/嫦丙醇共聚物是來自LyondellChemicalCompany(Houston,Texas)的SAA-IOO。也可以適宜地使用聚合物的混合物作為粘結(jié)劑。例如，BUTVARB-76與SAA-100以約2:1~20:1重量比的混合物是適合的。上述材料僅以非限定性的實(shí)例給出。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到其它適合的聚合物。當(dāng)受體片材被置于用于成像的可成像膜的附近時(shí)，發(fā)現(xiàn)一些表面粗糙度的存在是有利的。受體片材中的凸起精確調(diào)節(jié)了可成像膜和受體元件之間的關(guān)系，在成像過程中在可成像膜和受體片材之間提供了一般均勻的間隙。在受體片材上的凸起的數(shù)量，無論是由珠子或者顆粒物質(zhì)還是通過紋飾處理形成的，可以使用已知技術(shù)測(cè)定，例如干涉:口上所述，紋飾lh理材津+可以為惰性顆粒一材料，例如聚合物珠子，二氧化硅顆粒，金屬氧化物顆粒，無機(jī)鹽，等。珠子的形狀優(yōu)選為圓形、長(zhǎng)圓形、卵形或橢圓性。紋飾處理材料可以具有基本均勻的尺寸(即單分散的)，或者其尺寸可以不同。無機(jī)顆粒(例如二氧化硅)的分散通常具有粒徑范圍，而聚合物珠子的單分散懸浮體是容易得到的。無論使用哪一種，該顆粒都不應(yīng)當(dāng)突出受體元件表面平面之上平均大于約8微米，但優(yōu)選應(yīng)當(dāng)突出所述平面之上至少約1微米，更優(yōu)選地至少約3孩吏米。在一些結(jié)構(gòu)中，添加具有不同平均直徑的兩個(gè)不同組珠子是有利的。這使得可以靈活地平衡濁度(haze)和滑落或分離性質(zhì)。和聚;基丙烯酸i脂酯珠子，和包含二曱l丙烯酸:l醇^旨均聚物或共聚物的珠子。適合的聚合物珠子包括由聚苯乙烯、酚樹脂、三聚氰胺樹脂、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺等制成的那些。通常，聚合物珠子應(yīng)當(dāng)具有范圍在約3~50微米，優(yōu)選在約5~25微米范圍內(nèi)的粒徑。間隔珠子在涂層中的覆蓋程度可以在約5~2000珠子/mm2范圍內(nèi)。隨著珠子粒徑的增加，那么需要比例更少的珠子。作為實(shí)例，一種適合的紋飾處理材料包括平均直徑為約10微米的聚甲基丙烯酸甲酯的單分散珠子。這種珠子是市場(chǎng)上可得到的。紋飾處理材料在受體片材上的涂層中的濃度應(yīng)當(dāng)足以提供約100500顆粒/mn^的面密度。作為實(shí)例，適合的顆粒面密度為約200顆粒/mm2。在一種實(shí)施方案中，受體片材上的涂層包括約20~80重量份粘結(jié)劑/約1重量份的紋飾處理材料。作為使用珠子或顆粒的替代方法，受體元件表面可以進(jìn)行物理紋飾處理，以提供所需的凸起?？梢酝ㄟ^粒化和陽(yáng)極氧化將金屬表面(例如鋁)進(jìn)行紋飾處理。其它紋飾處理表面可以通過本領(lǐng)域已知的樣丈復(fù)制技術(shù)得到。將可成像膜成像式曝光于成像性輻射中的方法是本領(lǐng)域常規(guī)的。成像式曝光可成像膜的模擬和數(shù)字方法都是適合的。很多用戶優(yōu)選數(shù)字方法，因?yàn)閿?shù)字成像裝置容易成像和來源增多。在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中，使用來自在計(jì)算機(jī)控制下掃描或光柵化的激光器的激光輻射可有效實(shí)現(xiàn)成像式曝光。任何已知的掃描裝置都可以使用，例如平板掃描儀、外鼓掃描儀或內(nèi)鼓掃描儀。在這些裝置中，待成像的可成像膜固定到鼓或板上，激光束聚焦到能夠影響可成像材料的點(diǎn)。該激光點(diǎn)在用于成像的面積上掃描，同時(shí)根據(jù)電存儲(chǔ)圖像信息(即數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù))調(diào)節(jié)激光輸出。可以用兩個(gè)或多個(gè)激光器可以同時(shí)掃描可成像材料的不同區(qū)域，以增加處理量。在圖1A中描述了該實(shí)施方案，其中使用輻射2在掩模基體6上產(chǎn)生掩模圖像4。在某些實(shí)施方案中，成像性輻射可以包括紅外輻射。紅外輻射可以在例如約750~1200nm范圍內(nèi)。在該實(shí)施方案的實(shí)施中，適合的可成像材料包括如上所述對(duì)紅外輻射敏感的能量吸收劑。該組分可以例如將紅外輻射轉(zhuǎn)化為熱。然后在可成像材料中熱的產(chǎn)生會(huì)導(dǎo)致可成像材料的其它組分的物理或化學(xué)變化。在該實(shí)施方案中，可成像膜可以適當(dāng)安裝到紅外成像器中，成像式曝光于紅外輻射。紅外輻射可以由例如可以在計(jì)算機(jī)控制下進(jìn)行掃描或光柵化的紅外激光器，例如二極管激光器(830nm)或Nd:YAG激光器(1064nm)提供。適合的紅外成像器包括用于打樣過程中的那些紅外成像器。這種紅外成像器的實(shí)例包括可獲自ECRM(Tewksbury,Massachusetts)的DESERTCAT88。用于平版印版應(yīng)用的紅外成像器也可以使用，例如來自Creo(Burnaby，BritishColumbia)的TRENDSETTER和來自Presstek(Hudson,NewHampshire)的DIMENSION。配置用于用整體式掩模使膠版制品成像的成像器也可以使用，例如由Esko-Graphics(Kennesaw，Georgia)制造的CYRELDigitalImager(CDISPARK),由Creo(Burnaby，BritishColumbia)制造的ThermoFlex,和來自MisomexInternational(Hudson,NewHampshire)的OMNISETTER。在另一些實(shí)施方案中，該可成像材料曝光于可見激光。該可見激光可以在例如約400~750nm范圍內(nèi)。可以使用市場(chǎng)上可得到的照相排版機(jī)和圖像排版機(jī)。例如來自Agfa-Gevaert(Belgium)的ACCUSETPlus(可見紅光激光二極管，670nm)、來自Agfa-Gevaert的ADVANTAGEDL3850(410nm)、來自FujiPhotoFilm的LUXELV-9600(410nm)、來自WesternLithotech(St.Louis,Missouri)的DIAMONDSETTER(雙頻率Nd:YAG激光器；532nm)、來自Agfa-Gevaert的SELECTSET5000(HeNe，630nm)。在另一些實(shí)施方案中，該可成像材料曝光于由激光直接成像(LDI)的紫外輻射。該紫外輻射可以在約150-410nm的范圍內(nèi)。來自O(shè)rbotech(Billerica,Massachusetts)的DP-100和來自EtecSystems(Tucson,Arizona)的DIGIRITE2000可以適用于UV激光成像。在一些實(shí)施方案中，任選地，在成像后可以通過使位于掩?；w上的掩模圖像經(jīng)受熱處理使其固化，只要不會(huì)對(duì)掩模圖像的轉(zhuǎn)移性質(zhì)產(chǎn)生不利影響即可。熱處理可以通過各種裝置進(jìn)行，例如儲(chǔ)存在爐子中、熱空氣處理、通過加熱輥裝置與加熱的輥筒或通道接觸。在另一些實(shí)施方案中，對(duì)于發(fā)生固化，熱處理并不是必須的。下面列出的成像機(jī)制應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為僅作為非限定性的實(shí)例，因?yàn)榭沙上衲た梢匀菀椎剡m用于和其它成像機(jī)制一起操作。1.燒蝕在一種成像機(jī)制中，通過燒蝕去除可成像材料的曝光區(qū)域。在這種成像機(jī)制中，通過產(chǎn)生氣體將曝光的可成像材料和可燒蝕層(如果存在)從掩?；w上推出。在這種實(shí)施方案中，可以在可成像材料或可燒蝕層中使用一旦曝光于熱量(例如激光輻射)會(huì)分解迅速產(chǎn)生氣體的特定粘結(jié)劑。在可成像材料的曝光區(qū)域下或內(nèi)部氣體的增加會(huì)產(chǎn)生壓力，將可成像材料從曝光區(qū)域中的掩?；w上推出。該行為與其它傳質(zhì)技術(shù)的區(qū)別在于是化學(xué)變化(例如鍵斷裂)而不是物理變化(例如熔化、蒸發(fā)或升華)造成可成像材料幾乎全部移動(dòng)而不是部分移動(dòng)。在通過激光束作用的一種燒蝕成像模式中，使具有包含著色劑、紅外吸收染料和粘結(jié)劑的可成像材料層的可成像膜形成圖像。由激光產(chǎn)生的能量將激光束撞擊可成像膜的位置的可成像材料驅(qū)散。在另一實(shí)施方案中，該粘結(jié)劑用作如上所述以及在Leinenbach等的美國(guó)專利號(hào)6521390中進(jìn)一步討論的"加熱可燃的"材料。該加熱可燃的粘結(jié)劑可以任選地存在于本實(shí)施方案的實(shí)施中的可燒蝕層中。采用燒蝕機(jī)制，可以在可成像材料附近防止碎片收集器(例如真空或適當(dāng)?shù)氖荏w片材)，用于在從掩?；w推出之后接收曝光的可成像材料。例如在Ellis等的美國(guó)專利號(hào)5171650和國(guó)際公開WO90/12342中報(bào)道了燒蝕轉(zhuǎn)移。2.熔粘轉(zhuǎn)移曝光于成像性輻射的可成像材料的區(qū)域也可以通過熔粘(melt-stick)去除。在熔粘系統(tǒng)中，一旦曝光于輻射，可成像材料以熔融或半熔融態(tài)從掩?；w轉(zhuǎn)移到適當(dāng)?shù)氖荏w片材上。該熔融或半熔融態(tài)的特征在于粘度降低，其為可成像材料提供了可流動(dòng)性。該可成像材料流過并粘結(jié)到受體片材的表面，其粘結(jié)強(qiáng)度大于它粘結(jié)到掩?；w上的強(qiáng)度。因此在曝光區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生可成像材料從掩模基體到受體片材的物理轉(zhuǎn)移。在轉(zhuǎn)移后，該掩?；w與未轉(zhuǎn)移的可成像材料和其它層一起與受體片材分開，以在該掩?；w上形成掩模圖像。在本實(shí)施方案的實(shí)施中，該受體片材和轉(zhuǎn)移的可成像材料通常(但并非必須)作為廢物丟棄掉。Lewis等的美國(guó)專利號(hào)5819661和Hirai等的美國(guó)專利號(hào)5238778中可以見到對(duì)熔粘轉(zhuǎn)移的其它方面和要求，上述每篇文獻(xiàn)都引入此處作為參考。3.激光誘導(dǎo)膜轉(zhuǎn)移也可以通過激光誘導(dǎo)膜轉(zhuǎn)移("LIFT")機(jī)制從掩?；w上除去可成像材料的曝光部分。在該實(shí)施方案中，可成像材料包括與粘結(jié)劑發(fā)生反應(yīng)以在曝光于成像性輻射的區(qū)域內(nèi)形成高分子量網(wǎng)絡(luò)的交聯(lián)劑。這種交聯(lián)的效果對(duì)熔體流動(dòng)現(xiàn)象、更多內(nèi)聚性材料轉(zhuǎn)移到受體、以及掩模圖像的更高質(zhì)量的邊緣清晰度進(jìn)行更好地控制。在Patel等的美國(guó)專利號(hào)5935758中可以找到這種系統(tǒng)的實(shí)施例，其全文引入此處作為參考。適合用于LIFT機(jī)制的可成像材料包括可轉(zhuǎn)移的著色劑和紅外吸收染料。該著色劑能夠在一旦曝光于紅外輻射時(shí)被轉(zhuǎn)移到受體片材中。在另一實(shí)施方案中，該可成像材料包括如上所述的包含羥基聚合物的粘結(jié)劑、可轉(zhuǎn)移的著色劑、碳氟化合物添加劑、陽(yáng)離子紅外吸收染料和潛在交聯(lián)劑。4.剝離在另一種實(shí)施方案中，可以在所謂的"剝離"機(jī)制中使用適當(dāng)?shù)氖荏w片材將曝光于成像性輻射的可成像材料區(qū)域從基體掩模上除去。剝離機(jī)制取決于在該可成像材料中產(chǎn)生不同粘結(jié)性質(zhì)的能力。在該可成像膜成像式曝光之后，將受體片材與掩模基體分開，在掩模基體上留下了可成像材料的曝光或未曝光的區(qū)域。Chou的美國(guó)專利號(hào)6013409(全文引入此處作為參考)描述了一種適合的剝離成像系統(tǒng)。在該實(shí)施方案中，該可成像材料包括掩模基體、包含著色劑的"可光硬化的層"、"光聚合物粘結(jié)劑"層和任選的釋放層。例如在Chou的美國(guó)專利號(hào)6013409的第3欄第25行至第4欄第16行中引入的參考文獻(xiàn)描述了適用于剝離成像的膜的其它實(shí)施方案。5.染料升華或擴(kuò)散在另一實(shí)施方案中，通過升華使著色劑從可成像材料的曝光區(qū)域除去。升華技術(shù)包括其中包含在可成像材料中的著色劑被升華或擴(kuò)散而粘結(jié)劑并不同時(shí)轉(zhuǎn)移的機(jī)制。在染料升華中，將可升華的著色劑轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，并驅(qū)散到大氣中，或者任選地導(dǎo)向適當(dāng)?shù)氖荏w片材上。例如在DeBoer的美國(guó)專利號(hào)5126760和DeBoer等的美國(guó)專利號(hào)5994026中報(bào)道了染料升華，各專利都全文引入此處作為參考。例如在DeBmabandere等的美國(guó)專利號(hào)5330962中描述的熱染料擴(kuò)散轉(zhuǎn)移也適合作為成像方法?？梢允褂玫目缮A的著色劑包括例如Neumann等在美國(guó)專利號(hào)5576141、5576142、5521050、5521051和5510228中所述的染料。通常，這種染料在可成像材料中的含量至少為約25wt%。通過染料升華機(jī)制，可以使用適當(dāng)?shù)目沙上衲ぴ诓恍枰荏w片材的情況下在載體片材上產(chǎn)生掩模圖像。在另一實(shí)施方案中，使用受體片材來捕獲升華的著色劑。該掩模圖像包括剩余在載體片材上的可成像材料。在本實(shí)施方案的實(shí)施中，該受體片材和轉(zhuǎn)移的著色劑通常(但不必須)作為廢物丟棄。在另一實(shí)施方案中，該掩模圖像包括被轉(zhuǎn)移到受體片材上的著色劑。在本實(shí)施方案的實(shí)施中，該載體片材和剩余的可成像材料通常(但不必須)作為廢物丟棄。本發(fā)明的方法中的另一步驟包括將該成像膜層壓到可成像制品上。該層壓成像膜的步驟包括將該掩模圖像放在位于光敏材料上的釋放層的附近。這一步驟的一種實(shí)施方案的結(jié)果示于表1B，其中顯示由位于掩模基體6上的掩模圖像4構(gòu)成的成像膜被層壓到由釋放層8、光敏材料10和光敏基體12構(gòu)成的可成像制品上。下面和在美國(guó)專利申請(qǐng)序列號(hào)11/081,018(全文引入此處作為參考)中討論了可成像制品的各種實(shí)施方案?？沙上裰破房梢园z版印版前體、印刷電路板("PCB，，)前體或平版印版前體。這些制品中的每一種都形成浮雕圖像、分別是變成膠版印版、PCB、平版印版的一部分。盡管在平版印版上形成的浮產(chǎn)品中的一種?？沙上裰破分辽侔ü饷舨牧?。光敏材料可以是正性或負(fù)性的。負(fù)性光敏材料可以通過曝光于光敏輻射進(jìn)行硬化或固化，通常包括一旦曝光于固化性輻射會(huì)發(fā)生聚合或交聯(lián)的聚合物或預(yù)聚物。該可成像此:卜，、可成像制品中可以包括任選的組分f例二釋放層、覆蓋片或金屬層。釋放層的存在有利于在方法的后續(xù)步驟中從該光敏材料上去除該成像膜。該釋放層也可以在固化步驟中在成像膜和可成像制品之間提供基本的粘結(jié)。該釋放層不應(yīng)當(dāng)顯著吸收或散射固化性輻射。在室溫下，該釋放層可使該掩模圖像完整去除，但在高溫下不能完整去除。該釋放層也可以保護(hù)該可紫外固化樹脂不被印上指紋或不受其它損壞，其可以位于可紫外固化樹脂和覆蓋片之間。該層在現(xiàn)有技術(shù)中有時(shí)被稱為抗粘層、隔離層、滑動(dòng)層或保護(hù)層。僅舉例而言，適合作為釋放層的涂料包括聚乙烯醇或類似聚合物，纖維素聚合物，例如曱基纖維素或羥丙基曱基纖維素，或聚乙烯基縮丁醛或其它如上所述的羥基聚合物。釋放層的一種特別實(shí)例是水解的苯乙烯馬來酸酐共聚物。該釋放層也可以由硅酮制成。該釋方丈層可以包4舌聚酰胺，例如可獲自HenkelCorporation(Minneapolis,Minnesota)的MACROMELT6900、聚乙烯醇、乙烯和乙酸乙烯酯的共聚物、兩性互聚物、纖維素聚合物，例如羥烷基纖維素和纖維素乙酸丁酸酯、聚縮丁醛、環(huán)化橡膠及其組合。在Flint等的美國(guó)專利號(hào)4293635中描述了兩性互聚物，引入此處作為參考。為了得到較高分辨率的圖像，透明和薄的釋放層會(huì)是有利的。例如，釋放層的厚度可以在約0.1~10微米的范圍內(nèi)。薄的釋放層會(huì)是有利的，因?yàn)楸硬粫?huì)對(duì)最終浮雕圖像的可得到的分辨率產(chǎn)生不利影響。在后續(xù)工藝步驟中薄的釋放層也會(huì)更容易去除。該釋放層可以包含涂覆助劑、表面活性劑、釋放增強(qiáng)材料等。例如，該釋放層可以包含適合的表面活性劑，例如來自AirProducts(Allentown，Pennsylvania)的SURFYNOL465(乙氧化的四甲基癸炔二醇)或SURFYNOLGA(乙炔二醇與其它非離子表面活性劑和溶劑共混)、來自CasChemlnc.(Bayonne,NewJersey)的SURFACTOL365(乙氧化的蓖麻油)或來自Rohm&Haas(Philadelphia,Pennsylvania)的TritonX-100(辛基苯氧基聚乙氧基乙醇)。在一些實(shí)施方案中，該光敏材料位于光敏基體上。理想地，光敏基體由尺寸穩(wěn)定的材料制成，例如聚酯膜或鋁片。該可紫外固化的樹脂也可以包括彈性體粘結(jié)劑、至少一種單體和光引發(fā)劑，其中該引發(fā)劑對(duì)非紅外輻射具有敏感性。在大多數(shù)情況下，該引發(fā)劑將對(duì)紫外或可見輻射或兩者具有敏感性。在Chen等的美國(guó)專利號(hào)4323637、Gruetzmacher等的美國(guó)專利號(hào)4427749和Feinberg等的美國(guó)專利號(hào)4894315中報(bào)道了適合的引發(fā)劑組合物的實(shí)例。該彈性體粘結(jié)劑可以是可以溶解、膨脹或分散在含水溶劑、半含水溶劑或有機(jī)溶劑顯影劑中單一聚合物或聚合物混合物。適合的粘結(jié)劑包括Alles的美國(guó)專利號(hào)3458311、Pohl的美國(guó)專利號(hào)4442302、Pine的美國(guó)專利號(hào)4361640、Inoue等的美國(guó)專利號(hào)3794494、Proskow的美國(guó)專利號(hào)4177074、Proskow的美國(guó)專利號(hào)4431723和Worns的美國(guó)專利號(hào)4517279中所述的那些。可以溶解、膨脹或分散在有機(jī)溶劑顯影劑中的粘結(jié)劑包括共軛二烯烴的天然或合成聚合物，包括聚異戊二烯、1,2-聚丁二烯、1,4-聚丁二烯、丁二烯/丙烯腈、丁二烯/苯乙烯熱塑性彈性體嵌段共聚物和其它共聚物?？梢允褂迷贑hen的美國(guó)專利號(hào)4323636、Heinz等的美國(guó)專利號(hào)4430417和Toda等的美國(guó)專利號(hào)4045231中所討論的嵌段共聚物。該粘結(jié)劑可以包含至少約65wt%的可紫外固化的樹脂。此處所用的術(shù)語粘結(jié)劑包括殼-核微凝膠和微凝膠與預(yù)成形的大分子聚合物的混合物，例如Fryd等在美國(guó)專利號(hào)4956252中所述的那些。該可紫外固化的樹脂也可以包含必須與粘結(jié)劑可兼容到形成清晰、不渾濁的光敏層的程度的單一單體或單體的混合物?？梢杂糜谠摽勺贤夤袒臉渲膯误w是本領(lǐng)域已知的，包括但不局限于具有相對(duì)較低分子量(通常小于約30000Da)的加聚的烯屬不飽和化合物。適合的單體具有較低的分子量，小于約5000Da。除非特別指出，在本說明書中的分子量都是重均分子量。適合的單體的實(shí)例包括但不局限于丙烯酸叔丁酯、丙烯酸月桂酯、醇和多元醇(例如烷醇)與丙烯酸和甲基丙蹄酸的單-或多元酯，例如二丙烯酸1,4-丁二醇酯、二曱基丙烯酸2，2，4-三甲基-1,3-戊二醇酯和二丙烯酸2,2-二甲氧基丙烷酯，烷撐二醇，例如二丙烯酸三丙二醇酯、二甲基丙烯酸丁二醇酯、二丙烯酸己二醇酯和二曱基丙烯酸己二醇酯，三曱氧基丙烷、乙氧化三甲氧基丙烷、季戊四醇，例如三丙烯酸季戊四醇酯、二季戊四醇等。適合的單體的其它實(shí)施例包括異氰酸酯、酯、環(huán)氧化物等的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯衍生物，例如二丙烯酸癸二醇酯、二丙烯酸2，2-二(p-羥苯基)丙烷酯、二曱基丙烯酸2,2-二(p-羥苯基)丙烷酯、聚二曱基丙烯酸氧乙基-2,2-二(p-羥苯基)丙烷酯和l-苯基亞乙基-l,2-二甲基丙烯酸酯。Chen的美國(guó)專利號(hào)4323636、Fryd等的美國(guó)專利號(hào)4753865、Fryd等的美國(guó)專利號(hào)4726877和Feinberg等的美國(guó)專利號(hào)4894315中可以找到單體的其它實(shí)例。該單體可以包含至少5wt.。/。的可紫外固化的樹脂。該光引發(fā)劑可以是任何對(duì)紫外輻射敏感的任何單一化合物或化合物的組合，產(chǎn)生引發(fā)該一種單體或多種單體的聚合反應(yīng)而不會(huì)過分終止的自由基。該光引發(fā)劑應(yīng)該對(duì)可見輻射或紫外輻射敏感。該光引發(fā)劑也可以對(duì)紅外和/或可見輻射敏感，在等于或低于185。C是應(yīng)當(dāng)是熱惰性的。適合的光引發(fā)劑的實(shí)例包括取代和未取代的多核醌。在Gruetzmacher的美國(guó)專利號(hào)4460675和Feinberg等的美國(guó)專利號(hào)4894315中公開了適合的系統(tǒng)的實(shí)例。光引發(fā)劑通常的含量為該可紫外固化的樹脂的約0.001~10.0wt%。根據(jù)所需的最終性質(zhì)，該可紫外固化的樹脂可以包含其它添加劑。這種添加劑包括敏化劑、增塑劑、流變改性劑、熱聚合引發(fā)劑、增粘劑、著色劑、抗氧化劑、抗臭氧劑或填料。增塑劑可以用于調(diào)節(jié)彈性體的成膜性質(zhì)。適合的增塑劑的實(shí)例包括脂肪族烴油，例如環(huán)烷油和石蠟油、液態(tài)聚二烯，例如液態(tài)聚丁二烯、液態(tài)聚異戊二烯。通常，增塑劑是分子量小于約5000Da的液體，但也可以具有最高約30000Da的分子量。具有低分子量的增塑劑可以包括小于約30000Da的分子量?？勺贤夤袒臉渲暮穸瓤梢愿鶕?jù)所需的印版的性質(zhì)而變化。在一種實(shí)施方案中，該可紫外固化的樹脂的厚度可以為例如約20~250mil(500~6400孩￡米)或更大，更尤其為約20~100mil(500—2500微米)。在一種實(shí)施方案中，該光敏材料是包含適當(dāng)可紫外固化的樹脂的膠版印刷印版前體。用于制備膠版印版的材料通常包括光敏基體、和得到的膠版印版前體的實(shí)例包括例如可獲自KodakPolychromeGraphics(Norwalk,Connecticut)的FLEXCEL、可獲自DuPont(Wilmington,Delaware)的CYRELFlexographic印片反、可獲自BASF(Germany)的NYLOFLEXFAR284、可獲自Polyfibron的FLEXILIGHTCBU和ASAHIAFPXDI。在另一實(shí)施方案中，該光敏材料是正性光敏組合物。在這一實(shí)施方案中，光敏材料一旦曝光于輻射會(huì)變得更易去除。在Kohara等的美國(guó)專利號(hào)4731319和Lawson等的3634086中可以找到這種類型的材料的實(shí)例，特別是在Lawson等的實(shí)施例3中所述的光壽文組合物。正性光4丈組合物的一種可市場(chǎng)上得到的實(shí)例是可獲自ClairantCorporation(Somerville，NewJersey)的AZR9200Photoresist。在另一實(shí)施方案中，該可成像制品可以是印刷電路板("PCB")的前體。在PCB中，在光敏基體上以由掩模圖像規(guī)定的圖案形成導(dǎo)電層(也稱為印刷電路)。然后該印刷電路可以在各種電子元件之間導(dǎo)通電壓和電流，所述電子元件例如電阻器、電容器、集成電路和其它電子裝置。在形成該印刷電路之后的階段中，將該電子元件釬焊到該印刷電路上。適合的PCB前體可以包含光敏基體、金屬層和光敏材料。該光敏基體可以是被認(rèn)為必需的任何厚度的聚酰亞胺膜、在該工業(yè)中已知和使用的玻璃充填的環(huán)氧樹脂或酚醛樹脂或任何其它絕緣材料。覆蓋在光敏基體上的金屬層可以包括導(dǎo)電金屬。一種適合的實(shí)例是銅，盡管可以使用任何其它適合的金屬或金屬的合金。光敏材料可以包括可紫外固化的樹脂。適用于PCB前體的可紫外固化的樹脂的一個(gè)實(shí)例包括低聚物和單體、光引發(fā)劑和粘結(jié)劑。適合的低聚物和單體包括那些在光引發(fā)劑的存在下一旦曝光于紫外輻射可以交聯(lián)的那些。該低聚物和單體可以包括上述那些。這些組分可以占可紫外固化的樹脂的約35~75wt%。光引發(fā)劑應(yīng)當(dāng)能夠產(chǎn)生和促進(jìn)將有助于在一旦曝光于紫外輻射時(shí)低聚物和單體發(fā)生交聯(lián)的自由基。適合的光引發(fā)劑如上所述。該光引發(fā)劑可以占含在可紫外固化的輻射中的低聚物和單體重量的至多約10%。該交聯(lián)劑應(yīng)當(dāng)可溶于水或稀堿顯影劑以及有機(jī)顯影劑中。該粘結(jié)劑應(yīng)當(dāng)也能夠溶于蝕刻劑中，例如酚醛清漆(官能取代的酚醛樹脂)、苯乙烯馬來酸酐共聚物、聚乙烯基甲基醚/馬來酸酐共聚物及其酯、羥丙基纖維素和酯化的松香-馬來酸酯。用于形成PCB前體的可紫外固化的樹脂也可以包括其它組分，例如填料和潤(rùn)濕劑，以及用于幫助目測(cè)的染料或顏料。為了實(shí)現(xiàn)在固化和未固化區(qū)域之間溶解度的最大區(qū)別和最優(yōu)粘結(jié)性質(zhì)，PCB前體中的可紫外固化的樹脂的涂覆厚度可以為約3~30微米，更特別為12微米。用于PCB前體結(jié)構(gòu)中的光每文材料也可以是正性的，這意p未著該光敏材料一旦曝光于紫外或可見輻射中會(huì)變得更可顯影。在這些PCB前體中，未曝光于輻射的光敏材料的區(qū)域在顯影之后將保持在PCB前體上，是本領(lǐng)域所已知的。萬.在一些實(shí)施方案中，可以通過在成像膜和可成像制品上施加壓力來實(shí)現(xiàn)將成像膜層壓到可成像制品上。在另一些實(shí)施方案中，通過施加熱量可以將該成像膜層壓到可成像制品上。層壓也可以包括施加壓力和熱量?jī)烧??？梢允褂锰峁崃亢蛪毫烧叩目墒袌?chǎng)上得到的層壓機(jī)。適合的層壓才幾包^舌例如可獲自EastmanKodakCo.(Rochester,NewYork)的KODAK型號(hào)800XLAPPROVALLAMINATOR、來自CODOR層壓系統(tǒng)(Amsterdam,Holland)的CODORLPP650LAMINATOR和可獲自Filmsource(Casselbury,Florida)的LEDCOHD層壓機(jī)。將該掩模圖像層壓到光敏材料的一種方法是將可成像的制品放置在層壓器的入口盤中。如果存在，將該蓋片從可成像制品上去除。將該成像膜放在可成像制品上，使掩模圖像靠近該光敏材料，或者釋放層(如果存在)，以形成組件。該組件以所需速度、溫度和壓力下送入到層壓斗幾中。///.摔T4'謬^/品遞d該4謬/變錄^本發(fā)明的另一步驟包括將該可成像制品通過成像膜在沒有真空壓力的情況下曝光于固化性輻射。在該步驟中，該固化性輻射通過該掩模圖像投射到光敏材料上，使得一些輻射優(yōu)選被該掩模圖像所阻擋。在未掩模圖區(qū)，固化性輻射將射在光敏材料上，造成硬化或固化。因此該掩模圖像應(yīng)當(dāng)對(duì)固化性輻射基本不透明。術(shù)語"基本不透明"是指該掩模圖像在該固化性輻射的波長(zhǎng)上應(yīng)當(dāng)具有約2.0或更大，更尤其約3.0或更大的透射光密度。該未曝光區(qū)域和該掩?；w應(yīng)當(dāng)是基本透明的。該術(shù)語"基本透明"是指光敏材料的未曝光區(qū)域在該固化性輻射的波長(zhǎng)上應(yīng)當(dāng)具有約0.5或更小，更尤其約0.1或更小，甚至更尤其約0.05或更小的透射光密度。透射光密度可以使用適當(dāng)?shù)臑V光器在密度計(jì)上測(cè)定，例如MACBETHTR927。通常通過掩模圖像曝光光敏材料的步驟是通過溢流式(floodwise)曝光進(jìn)行的，由于該掩模圖像會(huì)阻擋固化性輻射。在圖1C中顯示了該步驟。將包含釋放層8、光敏材料10和光敏基體12的可成像制品通過掩模圖像4和掩?；w6曝光于固化性輻射14。在該步驟的實(shí)施過程中不需要真空下吸。如果不使用真空下吸可以實(shí)現(xiàn)至少兩個(gè)優(yōu)點(diǎn)。首先，不用真空的曝光減小了在曝光過程中產(chǎn)生真空所需的時(shí)間，因此用本方法增加了浮雕圖像的生產(chǎn)量。其次，在用于本方法中的掩模圖像中不需要通常作為在模擬方法中所用的掩模的部分的消光劑、或珠子。盡管消光劑改善了真空下吸，但是當(dāng)撞擊消光劑時(shí)該固化性輻射會(huì)更容易散射。通過將該光敏材料通過本發(fā)明的方法在沒有真空下吸的情況下曝光于固化性輻射，不需要消光劑，因此比如果使用模擬方法時(shí)固化性輻射的散射會(huì)更少。在使用本發(fā)明的方法由前體制備膠版印版時(shí)，首先將光敏材料的一側(cè)通過支持體曝光于固化性輻射(已知的"反曝光，，)，以在光敏層的支持體側(cè)制備薄的均勻固化的層。然后將該可成像制品通過成像膜曝光于固化性輻射，由此使在未曝光區(qū)域內(nèi)的光敏材料硬化或固化。然后通過下述的顯影方法將未曝光和未固化部分的光敏材料去除，留下限定浮雕印版的固化部分。適用作固化性輻射的波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍由光敏材料的性質(zhì)決定。在一些實(shí)施方案中，該固化性輻射是紫外輻射。用于溢流式(floodwise)曝光于紫外輻射的輻射源是常規(guī)的。適合的可見或UV光源的實(shí)例包括碳電弧、汞蒸氣電弧、熒光燈、電子閃光單元和照相泛光燈。適合的UV輻射的光源包括汞蒸氣燈，特別是日光燈。適合的標(biāo)準(zhǔn)輻射源的一種實(shí)例為發(fā)射中心波長(zhǎng)約為354nm的SYLVANIA350BLACKLIGHT熒光燈(FR48T12/350VL/VHO/180,115w)。另一實(shí)例為可獲自BurgessIndustries,Inc.(Plymouth,Minnesota)的具有ADDALUX754-18017燈的BURGESSEXPOSUREFRAME,型號(hào)5K-3343VSII。另一種適合的紫外輻射光源包括能夠同時(shí)將可成像制品曝光于固化性輻射并在輻射曝光之后使可成像制品顯影的制版機(jī)。適合的制片反才幾的實(shí)例包4舌可獲自KelleighCorporation(Trenton，NewJersey)的KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER和可獲自GlobalAsiaLimited(HongKong)的GPP500FPLATEPROCESSOR。通過掩模圖像的曝光時(shí)間將取決于光敏材料的性質(zhì)和厚度以及輻射源。例如，在一種實(shí)施方案中，可以將可獲自KodakPolychromeGraphics(Norwalk,Connecticut)的FLEXCEL-SRH版前體安裝在可獲自KelleighCorporation(Trenton,NewJersey)的KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER上，通過支持體背曝光于UV-A輻射35秒，以在光敏層的支持體側(cè)上制備薄的均勻固化的層。然后將該成像膜轉(zhuǎn)移到FLEXEL-SRH版前體的隔離層上，然后可以將該組件通過掩模圖像曝光于UV-A輻射中14分鐘。A^"^謬浙品J:^餘,成謬厲^本發(fā)明的另一步驟包括從可成像制品上去除該成像膜以使該成像膜可以重復(fù)使用。為了本申請(qǐng)，術(shù)語"可重復(fù)使用"是指該成像膜，特別是掩模圖像，保持基本完整，使得該成像膜可以用于在另一可成像制品上形成基本相同的浮雕圖像。這一步驟的結(jié)果示于圖1D。如此所述，在成像膜去除之后，該釋放層8保持在光敏材料10上，沒有前述步驟中所述的掩模圖像4?？梢酝ㄟ^例如將成像膜從可成像制品上剝離來去除該成像膜。由于該掩?？梢栽诤竺娴墓饷舨牧仙现貜?fù)使用，所以當(dāng)剝離該掩模圖像時(shí)應(yīng)當(dāng)注意使其不會(huì)損害。成像膜的去除可以手動(dòng)進(jìn)行，或者其可以機(jī)械完成。K炎該^成'澩浙^j參本發(fā)明的另一步驟包括使該可成像制品顯影形成浮雕圖像?？沙上裰破返娘@影用于在固化性輻射的波長(zhǎng)中去除光敏材料和釋放層的未固化部分，保留限定浮雕圖像的可成像材料的固化部分。如圖1E所示，成像制品的顯影用于去除釋放層8和光敏材料10的未固化部分，在光敏基體12上保留限定浮雕圖像10的固化部分。在一種實(shí)施方案中，顯影步驟包括用適當(dāng)?shù)娘@影劑清洗該可成像制品。適當(dāng)?shù)娘@影劑可以溶解、分散或膨脹在光敏材料的未曝光區(qū)域中。顯影可以在約室溫下進(jìn)行。適合的顯影劑包括有機(jī)溶液、水、含水或半含水溶液。如果使用水，其可以包含表面活性劑。該顯影劑應(yīng)當(dāng)根據(jù)光敏材料的化學(xué)性質(zhì)選擇。適合的有機(jī)溶液顯影劑包括芳香族或脂肪族烴和脂肪族或芳香族卣代烴溶液，或者這種溶液與適當(dāng)醇的混合物。在公開的德國(guó)申請(qǐng)3828551和Schober等的美國(guó)專利號(hào)5354645中公開了其它有機(jī)溶液顯影劑。適合的半含水溶液顯影劑可以包含水和可以與水互溶的有機(jī)溶液和堿性材料。適合的含水顯影劑通常包含水和堿性材料。在Briney等的美國(guó)專利號(hào)3796602中描述了其它適合的含水顯影劑組合。一種適合的市場(chǎng)上可得到的顯影劑使可獲自DuPontCorporation(Wilmington,Delaware)的CYRELOPTISOLROTARYPLATEWASHOUTSOLUTION。也可以使用機(jī)械顯影。用于顯影的機(jī)械方法可以包括洗滌或刷洗該可成像制品以去除光敏材料的未固化部分。通常實(shí)行機(jī)械方法與溶劑顯影的結(jié)合使用。也可以使用熱顯影方法。例如在Schadebrodt等的美國(guó)公開申請(qǐng)2004/0048199和此處討論的參考文獻(xiàn)中報(bào)道了一種熱方法。在Martens等的美國(guó)專利號(hào)5175072中報(bào)道了其中使用吸收劑層來吸收光敏材料的未固化部分的另一種熱方法，在此將其引入此處作為參考。其它熱顯影方法也可以是適用的。在一些情況下浮雕圖像的后顯影處理(post-devel叩mentprocessing)可以是適用的。通常的后顯影處理包括使浮雕圖像干燥以去除任何過剩的溶劑，使光敏材料后固化(例如通過進(jìn)一步將該浮雕圖像曝光于固化性輻射)以使光敏材料進(jìn)一步硬化或交聯(lián)。這種后顯影處理對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員是公知的。例如，可以將該浮雕圖像吸干或擦干，然后在強(qiáng)迫通風(fēng)或紅外爐中干燥。干燥時(shí)間和溫度可以變化。爐千燥的適合溫度可以包括例如約60°C。膠版印版可以經(jīng)過后曝光，以確保光聚合過程完成，并確保該版將在印刷和存儲(chǔ)過程中保持穩(wěn)定。該后曝光步驟使用與上述曝光步驟相同的輻射源。如果該表面仍有些粘性，也可以使用去粘性工藝(其也可以稱為"輕漿整理(lightfinishing)，，)?？梢酝ㄟ^本領(lǐng)域已知的方法去除粘性，例如通過^吏用溴或氯ii^液的處理。例如在Gruetzmacher等的美國(guó)專利號(hào)4400459、Fickes等的美國(guó)專利號(hào)4400460和德國(guó)專利2823300中報(bào)道了這種處理'。去粘性處理也可以通過曝光于紫外-可見輻射來實(shí)現(xiàn)。所制成的浮雕圖像可以具有光敏材料原厚度的約2~40%的深度。因此，如果未固化的光敏材料的厚度為1500微米，則該浮雕圖像的深度可以為約500微米。對(duì)于膠版印版，其深度可以為約150~500微米。對(duì)于PCB，在曝光或未曝光區(qū)域上完全除去光敏材料，以暴露位于光敏材料之下的金屬層。因此，在PCB中，浮雕的深度取決于設(shè)置在金屬層上的光敏材料厚度。浮雕的深度是該版的升高區(qū)域(也稱為"圖像區(qū)域")中固化的光敏材料的厚度與在顯影光敏材料的位置的在該版的谷處的固化光敏材料的厚度之差。一旦從該該可成像制品上去除，然后可以將該成像膜再次用于在其它可成像制品上制成其它浮雕圖像。使用相同的成像膜，可以進(jìn)行以下步驟將該成像膜轉(zhuǎn)移到第二可成像制品上，將第二可成像制品通過該成像膜曝光于固化性輻射，從該第二可成像制品上去除該成像膜并使第二可成像制品顯影。然后可以對(duì)其它可成像制品重復(fù)這些步驟。該成像膜可以重復(fù)使用的次數(shù)取決于膜的類型和用于從可成像制品上去除成像膜所用的技術(shù)。在大多數(shù)情況下，該成像膜可以用于制備浮雕圖像的次數(shù)小于IO次，更特別為約5次。本發(fā)明可以在不脫離其精神和范圍的情況下進(jìn)行各種改進(jìn)和變況下適當(dāng)實(shí)施。在對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案的描述中，特別的術(shù)語用于為了清楚。然而，本發(fā)明并不意于限定為如此選擇的特定術(shù)語，應(yīng)當(dāng)理解如此選擇的各術(shù)語包括能類似實(shí)施的所有技術(shù)等效方式。實(shí)施例BUTVARB-76:聚乙烯基縮丁醛樹脂，可獲自Solutia，Inc.(St.Louis,Missouri)EPOLIGHT1178:在1073nm處吸收的紅外染料,可獲自Epolin,Inc.(Newark,NewJersey)PC364:具有下面結(jié)構(gòu)的紅外染料<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>SANTICIZER160:丁基苯甲基聚合物，可獲自FerroCorporation(WaltonHills，Ohio)SudanBlack:藍(lán)黑色染料溶液,可獲自LightningPowderCompany,Inc.(Salem,Oregon)TRUMP染料在830nm處具有吸收最大值的紅外吸收染料，具有以下結(jié)構(gòu)Trump染料UVINUL3050:UV吸收劑，2，2',4,4'-四羥基二苯甲酮，可獲自BASF(Germany)實(shí)施例1使用#7涂覆棒，用包含表l中所列的組分在4.5:1的丙酮和環(huán)己酮的混合溶劑中總固體含量為5%的溶液的可燒蝕層溶液涂覆可獲自CourtauldsPerformanceFilms(Martinsville,Virginia)的'涂覆有4元戈'J傷硬涂層的7mil厚的聚酯光敏基體。將該可燒蝕層溶液在190。F干燥5分鐘，以在硬涂層上形成涂覆重量為50mg/ff的可燒蝕層。表1:實(shí)施例1中月<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>將表2中所列的組分的可成像材料溶液混合在2:1的曱基異丁基酮和乙醇的混合溶劑中作為7.5%總固體含量溶液，使用#20涂覆棒將其涂覆到該可燒蝕層上。在180°F爐中將該可成像材料溶液加熱3分鐘，以在可燒蝕層上形成涂覆重量為175mg/ff的可成像材料層。表2:實(shí)施例1中可成像材料溶液的組分和含量<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>使用在0.8J/cm2能級(jí)的燒蝕模式下釋放1170nm輻射的可獲自Esko-Graphics(Kennesaw,Georgia)的SPARK激光熱成像器在150網(wǎng)線板上使用2540dpi的圓點(diǎn)使可成像材料層形成半色調(diào)測(cè)試圖形，由此制成成像膜。目測(cè)到在基膜上0.01的D曲和清晰的半色調(diào)點(diǎn)。包含光敏基體、光敏材料、釋放層和蓋片的可獲自KodakPolychromeGraphics(Norwalk，Connecticut)的FLEXCEL-SRH膠版前體("前體")，用UV輻射通過該光敏基體在可獲自KelleighCorporation(Trenton,NewJersey)的KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER上背曝光31秒，將該蓋片從該前體上剝落。通過將該前體放在可獲自AdvancedGriegLaminators(AGL)(Madison,Wisconsin)的AGL熱輥層壓機(jī)的入口處并將該制品放在基體上，使可成像材料的成像層朝向前體的釋放層，而將該成像膜層壓到該前體上。然后在40psi的輥隙壓力和約260°F的輥表面溫度下將該前體和成像膜層壓在一起。層壓機(jī)速度設(shè)定為30英寸/分鐘(76.2cm/分鐘)。將層壓到該前體上的成像膜放在可獲自KelleighCorporation(Trenton,NewJersey)的KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER上，使成像膜朝向輻射源。不使用真空下吸，將該組件曝光于UV輻射中13分鐘。在曝光之后，通過手動(dòng)從該曝光前體上剝落該成像膜，將該成像膜去除。沒有觀察到該掩模的損傷。然后使用OPTISOL溶液將該曝光前體顯影20分鐘。在顯影之后，在140°F的烘箱中干燥該浮雕圖像2小時(shí)，然后放回到KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER上，用UV-C輻射進(jìn)行光》務(wù)整8分鐘。最后，用UV-A輻射對(duì)該浮雕圖像后曝光10分鐘。實(shí)施例2使用在0.5J/cm2能級(jí)的燒蝕模式下釋放830nm輻射的可獲自ECRM(Tewksbury,Massachusetts)的DESERTCATDC88激光熱成像器在150網(wǎng)線板上使用2400psi(前述膜為2540dpi)的圓點(diǎn)使可獲自EastmanKodak(Rochester,NewYork)的KodakDirectImageThermalRecordingFilm1401片材成像成半色調(diào)測(cè)試圖形，由此制成成像膜。包含光敏基體、光敏材料、釋放層和蓋片的可獲自KodakPolychromeGraphics(Norwalk，Connecticut)的第一FLEXCEL-SRH膠版前體("前體")用UV輻射通過該光敏基體在可獲自KelleighCorporation(Trenton,NewJersey)的KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER上背曝光31秒，將該蓋片從該前體上剝落。通過將該前體放在可獲自AdvancedGriegLaminators(AGL)(Madison,WI)的AGL熱輥層壓機(jī)的入口處并將該成像膜放在前體上，使可成像材料的成像層朝向前體的釋放層，而將該成像膜層壓到該前體上。然后在40psi的擠壓壓力和約260°F的輥表面溫度下將該前體和成像膜層壓在一起。層壓機(jī)速度設(shè)定為30英寸/分鐘(76.2cm/分鐘)。將層壓到該前體上的成像膜放在可獲自KelleighCorporation(Trenton,NewJersey)的KELLEIGHMODEL310PLATEMAKER上，使成像膜朝向輻射源。不使用真空下吸，將該組件曝光于UV輻射中13分鐘。在曝光之后，通過手動(dòng)從該曝光前體上剝落該成像膜，將該成像膜去除。然后如制造商推薦的那樣將該前體顯影、干燥和修整，形成第一修整版。在第一修整版上觀察到1%~99%的膠版點(diǎn)。然后將修整版用于在Mark-AndyMOO膠版印機(jī)上印刷。然后將該成像膜再層壓到第二FLEXCE1-SRH膠版前體上，以如第一FLEXCEL-SRH膠版前體相同的方式進(jìn)行曝光和處理，形成第二修整版。第二修整版的圖像質(zhì)量與第一修整版的圖像質(zhì)量在視覺上是相同的。實(shí)施例3(對(duì)比例)將用于實(shí)施例2中的成像膜放置(不是層壓)在第三FLEXCE1-SRH膠版前體上。然后以與實(shí)施例2中相同的方式將該成像膜和第三前體曝光，只是該成像膜和第三前體的組件的曝光步驟是在真空下吸壓力下進(jìn)行的。最后，從第三前體上去除該成像膜，以與實(shí)施例2中相同的方式處理該第三前體，形成修整版。第三修整版的半色調(diào)點(diǎn)區(qū)域表現(xiàn)出雜點(diǎn)和陰影細(xì)節(jié)缺失，表明本發(fā)明與在曝光過程中使用真空下吸壓力的方法相比，能夠產(chǎn)生具有更高分辨率的圖像。然后將該成像膜放置在已經(jīng)去除了釋放層的第四FLEXCE1-SRH膠版前體上。以與實(shí)施例2相同的方式將該成像膜和第四膠版前體曝光，只是該成像膜和第三前體的組件的曝光步驟是在真空下吸壓力下進(jìn)行的。然而，在該實(shí)施例中，該成像膜沒有從第四膠版前體上剝落，這表明釋放層提高了從膠版前體上去除成像膜的能力。實(shí)施例4(對(duì)比例)^!等可獲自EastmanKodakCo.(Rochester,NewYork)的成i"象的KodakPremierPRD7膜的樣品層壓到第五FLEXCE1-SRH膠版前體上，并以與實(shí)施例2中相同的方式曝光，只是該成像膜和第五前體的組件的曝光步驟是在真空下吸壓力下進(jìn)行的。該成像的KodakPremierPRD7膜沒有從第五膠版前體上剝落，使得該成像膜不能重復(fù)使用。權(quán)利要求1.一種制備浮雕圖像的方法，該方法包括以下步驟(a)將包含掩?；w和可成像材料的可成像膜成像式曝光于成像性輻射中，形成包含在掩模基體上的掩模圖像的成像膜；(b)將該成像膜層壓到包含設(shè)置在光敏材料上的釋放層的可成像制品上；(c)將沒有真空下吸的該可成像制品通過該成像膜曝光于固化性輻射中；(d)從該可成像制品上除去該成像膜，使該成像膜可重復(fù)使用；以及(e)使該可成像制品進(jìn)行顯影，形成該浮雕圖像。2.權(quán)利要求l的方法，其中該可成像材料包括紅外吸收劑。3.權(quán)利要求l的方法，其中該可成像材料包括紫外吸收劑。4.權(quán)利要求1的方法，其中該可成像材料包括吸收固化性輻射的著色劑。5.權(quán)利要求4的方法，其中該著色劑包括碳黑、紅黃、紫黑或其組合。6.權(quán)利要求1的方法，其中該可成像材料包含吸收固化性輻射的著色劑、紅外吸收劑、紫外吸收劑和粘結(jié)劑。7.權(quán)利要求1的方法，其中該可成像膜包括位于可成像材料和掩模基體之間的膠層。8.權(quán)利要求l的方法，其中該可成像膜包括可燒蝕層。9.權(quán)利要求8的方法，其中該可燒燭層包括聚氰基丙烯酸酯和紅外染料。10.權(quán)利要求8的方法，其中該可燒蝕層位于掩模基體和可成像材津牛之間。11.權(quán)利要求8的方法，其中該可燒蝕層位于可成像材料的曝光表面上。12.權(quán)利要求l的方法，其中該成像性輻射具有約750~1200nm之間的波長(zhǎng)。13.權(quán)利要求1的方法，其中將該膜成像式曝光于成像性輻射中的步驟導(dǎo)致曝光于成像性輻射的可成像材料的去除。14.權(quán)利要求13的方法，其中用接收器片材收集該曝光于成像性輻射的可成像材料。15.權(quán)利要求1的方法，其中將該成像膜層壓到可成像制品上的步驟包括(i)加熱該可成^f象制品；以及(ii)將該成像膜與該可成像制品的釋放層接觸。16.權(quán)利要求15的方法，其中將該成像膜層壓到可成像制品上的步驟進(jìn)一步包括在該掩模圖像與釋放層接觸的步驟之后，在該成像膜和可成i象制品上施加熱和壓力。17.權(quán)利要求1的方法，其中該光敏材料包括可紫外固化的材料。18.權(quán)利要求1的方法，其中該釋放層包括聚乙烯醇、甲基纖維素或水解的苯乙烯馬來酸酐、或其衍生物或組合。19.權(quán)利要求l的方法，其中該光敏材料設(shè)置在光敏基體上。20.權(quán)利要求l的方法，其中該可成像制品為膠版印版前體。21.權(quán)利要求1的方法，其中將該可成像制品曝光于固化性輻射中的步驟誘發(fā)光敏材料的光聚合。22.權(quán)利要求l的方法，其中該固化性輻射包括紫外輻射。23.權(quán)利要求1的方法，其中將該可成像制品曝光于固化性輻射中的步驟是在環(huán)境壓力下進(jìn)行的。24.權(quán)利要求1的方法，其中將該可成像制品顯影的步驟包括使該可成像制品與顯影劑接觸。25.權(quán)利要求1的方法，其中該浮雕圖像的深度在約150~約750微米的范圍內(nèi)。26.權(quán)利要求1的方法，進(jìn)一步包括以下步驟(f)將該成像膜層壓到第二可成像制品上；(g)將沒有經(jīng)過真空下吸的該第二可成像制品通過該成像膜曝光于固化性輻射中；(h)從該第二可成像制品上去除該成像膜；以及(i)將該第二可成像制品顯影，形成第二浮雕圖像。27.權(quán)利要求26的方法，其中用另外的可成像制品重復(fù)步驟(f)~(i)。全文摘要本發(fā)明涉及使用可去除膜制備具有浮雕圖像的制品的方法。首先，將至少包含掩?；w和可成像材料的可成像膜成像式曝光于成像性輻射中形成成像膜。然后將該成像膜轉(zhuǎn)移到可成像制品上，例如平板印版前體。將所形成的組件曝光于固化性輻射中，在可成像制品上形成光敏材料的曝光和未曝光區(qū)域。在曝光于固化性輻射之后，然后將該成像膜從可成像制品上去除。然后用適當(dāng)?shù)娘@影劑使該可成像制品顯影，形成浮雕圖像。然后該成像膜可以重復(fù)使用以制備其它具有浮雕圖像的制品。文檔編號(hào)G03F1/10GK101176039SQ200680016806公開日2008年5月7日申請(qǐng)日期2006年5月2日優(yōu)先權(quán)日2005年5月16日發(fā)明者G·L·茨沃德洛申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司