專利名稱：：形成浮雕圖像的掩模薄膜及其用法的制作方法形成浮雕圖像的掩模薄膜及其用法發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及在其中能形成掩模圖像的薄膜或元件，所述薄膜或元件隨后能用來(lái)形成帶有浮雕圖像的成像元件。特別地，本發(fā)明涉及易用于制造平版印版的掩模-形成薄膜以及制造這類印版的方法。
背景技術(shù)：
：表面上具有激光-可燒蝕掩模層的輻射敏感元件是本領(lǐng)域已知的。在這類元件中能產(chǎn)生浮雕圖像而不必使用數(shù)字負(fù)像或其它已成像元件或掩蔽器件。含激光-可燒蝕掩模層的薄膜可通過如下形成先用激光(一般是在計(jì)算機(jī)控制下的紅外線激光)使薄膜按圖像曝光，以選擇性地除去曝光區(qū)的掩模層。然后使該掩膜與輻射敏感元件接觸并用光化輻射(例如UV)使之全部曝光，以固化未掩蔽區(qū)中的輻射敏感元件并因此在該元件內(nèi)形成掩模的負(fù)像。然后使含掩模層的薄膜和成像輻射敏感元件(如已成像印版前體)溶劑顯影。未曝光印版區(qū)和掩模層被全部顯影掉，干燥后，所得已成像元件適用于，例如平版印版。雖然含有整體激光-可燒蝕掩模層的平版印版允許用激光直接按圖像曝光且無(wú)需另外的掩蔽器件，但成像時(shí)間一般太長(zhǎng)，因?yàn)樵擉w系對(duì)成像輻射的敏感性低。工業(yè)上已作了各種努力，試圖通過提高掩模層的紅外敏感性來(lái)克服這個(gè)問題。但因必須同時(shí)滿足不同的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)，要獲得較高的敏感性很困難。此外，該方法需要用特地為成像平版印版制品設(shè)計(jì)的高能激光成像設(shè)備。由于需要根據(jù)具體的目標(biāo)用途改變平版的厚度，所以整體掩模法可能需要不止一個(gè)成像設(shè)備。在美國(guó)專利申請(qǐng)公開2005/0227182(Ali等，下文稱之為US，182)中已描述了在制造和應(yīng)用掩模薄膜領(lǐng)域內(nèi)的一項(xiàng)重要進(jìn)展。所述方法因較高的成像敏感性而以大大縮短的時(shí)間提供掩模圖像。待解決的問題雖然如US，182中所述的浮雕圖像形成方法在極短時(shí)間內(nèi)提供掩模圖像，但已觀察到，當(dāng)通過掩模薄膜的載片進(jìn)行UV曝光時(shí)，所得肩角小于期望值。由此導(dǎo)致印刷圖像較高的光暈度。在印刷期間較高的印刷壓力下，較高的光暈度尤其顯著。對(duì)于印刷，平版印版的表面質(zhì)量和性能是重要特點(diǎn)。實(shí)踐中，為保持或充分固化高質(zhì)量印刷圖像中較細(xì)的特征，如亮部網(wǎng)點(diǎn)，如1%~5%的網(wǎng)點(diǎn)(此處百分?jǐn)?shù)是指紙上被印刷油墨覆蓋的量)，常需延長(zhǎng)曝光時(shí)間。但是，過度曝光會(huì)充填反向線或陰影區(qū)。因此，過度曝光造成圖像質(zhì)量下降。術(shù)語(yǔ)"曝光寬容度"描述了在僅忽略圖像質(zhì)量下降時(shí)輻射敏感元件能過度曝光的程度。曝光寬容度也可定義為在平版印版上同時(shí)成像低光通量，如1~2%的網(wǎng)點(diǎn)，和高光通量，如4-mil反向線的能力。具有較大曝光寬容度的感光平版印版是理想的選擇，因?yàn)樗鼈冊(cè)试S在正面按圖曝光期間所用的實(shí)際曝光時(shí)間且因此更易使用。平版印刷中的光暈是眾所周知的。美國(guó)專利6,864,039(ChengLapKin等)描述了因UV光在光聚合介質(zhì)非成像區(qū)內(nèi)的散射所造成的光暈。由于幾乎所有的非均質(zhì)光交聯(lián)組合物都表現(xiàn)出一定程度的光散射，所以延長(zhǎng)的按圖像曝光時(shí)間會(huì)導(dǎo)致高度的背景散射光化輻射，這常常足以造成未曝光圖像區(qū)內(nèi)的聚合物發(fā)生交聯(lián)或固化。這類不期望的交聯(lián)的總效果是充填了立體圖像周圍的細(xì)陰圖，即"光暈"。光暈導(dǎo)致平版印版印刷質(zhì)量的下降，而且與形成比期望值更大的圖像網(wǎng)點(diǎn)尺寸的網(wǎng)點(diǎn)-擴(kuò)大相關(guān)。該專利公開了在光聚合物組合物內(nèi)使用光可漂白化合物來(lái)提高抗光散射性。美國(guó)專利5,496,685(Farber等)也描述了因來(lái)自印刷元件支撐體的過度光散射或不規(guī)則光反射所造成的光暈，產(chǎn)生淺浮雕。該專利還提出用光化輻射吸收劑來(lái)提高曝光寬容度。EP0504824A(Swatton等)描述了在光聚合物支撐體內(nèi)使用消暈劑。消暈劑是光化輻射吸收劑。造成光暈的另一個(gè)原因是爆光期間存在低角度的入射光，這種入射光能在曝光區(qū)邊緣進(jìn)入掩模下的光聚合物，從而減小肩角。隨平均肩角減小到50。以下，浮雕清晰度的損失就越來(lái)越顯著，而隨平均肩角減小到40。以下，印刷穩(wěn)定性和清晰度就大大降低。準(zhǔn)直線光源可通過減小入射光的角度而減少光暈。但用準(zhǔn)直線光源比常用的點(diǎn)光或聚光光源更昂貴，6美國(guó)專利2，481,770(Nadeau)中描述了在照相卣化銀膠片中添加低折射率消暈層來(lái)控制不期望的入射或散射光。但在掩膜內(nèi)使用這類層來(lái)提供平版印版尚不可知。在可成像元件如平版印版前體內(nèi)制造浮雕圖像中，目前需要解決因較低角入射光所造成的問題，從而使浮雕圖像基本具有至少50。的肩角。目前還需要提高曝光寬容度，使小網(wǎng)點(diǎn)能保留在印版上而不會(huì)劣化陰影區(qū)和反向線。發(fā)明概述為解決上迷問題，本發(fā)明提供一種薄膜該薄膜包含透明載片，而且在其上有至少一層非囟化銀熱敏可成像層以及置于可成像層內(nèi)或在可成像層與載片之間的不同層內(nèi)的著色劑，分散在聚合物粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收化合物，而且該薄膜還包含置于載片與可成像層之間以及載片與含著色劑層之間的透明層，該透明層的折射率低于栽片的折射率或載片與透明層之間的任何任選緊鄰層的折射率。本發(fā)明還提供一種制造浮雕圖像的方法，包含A)通過在已成像薄膜內(nèi)形成曝光區(qū)和非曝光區(qū)而形成掩模圖像，所述薄膜在成像前包含透明載片，其上有至少一層非卣化銀熱敏可成像層和置于可成像層內(nèi)或在載片層與可成像層之間的不同層內(nèi)的著色劑，分散在聚合物粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收化合物，和置于載片與可成像層之間的透明層，該透明層的折射率低于載片的折射率或載片與透明層之間的任何任選緊鄰層的折射率，B)把已成像薄膜內(nèi)的掩模圖像轉(zhuǎn)移(例如用層壓法)至輻射敏感元件，同時(shí)使掩模圖像與輻射敏感元件之間實(shí)現(xiàn)完全的光學(xué)接觸，C)使輻射敏感元件在通過載片和掩模圖像的固化輻射中曝光，以形成已成像元件，其中掩模圖像對(duì)固化輻射是不透明的，和D)使所述已成像元件顯影以形成浮雕圖像。在一些實(shí)施方案中，制造浮雕圖像的方法使用本發(fā)明的薄膜，該薄膜在載片上依次包含a)透明層，其包含氟彈性體且厚度為0.2~10jLim,該透明層任選地包括促粘劑，b)中間層，其包含聚乙烯醇且厚度為0.2~10pm，任選地包含促粘劑，c)阻隔層，其包含聚氰基丙烯酸酯和紅外輻射吸收染料，d)可成像層，其包含分散在粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收染料和UV-吸收著色劑，以及e)罩面層，其包含曱基丙烯酸共聚物和氟聚合物顆粒，透明層的折射率比所述載片的折射率低至少0.04。本發(fā)明提供改進(jìn)的掩模-形成薄膜及其使用方法，以給成像輻射敏感元件(如平版印版)提供肩角基本上為至少50。的改進(jìn)浮雕圖像，同時(shí)在半色調(diào)區(qū)內(nèi)保持所需的小網(wǎng)點(diǎn)特征并保持良好的反向線深度。當(dāng)用已成像薄膜(掩膜)來(lái)形成輻射敏感元件內(nèi)的浮雕圖像時(shí)，已成像薄膜的放置要使之與元件緊密或完全光學(xué)接觸，從而消除界面上的所有空氣、空隙或間隙(因此是"無(wú)空氣"界面)。這種間隙可以在真空下，所以沒有空氣，但不把這種在真空下的間隙看成"無(wú)空氣"界面。本發(fā)明的獨(dú)特薄膜還為通過掩模曝光期間在無(wú)空氣界面處的入射浮雕-形成輻射提供更好的路徑，從而使入射光適當(dāng)彎曲，以期望角度進(jìn)入輻射敏感元件，使所得浮雕圖像內(nèi)已成像區(qū)周邊具有更陡峭的肩角或斜率。相信本發(fā)明的獨(dú)特薄膜是靠高折射率載片與低折射率透明層之間(臨界)角(《界)，即高于其就出現(xiàn)全內(nèi)反射的角度，取決于高折射率載片與透明層的折射率之差，該值可用Snell定律計(jì)算，并由下式明確表達(dá)^,-arcsin(RL/RH),其中RL是低折射率介質(zhì)的折射率，Rh是高折射率介質(zhì)的折射率。這些改進(jìn)是通過在本發(fā)明薄膜內(nèi)的可成像層與載片之間加入了折射率較低的透明層而實(shí)現(xiàn)的。所加透明層的折射率低于載片或在載片面上與透明層直接接觸的任何任選緊鄰層的折射率。附圖簡(jiǎn)述圖la是具有如至少50。"陡峭"的肩角的浮雕圖像中實(shí)體凸印區(qū)域的截面示意圖。圖lb是具有如小于50。的"淺"肩角的浮雕圖像中實(shí)體凸印區(qū)域的截面示意圖。圖2是本發(fā)明實(shí)施例1和2以及對(duì)比實(shí)施例1中所得的浮雕高度()um)與離實(shí)體邊緣距離(jam)的關(guān)系圖。圖3a和3b是下述本發(fā)明的實(shí)施例1和對(duì)比實(shí)施例1所提供的浮雕圖像的實(shí)際顯微圖像的截面圖。圖4是說明本發(fā)明"肩角"(e)定義的示意圖。發(fā)明詳述定義除非另有說明，本文所述的"薄膜"是本發(fā)明的實(shí)施方案。該薄膜也可稱做"掩模元件"、"掩模薄膜"或"蒙版元件"。成像時(shí)，該薄膜可稱做"掩模"、"已成像薄膜"或"已成像掩膜"并含有"掩模圖像"。除非另有說明，百分比均指重量百分比。本文所用的術(shù)語(yǔ)"輻射敏感元件"包括在其中能通過已成像掩膜的曝光來(lái)產(chǎn)生浮雕圖像的任何可成像元件或材料。輻射敏感元件的實(shí)例包括，但不限于，平版印版前體、印刷電路板和平版印版前體。所謂"燒蝕，，，我們是指薄膜的可成像層能用熱燒蝕手段，如激光來(lái)成像，燒蝕造成可成像層內(nèi)的快速局部變化，從而使可成像層內(nèi)的材料自該層脫離。這與其它材料轉(zhuǎn)移或成像技術(shù)的明顯區(qū)別在于主要成像機(jī)理是化學(xué)變化而非物理變化(如熔化、蒸發(fā)和升華)。所謂"光學(xué)接觸"，我們是指2層或2個(gè)元件(正如在已成像掩膜和輻射敏感元件的情況中)緊密接觸，因而在接觸面之間基本無(wú)空氣間隙或空洞，由此形成"無(wú)空氣界面"。更精確地，當(dāng)兩表面的界面反射和透射特性基本上完全符合折射率界面處光反射與透射的Fresnel定律時(shí)，就定義該兩個(gè)表面為光學(xué)接觸。"肩角"是由平印表面與凸起區(qū)邊緣的斜率所限定的角度，如圖4所示。"多數(shù)肩角為至少50。"是指在給定浮雕圖像區(qū)域內(nèi)，實(shí)體邊緣的平均肩角為至少50。并優(yōu)選至少55°。所謂"平均肩角"，我們是指自印刷表面以下至100pm深度處邊-壁斜率的平均角度。薄膜本發(fā)明的薄膜用來(lái)形成最終用來(lái)形成浮雕圖像的掩模圖像。該薄膜包含2層或更多層，包括一層或多層可成像層和置于透明載片上的透明(低折射率)層。按照前述US'182,該薄膜可包括一層或多層其它層，其包括一層或多層阻隔層、中間層、粘合劑層或本領(lǐng)域常用于掩膜的其它層。在一種或多種不同的成像法中，可以用不同的薄膜結(jié)構(gòu)。載片載片可以是任何合適的透明基材。適用的載片包括，但不限于，透明聚合物薄膜和片材，如包括聚對(duì)苯二曱酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯和氟聚酯聚合物在內(nèi)的聚酯，聚乙烯，聚丙烯，聚丁二烯，聚碳酸酯，聚丙烯酸酯，聚氯乙烯和它們的共聚物，以及水解和非水解乙酸纖維素。載片一般厚20~200|um。例如，杜邦TeijinFilms(Hopewell，VA)以商品名MELINEX銷售的透明聚對(duì)苯二甲酸乙二酯片材就適用于此目的。如果必要，可對(duì)載片表面進(jìn)行處理，以提高其對(duì)所涂布涂層的濕潤(rùn)性和粘結(jié)性。這類表面處理包括，但不限于，電暈放電處理和涂布亞層。此外，載片可含一種或多種提高載片與緊鄰層之間粘結(jié)性的促粘劑，不論層的類型或?qū)涌赡軕?yīng)用的目的。適用的促粘劑包括，但不限于，明膠、聚偏二氯乙烯、丙烯腈-偏二氯乙烯-丙烯酸的共聚物和聚乙烯亞胺。透明層透明層一般包含一種或多種成膜聚合物材料，這些材料一起提供比栽片(或透明層與載片之間的任何任選緊鄰層)所具有的折射率更低的折射率。該折射率之差可小至0.04,更一般為至少0.08。本領(lǐng)域的技術(shù)人員很易確定適用的聚合物成膜材料，因?yàn)楝F(xiàn)有數(shù)百種可能的商品材料。為弄清給定材料是否適用，可以通過，例如，精確測(cè)量該材料的均勻薄膜在整個(gè)所需波長(zhǎng)范圍內(nèi)光譜掃描中干涉最大值的位置來(lái)確定其折射率。然后可以把該折射率與載片的折射率相比較，其折射10率是本領(lǐng)域已知或能用已知方法，如剛才描述的方法，來(lái)測(cè)定的折射率。所謂"透明"，我們是指如下的透明層透射光密度一般低于0.3，因而不被看作不透明或甚至半透明的。透明層的折射率最好比支撐膜基的折射率低至少0.08。能用的幾類成膜聚合物材料包括一種或多種氟彈性體，如美國(guó)專利5,176,972(Bloom等)中所述的那些。這類聚合物包括衍生自如下通式的氟化丙烯酸酯單體的氟化丙烯酸酯聚合物CH2=CR-C(=0)-0-(CH2)n-Y-T其中n是1或2，R是氫或曱基，Y是全氟亞烷基，T是氟或-CF2H基(例如，丙烯酸lH,lH-十五氟辛酯、丙烯酸lH,lH,5H-八氟戊酯、丙烯酸三氟乙酯和丙烯酸七氟丁酯)。氟化單官能度丙烯酸酯單體也可含氧、硫和氮原子之類的雜原子，例如，通式如下CH2=CR-C(=0)-0-(CH2)2-NR，-S〇2-Z其中Z是H(CF2)m或F(CF2)m,其中m是312的整數(shù)，R是氫或甲基，R，是烷基。這些單體或衍生自這些單體的聚合物可從很多商品源獲得，包括3M公司(St.Paul,MN)在內(nèi)。適用的其它氟彈性體包括二氟烯烴，如偏二氟乙烯和六氟丙烯的共聚物，偏二氟乙烯，六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，兩種或多種這類聚合物的混合物，或這類共聚物或三元共聚物與能以膠乳提供的聚四氟乙烯(PTFE)的共混物。這些氟彈性體中有一些可獲自3M公司，或它們也可由已知單體用已知條件共聚而成，如美國(guó)專利5,176,972(前述)所述。該類的一種具體共聚物可購(gòu)自3M公司，商品名為Fl麗elFC國(guó)2175?；蛘?，透明層也可以由數(shù)種成膜聚合物材料組成，這些材料本身并不具有所期望的折射率，但在起粘合劑作用的成膜材料中可分散進(jìn)多種非成膜材料，如消光劑、填料、微膠嚢或鹽，以提供所期望的折射率。這類被分散添加劑的實(shí)例已描述在美國(guó)專利2,481,700(Kuan-hanSim等)中，包括，但不限于，分散在聚乙烯醇內(nèi)的NaBF4和NH4BF4，以及分散在適用粘合劑內(nèi)的MgSiF6。透明層一般都具有至少0.25iam和通常為0.4~10jam的基本均勻厚度。它一般作為在整個(gè)面積上厚度變化很小的基本均勻涂層提供。除載片外或代替載片，透明層還可含促粘劑。適用促粘劑的實(shí)例是聚乙烯亞胺、聚偏二氯乙烯和類似的共聚物以及Fusabond(杜邦公司銷售)。促粘劑的選擇要使它們可溶于低折射率材料的涂布溶劑內(nèi)?？沙上駥涌沙上駥右话阋韵鄬?duì)均勻的(即基本連續(xù)且具有相當(dāng)均勻厚度的)涂層放在透明層上。在有些實(shí)施方案中，可成像層及其底下的透明層是載片上僅有的層。在另一些實(shí)施方案中，存在多層，包括多層成像層或一層有如下所述的阻隔層、中間層或其它層的可成像層。有機(jī)溶劑和非氯化有機(jī)溶劑的適用平版印版顯影劑內(nèi)，在輻射敏感元件曝光于通過已成像掩膜的可固化輻射中之后，用顯影劑來(lái)產(chǎn)生浮雕圖像?？沙上駥右话惆ㄒ环N或多種"著色劑，，或物質(zhì)，該物質(zhì)或著色劑能或不能賦予有別于該層總實(shí)地的可見顏色。著色劑一般能強(qiáng)吸收固化輻射或能阻擋固化輻射。如本文所用，"著色劑，，是指基本阻止固化輻射通過掩模圖像的組分。著色劑可以是一種或多種將提供期望光譜性能的染料或顏料或它們的混合物。它可以是分散在下述聚合物粘合劑內(nèi)的粒狀材料。例如，它們可以是黑染料或顏料，如炭黑、金屬稱化物和其它如US，182(前述)所述的材料。優(yōu)選顏料或染料基本上是非IR吸收的，這樣輻射敏感元件的成像就不會(huì)受不利影響。例如，著色劑能吸收UV或可見光輻射，而且在很多實(shí)施方案中，著色劑是UV-吸收染料。在一個(gè)實(shí)施方案中，著色劑是吸收整個(gè)可見光譜范圍內(nèi)幾乎所有波長(zhǎng)，如350-750nm波長(zhǎng)能量的黑染料或顏料。黑染料或顏料可以是幾種染料或顏料的混合物或染料和顏料兩者的混合物，它們單獨(dú)可能是或可能不是黑色的，但當(dāng)混合在一起時(shí)，就提供中性黑色。例如，可以用提供中性黑色的NEPTUN黑、藍(lán)調(diào)品紅和紅調(diào)黃顏料的混合物(可獲自德國(guó)BASF)。DISPERSALCBJ(來(lái)自英國(guó)的RunnemadeDispersionsKV)也可適用。一種適用的黑顏料是存在多種類型且有多種顆粒尺寸的商品炭黑。實(shí)例包括可獲自ColumbianChemicalsCo.(Atlanta,GA)的RAVEN450、760ULTRA、890、1020、1250和其它牌號(hào)以及可獲自CabotCorp.(Walthan,MA)的BLACKPEARLS170、BLACKPEARLS480、VULCANXC72、BLACKPEARLSIIOO和其它牌號(hào)。著色劑在可成像層內(nèi)的存在量可以是10~50wt%，一般為10~40wt%。最好組合使用炭黑和非紅外吸收黑染料或顏料，以減少光的干涉并提高所得已成像掩膜的質(zhì)量。非碳顆粒材料，如金屬顆粒或金屬氧化物顆粒也適合作顏料。可成像層一般還包括一種或多種紅外輻射吸收化合物。在一些實(shí)施方案中，著色劑也起該作用，但在另一些實(shí)施方案中，為該目的，即為了使可成像層對(duì)成像IR輻射敏化，要包括另外的化合物。因此，紅外輻射吸收化合物是對(duì)700~1500nm和一般700~1200nm范圍內(nèi)的輻射敏感的。適用的IR吸收化合物的實(shí)例包括，但不限于，菁紅外輻射(IR)吸收染料、炭黑和如鋁之類的金屬。在一個(gè)實(shí)施方案中，使用IR染料的混合物，這些IR染料能吸收不同波長(zhǎng)的輻射，例如，830nm和1064nm。適用IR染料的實(shí)例包括，但不限于，偶氮染料、方酸(squarylium)染料、克酮酸鹽(croconate)染料、三芳胺染料、噻唑錙染料、吲哚镥(indolium)染料、氧雜菁染料、喁唑鏃(oxazolium)染料、花青(cyanine)染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚花青(indocyanine)染料、吲哚三羰菁(indotricarbocyanine)染料、,三羰花青(oxatricarbo國(guó)cyanine)染料、硫菁染料、矽b三羰花青(thiatricarbocyanine)染料、部花青(merocyanine)染料、隱花青(cryptocynanine)染料、萘酞菁染料、聚笨胺染料、聚吡咯染誶+、聚口塞p分染泮+、石克代p比喃并亞芳基(chalcogenopyryloarylidene)和二(石克代吡喃并)聚甲炔染料、羥基中氮茚染料、吡喃櫞(pyrylium)染料、吡唑啉偶氮染料、嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺染料、次甲基染料、芳基次曱基染料、斯夸苷染料、嗜唑染料、克酮酸(croconine)染料、卟啉染料和前迷染料類的任何取代物或離子形式。適用的染料也已描述在美國(guó)專利5,208,135(Patel等)、6,569,603(F畫kawa)和6,787,281(Tao等)以及EP公開1,182,033(Fijimaki等)中。WO2004/101280段中的通式給出了一類適用花青染料的綜述。除低分子量IR吸收染料外，還可以用鍵合在聚合物上的IR染料部分。此外，還能用IR染料陽(yáng)離子，也就是說，陽(yáng)離子是染料鹽中與側(cè)鏈內(nèi)包含羧基、磺基、二氧磷基(phospho)或膦?；?phosphono)的聚合物發(fā)生離子相互作用的IR吸收部分。近紅外吸收花青染料也適用并已描迷在，例如，美國(guó)專利6，309,792(Hauck等),6,264,920(Achilefu等)、6，153,356(Urano等)、5,496,903(Watanabe等)中。適用的染料可以用傳統(tǒng)的方法和起始材料形成，或獲自多個(gè)商品源，包括AmericanDyeSource(BaieD,Urfe,Quebec,Canada)和FEWChemicals(Germany)。適用于近紅外二極管激光束的其它染料已描述在，例如，美國(guó)專利4,973,572(DeBoer)中。適用的IR吸收化合物包括炭黑，其中的一些用增溶基團(tuán)表面官能化是本領(lǐng)域周知的。接枝到親水非離子聚合物上的炭黑，如FX-GE-003(NipponShokubai制造)，或用陰離子基團(tuán)表面官能化的炭黑，如CAB-O-JET200或CAB-O-JET300(CabotCorporation制造)也同樣適用。輻射吸收化合物(例如IR吸收化合物)的存在量一般是要適合在曝光波長(zhǎng)下的透射光密度為至少0.5,—般為至少0.75。實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)的方法一般是包括基于可成像層固體含量為1~20wty。的一種或多種化合物。例如，IR吸收化合物應(yīng)足以產(chǎn)生使薄膜曝光于紅外輻射中的透明區(qū)，即這些區(qū)域的透射光密度為0.5或更小，如在傳統(tǒng)光密度計(jì)上用適當(dāng)?shù)倪^濾器所測(cè)。在其它實(shí)施方案中，輻射吸收化合物可包括吸收150~400nm紫外輻射的吸收劑?？梢杂肬V吸收劑作為唯一的輻射吸收化合物，或者也可以將它與IR吸收劑化合物組合使用。為有利于熔融或軟化薄膜的轉(zhuǎn)移并產(chǎn)生具有明確界限的基本連續(xù)和相對(duì)清晰的邊緣的半色調(diào)網(wǎng)點(diǎn)(即像素)，可成像層可任選地包括碳氟添加劑。適用氟碳添加劑的實(shí)例和用量已在US，182(前述)的~段中給出?？沙上駥拥钠渌芜x組分包括，但不限于，增塑劑、助涂布劑或表面活性劑，助分散劑，UV吸收劑和填料，所有這些都是本領(lǐng)域周知的，如US，182(前述)的段中所述。將用于可成像層的所有上述組分都分散在能使其它組分溶解或分散在可成像層內(nèi)的一種或多種聚合物粘合劑(合成和天然存在的聚合物材料)內(nèi)。一種或多種聚合物粘合劑的存在量一般是可成像層總干重的25~75wt%，典型值為35~65wt%。雖然很多聚合物粘合劑都能用，但使用占聚合物粘合劑總重量至少50wtV。,一般至少70wt。/o和最多達(dá)100wt。/o的某些"主要"聚合物粘合劑能實(shí)現(xiàn)某些優(yōu)點(diǎn)。適用的聚合物粘合劑是在其中可加入多種組分并能溶于適當(dāng)?shù)耐坎既軇?，如低?jí)醇、酮、醚、烴和卣代烷的那些聚合物粘合劑。聚合物粘合劑最好還可溶于或可溶脹于所選的顯影劑(如下所述)中。聚合物粘合劑適用的聚合物粘合劑包括如US，182的-段中所述的材料。聚合物粘合劑可稱做"粘合劑"，如US，182(前述)段中所述。適用粘合劑的實(shí)例包括，但不限于，乙酰基聚合物，—BUTVARB-76獲自Solution,Inc.(St丄oms,MO)的聚乙烯醇縮丁醛和能以MACROMELT6900獲自HenkelCorp.(GulphMills,PA)的丙烯酰胺聚合物。壓敏粘合劑聚合物也可用于此目的。在著色劑層是可燒蝕的一些實(shí)施方案中，最好用在低于200。C的溫度下易熱燃燒并產(chǎn)生氣體和揮發(fā)性碎片的粘合劑。這類粘合劑的實(shí)例是硝化纖維素、聚碳酸酯、聚氨酯、聚酯、聚原酸酯、聚縮醛和它們的共聚物(見Ellis等的US5,171,650，第9欄，41~50行)。適用的其它次要聚合物粘合劑是帶羥基的樹脂(或羥基聚合物)，如US.'182(前述)的~段中所述，且包括，例如，聚乙烯醇和纖維素聚合物(如硝化纖維素)。還有一些次要聚合物粘合劑是非-可交聯(lián)聚酯、聚酰胺、聚氨基甲酸酯、聚烯烴、聚苯乙烯、聚醚、聚乙烯醚，聚乙烯酯以及烷基上有1~2個(gè)碳原子的聚丙烯酸酯和聚曱基丙烯酸酯。一些已發(fā)現(xiàn)易溶于或分散于非氯化有機(jī)溶劑中的其它適用聚物粘合劑如下所述。它們也可溶于或可分散于氯化有機(jī)溶劑中。滿足上述特點(diǎn)的這幾類適用聚合物粘合劑包括，但不限于，萜烯樹脂、酚醛樹脂、芳烴樹脂、聚氨酯(包括聚醚聚氨酯)、長(zhǎng)鏈丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯樹脂。適用的碎烯樹脂包括，但不限于SYLVARES薛烯樹脂，如可荻自ArizonaChemicalCo.(Jacksonville,FL)的SYLVARESTR-A25辟烯樹脂。適用的酚醛樹脂包括，但不限于，酚醛清漆樹脂，如可獲自GeorgiaPacificResins(Atlanta,GA)的CK2500和CK2400盼醛清漆樹脂。芳烴樹脂包括，但不限于，NORSOLENE⑧樹脂，如可獲自SartomerCo.(Warrington,PA)的NORSOLENES-155樹脂。適用的聚氨酯樹脂包括，j旦不卩艮于，可獲自TennantsInks&CoatingsSupplies,Ltd.(Surrey,Uk)的SURKOPAK5245和SURKOFILM72S聚氨酯樹脂以及可獲自DSMNeoResins(Wilmington,MA)的NeoRez322聚氨酯樹脂。長(zhǎng)鏈丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯樹脂包括衍生自一種或多種長(zhǎng)鏈丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯單體的那些乙烯基聚合物，其中長(zhǎng)烷基鏈含至少3個(gè)碳原子。這類單體包括，但不限于，甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸正丁酯和它們的混合物。適用的聚合物粘合劑是衍生自至少甲基丙烯酸異丁酯、曱基丙烯酸正丁酯或它們混合物的均聚物和共聚物。這類商品聚合物原料包括可獲自LuciteIntemational(Cordova,TN)的ELVACITE2045和ELVACITE2046聚合物。例如，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)下列商品聚合物都適用SURKOPAK5245聚氨酯樹脂和SURKOFILM⑧72S聚氨酯樹脂，ELVACITE2045聚合物材料和CK2500酚醛清漆樹脂。可成像層還可包括增塑劑、助涂布劑、分散劑、UV吸收劑、填料、表面活性劑、碳氟化合物和其它添加劑，如US，182(前述)中所述。還能包括促粘劑，如以上對(duì)載片所迷的那些。中間層在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中，薄膜能包括放在載片與可成像層之間的"中間層"。在有些情況下，中間層被直接放在載片之上和載片與上述透明層之間。在另一些實(shí)施方案中，中間層被直接放在透明層之上和透明層與可成像層之間。中間層的存在對(duì)便于把所得掩模圖像轉(zhuǎn)移到輻射敏感元件上是理想的。中間層在通過掩模圖像固化后或在已成像元件的后加工(顯影)中一般是可顯影，可分散，或易除去的。此外，中間層通常不大量吸收或散射固化輻射。例如，它通常不包括消光劑或其它光散射材料。如果利用涂布溶劑來(lái)涂布中間層，則涂布溶劑的選擇要使涂布期間透明層與中間層之間幾乎不互混。適合于做中間層的典型涂料包括，但不限于，聚乙烯醇或類似聚合物，纖維素聚合物，如甲基纖維素或輕丙基曱基纖維素、聚乙烯醇縮丁醛或水解苯乙烯馬來(lái)酸酐。在本發(fā)明中，UV曝光是通過載片進(jìn)行的，因而載片阻止了氧遷移。中間層可較薄，其干厚度為0.1~10|im。在其它實(shí)施方案中，中間層是熱成像后具有所期望的層整體性和良好脫模性的耐熱聚合物層。耐熱聚合物包括，但不限于，聚酰亞胺、聚砜、聚醚乙酮、雙酚A對(duì)苯二甲酸酯、聚乙烯醇和聚酰胺，并能進(jìn)行優(yōu)化以提供理想的脫;^莫性，可固化性和可顯影性。中間層還可包括提高脫模性的交聯(lián)劑、助涂布劑、表面活性劑和脫模性增強(qiáng)劑。適用中間層組合物的其它細(xì)節(jié)已在US，182(前述)中給出。阻隔層本發(fā)明的薄膜還可包括置于透明層或中間層(如果存在)與可成像層之間的阻隔層，該層在燒蝕工藝期間可用來(lái)防止著色劑遷移進(jìn)或熱損傷透明層或中間層。在大多數(shù)實(shí)施方案中，阻隔層置于中間層之上和可成像層之下。適用的阻隔層和它們的組成也已描述在US，182(前迷)及其中所引的參考文獻(xiàn)中。例如，阻隔層可包括一種或多種聚合物粘合劑，尤其"熱可燃，，聚合物粘合劑，如聚氰基丙烯酸烷基酯和硝化纖維素，以及顆粒材料，如金屬氧化物顆粒(如氧化鐵顆粒)，以提供成像或固化輻射的高光學(xué)密度。金屬氧化物顆粒可適用于燒蝕成像，因?yàn)樗鼈兡軣岱纸獠a(chǎn)生噴射推進(jìn)氣體。阻隔層可任選地包括紅外吸收化合物，如包括陽(yáng)離子紅外吸收染料和光熱-可漂白染料在內(nèi)的紅外吸收染料(IR染料)，和交聯(lián)劑，如蜜胺-甲醛樹脂、二醛、酚醛樹脂、多官能度氮丙啶、異氰酸酯和脲-甲醛環(huán)氧化物，以提供更高的耐熱性。其它膜組分薄膜內(nèi)可存在覆蓋可成像層的粘合劑層，以提高轉(zhuǎn)移期間掩模圖像與輻射敏感元件的粘結(jié)性并有助于掩模圖像的轉(zhuǎn)移。粘合劑層可包含本領(lǐng)域周知的熱塑性熱敏粘合劑或壓敏粘合劑。在一些實(shí)施方案中，粘合劑層，或者也用作罩面層，可包含曱基丙烯酸共聚物(如曱基丙烯酸乙酯和曱基丙烯酸的共聚物)和一種或多種分散在其中的氟聚合物顆粒，如美國(guó)專利6,259,465(Tutt等)在實(shí)施例l(上顆粒層)中所述。罩面層還可因存在顆粒而提供處理中的耐磨性。罩面層還可起染料阻隔層的作用，以防止層壓后染料從掩膜遷移到光聚合物中。因此，在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中，薄膜包含載片，其上依次有a)如上所述的透明層，b)如上所述的中間層，c)如上所述的阻隔層，d)如上所述的可成像層，和e)如上所述的罩面層，其中透明層的折射率比載片的折射率低至少0.08。輻射敏感元件適用的輻射敏感元件，如平版印版前體、印刷電路板和平印版的大部分細(xì)節(jié)已在US，182(前述)中給出。這類元件包括尺寸穩(wěn)定的適用基材、至少一層輻射敏感層和任選的分離層、蓋片或金屬層。適用底基包括尺寸穩(wěn)定的聚合物薄膜和鋁片。優(yōu)選聚酯薄膜。用本文所迷的薄膜能產(chǎn)生浮雕圖像的任何輻射敏感元件都適用于實(shí)踐本發(fā)明。輻射敏感元件可以是正性或負(fù)性工作，但一般是負(fù)性工作，且一般都包括可見-或UV-敏感的可成像層，層內(nèi)含可見輻射或UV輻射可固化組合物，它們?cè)谄毓庥诠袒椛鋾r(shí)通過聚合或交聯(lián)而固化或硬化。例如，輻射敏感元件可以是UV敏感的。輻射敏感元件中多種組分的很多細(xì)節(jié)已在US，182(前述)及其中所引的參考文獻(xiàn)中給出。一些實(shí)施方案還包括可除蓋片和分離層，或后者有時(shí)也稱做防粘層，它有助于除去蓋片并保護(hù)輻射敏感可成像層免于指紋和其它損傷，而且置于輻射敏感可成像層與蓋片之間。適用的分離層材料包括，但不限于，聚酰胺、聚乙烯醇、乙烯和乙酸乙烯酯的共聚物、兩性共聚體、纖維素聚合物、聚乙烯醇縮丁醛、環(huán)化橡膠和它們的組合。輻射敏感可成像層可包括彈性體粘合劑、至少一種單體和對(duì)非IR輻射敏感的引發(fā)劑。在大多數(shù)情況下，引發(fā)劑將是對(duì)UV或可見輻射敏感的。適用的引發(fā)劑組合物包括，但不限于，US專利4,323，637(Chen等)、4,427,749(Gruetzmacher等)和4,894,315(Feinberg等)中所迷的那些。彈性體粘合劑可以是可溶于、可溶脹于或可分散于含水、半含水或有機(jī)溶劑顯影劑中的單一聚合物或多種聚合物的混合物，而且包括，但不限于，可溶于、可溶脹于或可分散于有機(jī)溶劑的那些粘合劑，如共軛二烯烴的天然或合成聚合物、嵌段共聚物、核-殼微凝膠及微凝膠與預(yù)成形大分子聚合物的共混物。彈性體粘合劑能包含相對(duì)于層固體總量為至少65wt。/o的可成像層。這類彈性體粘合劑更多的細(xì)節(jié)已在US，182(前述)段及其中所引的參考文獻(xiàn)中給出?？沙上駥舆€能包括一種單體或多種單體的混合物，它們與彈性體粘合劑的相容程度必須達(dá)到產(chǎn)生透明的、非霧狀輻射敏感層。適用于該目的的單體是本領(lǐng)域周知的，而且包括分子量較低(一般小于30，000道爾頓)的烯屬不飽和可聚合化合物。適用單體的實(shí)例包括多種單-和聚丙烯酸酯，異氰酸酯的丙烯酸酯衍生物、酯和環(huán)氧化物。具體的單體已描述在US，182(前述)的段及其中所引的參考文獻(xiàn)中。光引發(fā)劑可以是對(duì)可見輻射或UV輻射敏感并產(chǎn)生引發(fā)單體聚合的自由基而不會(huì)過度終止的一種化合物或多種化合物的組合，并且它們的存在量一般是可成像層總干重量的0.001-10%。適用引發(fā)劑的實(shí)例包括取代和未取代的多核奎寧，其它細(xì)節(jié)已在US，182(前述)的段及其中所引的參考文獻(xiàn)中給出。輻射敏感層可包括提供多種性能的其它附加物，包括但不限于，敏化劑、增塑劑、流變改進(jìn)劑、熱聚合抑制劑、增粘劑、著色劑、抗氧化劑、抗臭氧劑和填料。輻射敏感可成像層的厚度可以隨期望已成像版的類型而變。在一些實(shí)施方案中，UV-敏感的可成像層可以厚500~6400iLim。在一個(gè)實(shí)施方案中，輻射敏感元件是包括適用UV可固化樹脂的平版印版前體，在它纟皮曝光和加工時(shí)就形成平版印版。這類元件一般都包括適用的底基，一層或多層包含光敏材料的UV-敏感可成像層，光敏材料包括聚合物或預(yù)聚體。商品化平版印版前體的實(shí)例包括，但不限于，可獲自EastmanKodakCompany(Norwalk,CT)的子公司KodakPolychromeGraphics的FLEXCEL平片反元件、可獲自杜邦(Wilmington,19DE)的CYREL⑧平版、可獲自BASF(Germany)的NYLOFLEXFAR284版、可獲自Macdermid(Denver,CO)的FLEXILIGHTCBU版和可獲自AsahiKasei(Japan)的ASAHIAFPXDI。輻射敏感元件也可用來(lái)形成印刷電路板，在其中導(dǎo)電層(也稱做印刷電路)按照掩模圖像的圖形形成在底基上。適用的印刷電路板前體一般都包含底基、金屬層和光敏層。適用的底基包括聚酰亞胺薄膜，玻璃-填充的環(huán)氧或苯酚-甲醛樹脂或本領(lǐng)域已知的其它絕緣材料。覆蓋底基的金屬層一般是導(dǎo)電金屬，如銅、合金或多種金屬。光敏層可包括UV可固化樹脂、單體或齊聚體，光引發(fā)劑和粘合劑。印刷電路板前體中的光敏層可以是陽(yáng)圖-或陰圖-制版層。印刷電路板的其它細(xì)節(jié)已在US，182(前述)的~段中給出。形成掩模圖像在實(shí)施本發(fā)明中，掩模圖像是通過在本發(fā)明的薄膜中產(chǎn)生曝光和非曝光區(qū)而形成的。成像機(jī)理的選擇將決定形成掩模圖像中的可能變量，如下所述。薄膜的曝光可以在選定區(qū)域內(nèi)進(jìn)行，也稱做"按圖像曝光"。模擬和數(shù)字法都可用于按圖像曝光，而且是本領(lǐng)域常用的。在一些實(shí)施方案中，按圖像曝光能用來(lái)自激光器的能在計(jì)算機(jī)控制下掃描或光柵化的激光完成。任何已知的掃描設(shè)備都能用，包括平臺(tái)式掃描儀，外滾筒式掃描儀和內(nèi)滾筒式掃描儀。在這些設(shè)備中，薄膜被固定在滾筒或平臺(tái)上，激光束被聚焦成能撞擊在薄膜上的斑點(diǎn)。兩臺(tái)或更多臺(tái)激光器可同時(shí)掃描薄膜的不同區(qū)域。例如，薄膜可曝光于如700~1400nm范圍內(nèi)的紅外輻射中。這類薄膜含有一種或多種如前所述的紅外輻射吸收化合物，以提供對(duì)紅外輻射的敏感性。在這些實(shí)施方案中，可以將薄膜妥善地安裝在紅外成像儀上，并用可在計(jì)算機(jī)控制下掃描的紅外激光，如二極管激光或Nd:YAG激光，使之曝光于紅外輻射中。適用的紅外成像儀包括，但不限于，可獲自ECRM(Tewksbury,MA)的用于彩色校樣的DESERTCAT88成像儀、可獲自EastmanKodakCompany(Burnaby,BritishColumbia,Canada)的用于CTP平版印版應(yīng)用和用于成像平版元件的TRENDSETTER圖文照排機(jī)和ThermoFlex平版CTP成像儀、可獲自Presstek(Hudson,NH)的適用于CTP平版應(yīng)用的DIMENSION圖文照排機(jī)，可獲自Esko-Graphics(Kennesaw,GA)的CYREL⑧數(shù)字成像儀(CDISPARK)以及可獲自MisomexInternational(Hudson,NH)的適用于成像平版元件的OMNISETTER成像儀。在另一些實(shí)施方案中，薄膜被曝光于如400~750nm范圍內(nèi)的可見激光中。商品照相排字機(jī)和圖文照排機(jī)都能用，包括但不限于，都可獲自Agfa-Gevaert(Belgium)的ACCUSETPlus圖文照排機(jī)(可見紅激光二極管，670nm)和ADVANTAGEDL3850圖文照排機(jī)(410nm)及SELECTSET5000圖文照排機(jī)(HeNe，630nm);可獲自FujiPhotoFilm(Japan)的LUXELV-9600(410nm);以及可獲自WesternLithotech(St丄oms,MO)的DIAMONDESETTER圖文照排機(jī)(倍頻ND-YAG激光，532■)。在還有些其它實(shí)施方案中，薄膜可以用激光直接成像法曝光于150~410nm范圍內(nèi)的紫外輻射中。適用于該成像法的設(shè)備包括，但不限于，可獲自O(shè)rbotech(Billerica,MA)的DP-100成像儀和可獲自EtecSystem(Tucson,AZ)的DIGIRITE2000成像儀。形成掩模圖像的步驟還可包括除去可成像層的曝光或非曝光區(qū)的這一步。在有些實(shí)施方案中，除去曝光區(qū)，在透明載片(和放在其上的透明層)上留下掩模圖像。對(duì)于這類實(shí)施方案，可任選地使用接受片來(lái)除去可成像層中不需要的部分。這種接受片可以是在薄膜的輻照前已涂布了一層或多層涂層的任何合適的紙，透明薄膜或金屬片，以利于可成像層轉(zhuǎn)移至接受片。成像后，可以從薄膜上除去接受片，以露出載片上的掩模圖像。在接受片上會(huì)留下掩模圖像的互補(bǔ)圖像。在另一些實(shí)施方案中，在載片(和置于其上的透明層)上形成掩模圖像的方法是，產(chǎn)生可成像層和其它層的曝光和非曝光區(qū)，然后除去這些層的非曝光區(qū)。在有些實(shí)施方案中，留在載片上的掩模圖像可以通過對(duì)它進(jìn)行熱處理而使之固化，條件是不要有損于掩模圖像的轉(zhuǎn)移性能。熱處理可以用多種方法實(shí)現(xiàn)，包括但不限于，儲(chǔ)存在烘箱內(nèi)、熱空氣處理或與加熱板接觸或通過加熱輥設(shè)備。熱處理并不是發(fā)生固化所必需的。在還有一些其它實(shí)施方案中，可如上所述形成掩模圖像并把曝光區(qū)轉(zhuǎn)移到接受片上。然后從已成像掩膜上除去接受層，然后再把掩模21圖像轉(zhuǎn)移到輻射敏感元件上。因此提供的薄膜可以帶有與輻射敏感元件接觸的接受片，或與分離接受片接觸的元件。凡在成像期間使用分離接受片時(shí)，在成像前要緊密組裝薄膜與接受片，使接受片的圖像-接受面緊挨可成像層。文中的術(shù)語(yǔ)"緊挨"指使可成像層與接受片接觸，或它們彼此不接觸但靠得很近，以便在成像輻射中曝光時(shí)允許可成像層或著色劑轉(zhuǎn)移。真空壓緊或機(jī)械手段都可用來(lái)保證薄膜和接受片固定在一起。然后，用成像輻射使薄膜和接受片的組裝件按圖像曝光，以形成掩模圖像，如以下所述。按圖像曝光使可成像層或著色劑按圖像從薄膜轉(zhuǎn)移到接受片。成像后，可以從接受片上除去薄膜，以露出接受片上的掩模圖像。下面扼要地提及幾種成像機(jī)理，其它細(xì)節(jié)已在US，182(前述)及其中所引的參考文獻(xiàn)中給出，從段開始。燒蝕在該機(jī)理中，通過產(chǎn)生氣體從已成像薄膜上除去可成像層的曝光區(qū)，留下掩模圖像?？梢杂帽┞队跓?如IR激光輻射)時(shí)分解而迅速產(chǎn)生氣體的特定粘合劑。該作用與其它質(zhì)量轉(zhuǎn)移技術(shù)的區(qū)別在于化學(xué)變化而非物理變化造成可成像層的幾乎完全轉(zhuǎn)移而非部分轉(zhuǎn)移。熔體-粘結(jié)法曝光時(shí)，能使可成像層中熔融或半熔融態(tài)的曝光區(qū)從成像薄膜轉(zhuǎn)移到適用的接受片上。曝光區(qū)的特點(diǎn)是粘度減小，這使可成像層具有流動(dòng)性，流到或以超過它與載片(和置于其上的透明層)的粘結(jié)強(qiáng)度粘結(jié)到接受片表面。按照該物理轉(zhuǎn)移，載片和未轉(zhuǎn)移的可成像層都與接受片分離。在一個(gè)實(shí)施方案中，掩模圖像包含留在載片上的非曝光區(qū)。在另一個(gè)實(shí)施方案中，掩模圖像包含可成像層中被轉(zhuǎn)移到接受片的曝光區(qū)。激光誘導(dǎo)薄膜轉(zhuǎn)移按照該成像機(jī)理，通過激光誘導(dǎo)薄膜轉(zhuǎn)移("LIFT，，)從載片(和置于其上的透明層)上除去可成像層曝光區(qū)。含隱藏型交聯(lián)劑的中間層置于載片與可成像層之間。在曝光區(qū)，隱藏型交聯(lián)劑與粘合劑反應(yīng)，形成高分子量網(wǎng)絡(luò)，以保證熔體流動(dòng)現(xiàn)象實(shí)現(xiàn)更好地控制，內(nèi)聚力更強(qiáng)的材料轉(zhuǎn)移到接受片上和掩模圖像高質(zhì)量的邊緣清晰度。在一個(gè)實(shí)施方案中，可成像層包括可轉(zhuǎn)移著色劑和紅外吸收染料(IR染料)。在另一個(gè)實(shí)施方案中，可成像層包括可轉(zhuǎn)移著色劑、前述聚合物粘合劑，氟碳添加劑、陽(yáng)離子IR染料和上述隱藏型交聯(lián)劑。掩模圖像可包含可成像層中留在已成像薄膜上的非曝光區(qū)，但在另一些實(shí)施方案中，掩模圖像包含被轉(zhuǎn)移到接受片上的曝光區(qū)。剝離法在該成像機(jī)理中，用基于可成像層內(nèi)不同的粘結(jié)性的適當(dāng)?shù)慕邮芷?，從載片上和置于其上的透明層除去可成像層的曝光區(qū)。在薄膜按圖像曝光后，從載片上分離下接受片，并且曝光區(qū)或非曝光區(qū)仍留在薄膜內(nèi)。染料升華或擴(kuò)散在再一個(gè)成像技術(shù)中，來(lái)自可成像層曝光區(qū)的著色劑靠升華作用除去，在其中著色劑被擴(kuò)散或升華，但粘合劑并未同時(shí)轉(zhuǎn)移。無(wú)需接受片就能在薄膜內(nèi)產(chǎn)生掩模圖像。在另一些實(shí)施方案中，用接受片來(lái)收集升華的著色劑。那么掩模圖像就包含留在已成像薄膜中的可成像層。在再一些其它實(shí)施方案中，掩模圖像包含被轉(zhuǎn)移到接受片上的著色劑。掩模圖像的堿性顯影可成像層中的曝光區(qū)也可以用傳統(tǒng)的堿性顯影法除去，這時(shí)要用適當(dāng)?shù)膲A性顯影劑洗滌已成像薄膜，而非曝光區(qū)留在載片上。在這種情況下，可成像層是正性工作并能由任何已知的正性工作組合物組成。顯影劑的pH值為9~14并包含水和普通氫氧化物以及對(duì)這類溶液常用的其它多種附加物?；蛘?，也可以從已成像薄膜上除去可成像層中的非曝光區(qū)，以產(chǎn)生掩模圖像。這種可成像層組合物是負(fù)性工作并在曝光時(shí)不溶于顯影劑。適用于這類材料的顯影劑的pH值一般為7-13并包括與水混溶的高沸點(diǎn)有機(jī)溶劑和對(duì)這類溶液常用的多種附加物。適用于這些材料的顯影劑是周知的并可獲自包括EastmanKodakCompany(Nonvalk,CT)在內(nèi)的數(shù)個(gè)貨源。一旦已形成掩模圖像，就將它轉(zhuǎn)移到對(duì)固化輻射(通常是紫外輻射)敏感的合適輻射敏感元件(前述)上。掩模圖像的轉(zhuǎn)移包括把帶有掩模圖像的薄膜置于輻射敏感元件或輻射敏感組合物或其層上。薄膜和輻射敏感元件的放置方式要使它們之間接觸以達(dá)到無(wú)空氣界面。一般，實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)的方法是通過加壓或加熱或同時(shí)加壓和加熱使薄膜與輻射敏感元件層壓，形成無(wú)空氣或無(wú)間隙界面。提供熱和壓力兩者的商品化層壓機(jī)都可用，包括，但不限于，可獲自EastmanKodakCompany(Rochester,NY)的KODAK800XL型APPROVALLAMINATOR、可獲自CODOR(Amsterdam,Holland)的C。DORLPP650LAMINATOR和可獲自Filmsource(Casselbury,FL)的LEDCOHD層壓機(jī)。如果薄膜中存在保護(hù)性蓋片，則在層壓前要除去該蓋片。將含掩模圖像和輻射敏感元件的組裝薄膜以所需的速度、溫度和壓力喂進(jìn)層壓機(jī)。該工藝的典型實(shí)例示于以下實(shí)施例中。在一個(gè)實(shí)施方案中，用于平版應(yīng)用的輻射敏感元件并無(wú)分離層(防粘層)，這時(shí)，壓力本身就足以實(shí)現(xiàn)無(wú)空氣界面，因?yàn)檩椛涿舾性騿误w存在而發(fā)粘或起壓敏粘合劑的作用。在又一個(gè)實(shí)施方案中，掩模圖像的轉(zhuǎn)移可以用壓敏粘合劑實(shí)現(xiàn)，這時(shí)要把掩膜和輻射敏感元件壓到彼此接觸而形成無(wú)空氣界面。壓敏粘合劑可加進(jìn)輻射敏感元件中，或以分離層形式置于可成像層與輻射敏感元件之間。適用的壓敏粘合劑是本領(lǐng)域已知的。在再一個(gè)實(shí)施方案中，掩模圖像可以用所謂的"液態(tài)光聚合物法"進(jìn)行轉(zhuǎn)移，在該方法中，把液態(tài)或糊狀的輻射敏感或光聚合物組合物均勻地涂布到含掩模圖像的已成像薄膜的透明層上，例如，把輻射敏感組合物置于已成像薄膜與隨后會(huì)變成輻射敏感元件(定義如下)的"支座"或底基的透明支撐材料之間。例如，透明支撐材料可以是以上對(duì)輻射敏感元件所述的聚合物薄膜。輻射敏感元件的曝光在如上所述在掩模薄膜與輻射敏感元件之間形成無(wú)空氣接觸后，24使輻射敏感元件曝光于通過含掩模圖像的固化輻射中，以形成已成像元件。在該步驟中，固化輻射通過優(yōu)選擋住一部分輻射的掩模圖像被投射到輻射敏感元件上。在未掩蔽區(qū)，固化輻射將造成輻射敏感組合物的硬化或固化。因此掩模圖像應(yīng)對(duì)曝光輻射基本不透明，即掩模圖像的透射光密度應(yīng)為2或更大，優(yōu)選3或更大。未掩蔽區(qū)應(yīng)基本透明，即輻射敏感元件上未掩蔽區(qū)的透射光密度應(yīng)為0.5或更小，優(yōu)選O.l或更小，更優(yōu)選0.05或更小。透射光密度可以在光密度計(jì)上，例如，在MACBETHTR927光密度計(jì)上，用適當(dāng)?shù)倪^濾器測(cè)定。輻射敏感元件通過含掩模圖像的薄膜的曝光用來(lái)自合適輻射源(例如，可見輻射或UV輻射)的泛光曝光法實(shí)現(xiàn)。曝光可以在大氣氧環(huán)境存在下進(jìn)行。由于已制成無(wú)空氣接觸(或光學(xué)接觸)，所以不必在真空下曝光。在制造浮雕印版如平版印版時(shí)，一般都先使輻射敏感元件的一面曝光于透過透明底基的固化輻射中(稱做"背曝光")，以在元件支撐面上制成均勻固化的薄層。然后使輻射敏感元件曝光于通過含掩模圖像的薄膜的固化輻射中，從而使未掩蔽區(qū)內(nèi)的輻射敏感組合物硬化或固化。然后用顯影工藝(如下所述)除去輻射敏感元件的未曝光和未固化區(qū)，留下確定浮雕印刷表面的固化區(qū)。背曝光可以在掩模薄膜與輻射敏感元件之間制成無(wú)空氣接觸之前或之后進(jìn)行。適合于作固化輻射的波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍將取決于輻射敏感元件的'性質(zhì)。在一些實(shí)施方案中，固化輻射是波長(zhǎng)為340~400nm的紫外輻射。泛光或全面曝光中所用的可見或UV輻射源包括，但不限于，碳孤、汞蒸氣孤、熒光燈、電子閃光單元和攝影泛光燈。來(lái)自汞蒸氣燈，更尤其來(lái)自日光燈的UV輻射特別有用。典型的UV輻射源包括可獲自Topbulb(EastChicago,IN)的中心發(fā)射波長(zhǎng)為354nm的SYLVANIA350BLACKLIGHT熒光燈(FR48T12/350VL/VHO/180,115瓦)和可獲取自BurgessIndustries,Inc.(Plymouth，MA)的帶ADDALUX754-18017燈的BURGESSEXPOSUREFRAME,5K-3343VSII型。適用的其它UV輻射源包括既能使輻射敏感元件曝光又能在曝光后使該元件顯影的制版機(jī)。適用制版機(jī)的實(shí)例包括，但不限于，可獲自KelleighCorporation(Trenton，NJ)的KELLEIGH310型制版機(jī)和可獲自GlobalAsiaLtd.(HongKong)的GPP500F版沖洗機(jī)。通過掩模圖像的曝光時(shí)間將取決于輻射敏感元件的性質(zhì)和厚度以及輻射源。例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，可以把可獲自EastmanKodakCompany(Norwalk,CT)的FLEXCEL-SRH印版前體安裝在KELLEIGH310型制版機(jī)上并在通過支座的UV-A輻射中背曝光20s，以在元件的支撐面上制成均勻固化的薄層。然后從輻射敏感元件的前表面除去蓋片，然后使含掩模圖像的薄膜與輻射敏感元件在前表面上達(dá)到無(wú)空氣接觸。然后可使該組合件在通過含掩模圖像的薄膜在UV輻射中曝光14min。這樣，掩模圖像信息就被轉(zhuǎn)移到平版印版前體上。浮雕圖像顯影然后，用任何合適的方法，如剝離法，除去包括掩模圖像的載片或無(wú)掩模圖像的載片。然后用合適的顯影劑常規(guī)顯影已曝光元件(或已成像元件)，以形成浮雕圖像。顯影的作用是除去輻射敏感元件的未固化區(qū)，在底基上留下確定浮雕圖像的固化區(qū)。任何適用于成像元件的已知顯影劑都能用于該沖洗步驟，包括含氯化有機(jī)溶劑的那些在內(nèi)。有些適用的顯影劑大部分是非氯化有機(jī)溶劑。所謂"大部分"，我們是指超過50vol。/。的顯影劑包含一種或多種非氯化有機(jī)溶劑，如脂肪烴和長(zhǎng)鏈醇(即含至少7個(gè)碳原子的醇)。溶液的其余部分可以是氯化有機(jī)溶劑，但氯化有機(jī)溶劑一般占顯影劑的不到sovol%。因此一些適用的顯影劑主要是所謂的"全氯乙烯替代溶劑"(PAS)。這類PAS—般都是由脂肪炫和長(zhǎng)鏈醇的混合物組成的揮發(fā)性有機(jī)化合物。它們?cè)谡Ｊ覝睾蛢?chǔ)存條件下一般都是穩(wěn)定的。這類商品溶劑的實(shí)例包括，但不限于，可獲自HydriteChemicalCo.(Brookfield,WI)的PLATESOLV、可獲自BASF(Germany)的NYLOSOLV、可獲自杜邦(Wilmington,DE)的FLEXOSOL、可獲自杜邦(Wilmington,DE)的Opti-Sol⑧和可獲自MacDermid(Denver,CO)的SOLVITQD。顯影常在常規(guī)條件下進(jìn)行，如在2332。C下顯影5~20min。所用的顯影設(shè)備類型和具體的顯影劑將取決于具體的顯影條件。在有些情況下，浮雕圖像的后-顯影沖洗可能是合適的。典型的后顯影沖洗包括，干燥浮雕圖像以除去所有的過量溶劑，并通過使浮雕圖像曝光于固化輻射中進(jìn)行后固化而進(jìn)一步硬化或交聯(lián)。這類工藝的條件是本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的。例如，浮雕圖像可以被吸干或擦干或在鼓風(fēng)烘箱或紅外烘箱內(nèi)干燥。干燥時(shí)間和溫度對(duì)技術(shù)人員來(lái)說是顯而易見的。后-固化可以用先前通過掩才莫圖4象曝光所用的同類輻射進(jìn)行。如果浮雕圖像表面仍然發(fā)粘，則可采用減粘化處理(或"輕修飾處理")。這類處理，如用溴或氯溶液的處理或在UV或可見輻射中曝光，都是技術(shù)人員所熟知的。所得浮雕圖像的深度可以是輻射敏感元件可成像層原始厚度的2~40%。對(duì)于平版印版，浮雕圖像的深度可以是150-500vim。對(duì)于印刷電路板，曝光或非曝光區(qū)內(nèi)的可成像層可完全被除去，以露出底下的金屬層。因此，在這類元件中，浮雕圖像的深度取決于可成像層的厚度。優(yōu)選浮雕圖像的肩角基本都大于50°。顯影也可以用熱顯影法進(jìn)行，如美國(guó)專利5,175,072(Martens)、5,279,697(Peterson等)和6,998,218(Markhart)所公開。下列實(shí)施例說明本發(fā)明的實(shí)施，但本發(fā)明不因此而受限制。實(shí)施例在實(shí)施例中使用了下列材料和方法AIRVOL205預(yù)混溶液是聚乙烯醇固體含量為10%的水溶液，可獲自AirProducts(Allentown，PA)。BUTVARB-76是聚乙烯醇縮丁醛樹脂，可獲自Solutia,Inc.(St.Louis,MO)。Byk333是聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，可獲自BykChemie(Wallingford,CT)。姜黃素是黃色染料，可獲自CaymanChemicals(AnnArbor,MI)。DyneonFC2211和2178是氟彈性體，可獲自3MCompany(St.Paul,MN)。EMAX是甲基丙烯酸乙酯和甲基丙烯酸的60:40共聚物，可獲自EastmanKodakCompany(Rochester,NY)。FluonADl是PTFE分散體，可獲自AsahiGlassFluoropolymersUSA。IRDyeA是可獲自EastmanKodakCompany(Rochester,NY)的紅夕卜吸收染料，其結(jié)構(gòu)如下:MEK代表甲乙酮。MIBK代表曱基異丁基酮。NeoRez322是可獲自DSMNeoResins(Wilmington,MA)的聚氨酯樹脂。NeoRezU395是可獲自DSMNeoResins(Wilmington，MA)的聚氨酯樹脂。PCA代表70wt。/。聚氰基丙烯酸曱酯和30wtQ/o聚氰基丙烯酸乙酯以10%總固體含量在50/50環(huán)戊酮/丙酮中的混合物，可獲自EastmanKodakCompany(Rochester,NY)。SudanBlack是可獲自AldrichChemicalsCo.(Milwaukee,WI)的黑色染料。SurfynolFS-80是可獲自AirProducts&Che薩als,Inc.(Allentown,PA)的濕潤(rùn)劑。UVINUL3050是可獲自BASF(Germany)的紫外輻射吸收染料。本發(fā)明實(shí)施例1和2以及對(duì)比實(shí)施例1:按下述方法制造本發(fā)明的2種薄膜。用12號(hào)繞線棒，在由O.Olcm厚的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯形成的載片上，涂布包含DyneonTMFC2211(本發(fā)明實(shí)施例l)或DyneonFC2178(本發(fā)明實(shí)施例2)在MEK中的透明層配方，以在93。C干燥2min時(shí)形成干覆蓋率為562mg/n^的透明層。該層在400nm下的折射率為約1.40，小于載片約1.65的折射率(在400nm下)。用10號(hào)繞線涂棒在該透明層上涂布中間層配方，該配方含Airvol205聚乙烯醇和80:20的水:正丙醇混合物。使所得涂層在93°C干燥2min,形成約648mg/n^的干涂層覆蓋率。用下表I中所列的組分和涂布溶劑制成阻隔層配方，并用IO號(hào)繞線涂棒涂布到已干燥的中間層上。使所得涂層在約93。C干燥2min，形成阻隔層，以達(dá)到約378mg/ir^的涂層覆蓋率。表I阻隔層配方組分配比量(％固體)PCA84NeoRezU395IRDyeA11丙酮40份環(huán)戊酮60份用下表II中所示的組分和涂布溶劑，用20號(hào)繞線涂棒，在已干燥的阻隔層上形成可成像層。使所得涂層在約93。C干燥2min,以在阻隔層上形成涂層覆蓋率約1.51g/m卩的可成像層。表II可成像層配方組分配比量(％固體)SudanBlack10UVINUL305014.3姜黃素28.7硝化纖維素16NeoRezU3958.8NeoRezU3228.8IRDyeA13.5MEK5份環(huán)己酮5份MIBK80份乙醇10份用下表III中所示的組分和涂布溶劑形成罩面涂料，并用20號(hào)繞29線涂棒涂布在已干燥的可成像層上。使所得涂層在約93。C干燥2min,形成涂層覆蓋率約120mg/rr^的罩面涂層。表III<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>用所得的本發(fā)明薄膜(本發(fā)明實(shí)施例1和2)按下述方法制成平版印版。在KodakTrendsetter800成像儀(KodakSQUARESPOT頭，830nm曝光波長(zhǎng))上使各薄膜成像，以形成掩模圖像。然后通過施壓(不加熱)層壓，使掩模圖像從已成像薄膜上轉(zhuǎn)移到可獲自EastmanKodakCompany(Rochester,NY)的不含分離層或防粘層的FLEXEL平版印版前體上，使已成像薄膜與前體之間的界面是無(wú)空氣的。用Kelleigh310型制版機(jī)，組裝掩膜和平版印版前體，在通過載片的固化紫外輻射中曝光10min,并用OptisolTM顯影劑(可獲自HydnteChemicalCo.,LaCrosse,WI)使之顯影，然后進(jìn)行常規(guī)干燥和后固化，以形成已成像的平版印版。在對(duì)比實(shí)施例1中，用類似于以上實(shí)施例1和2中所述的方法，用本發(fā)明實(shí)施例1和2中的掩膜制造平版印版，但不含低折射率層。圖2對(duì)本發(fā)明實(shí)施例l(曲線A)和2(曲線B)以及對(duì)比實(shí)施例l(曲線C)制成的3種平版印版，以所得浮雕高度隨離邊緣距離的關(guān)系給出了所得浮雕圖像的結(jié)果。結(jié)果也示于下表IV中。表IV實(shí)施例浮雕深度(非成像區(qū))(mm)主uv曝光(min>在iy。色調(diào)中的網(wǎng)點(diǎn)保留率(％)0.40咖反向線的深度本發(fā)明實(shí)施例l0.611098159本發(fā)明實(shí)施例20.6310恥178對(duì)比實(shí)施例l0.6410訴58在本發(fā)明實(shí)施例1和2中，平均肩角為55。，而對(duì)比實(shí)施例l中的平均肩角為約25°。這些結(jié)果也示于圖3a和3b中，圖中給出了對(duì)比實(shí)施例l(圖3a)和本發(fā)明實(shí)施例l(圖3b)所得平版印版中380iLim反向線的截面圖。本發(fā)明實(shí)施例3:用下表V中所示的組分制成透明層配方，然后用來(lái)制成薄膜樣品。表V配方組分薄膜樣品l配方薄膜樣品2配方薄膜樣品3配方(/固體)(%固體)(%固體)Airvo產(chǎn)205908478聚乙烯醇FEG600101010聚乙二醇NaBF40612正丙醇20parts20parts20parts水80parts80parts80partsPEG600和NaBF4可獲自AldrichChemicalCompany。以上各薄膜樣品制備如下用26號(hào)繞線涂棒把表V中所示的透明層配方涂布到4mil(O.Olcm)聚對(duì)笨二甲酸乙二酯支撐體(載片)上。所得透明層在93。C干燥2min,以形成約3.5g/m2的千覆蓋率。在各透明層上涂布并干燥下列各層以制成完全官能化的薄膜結(jié)構(gòu)(i)阻隔層，(ii)可成像層，和(iii)罩面層，如本發(fā)明實(shí)施例l所述。干燥后，在KodakTrendsetter800成像儀(KodakSQUARESPOT頭，830nm曝光波長(zhǎng))上使各薄膜成像，以形成掩模圖像。然后用層壓法通過加壓(不加熱)把掩31模圖像從已成像薄膜上轉(zhuǎn)移到可獲自EastmanKodakCompany(Rochester,NY)的FLEXEL平版印版前體(無(wú)分離層或防粘層)上，使已成像薄膜與前體之間的界面是無(wú)空氣的(即實(shí)現(xiàn)光學(xué)接觸)。用Kelleigh310型制版機(jī)，組裝掩膜和平版印版前體，在通過載片的固化紫外輻射中曝光10min，并在OptisolTM顯影劑中顯影，然后進(jìn)行常規(guī)干燥和后固化，以形成已成像平版印版。下表VI列出了用3種薄膜(掩模圖像結(jié)構(gòu))制成的最終印版中，上述各透明層的折射率(在400nm的"RI")、計(jì)算的內(nèi)反射臨界角和0.50mm寬反向線的深度("RLD")。UV曝光時(shí)間都是10min。表VI<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>如表VI所示，在成品印版中，透明層的折射率(RI)與500inm的反向線深度之間密切相關(guān)。這種關(guān)系是(在該具體情況下和整個(gè)RI值范圍內(nèi))RLD=785-436x(RI)RA2或(11)2=100%權(quán)利要求1.一種薄膜，包含透明載片，其上有至少一層非鹵化銀熱敏可成像層和置于所述可成像層內(nèi)或在所述載片與所述成像層之間的不同層內(nèi)的著色劑，分散在聚合物粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收化合物，并且所述薄膜還包含置于所述載片與所述可成像層之間以及所述載片與含所述著色劑的所述層之間的透明層，該透明層的折射率低于所述載片的折射率或所述載片與所述透明層之間的任何任選緊鄰層的折射.率。2.權(quán)利要求1的薄膜，其中所述透明層的折射率比所述載片的折射率低至少0.04。3.權(quán)利要求1的薄膜，其中所述透明層的折射率比所述載片和所述可成像層中各層的折射率低至少0.08，而且所迷透明層還任選地包含促粘劑。4.權(quán)利要求l的薄膜，其中所述透明層包含氟彈性體。5.權(quán)利要求l的薄膜，其中所述透明層的厚度為0.25~10pm。6.權(quán)利要求1的薄膜，還包含置于所述可成像層與所述透明層之間的中間層，所述脫模層的厚度為0.1~10)Lim。7.權(quán)利要求6的薄膜，其中所述中間層包含聚乙烯醇、纖維素聚合物或水解苯乙烯馬來(lái)酸酐和促粘劑。8.權(quán)利要求1的薄膜，其中所述紅外輻射吸收化合物存在于所述熱敏可成像層以外的層內(nèi)并被分散在聚合物粘合劑內(nèi)。9.權(quán)利要求1的薄膜，其中所述紅外輻射吸收化合物是IR染料以及所述著色劑是UV-吸收染料。10.權(quán)利要求1的薄膜，還包含置于所述可成像層與所迷載片之間的阻隔層，所述阻隔層任選地包括紅外吸收化合物。11.權(quán)利要求10的薄膜，其中所述阻隔層包含熱-可燃聚合物粘合劑。12.權(quán)利要求l的薄膜，其中所迷阻隔層是金屬或金屬化層。13.權(quán)利要求l的薄膜，在所述載片上依次包含a)所述透明層，其包含氟彈性體且厚度為0.25~10pm,所述透明層任選地包括促粘劑，b)中間層，其包含聚乙烯醇且厚度為0.1~10pm,所述中間層包含著色劑且任選地包括促粘劑，c)阻隔層，其包含聚氰基丙烯酸酯和紅外輻射吸收染料，d)所述可成像層包含分散在聚氨酯粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收染料和UV-吸收著色劑，以及e)聚乙烯醇罩面層，所述透明層的折射率比所述載片的折射率低至少0.08。14.一種制造浮雕圖像的方法，該方法包括A)通過在已成像薄膜內(nèi)形成曝光區(qū)和非曝光區(qū)形成掩模圖像，所述薄膜在成像前包含透明載片，其上有至少一層非卣化銀熱敏可成像層和置于所述可成像層內(nèi)或在所述載片與所述可成像層之間的不同層內(nèi)的著色劑，分散在聚合物粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收化合物，和置于所述載片與所述可成像層之間的透明層，該透明層的折射率低于所述載片的折射率或所述載片與所述透明層之間的任何任選緊鄰層的折射率，B)使所述已成像薄膜內(nèi)的所述掩模圖像轉(zhuǎn)移至輻射敏感元件，同時(shí)使所述掩模圖像與所述輻射敏感元件之間實(shí)現(xiàn)光學(xué)接觸，C)使所述輻射敏感元件通過所述掩模圖像在固化輻射中曝光，以形成已成像元件，其中所述掩模圖像對(duì)所述固化輻射是不透明的，和D)使所述已成像元件顯影，以形成浮雕圖像。15.權(quán)利要求14的方法，其中在步驟C與D之間，除去所述已成像薄膜與所述已曝光輻射敏感元件之間的光學(xué)接觸。16.權(quán)利要求14的方法，其中在步驟C與D之間，從所述已成像薄膜上除去載片和透明層。17.權(quán)利要求14的方法，其中所述輻射敏感元件是UV-敏感元件，其被曝光于通過所述掩模圖像的UV輻射中，形成已成像元件，其中所述掩模圖像對(duì)UV是不透明的。18.權(quán)利要求17的方法，其中所述UV-敏感元件是平版印版前體，以及所述已成像元件是平版印版。19.權(quán)利要求14的方法，其中在所迷輻射敏感元件中形成的浮雕圖像的平均肩角為至少50°。20.權(quán)利要求14的方法，其中轉(zhuǎn)移步驟B通過層壓法進(jìn)行。21.權(quán)利要求14的方法，其中所述轉(zhuǎn)移步驟B如下進(jìn)行在所述已成像薄膜上涂布液態(tài)輻射敏感層，然后形成所述的輻射敏感元件。22.權(quán)利要求14的方法，其中所述薄膜在所述載片上依次包含a)所述透明層，其包含為氟化丙烯酸酯聚合物、氟烯烴或它們混合物的氟彈性體，所述氟彈性體的厚度為0.25~10ium，所述透明層任選地包括促粘劑，b)中間層，其包含聚乙烯醇且厚度為0.1~10所述中間層包含著色劑且任選地包括促粘劑，c)阻隔層，其包含聚氰基丙烯酸酯和紅外輻射吸收染料，d)所述可成像層，其包含分散在聚氨酯粘合劑內(nèi)的紅外輻射吸收染料和UV-吸收著色劑，以及e)聚乙烯醇罩面層，所述透明層的折射率比所述載片的折射率低至少0.08。全文摘要一種掩模-形成薄膜具有一個(gè)位于可成像層與載片之間的透明層，該透明層的折射率比載片或透明層與載片之間的任何緊鄰層的折射率低(至少0.04)。在掩模圖像轉(zhuǎn)移期間，該較低的折射率層改變了入射輻射的路徑，從而使浮雕圖像實(shí)面積具有更陡峭的肩角。文檔編號(hào)B41M5/40GK101681091SQ200880019176公開日2010年3月24日申請(qǐng)日期2008年6月3日優(yōu)先權(quán)日2007年6月5日發(fā)明者A·P·斯托爾特,D·E·布朗,E·A·富倫卡姆,G·L·茲沃羅申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司