專利名稱：缺陷修正裝置及其缺陷修正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種修正液晶顯示用基板上或半導(dǎo)體基板上的缺陷部分的缺陷修正裝置及其缺陷修正方法。
背景技術(shù)：
一般地，在用于液晶顯示器的玻璃基板上形成電路元件和布線時，存在因制造裝置內(nèi)的環(huán)境例如因微粒、薄膜形成時的析出或曝光不良等原因而產(chǎn)生缺陷的情況。
作為現(xiàn)有的缺陷檢測方法，例如，分別公開在日本的特開平4-316346號公報或特開平10-253332號公報中。特開平4-316346號公報的缺陷檢測方法是，通過圖像傳感器將周期性地排列的圖形作為圖像數(shù)據(jù)讀取，并與正常的圖像數(shù)據(jù)(電路圖形)進行比較，將不同的部分作為缺陷檢測出來。此外，特開平10-253332號公報的缺陷檢測方法是，掃描周期排列的圖形，通過圖像傳感器作為第一圖像讀取，并得到相對于此第一圖像延遲一個周期的第二圖像和延遲兩個周期的第三圖像，通過進行同一時刻的第一圖像和第二圖像的比較、以及第二圖像和第三圖像的比較，從而檢測出圖形的缺陷。
在產(chǎn)品作為成品生產(chǎn)出來時，這些缺陷因電氣短路和斷線會引起誤動作，就會擔(dān)心產(chǎn)品成為不合格品。為此，在制造工序中進行將這些缺陷檢測出來、并用激光照射其不合格位置以便進行修復(fù)的缺陷檢測及修正。
這些眾所周知的缺陷修正方法是，在對檢測出的缺陷實施修正時、僅是有缺陷就進行修正的手法。當(dāng)存在與為修理而照射激光的缺陷的下側(cè)接觸的電路元件或布線的情況下，有可能同缺陷一起損傷或除去電路元件或布線、而產(chǎn)生新的缺陷的可能性。
因此，在基板上檢測出缺陷的情況下，把握與電路元件之間的位置關(guān)系，為了不對電路元件和布線產(chǎn)生損傷，優(yōu)選進行是否照射激光的判斷、照射光量及照射區(qū)域的調(diào)整。
此外，在修正所需的時間有限制的情況下，分選出對動作和性能會產(chǎn)生影響的重大缺陷、和在后續(xù)制造工序中可修正的缺陷或?qū)Σ挥绊懶阅艿娜毕?，并賦予它們的優(yōu)先級的順序來進行有效處理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種缺陷修正裝置和缺陷修正方法，檢測出基板上的缺陷，并根據(jù)產(chǎn)生缺陷的電路上的位置和缺陷狀態(tài)，設(shè)定用于修正的優(yōu)先順序及照射禁止區(qū)域，并根據(jù)此設(shè)定實施缺陷的修正。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種通過激光的照射修正基板上的缺陷的缺陷修正裝置，其包括缺陷檢測部，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定部，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；修正區(qū)域設(shè)定部，判別由上述缺陷檢測部檢測出的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)，對于判定為與該照射禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷，在除了其照射禁止區(qū)域上方以外的缺陷部分設(shè)定激光照射區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定部，對上述激光照射區(qū)域和與上述照射禁止區(qū)域無關(guān)的缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級；以及缺陷修正部，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
此外，提供一種缺陷修正方法，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其包括缺陷檢測工序，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定工序，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；照射禁止區(qū)域判別工序，判別上述缺陷檢測工序中出現(xiàn)的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)；修正區(qū)域設(shè)定工序，對于在上述照射禁止區(qū)域工序中判定為與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷，在除了該照射禁止區(qū)域上方以外的缺陷部分設(shè)定激光照射區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定工序，對上述激光照射區(qū)域和與上述照射禁止區(qū)域無關(guān)的缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級，并設(shè)定修正位置數(shù)量；以及缺陷修正工序，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。


圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的缺陷修正裝置的示意性方框圖。
圖2是表示修正對象的基板的示意性俯視圖。
圖3是表示優(yōu)先區(qū)域的示意圖。
圖4是表示圖3中的基板上的圖形的示意圖。
圖5是表示對于圖4中的圖形上的缺陷重合了位置的優(yōu)先區(qū)域的示意圖。
圖6是簡要示出了具有第一實施方式的缺陷檢測功能的缺陷修正裝置的方框圖。
圖7是表示基板的示意圖。
圖8是表示圖7中的基板中的沒有缺陷的圖形的示意圖。
圖9是表示設(shè)定了激光修復(fù)禁止區(qū)域的參照圖像的示意圖。
圖10是表示包含缺陷的圖形的示意圖。
圖11是簡要示出了根據(jù)第2實施方式的缺陷修正裝置的方框圖。
圖12是表示設(shè)定了多個激光修復(fù)禁止區(qū)域的參照圖像的示意圖。
圖13是表示具有缺陷且設(shè)定了處理區(qū)域的圖形的示意圖。
圖14是表示修正了圖13中的缺陷部之后的圖形的示意圖。
圖15是表示設(shè)定了處理區(qū)域的圖形的示意圖。
圖16是表示具有缺陷的圖形的示意圖。
最佳實施方式下面，將參照附圖來詳細說明本發(fā)明的實施方式。
首先，說明利用本發(fā)明的第一實施方式的缺陷修正裝置對多個被檢測出的缺陷設(shè)置修正優(yōu)先級的缺陷修正方法。圖1是表示用于實現(xiàn)此缺陷修正方法的缺陷修正裝置的簡要構(gòu)成例子的方框圖。此外，圖2是表示修正缺陷的基板的一個例子的示意圖。此外，以下記載的圖元(或像素)是指，包含以矩陣狀配置在基板上、例如在液晶顯示器(LCD)的玻璃基板上形成的周圍被布線等圍繞的發(fā)光部分的重復(fù)圖形的最小單位。此外，成為進行此缺陷修正的對象的缺陷是，以用于液晶顯示器(LCD)的玻璃基板(以下簡稱為基板)在利用抗蝕劑掩膜曝光構(gòu)圖的光刻法工序中產(chǎn)生的缺陷作為例子。
如圖2所示，此基板以正交方式形成掃描線21和信號(數(shù)據(jù))線22，并在由這些布線所包圍的部分設(shè)置有TFT等電路元件23。此外，為了說明，如圖2所示，假設(shè)在此基板上存在缺陷24a、24b、24c。圖3表示由圍繞周圍的掃描線21和數(shù)據(jù)線(信號線)22構(gòu)成的1個圖元的結(jié)構(gòu)，此圖元構(gòu)成以矩陣狀重復(fù)配置的圖形、所謂的重復(fù)圖形。
如圖1所示的缺陷修正裝置1大致由的修正部2、控制部3、修正區(qū)域設(shè)定部4構(gòu)成。
修正部2輸出用于修正缺陷的激光以便修正缺陷。此修正部2根據(jù)缺陷的大小等，可任意改變輸出的激光的能量密度(光強度)、照射區(qū)域(面積)、及照射面形狀?？刂撇?與修正部2及修正區(qū)域設(shè)定部4連接，并控制它們。
修正區(qū)域設(shè)定部4由攝像部6、存儲器8、缺陷檢測部7、特征提取部9及優(yōu)先級設(shè)定部5構(gòu)成。其中，攝像部6可以是以線狀排列CCD等拍攝元件的線型攝像部，也可以是以二維配置拍攝元件的平面型攝像部。而且，攝像部6具有可在XY方向上移動掃描的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)φ麄€基板進行攝像。此外，攝像部6如果能夠拍攝基板的寬度尺寸，那么也可以通過在一個軸向上掃描基板來拍攝整個基板。此外，攝像部6與存儲器8連接，將拍攝到的圖像數(shù)據(jù)保存在存儲器8內(nèi)。
利用日本特開平4-316346號公報、特開平10-25332號公報中記載的公知的缺陷檢測方法，缺陷檢測部7從圖像數(shù)據(jù)中獲取基板上的缺陷。具體地說，缺陷檢測部7從存儲器8中讀取由攝像部6拍攝的圖像數(shù)據(jù)，并與預(yù)先存儲的作為判斷是否合格的基準的基準圖像(參照圖像)圖形進行比較，將存在差異的區(qū)域判別為缺陷，并將此缺陷數(shù)據(jù)保存在存儲器8中。
此外，還存在缺陷不僅僅涉及1個圖元、而是跨越多個圖元來構(gòu)成一個缺陷的情況。在這種情況下，缺陷檢測部7就將鄰接的缺陷像素群作為一組進行標(biāo)記。將此標(biāo)記的缺陷作為由各像素(缺陷像素)的位置信息和拍攝得到的亮度值信息構(gòu)成的缺陷數(shù)據(jù)保存到存儲器8。特征提取部9從存儲器8讀取缺陷數(shù)據(jù)，并提取各個缺陷特征。作為此缺陷特征，可以是缺陷的大小、形狀、拍攝得到的亮度值及缺陷的位置信息中的任何一種或由它們的組合。
優(yōu)先級設(shè)定部5具有缺陷判別部10和優(yōu)先順序設(shè)定部11。
缺陷判別部10首先進行初始設(shè)定。即，在進行判定時，預(yù)先進行在是否判別中使用的判別基準的設(shè)定。缺陷判別部10根據(jù)此判別基準，判別檢測出的缺陷是否有必要利用激光照射來進行修正。作為判別基準，可以是缺陷的大小、形狀、位置及亮度值中的至少一種。該判別基準可以由使用者任意設(shè)定，例如，可以將后述的微粒引起的缺陷的亮度值、不需要修正的缺陷的大小、圖形中的位置信息等作為判別水平(閾值)來設(shè)定。
在此判別步驟中，可判別出缺陷是如果不利用激光修正就會使已完成的產(chǎn)品因動作不良而成為不合格產(chǎn)品這樣的重大缺陷，還是微粒附著這樣的可以在以后工序、例如清洗工序中去除的缺陷，或者是即使不修正也不會發(fā)生問題的缺陷。此外，不能用激光照射修正的缺陷例如有圖形錯位、圖形缺損、或多且大的缺陷修正位置等。在修正部位多且大的情況下，雖然希望對所有缺陷進行修正，但考慮到修正所需的時間，當(dāng)使用者在預(yù)定的時間內(nèi)未完成修正的情況下，認為其無法修正，作為再作業(yè)的處理對象。對于這些缺陷，返回到上一階段的工序，進行再作業(yè)處理。此再作業(yè)處理包括將有缺陷圖形自身作為不合格部分進行處理，或者再次進行抗蝕劑涂敷的構(gòu)圖處理等。
此外，在存在多個缺陷的情況下，與此優(yōu)先區(qū)域進行對照來設(shè)定修正順序的優(yōu)先級即優(yōu)先順序。此外，使用者能夠設(shè)定修正位置的數(shù)量，考慮修正所需時間來限制修正數(shù)量或根據(jù)優(yōu)先級來控制修正數(shù)量。
修正判定部10根據(jù)上述判別結(jié)果，從修正對象的缺陷中去除了沒必要進行修正的微粒等缺陷，僅將需要修正的缺陷數(shù)據(jù)作為修正對象缺陷數(shù)據(jù)，存儲到存儲器8中。此外，在被判別的缺陷成為再作業(yè)處理對象的情況下，在此時刻結(jié)束判別處理，將基板返回給前一階段的工序。此外，修正對象缺陷數(shù)據(jù)也可以不存儲在存儲器8內(nèi)，而直接送送到優(yōu)先順序設(shè)定部11。此外，缺陷判定部10能夠由使用者設(shè)定修正位置的數(shù)量，也可以考慮修正所需時間來限制修正數(shù)量。
其次，優(yōu)先順序設(shè)定部11對缺陷賦予重要性(優(yōu)先級的設(shè)定)以便從重要的缺陷開始進行修正。在判別處理結(jié)束之后，優(yōu)先順序設(shè)定部11從存儲器8取得修正對象缺陷，按照利用激光照射進行修正的順序，對各修正對象缺陷設(shè)定優(yōu)先級。具體地，優(yōu)先順序設(shè)定部11從存儲器8中的圖像數(shù)據(jù)中取得一個圖形的圖像數(shù)據(jù)(圖形圖像)，根據(jù)在此圖形圖像內(nèi)配置的電路元件和布線，設(shè)定優(yōu)先修正的優(yōu)先區(qū)域。不用說，此優(yōu)先區(qū)域也可以由使用者預(yù)先設(shè)定。優(yōu)先區(qū)域至少設(shè)定1個，在設(shè)定了多個優(yōu)先區(qū)域的情況下，確定每一個優(yōu)先區(qū)域的優(yōu)先順序。
此外，在存在多個缺陷的情況下，與此優(yōu)先區(qū)域進行對照來設(shè)定優(yōu)先順序。此外，使用者可根據(jù)優(yōu)先級來限制修正數(shù)量。此外，修正數(shù)量的限制也可以利用缺陷判定部10及優(yōu)先順序設(shè)定部11進行，將按優(yōu)先級順序進行修正時、在規(guī)定時間內(nèi)結(jié)束修正的順序以前的缺陷判定為修正對象。
作為優(yōu)先級高的區(qū)域的決定方法，例如，將能夠正常動作、且在長時間(設(shè)計的產(chǎn)品壽命)內(nèi)實現(xiàn)穩(wěn)定的動作作為判別基準。作為優(yōu)先順序的例子，例如是液晶顯示器，那么修正阻礙像素晶體管等驅(qū)動電路元件23形成的缺陷和使驅(qū)動無法進行的缺陷就非常重要。其次，對來自其它電路及布線及電極等電氣通路的電氣短路缺陷的修正也是重要的。接下來，就是使布線斷線的缺陷、在發(fā)光部上產(chǎn)生的缺陷等的順序。此外，當(dāng)缺陷跨越兩個優(yōu)先區(qū)域的情況下，以優(yōu)先級高的區(qū)域的一方為基準來進行判別。
其次，按工序順序來說明取得這種結(jié)構(gòu)的缺陷修正裝置1的基板上的缺陷的動作。
缺陷修正裝置1將攝像部6或基板移動掃描而拍攝到的基板的圖像數(shù)據(jù)存儲到存儲器8中。
圖像取得工序結(jié)束后，接著進行缺陷檢測工序。此缺陷檢測工序中，缺陷檢測部7將圖像數(shù)據(jù)與預(yù)先設(shè)定的基準圖像(參照圖像)進行比較，檢測出缺陷位置，生成修正對象的缺陷數(shù)據(jù)，存儲到存儲器8中。
特征提取部9從存儲器8中讀入缺陷數(shù)據(jù)，從各缺陷數(shù)據(jù)中，將缺陷的大小、形狀、整體的亮度及缺陷的位置作為缺陷特征提取出來。特征提取部9將由此提取出的缺陷特征與缺陷數(shù)據(jù)聯(lián)系起來，存儲到存儲器8中。
缺陷判定部10對各缺陷判別是否有必要進行修正。具體地，缺陷判定部10從存儲器8中讀入各缺陷數(shù)據(jù)的缺陷特征，對此缺陷，根據(jù)判別基準判別是否有必要如上所述地利用激光照射進行修正。
在此缺陷判別工序中，將與有必要修正的缺陷數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的缺陷圖像數(shù)據(jù)，作為修正對象缺陷數(shù)據(jù)存儲到存儲器8中。
對上述的修正對象缺陷數(shù)據(jù)設(shè)定用于修正的優(yōu)先區(qū)域。
在本實施方式中，如圖3所示，說明設(shè)定3個優(yōu)先區(qū)域的例子。在此例中，按優(yōu)先級從高到低的順序形成3個優(yōu)先區(qū)域作為第一優(yōu)先區(qū)域A1的、包含電路元件23和布線21、22的一部分的區(qū)域，作為第二優(yōu)先區(qū)域A2的布線21、22的區(qū)域，作為第三優(yōu)先區(qū)域A3的、由布線21、22包圍的成為發(fā)光部的區(qū)域。
其次，進行對修正對象缺陷數(shù)據(jù)的優(yōu)先級設(shè)定。通過將缺陷像素的位置同上述的第一、二、三優(yōu)先區(qū)域A1、A2、A3中的任意一個吻合，來設(shè)定優(yōu)先級(優(yōu)先順序)。
例如，在對圖4所示的3個修正對象缺陷數(shù)據(jù)24a、24b、24c設(shè)定優(yōu)先級的例子中，如圖5所示，修正對象缺陷數(shù)據(jù)24a相當(dāng)于第一優(yōu)先區(qū)域A1、修正對象缺陷數(shù)據(jù)24b相當(dāng)于第二優(yōu)先區(qū)域A2、修正對象缺陷數(shù)據(jù)24c相當(dāng)于第三優(yōu)先區(qū)域。因此，按優(yōu)先級順序的第一個為24a、第二個為24b、第三個為24c的順序設(shè)定。設(shè)定的優(yōu)先級與各修正對象缺陷數(shù)據(jù)對應(yīng)地存儲到存儲器8中。
接下來，說明利用本實施方式的缺陷修正裝置1進行的缺陷修正。
上述的缺陷提取結(jié)束后，控制部3從存儲器8中按優(yōu)先級順序讀入修正對象缺陷數(shù)據(jù)?？刂撇?針對此修正對象缺陷數(shù)據(jù)，從修正部2對該基板上的缺陷照射激光，將修正對象缺陷數(shù)據(jù)一直修正到設(shè)定的優(yōu)先級順序為止。優(yōu)先順序的設(shè)定，可以從優(yōu)先級高的一方開始設(shè)定到任意的順序為止。此外，優(yōu)先級的順序也可以根據(jù)缺陷的種類和圖形任意地設(shè)定。在該修正中，修正部2根據(jù)修正對象缺陷數(shù)據(jù)中的特征，確定基板上的缺陷的位置、大小及形狀，對缺陷照射利用控制部3控制了光強度(能量密度)及照射范圍的激光，然后結(jié)束修正。通過如后所述地移動遮光板來調(diào)整此照射范圍。
此外，本實施方式的缺陷修正方法包含有以下的作用效果。
首先，根據(jù)判別基準，判別有沒有修正，例如，從修正對象中將經(jīng)清洗能夠去除等的不需要修正的缺陷排除在外，就能夠?qū)崿F(xiàn)修正效率的提高。
此外，通過改變判別基準，根據(jù)修正次數(shù)和缺陷水平能夠調(diào)整是否修正。并且，進行優(yōu)先級的設(shè)定時，也可以對圖形圖像內(nèi)的所有區(qū)域設(shè)定優(yōu)先區(qū)域，還可以僅在圖形的一部分中設(shè)定優(yōu)先區(qū)域。此時，通過對包含在優(yōu)先區(qū)域內(nèi)的缺陷，設(shè)定較高的修正優(yōu)先級，對非優(yōu)先區(qū)域內(nèi)的缺陷設(shè)定較低的修正優(yōu)先級，就能夠使重要的缺陷優(yōu)先被修正。
此外，雖然設(shè)定了每個缺陷數(shù)據(jù)的優(yōu)先級，但并不限定于此，也可以使用每個圖形的圖像數(shù)據(jù)進行設(shè)定。具體地，對于每個圖形的圖像數(shù)據(jù)，可以與拍攝了摸板的圖像重疊后，對求出差異的圖形內(nèi)的所有缺陷一次性地設(shè)定優(yōu)先級的順序。
如上述說明所示，本實施方式的缺陷修正方法從拍攝的圖像數(shù)據(jù)中檢測出缺陷，生成缺陷數(shù)據(jù)，并判別能否修正及有沒有進行修正?？煞衽卸ǖ慕Y(jié)果，缺陷若不能夠修正的話，就實施再作業(yè)處理；如果能夠進行修正，就根據(jù)預(yù)先確定的優(yōu)先區(qū)域，設(shè)定出修正的優(yōu)先級。根據(jù)這樣的本實施方式，能夠確實地檢測出重要的缺陷，并且根據(jù)優(yōu)先級加以修正，由此，既縮短了修正時間的同時、能夠減少作業(yè)者所花費的工作時間。
其次，說明本發(fā)明第二實施方式的缺陷修正裝置。在本實施方式中，說明對檢測出的缺陷設(shè)置了利用激光的激光修復(fù)禁止區(qū)域的補償區(qū)域的缺陷修正方法。圖6是表示第二實施方式的缺陷修正裝置的簡要結(jié)構(gòu)的方框圖。圖7是表示將在按矩陣狀形成像素的液晶顯示器中使用的玻璃基板作為修正對象基板的例子的示意圖。圖8是圖7中的一個圖元部分的放大圖，是表示在由數(shù)據(jù)線和掃描線構(gòu)成的布線所包圍的區(qū)域中形成電路元件23的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖9及圖10表示圖8示出的區(qū)域及布線中的激光修復(fù)禁止區(qū)域(虛線)的示意圖。圖8中對與圖4具有相同功能的部位賦予相同的參照標(biāo)記。
此缺陷修正裝置30大致由修正部31、信息生成部32、XY工作臺33、控制部34構(gòu)成。首先，說明修正部31。
修正部31由輸出用于修正缺陷的激光的公知的激光器元件35、驅(qū)動控制激光器元件35的激光器控制部36、任意改變激光照射區(qū)域(范圍)及照射面形狀的照射區(qū)域調(diào)整部37構(gòu)成。此外，此激光器元件35只要能夠修正缺陷即可，不用特別限制激光的種類及波長。
照射區(qū)域調(diào)整部37例如由與照相機的光圈機構(gòu)相同的多片光闌片(絞り羽)(未圖示)或遮光板構(gòu)成。此照射區(qū)域調(diào)整部37被設(shè)置在激光器元件35的射出側(cè)，通過移動調(diào)節(jié)光闌片或遮光板生成縫隙狀開口部，使激光的光束通過，就能夠改變激光照射區(qū)域的大小和形狀。不用說，此外，只要能夠形成隙縫狀的開口部，也可以使用公知的結(jié)構(gòu)。
接下來，說明信息生成部32。此信息生成部32由攝像部6和基本信息設(shè)定部38構(gòu)成。在這些結(jié)構(gòu)中，攝像部6包括由后述的驅(qū)動控制部43控制的未圖示出的CCD等半導(dǎo)體攝像元件和能夠改變倍率的光學(xué)系統(tǒng)和像素處理電路，拍攝修正對象基板。利用此攝像部6按期望的倍率拍攝修正處理前后的圖像。將拍攝的圖像作為圖像數(shù)據(jù)向基本信息設(shè)定部38輸出。
基本信息設(shè)定部38保持由攝像部6拍攝的圖像數(shù)據(jù)，還將與在修正對象基板上形成的電路圖形相同且無缺陷的基準圖形作為參照圖像(基準圖像)保持。此參照圖像成為檢測缺陷時的比較對象，例如是圖8所示的由一個圖元的最小單位的重復(fù)圖形的構(gòu)圖形成的參照圖像。此外，為了能夠覆蓋在基板上形成的整個電路圖形而準備了多個參照圖像的情況下，不一定必須限定于1個種類。此外，參照圖像與基板上的位置信息同時存儲，并作為模板來使用。再者，可以專門制作此參照圖像，也可利用來自攝像部6的圖像數(shù)據(jù)，將處理對象基板中無缺陷的圖形部分作為參照圖像來使用。
此基本信息設(shè)定部38具有預(yù)先如圖9所示的設(shè)定禁止激光照射的激光修復(fù)禁止區(qū)域KA的禁止區(qū)域設(shè)定部39。本實施方式中，將形成由如第二參照圖像所示的掃描線21及數(shù)據(jù)線22構(gòu)成的布線和電路元件23的元件形成區(qū)域(圖9示出虛線的范圍)，作為激光修復(fù)禁止區(qū)域KA來設(shè)定。不用說，這是一個例子，激光修復(fù)禁止區(qū)域KA能夠任意設(shè)定。
在此圖像處理中，拍攝經(jīng)過構(gòu)圖的基板并加以使用的情況下，利用布線及電路元件和它們之外部分產(chǎn)生的亮度值之差，也能夠自動地設(shè)定由圖9的虛線表示的激光修復(fù)禁止區(qū)域KA。例如，利用根據(jù)灰度等級的、二值化和形態(tài)學(xué)(morphology)等，在布線和電路元件中設(shè)定激光修復(fù)禁止區(qū)域KA。
也可一邊參照此提取結(jié)果、一邊通過使用者的操作來設(shè)定激光修復(fù)禁止區(qū)域KA，也可以使用通常采用的繪畫工具由使用者進行補償。
接下來，說明XY工作臺33。XY工作臺33承載修正對象基板，能夠通過未圖示出的驅(qū)動結(jié)構(gòu)、在分別與攝像部6的攝像鏡頭的光軸及修正部31的光軸正交的X及Y方向的二維方向上移動并掃描。此外，XY工作臺33的承載面上開出多個孔，具有利用空氣的吸入來吸附保持修正對象基板或利用空氣的噴出將基板浮置的功能。并且，不只是XY工作臺33，攝像部6及修正部31也可以構(gòu)成為可在二維方向或X、Y的一個方向上移動及掃描的結(jié)構(gòu)。
進一步說明控制部34。此控制部34由信息存儲部40、缺陷檢測部41、修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42及驅(qū)動控制部43構(gòu)成。
信息存儲部40具有參照信息存儲部40a和修正對象信息存儲部40b。在這些構(gòu)成中，參照信息存儲部40a從基本信息設(shè)定部38中獲取參照圖像作為進行缺陷的修正處理時必需的參照信息，并加以存儲。
另一方面，修正對象信息存儲部40b存儲由如圖10所示的一個圖形構(gòu)成的構(gòu)圖的修正對象基板的構(gòu)圖處理后的圖像。
缺陷檢測部41將參照圖像和構(gòu)圖處理后的圖像進行比較，并檢測出缺陷。并且，缺陷檢測部41將與檢測出的缺陷的位置及大小相關(guān)的缺陷信息輸出到修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42。此修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42判別由來自缺陷檢測部41的缺陷信息決定的各缺陷是否包含在由禁止區(qū)域設(shè)定部39設(shè)定的激光修復(fù)禁止區(qū)域中。該判定結(jié)果由是包含在激光修復(fù)禁止區(qū)域中的缺陷還是不包含在其中的缺陷的判別信息、缺陷的大小及位置構(gòu)成，將該判定結(jié)果輸出到驅(qū)動控制部43。驅(qū)動控制部43根據(jù)判定結(jié)果，控制修正部2及XY工作臺33，并修正處理對象基板中的缺陷。
接下來，按作業(yè)工序順序?qū)蒙鲜鋈毕菪拚b置進行的缺陷的修正加以說明。
首先，啟動缺陷修正裝置1，進行各構(gòu)成部位的初始化。在XY工作臺33上承載處理對象基板。如圖7所示，在此處理對象基板上，例如在構(gòu)圖有抗蝕劑掩模的狀態(tài)下、以矩陣狀配置著多個由縱橫設(shè)置的掃描線21及數(shù)據(jù)線22構(gòu)成的布線和由被布線圍繞著設(shè)有電路元件23的圖元構(gòu)成的像素(稱為圖形)。
信息生成部32的基本信息設(shè)定部38取得用于缺陷檢測的參照圖像(由多個圖形及1個圖形的構(gòu)圖形成的圖像)。如前所述，此參照圖像可以拍攝的專門制作的作為基準的基板而成，也可以拍攝修正對象基板內(nèi)的無缺陷圖形而成。此外，在將參照圖像作為圖像數(shù)據(jù)預(yù)先準備的情況下，在結(jié)束啟動時的初始化之前輸入此圖像數(shù)據(jù)。此外，在由修正對象基板制作參照圖像時，如果有缺陷，也可以通過公知的圖像處理除去缺陷而制作無缺陷的參照圖像。此外，為了能夠?qū)?yīng)在修正對象基板上形成的多個圖形，也有準備多個參照圖像的情況。
此外，參照圖像能夠與由攝像部6拍攝的修正對象基板的圖像進行對比即可，可以是256灰度等級的圖像數(shù)據(jù)，也可以是彩色圖像。此外，只要單純的圖形，即使是16灰度等級的低灰度等級的圖像數(shù)據(jù)也能夠?qū)嵤瑳]有特別地限定圖像的形式。
在此工序中，利用禁止區(qū)域設(shè)定部39設(shè)定激光修復(fù)禁止區(qū)域KA。在本實施方式中，使用由圖8所示的一個放大的圖形構(gòu)成的構(gòu)圖的圖像，如圖9的虛線所示，將掃描線21及數(shù)據(jù)線22及電路元件23的上表面設(shè)定為激光修復(fù)禁止區(qū)域KA。
此外，激光修復(fù)禁止區(qū)域KA，利用像上述的第一實施方式的缺陷提取這樣的亮度值信息，就能夠根據(jù)亮度差自動地設(shè)定激光修復(fù)禁止區(qū)域KA，也可以利用描圖工具通過手動來設(shè)定。此激光修復(fù)禁止區(qū)域KA作為禁止區(qū)域信息被保持在禁止區(qū)域設(shè)定部。此外，也可以在其它信息存儲部40中設(shè)置存儲部而加以保持。
接下來，進行缺陷的檢測。此缺陷檢測如上所述，從參照信息存儲部40a讀取參照圖像，從修正對象信息存儲部40b讀取作為構(gòu)圖處理后圖像的拍攝圖像，比較這些圖像，并將亮度差不同的部分作為缺陷檢測出來，并進一步檢測出處理對象基板上的此缺陷所存在的位置信息、檢測出的缺陷的大小。此后，將缺陷的大小及其位置信息輸出到修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42。
此外，缺陷檢測部41在利用亮度差自動提取的情況下，為了能夠使使用者目視此提取結(jié)果，也可以將提取后的缺陷與修正對象基板的拍攝圖像重合，與位置信息一起顯示在監(jiān)視器上。
修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42從禁止區(qū)域設(shè)定部39讀取被設(shè)定的如圖9所示的激光修復(fù)禁止區(qū)域KA，從缺陷檢測部41讀取缺陷位置信息，并將這些信息重合。如圖10所示，通過此重合，判定出在作為激光修復(fù)禁止區(qū)域KA的掃描線21上存在有缺陷25a。此外，判定出缺陷25b存在于不落在電路元件23上的圖元區(qū)域。因此，修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42生成指示不修正缺陷25a而修正缺陷25b的修正信息，并輸出到驅(qū)動控制部43。此修正信息僅由應(yīng)修正缺陷的大小信息和位置信息構(gòu)成。由此，被禁止修正的缺陷就不成為修正對象。
驅(qū)動控制部43根據(jù)來自修正(修復(fù)禁止)區(qū)域設(shè)定部42的修正信息中的缺陷的位置信息，使XY工作臺33及修正部31移動，通過移動使缺陷25b中心對準修正部2的激光。接下來，驅(qū)動控制部43將修正信息輸出到激光器控制部36。激光器控制部36根據(jù)修正信息中的缺陷25b的大小信息，設(shè)定如圖10所示的激光的照射區(qū)域(照射范圍)26，并設(shè)定激光的光強度。此后，照射激光，去除缺陷25b。進行這樣的修正，在存在未包含在激光修復(fù)禁止區(qū)域KA中的多個缺陷的情況下，希望縮短XY工作臺33及修正部31的移動距離，在盡可能短時間內(nèi)結(jié)束缺陷的修正。
缺陷的修正，優(yōu)選利用不對修正對象基板產(chǎn)生損傷這種程度的光強度、且用一次照射，使缺陷的變化量(去除量)越大越好。此外，在缺陷例如是線狀較長的缺陷、且由照射區(qū)域調(diào)整部37遮蓋的形狀不能覆蓋缺陷的情況下，也可以分多次進行修正。此外，在由于缺陷大、擔(dān)心用于去除它的激光的光強度對鄰接缺陷的其它部位產(chǎn)生損傷的情況下，也可以降低光強度進行多次激光照射。但是，由于多次照射使處理時間變長，所以有必要進行優(yōu)化。
如上述說明所示，對于被檢測出的缺陷，本實施方式的缺陷修正裝置抽出進行修正會對正常部位(例如布線和電路元件)造成損傷的缺陷，對除此以外的缺陷實施修正，就能夠防止對正常部位的損傷。
此外，對已結(jié)束修正的補償對象基板再次攝像，與參照圖像比較后再次提取缺陷，對激光修復(fù)禁止區(qū)域以外的未進行修正處理的缺陷，也可以實施再修正。
接下來，說明根據(jù)本發(fā)明的第三實施方式的缺陷修正裝置。
在上述第二實施方式中，對于禁止通過激光照射修正的缺陷，對落在激光修復(fù)禁止區(qū)域以外的缺陷部分也未實施任何修正。對此，在本實施方式中，在缺陷中削除與激光修復(fù)禁止區(qū)域無關(guān)的部分后加以修正，并且對修正的缺陷設(shè)定修正順序的優(yōu)先級。
圖11是表示第三實施方式的缺陷修正裝置的簡略結(jié)構(gòu)的方框圖。圖12是表示修正對象基板的激光修復(fù)禁止區(qū)域(點劃線)的示意圖，圖13是表示落在布線和電路元件上的缺陷的示意圖，圖14是表示實施了去除缺陷的修正的狀態(tài)的示意圖，此外，圖11至圖14所示的構(gòu)成部位中，對與上述第二實施方式中的圖6至圖10所示的構(gòu)成部位相同之處，賦予相同的參照標(biāo)記。
此第三實施方式中，除了上述第二實施方式的缺陷修正裝置30的構(gòu)成部位之外，在基本信息設(shè)定部38中還具有修復(fù)區(qū)域設(shè)定部53、在控制部54中還具有修正區(qū)域設(shè)定部44及優(yōu)先級設(shè)定部5。此外，優(yōu)先級設(shè)定部5與上述的第一實施方式相同，在此省略對其的詳細說明。
禁止區(qū)域設(shè)定部39，按如圖12所示的虛線，在每一個配置有電分離的各掃描線21及數(shù)據(jù)線22及電路元件23的部分，設(shè)定激光修復(fù)禁止區(qū)域KA1～KA5。此外，禁止區(qū)域設(shè)定部39在設(shè)定的激光修復(fù)禁止區(qū)域KA1～KA5中設(shè)定識別符，以便能夠識別。即，在缺陷跨越多個激光修復(fù)禁止區(qū)域KA的情況下，能夠推定為使禁止區(qū)域之間短路，并提高修正的優(yōu)先級。例如，如圖13所示，當(dāng)存在跨越掃描線21和電路元件23的缺陷27的情況下，跨越由禁止區(qū)域設(shè)定部39設(shè)定的激光修復(fù)禁止區(qū)域KA3、KA4，被判別為短路的缺陷。
修正區(qū)域設(shè)定部44根據(jù)從缺陷檢測部41輸入的缺陷的大小及其位置信息、由禁止區(qū)域設(shè)定部39設(shè)定的激光修復(fù)禁止區(qū)域KA1～KA5和由修復(fù)區(qū)域設(shè)定部53設(shè)定的激光照射區(qū)域信息，對如圖13所示的缺陷27設(shè)定激光照射區(qū)域AA。
接下來，說明去除本實施方式中的不落在激光修復(fù)禁止區(qū)域上的缺陷部分的缺陷修正。在此，使用圖13所示的在圖形P2中存在缺陷的例子。
本實施方式的缺陷修正裝置中，與第二實施方式相同地，參照信息輸入工序結(jié)束后進行修正區(qū)域設(shè)定工序。
禁止區(qū)域設(shè)定部39在由參照圖像形成的圖形上設(shè)定如上所述的多個激光修復(fù)禁止區(qū)域KA1～KA5，并作為禁止區(qū)域信息而保持。此時，即使在修復(fù)區(qū)域設(shè)定部53中，也將參照圖像的圖形中的激光照射區(qū)域作為修復(fù)區(qū)域信息而保持。
根據(jù)由來自參照信息存儲部40a的參照圖像形成的圖形，設(shè)定用于修正的優(yōu)先區(qū)域。該設(shè)定是在與禁止區(qū)域設(shè)定工序同時或前后的時刻進行。優(yōu)先區(qū)域的設(shè)定與上述第一實施方式相同。
隨后，進行與上述的第二實施方式相同的缺陷的檢測。此缺陷檢測過程是，從參照信息存儲部40a讀取第一參照圖像，從修正對象信息存儲部40b讀取作為構(gòu)圖處理后圖像的第一攝影圖像，將這些圖像進行比較，并將亮度差不同的部分作為缺陷檢測出來，還檢測出處理對象基板上的其缺陷所在的位置信息。利用此位置信息，缺陷檢測部41讀取第二參照圖像和第二攝影圖像并加以比較，對檢測出的缺陷的大小加以檢測。此后，將缺陷的大小及其位置信息輸出到修正區(qū)域設(shè)定部44。

在修正區(qū)域設(shè)定部44中，輸入從缺陷檢測部41輸入的缺陷27的大小及其位置信息。而且，從禁止區(qū)域設(shè)定部39讀取禁止區(qū)域信息，通過缺陷的位置與激光修復(fù)禁止區(qū)域KA1～KA5的重合，判定如圖13所示的缺陷27跨越激光修復(fù)禁止區(qū)域KA3及KA4而存在。即，由于缺陷27起到使掃描線21和電路元件23短路的作用，所以判別為優(yōu)先級高的缺陷。
進一步，從修復(fù)區(qū)域設(shè)定部53讀取修復(fù)區(qū)域信息，在缺陷27能夠修正的部分設(shè)定激光照射區(qū)域AA。將此激光照射區(qū)域AA和缺陷27的大小及位置信息作為修正信息輸出到驅(qū)動控制部43。
接下來，對應(yīng)修正的所有缺陷、即與激光修復(fù)禁止區(qū)域無關(guān)的缺陷和具有在前面工序設(shè)定的修正區(qū)域(激光照射區(qū)域AA)的缺陷，設(shè)定進行修正的順序的優(yōu)先級(優(yōu)先順序)。此優(yōu)先級的設(shè)定與第一實施方式中說明的設(shè)定步驟相同。
與上述第一、第二實施方式相同，驅(qū)動控制部43使XY工作臺33及修正部31移動，根據(jù)優(yōu)先級移動使缺陷或修正區(qū)域的中心與修正部31的激光對準。
例如，落在缺陷27中的激光照射區(qū)域AA的優(yōu)先級最高的情況下，使移動修正部2的激光向激光照射區(qū)域AA移動并與其對準。接下來，驅(qū)動控制部43向激光器控制部36輸出修正信息。激光器控制部36根據(jù)修正信息中的缺陷27(激光照射區(qū)域AA)的大小信息，設(shè)定激光的光強度。此后，如圖14所示，照射激光，去除涉及激光照射區(qū)域AA的缺陷27部分。此后，對其它缺陷，也根據(jù)優(yōu)先級移動并對準修正部2的激光，照射計算出的光強度的激光，依次去除其它缺陷。
如上述說明，由于擔(dān)心跨越多個激光修復(fù)禁止區(qū)域KA的缺陷會起電氣短路的作用，所以通過部分地去除在除了激光修復(fù)禁止區(qū)域KA以外的圖元區(qū)域中存在的缺陷，就能夠防止各個掃描線、數(shù)據(jù)線及電路元件之間的電氣短路。
接下來，說明根據(jù)本發(fā)明的第四實施方式的缺陷修正裝置。
本實施方式的缺陷修正裝置，具有與上述的第三實施方式中的缺陷修正裝置相同的結(jié)構(gòu)，但修復(fù)區(qū)域設(shè)定部53存在不同。
如圖15所示，此修復(fù)區(qū)域設(shè)定部53在激光修復(fù)禁止區(qū)域KA1～KA5設(shè)定掃描線21、數(shù)據(jù)線22及電路元件23，并且在圖元區(qū)域中的電路元件23的周圍設(shè)定激光照射區(qū)域AA。例如，如果是圖15的配置例，由掃描線21及數(shù)據(jù)線22構(gòu)成的布線與電路元件23之間狹窄，特別是數(shù)據(jù)線22和電路元件23的一部分變狹窄。例如圖16所示，在電路元件23中產(chǎn)生缺陷28，由于缺陷28的端部靠近數(shù)據(jù)線22，所以有發(fā)生電氣短路的可能性。
因此，通過在電路元件23的周圍設(shè)定激光照射區(qū)域AA，優(yōu)先除去有可能引起短路的缺陷并實施修正。由此，本實施方式的缺陷修正裝置就能夠確實地修正沒有跨越構(gòu)成部位、卻因靠近而發(fā)生電氣短路的缺陷。此外，在本實施方式中，在電路元件23的整個周圍設(shè)置激光照射區(qū)域AA，但也可以僅設(shè)定在電路元件23的一部分。
此外，激光照射區(qū)域AA可以通過圖像處理自動地設(shè)定在電路元件23的周圍，也可以通過描圖工具等手動設(shè)定。
此外，雖然在電路元件23的周圍設(shè)定上述激光照射區(qū)域AA，但也可以設(shè)定在圖形中的、相互鄰接的布線和/或電路元件之間接近的區(qū)域。此外，在上述的第一至第四實施方式中，作為基板，以在液晶顯示器中使用的玻璃基板為例；對于圖形而言，說明了將由用于形成晶體管等的驅(qū)動電路元件、布線及電極的抗蝕劑構(gòu)成的一個圖元以矩陣狀配置的結(jié)構(gòu)反復(fù)構(gòu)圖的圖形。不用說，并沒有限定于此，也可以是半導(dǎo)體器件中所使用的硅基板。
雖然參照附圖對上述的各實施方式進行了詳細說明，但本發(fā)明并沒有限定于上述各實施方式的中所述的事項，在未脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)，可以進行各種改進及變化，這是無庸置疑的。
權(quán)利要求
1.一種缺陷修正裝置，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測部，檢測上述基板上的缺陷；優(yōu)先級設(shè)定部，對由上述缺陷檢測部檢測出的上述缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級；以及修正部，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷修正裝置，其特征在于，還具有從上述缺陷中提取特征量的特征量提取部；上述優(yōu)先級設(shè)定部具有根據(jù)上述特征量判斷是否將各缺陷作為修正對象的缺陷判別部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷修正裝置，其特征在于，上述優(yōu)先級設(shè)定部將在設(shè)置于上述基板上的驅(qū)動電路元件的上方及布線的上方形成的圖形區(qū)域，設(shè)定為修正的優(yōu)先區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的缺陷修正裝置，其特征在于，上述缺陷檢測部拍攝形成有多個圖形的基板并生成包含缺陷的圖像數(shù)據(jù)；上述優(yōu)先級設(shè)定部根據(jù)上述多個圖形，將上述優(yōu)先區(qū)域設(shè)定為模板，一邊利用上述圖形進行位置對準、一邊使上述模板與上述圖像數(shù)據(jù)重合，并利用設(shè)在上述模板上的優(yōu)先區(qū)域，對在圖像數(shù)據(jù)中含有的缺陷設(shè)定修正順序的優(yōu)先級。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷修正裝置，其特征在于，上述優(yōu)先級設(shè)定部配置有用于按以下順序設(shè)定優(yōu)先級的優(yōu)先區(qū)域第一是對驅(qū)動電路元件的形成帶來阻礙的缺陷及使其不能進行驅(qū)動的缺陷、第二是來自其它電路、布線及電極等電氣通路的電氣短路缺陷、第三是使布線斷線的缺陷、以及上述之外的缺陷。
6.一種缺陷修正裝置，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測部，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定部，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；修正區(qū)域設(shè)定部，判別由上述缺陷檢測部檢測出的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)，并設(shè)定修正區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定部，對除了在上述修正區(qū)域設(shè)定部中判定為與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷以外的多個缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級，并設(shè)定修正位置數(shù)量；以及缺陷修正部，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
7.一種缺陷修正裝置，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測部，檢測存在于上述基板上的缺陷；禁止區(qū)域設(shè)定部，在上述基板上設(shè)定禁止修正的禁止區(qū)域；修正區(qū)域設(shè)定部，判定由上述缺陷檢測部檢測出的上述缺陷是否與上述禁止區(qū)域有關(guān)，并對與禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷設(shè)定修正禁止；以及修正部，對除了被上述修正區(qū)域設(shè)定部禁止了修正的缺陷以外的缺陷照射上述激光，進行修正。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的缺陷修正裝置，其特征在于，將在設(shè)置于上述基板上的驅(qū)動電路元件的上方及布線的上方形成的圖形區(qū)域設(shè)定為上述禁止區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的缺陷修正裝置，其特征在于，上述修正區(qū)域設(shè)定部將上述基板上的上述禁止區(qū)域以外的區(qū)域設(shè)定為處理區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的缺陷修正裝置，其特征在于，上述攝像部拍攝修正處理之后的上述基板，將拍攝的圖像數(shù)據(jù)送到上述缺陷檢測部；上述缺陷檢測部通過比較上述處理前的圖像數(shù)據(jù)和上述處理前的圖像數(shù)據(jù)，在激光修復(fù)處理后檢測上述缺陷。
11.一種缺陷修正裝置，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測部，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定部，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；修正區(qū)域設(shè)定部，判別由上述缺陷檢測部檢測出的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)，將成為上述照射禁止區(qū)域的驅(qū)動電路元件的周圍設(shè)定為激光照射區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定部，對落在上述激光照射區(qū)域上的缺陷，設(shè)定高的修正順序的優(yōu)先級；以及缺陷修正部，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
12，一種缺陷修正裝置，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測部，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定部，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；修正區(qū)域設(shè)定部，判別由上述缺陷檢測部檢測出的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)，對于判定為與該照射禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷，在除了其照射禁止區(qū)域上方以外的缺陷部分設(shè)定激光照射區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定部，對上述激光照射區(qū)域和與上述照射禁止區(qū)域無關(guān)的缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級；以及缺陷修正部，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
13.一種缺陷修正方法，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，檢測上述基板上的缺陷，對檢測出的上述缺陷設(shè)定修正順序的優(yōu)先級和修正位置數(shù)量，而且，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
14.一種缺陷修正方法，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測工序，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定工序，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；照射禁止區(qū)域判別工序，判別上述缺陷檢測工序中出現(xiàn)的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)；優(yōu)先級設(shè)定工序，對除了在上述照射禁止區(qū)域判別工序判定為與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷以外的多個缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級，并設(shè)定修正位置數(shù)量；以及缺陷修正工序，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
15.一種缺陷修正方法，通過激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括缺陷檢測工序，檢測上述基板上的缺陷；照射禁止區(qū)域設(shè)定工序，在上述基板上設(shè)定禁止上述激光的照射的照射禁止區(qū)域；照射禁止區(qū)域判別工序，判別上述缺陷檢測工序中出現(xiàn)的上述缺陷是否與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)；修正區(qū)域設(shè)定工序，對于在上述照射禁止區(qū)域工序中判定為與上述照射禁止區(qū)域有關(guān)的缺陷，在除了該照射禁止區(qū)域上方以外的缺陷部分設(shè)定激光照射區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定工序，對上述激光照射區(qū)域和與上述照射禁止區(qū)域無關(guān)的缺陷，設(shè)定修正順序的優(yōu)先級，并設(shè)定修正位置數(shù)量；以及缺陷修正工序，根據(jù)上述優(yōu)先級，對缺陷照射上述激光進行修正。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種缺陷修正裝置及其缺陷修正方法。該缺陷修正裝置包括缺陷檢測部(41)，通過與參照圖像的比較，檢測在基板上產(chǎn)生的缺陷；禁止區(qū)域設(shè)定部(39)，對位于驅(qū)動電路元件(23)上或布線(21、22)上的缺陷設(shè)定修正的禁止區(qū)域(KA)；修正區(qū)域設(shè)定部(44)，將除了落在禁止區(qū)域(KA)上的部分以外的缺陷部分和與禁止區(qū)域(KA)無關(guān)的缺陷設(shè)定為修正區(qū)域；優(yōu)先級設(shè)定部(5)，對修正區(qū)域設(shè)定修正順序的優(yōu)先級；以及修正部(31)，根據(jù)優(yōu)先級修正缺陷。
文檔編號G02F1/13GK1697995SQ20048000045
公開日2005年11月16日 申請日期2004年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月9日
發(fā)明者堀內(nèi)一仁, 秋山周次, 阿部政弘, 大西孝明 申請人:奧林巴斯株式會社