專(zhuān)利名稱(chēng):顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及顯示裝置,尤其是涉及具有反射區(qū)域的顯示裝置。
背景技術(shù):
現(xiàn)在,在半透過(guò)型液晶顯示裝置方面已提案出一種由在與反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中設(shè)置凸?fàn)罱^緣膜,以使入射至透過(guò)區(qū)域的光通過(guò)液晶層的距離(光程長(zhǎng)度)與入射至反射區(qū)域的光通過(guò)液晶層的距離(光程長(zhǎng)度)相等的構(gòu)造(參照例如專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
圖11表示現(xiàn)有的具有凸?fàn)罱^緣膜(平坦化膜)的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的構(gòu)造俯視圖。圖12為圖11所示的現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置中(顯示裝置)沿著150-150線(xiàn)的剖視圖。在現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置中,于1個(gè)像素(pixel)內(nèi)具有2個(gè)區(qū)域即反射區(qū)域160a與透過(guò)區(qū)域160b。而且,于反射區(qū)域160a中形成有反射電極110,在透過(guò)區(qū)域160b中,與反射區(qū)域160a不同并不形成反射電極110。由此,在反射區(qū)域160a中由反射電極110而使圖12的箭頭A方向的光反射以此顯示圖像。另一方面,在透過(guò)區(qū)域160b中,則通過(guò)使圖12的箭頭B方向的光通過(guò)以此顯示圖像。以下詳加說(shuō)明現(xiàn)有半透過(guò)型液晶顯示裝置的構(gòu)造。
在與上面含有緩沖層(buffer)101a的玻璃基板101上的反射區(qū)域160a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有主動(dòng)層(active layer)102。于該主動(dòng)層102中相隔設(shè)定間隔地形成有源極區(qū)域102b及漏極區(qū)域102c以便包夾溝道區(qū)域(channel region)102a。而且,在主動(dòng)層102的溝道區(qū)域102a上通過(guò)柵極絕緣膜103而形成有柵極104。接著,由源極區(qū)域102b、漏極區(qū)域102c、柵極絕緣膜103及柵極104而構(gòu)成薄膜晶體管(TFTThin Film Transistor)。此外,在與反射區(qū)域160a相對(duì)應(yīng)的柵極絕緣膜103上的設(shè)定區(qū)域中形成有輔助電容電極105。然后由主動(dòng)層102的輔助電容區(qū)域102d、柵極絕緣膜103與輔助電容電極105而構(gòu)成輔助電容。如圖11所示,柵極104及柵極線(xiàn)104a相連接,同時(shí),輔助電容電極105與輔助電容線(xiàn)105a相連接。
接著,如圖12所示,以包覆薄膜晶體管及輔助電容的方式形成具有接觸孔106a及106b的層間絕緣膜106。通過(guò)層間絕緣膜106的接觸孔106a而以與源極區(qū)域102b以電連接的方式形成有源極107。而且,通過(guò)層間絕緣膜106的接觸孔106b而以與漏極區(qū)域102c以電連接的方式形成有漏極108。而且,如圖11所示,漏極108與漏極線(xiàn)108a相連接。而在層間絕緣膜106上形成有具有通孔(via hole)109a及開(kāi)口部109b的由丙烯酸酯樹(shù)脂(acrylic resin)所構(gòu)成的平坦化膜109。該平坦化膜109形成剖面為凸?fàn)睢4送猓教够?09的通孔109a及開(kāi)口部109b的側(cè)面以設(shè)定角度傾斜。
而且,如圖12所示,在與平坦化膜109上的反射區(qū)域160a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有反射電極110,該反射電極110通過(guò)通孔109a而與源極107電連接,同時(shí)沿著平坦化膜109的上面及平坦化膜109的開(kāi)口部109b的側(cè)面延伸。此外,在與反射電極110的透過(guò)區(qū)域160b相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有開(kāi)口部110a。在反射電極110上以及既未形成有平坦化膜109也未形成有反射電極110且位于開(kāi)口部110a的層間絕緣膜106上形成有透明電極111。由該透明電極111與反射電極110而構(gòu)成像素電極。
而且,在與玻璃基板101相對(duì)向的位置上設(shè)有玻璃基板(對(duì)向基板)112。在玻璃基板112上形成有可呈現(xiàn)紅(R)、綠(G)及藍(lán)(B)等各色的濾色片(color filter)113。而且,在與玻璃基板112的像素間相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有所構(gòu)成防止像素間的光的泄漏的黑色矩陣薄膜(Black Matrix Film)114。然后,在濾色片113及黑色矩陣薄膜114上面形成有透明電極115。而且,在透明電極111及115的上面分別形成有定向膜(orientation film)(未圖示)。然后,在玻璃基板101側(cè)的定向膜與玻璃基板112側(cè)的定向膜之間充填液晶層116。
圖13至圖15所構(gòu)成說(shuō)明現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的斷面圖。
首先,如圖13所示,在與上面含有緩沖層101a的玻璃基板1上的設(shè)定區(qū)域中相隔設(shè)定間隔地形成主動(dòng)層102包夾溝道區(qū)域102a。接著,以包覆主動(dòng)層102的方式形成柵極絕緣膜103。其后,對(duì)形成于全面的鉬(Mo)層進(jìn)行圖案化(patterning),由此形成含有柵極104的柵極線(xiàn)104a(參照?qǐng)D13)與含有輔助電容電極105的輔助電容線(xiàn)105a。其后,以柵極104為光罩(mask)而將雜質(zhì)離子植入主動(dòng)層102,由此以包夾溝道區(qū)域102a的方式來(lái)形成一對(duì)源極/漏極區(qū)域102b及102c。
接著,以包覆基板全面的方式而形成層間絕緣膜106。其后,在與層間絕緣膜106的源極區(qū)域102b及漏極區(qū)域102c相對(duì)應(yīng)的區(qū)域分別形成接觸孔106a及106b。
接著,以嵌入接觸孔106a及106b內(nèi)并沿著層間絕緣膜106延伸的方式形成金屬層(未圖示)。然后,對(duì)該金屬層進(jìn)行圖案化,由此形成源極107與漏極108。此時(shí),也同時(shí)形成與漏極108同一層所構(gòu)成的漏極線(xiàn)108a(參照?qǐng)D11)。其中,源極107通過(guò)接觸孔106a而與源極區(qū)域102b電連接地形成,而漏極108通過(guò)接觸孔106b而與漏極區(qū)域102c電連接形成。
接著,在以包覆基板全面的方式形成由丙烯酸酯樹(shù)脂(acrylicresin)構(gòu)成的平坦化膜109之后,在平坦化膜109的設(shè)定部分形成通孔109a及開(kāi)口部109b。接著,在以包覆全面的方式形成鋁釹(AlNd)膜(未圖示)之后,去除AlNd膜的設(shè)定區(qū)域。由此方式,如圖14所示,以通過(guò)通孔109a而與源極107以電連接并沿著平坦化膜109的上面及平坦化膜109的開(kāi)口部109b的側(cè)面延伸的方式,形成由AlNd膜所構(gòu)成的反射電極110。此外,該反射電極110形成為在對(duì)應(yīng)于透過(guò)區(qū)域160b的區(qū)域中具有開(kāi)口部110a。由此方式構(gòu)成形成有反射電極110的反射區(qū)域160a以及未形成有平坦化膜109的開(kāi)口部109b的反射電極110的透過(guò)區(qū)域160b。
接著,如圖15所示,在反射電極110上以及位于開(kāi)口部110a的層間絕緣膜106上形成透明電極111。其后,于含有透明電極111的全面上形成定向膜(未圖示。
最后,如圖12所示,在設(shè)置成與玻璃基板101相對(duì)向的玻璃基板(對(duì)向基板)112上形成濾色片113,同時(shí),在與玻璃基板112上的像素間相對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成黑色矩陣薄膜114。接著,在濾色片113及黑色矩陣薄膜114的上面依序形成透明電極115及定向膜(未圖示)。然后,通過(guò)在玻璃基板101側(cè)的定向膜與玻璃基板112側(cè)的定向膜之間充填液晶層116而形成現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1特開(kāi)2002-98951號(hào)公報(bào)然而,于上述現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置中,由于需要將反射區(qū)域160a中所構(gòu)成反射光的反射電極110另外與其它層分開(kāi)設(shè)置,因此,需要分別將所構(gòu)成構(gòu)成反射電極110的層的堆積工序及對(duì)該層進(jìn)行圖案化的工序分別進(jìn)行。其結(jié)果造成形成工序復(fù)雜化的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提供一種顯示裝置,本發(fā)明第一方面的顯示裝置為一種具有反射區(qū)域的顯示裝置,具有形成在與基板上的反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中且有作為反射膜的功能的反射材料層;形成于反射材料層上的絕緣膜;以及形成于絕緣膜上的透明電極,其中,反射材料層由與具有不同于作為反射膜的功能的設(shè)定功能的層相同的層所形成。
在該第一方面的顯示裝置中,由于可與不同于作為反射膜的功能的設(shè)定功能的層同時(shí)形成反射膜,因此并不需要另外形成反射膜。是故,可簡(jiǎn)化工序。
本發(fā)明的第二方面的顯示裝置的制造方法為一種具有反射區(qū)域的顯示裝置的制造方法,具有在基板上形成具有不同于作為反射膜的功能的設(shè)定功能的反射材料層的工序;以在與反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成的方式而對(duì)反射材料層進(jìn)行圖案化的工序;于反射材料層上形成絕緣膜的工序;以及在絕緣膜上形成透明電極的工序。
在該第二方面的顯示裝置的制造方法中,由于可與具有不同于作為反射膜的功能的設(shè)定功能的層同時(shí)形成反射膜,因此與另外形成反射膜的情形相較的下,可簡(jiǎn)化工序。
圖1表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的構(gòu)造俯視圖。
圖2為圖1所示的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)中沿著50-50線(xiàn)的剖視圖。
圖3所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖4所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖5所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖6所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖7所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖8表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的構(gòu)造的俯視圖。
圖9為圖8所示的第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)中沿著60-60線(xiàn)的剖視圖。
圖10所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖11表示現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的構(gòu)造的俯視圖。
圖12沿為圖11所示的現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)中150-150線(xiàn)的剖視圖。
圖13所構(gòu)成說(shuō)明現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖14所構(gòu)成說(shuō)明現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
圖15所構(gòu)成說(shuō)明現(xiàn)有的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。
符號(hào)說(shuō)明1、玻璃基板;2b源極區(qū)域;2c漏極區(qū)域;4柵極;4a、柵極線(xiàn);5輔助電容電極;5a輔助電容線(xiàn);7源極(反射材料膜、源極/漏極);8漏極;9平坦化膜(絕緣膜);10透明電極;24a柵極線(xiàn)(反射材料膜);25輔助電容電極(反射材料膜);25a輔助電容線(xiàn)(反射材料膜);60a、70a反射區(qū)域;60a、70b透過(guò)區(qū)域。
具體實(shí)施例方式
以下參照?qǐng)D面說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。
(第一實(shí)施方式)圖1表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的構(gòu)造的俯視圖。圖2為沿圖1所示的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)中50-50線(xiàn)的剖視圖。參照?qǐng)D1及圖2,該第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置于1個(gè)像素內(nèi)具有2個(gè)區(qū)域,即反射區(qū)域60a與透過(guò)區(qū)域60b。
關(guān)于第一實(shí)施方式的詳細(xì)構(gòu)造,如圖2所示,在與上面含有緩沖層101a的玻璃基板101上的反射區(qū)域160a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成有主動(dòng)層2,其中,緩沖層101a由SiNx(氮化硅)及SiO2(氧化硅)膜的積層膜所構(gòu)成,而主動(dòng)層2由具有30nm~50nm的厚度且由非單晶硅或非晶硅所構(gòu)成。其中,玻璃基板1為本發(fā)明的“基板”的一例。而在主動(dòng)層2中相隔設(shè)定間隔地形成有源極區(qū)域2b及漏極區(qū)域2c以便包夾溝道區(qū)域2a。而且,在主動(dòng)層2的溝道區(qū)域2a上通過(guò)具有80nm~150nm的厚度且由SiO2膜所構(gòu)成或由SiO2膜及SiN(氮化硅)膜的積層膜所構(gòu)成的柵極絕緣膜103而形成具有200nm~250nm的厚度且由Mo層所構(gòu)成的柵極4。接著,由此由源極區(qū)域2b、漏極區(qū)域2c、柵極絕緣膜3及柵極4而構(gòu)成薄膜晶體管。此外,如圖1所示,柵極4連接于由及柵極4同一層所構(gòu)成的柵極線(xiàn)4a。
如圖2所示,在柵極絕緣膜3上的與反射區(qū)域60a相對(duì)應(yīng)的設(shè)定區(qū)域中,形成有具有200nm~250nm的厚度且由Mo層所構(gòu)成的輔助電容電極5。然后由主動(dòng)層2的輔助電容區(qū)域2d、柵極絕緣膜3與輔助電容電極5而構(gòu)成輔助電容。如圖1所示,輔助電容電極5連接至由與輔助電容電極5同一層所構(gòu)成的輔助電容線(xiàn)5a。其中,輔助電容線(xiàn)5a由各列(row)的像素共同使用。
接著,如圖2所示,以包覆薄膜晶體管及輔助電容的方式,形成具有500nm~700nm的厚度且由SiO2膜及SiNx膜的積層膜所構(gòu)成的柵極絕緣膜6。在該層間絕緣膜6及柵極絕緣膜3的源極區(qū)域2b及漏極區(qū)域2c上分別形成有接觸孔6a及6b。以通過(guò)接觸孔6a而與源極區(qū)域2b以電連接的方式形成源極7。該源極7由下層向上層地由Mo層與Al層與Mo層所構(gòu)成,且具有400nm~800nm的厚度。
在此,在本第一實(shí)施方式中,如圖1及圖2所示,將源極7形成在與反射區(qū)域60a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。由此,源極7也可作為反射膜而發(fā)揮功能。其結(jié)果使得在反射區(qū)域60a中由源極7來(lái)使圖2的箭頭A方向的光反射,以此顯示圖像。另一方面,在透過(guò)區(qū)域60b中使圖2的箭頭B方向的光通過(guò),以此顯示圖像。其中,源極7為本發(fā)明的“反射材料層”及“源極/漏極”的一例。
此外,以通過(guò)接觸孔6b而與漏極區(qū)域2c電連接地形成漏極8。該漏極8與源極7相同地,由下層往上層地由Mo層與Al層與Mo層所構(gòu)成,且具有400nm~800nm的厚度。而且,如圖1所示,漏極8與漏極線(xiàn)8a相連接。
如圖2所示,在層間絕緣膜6上形成有具有通孔9a且具有2μm~3μm的厚度的由丙烯酸酯樹(shù)脂所構(gòu)成的平坦化膜9。其中,該平坦化膜9本發(fā)明的“絕緣膜”的一例。而且,在平坦化膜9上形成有具有100nm~150nm的厚度且由IZO(Indium Zinc Oxide,銦鋅氧化物)所構(gòu)成的透明電極10。該透明電極10通過(guò)通孔9a而與源極7相連接地形成。由此由該透明電極10而構(gòu)成像素電極。
而且,在與玻璃基板1相對(duì)向的位置上與現(xiàn)有的顯示裝置相同地形成有玻璃基板(對(duì)向基板)11、濾色片12以及黑色矩陣薄膜13。然后,在濾色片12以及黑色矩陣薄膜13的上面形成有具有100nm~150nm的厚度且由IZO所構(gòu)成的透明電極14。
此外在透明電極10及14的上面分別成有定向膜(未圖示),且于上述定向膜之間充填液晶層15。
如上所述,在第一實(shí)施方式中,由于可利用在與反射區(qū)域60a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成源極7,由此形成一般的源極7及漏極8的制造過(guò)程,來(lái)形成作為反射膜而發(fā)揮功能的源極7及漏極8,因此不需要另外形成反射電極(反射膜)。由此方式可簡(jiǎn)化制造過(guò)程。
圖3至圖7所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的工序剖視圖。接著,參照?qǐng)D1至圖7說(shuō)明第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的工序。
首先,如圖3所示,于上面含有緩沖層1a的玻璃基板1上的設(shè)定區(qū)域中形成主動(dòng)層2。接著,以包覆主動(dòng)層2的方式形成柵極絕緣膜3。其后,全面形成Mo層40。在Mo層40上的設(shè)定區(qū)域形成光阻膜16。以光阻膜16為光罩,以干蝕刻(dry etching)而對(duì)Mo層40進(jìn)行圖案化,由此形成含有柵極4的柵極線(xiàn)4a(參照?qǐng)D1)與含有輔助電容電極5的輔助電容線(xiàn)5a后,再將光阻膜16去除。
其后,以柵極4為光罩而對(duì)主動(dòng)層2植入離子,由此形成源極區(qū)域2b及漏極區(qū)域2c。
接著,如圖4所示,以包覆全面的方式形成層間絕緣膜6。其后,在與層間絕緣膜6的源極區(qū)域2b及漏極區(qū)域2c相對(duì)應(yīng)的區(qū)域分別形成接觸孔6a及6b。接著,以嵌入接觸孔6a及6b內(nèi)并沿著層間絕緣膜6上延伸的方式形成金屬層50。然后,在金屬層50的設(shè)定區(qū)域上形成光阻膜17。
在此,在本第一實(shí)施方式中將與形成源極7的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的部分的光阻膜17形成在與反射區(qū)域60a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。然后,由此以該光阻膜17為光罩而對(duì)金屬層進(jìn)行濕蝕刻(wet etching)由此進(jìn)行圖案化。由此形成如圖5所示的位在與反射區(qū)域60a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域(參照?qǐng)D1)的源極7與漏極8。此時(shí),也同時(shí)形成由與漏極8同一層所構(gòu)成的漏極線(xiàn)8a(參照?qǐng)D1)。其中,源極7通過(guò)接觸孔6a而與源極區(qū)域2b以電連接的方式形成,而漏極8通過(guò)接觸孔6a而與漏極區(qū)域2c以電連接的方式形成。其后,將光阻膜17去除。
接著,如圖6所示,以包覆全面的方式形成平坦化膜9之后,于平坦化膜9的設(shè)定部分形成通孔9a。
接著,以包覆全面地形成IZO膜(未圖示)之后,將IZO膜的設(shè)定區(qū)域去除。由此方式,如圖7所示,通過(guò)接觸孔9a而與源極7電連接且沿著平坦化膜9的上面延伸的方式形成透明電極10。其后,于透明電極10上形成定向膜(未圖示)。
最后,于玻璃基板(對(duì)向基板)11上形成濾色片12以及黑色矩陣薄膜13,且在濾色片12以及黑色矩陣薄膜13的上面依序形成透明電極14以及定向膜(未圖示)。然后,于上述兩個(gè)定向膜之間充填液晶層15,以由此形成圖2所示的第一實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置。
(第二實(shí)施方式)圖8表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的構(gòu)造的俯視圖。圖9為沿著圖8所示的第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置中(顯示裝置)60-60線(xiàn)的剖視圖。參照?qǐng)D8及圖9,本第二實(shí)施方式不同于上述第一實(shí)施方式,說(shuō)明使輔助電容電極(輔助電容線(xiàn))及柵極線(xiàn)作為反射膜而發(fā)揮功能的例子。第二實(shí)施方式的輔助電容電極(輔助電容線(xiàn))、柵極線(xiàn)及源極以外的構(gòu)造與上述第一即,將由Mo所構(gòu)成的輔助電容電極25及輔助電容線(xiàn)25a形成在與反射區(qū)域70a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。而且,如圖8所示,將柵極線(xiàn)24a形成在與反射區(qū)域70a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。由此方式,輔助電容電極25、輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a也可作為反射膜而發(fā)揮功能。其結(jié)果可在反射區(qū)域70a中,由輔助電容電極25、輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a而使圖9的箭頭A方向的光反射,以此顯示圖像。另一方面,在透過(guò)區(qū)域70b中則使圖9的箭頭B方向的光通過(guò),以此顯示圖像。其中,輔助電容電極25、輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a本發(fā)明的“反射材料層”的一例。
在第二實(shí)施方式中,由于可利用在與反射區(qū)域70a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成輔助電容電極25、輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a,以由此形成一般的輔助電容電極25、輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a的工序,來(lái)同時(shí)形成作為反射膜而發(fā)揮功能的輔助電容電極25、輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a,因此不需要另外形成反射電極(反射膜)。由此方式可簡(jiǎn)化工序。
圖10至圖12所構(gòu)成說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程的剖視圖。接著,說(shuō)明第二實(shí)施方式的半透過(guò)型液晶顯示裝置(顯示裝置)的制造過(guò)程。其中,關(guān)于與第一實(shí)施方式相同的工序則簡(jiǎn)略說(shuō)明的。
首先,如圖10所示,于上面含有緩沖層1a的玻璃基板1上的設(shè)定區(qū)域中形成主動(dòng)層2。接著,以包覆主動(dòng)層2的方式形成柵極絕緣膜3。其后,全面形成Mo層40。在Mo層40上的設(shè)定區(qū)域形成光阻膜28。在此,在第二實(shí)施方式中,在與反射區(qū)域70a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中,形成對(duì)應(yīng)于形成有含有輔助電容電極25的輔助電容線(xiàn)25a的區(qū)域的部分的光阻膜28。然后,以該光阻膜28為光罩,由干蝕刻而對(duì)Mo層40進(jìn)行圖案化。由此如圖10所示,在與反射區(qū)域70a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成含有輔助電容電極25的輔助電容線(xiàn)25a及柵極線(xiàn)24a(參照?qǐng)D1)。而且,由此由Mo層40的圖案化,也同時(shí)形成含有柵極4的柵極線(xiàn)4a(參照?qǐng)D1)。其后,將光阻膜28去除。
其后的工序與第一實(shí)施方式相同。其中,第二實(shí)施方式的源極27不同于第一實(shí)施方式的源極7(參照?qǐng)D2),其并未形成在與反射區(qū)域70a相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中。
其中,上述所揭示的實(shí)施方式僅為例示性質(zhì),不應(yīng)由此以限制本發(fā)明。本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求的范圍揭示,且包括與權(quán)利要求范圍等同的精神與范圍內(nèi)的所有變更,而非上述實(shí)施方式中所作的說(shuō)明。
例如,在上述第一及第二實(shí)施方式中,雖對(duì)于將本發(fā)明適用于具有反射區(qū)域與透過(guò)區(qū)域二者的半透過(guò)型液晶顯示裝置的例加以說(shuō)明,但,本發(fā)明并非局限于此,也可適用于只具有反射區(qū)域的反射型液晶顯示裝置。
此外,不限于上述第一及第二實(shí)施方式,例如,可由圖案化而形成源極等時(shí),同時(shí)形成與源極為相同的層且不與源極、漏極及漏極線(xiàn)的任何一者相連接的呈電性浮游狀態(tài)的反射膜。
此外,不限于上述第一及第二實(shí)施方式,也可使具有其它設(shè)定功能的金屬層作為反射膜而發(fā)揮功能。例如,也可將形成于設(shè)有漏極線(xiàn)或薄膜晶體管的一側(cè)的玻璃基板正上方或是形成于玻璃基板與緩沖層之間的黑色矩陣薄膜(on chip black matrix film,芯片黑色矩陣薄膜)作為反射膜而發(fā)揮功能。即使由此方式,由于可在形成漏極線(xiàn)或芯片黑色矩陣薄膜的工序中,形成作為反射膜而發(fā)揮功能的漏極線(xiàn)或黑色矩陣薄膜,因此不需要重新追加進(jìn)行形成反射電極(反射膜)的工序。其結(jié)果可簡(jiǎn)化工序。
再者,不限于上述第一及第二實(shí)施方式,以主動(dòng)矩陣型液晶顯示裝置(Active Matrix LCD)之外的液晶顯示裝置而言,也可適用于被動(dòng)矩陣型液晶顯示裝置(Passive Matrix LCD)或分節(jié)型液晶顯示裝置(Segment LCD)等的顯示裝置。
此外,不限于上述第一及第二實(shí)施方式,也可使用不具有由石英及塑料所構(gòu)成的透明基板或緩沖層的玻璃基板。
而且,也可使用由ITO(Indium Tin Oxide,銦錫氧化物)等透明導(dǎo)電體(也包含所謂的半透明體)所構(gòu)成的透明電極。
此外,不限于上述第一及第二實(shí)施方式,也可由此由Mo層以外的Cr(鉻)層等高融點(diǎn)金屬層來(lái)形成柵極。而且,可從下層往上層地由Ti(鈦)層與Al(鋁)層與Ti(鈦)層等三層來(lái)形成源極及漏極,也可從下層往上層地由Ti-W(鈦-鎢)層與Al(鋁)層與Ti-W(鈦-鎢)層等三層來(lái)形成源極及漏極。
權(quán)利要求
1.一種具有反射區(qū)域的顯示裝置,其特征在于,具有形成在與基板上的前述反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中,且具有作為反射膜的功能的反射材料層;形成于前述反射材料層上的絕緣膜;以及形成于前述絕緣膜上的透明電極,前述反射材料層由與具有不同于作為前述反射膜的功能的設(shè)定功能的層相同的層所形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,前述反射材料層具有作為前述反射膜的功能,以及不同于作為前述反射膜的功能的設(shè)定功能等兩個(gè)功能。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,還具有形成于前述絕緣膜與前述基板之間具有一對(duì)源極/漏極區(qū)域及柵極的薄膜晶體管;以及與前述一對(duì)源極/漏極區(qū)域相連接的源極/漏極電極,而且作為前述反射膜而發(fā)揮功能的反射材料層由與構(gòu)成前述源極/漏極電極的層相同的層所形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,還包含具有輔助電容電極的輔助電容,而且作為前述反射膜而發(fā)揮功能的反射材料層由與構(gòu)成前述輔助電容電極的輔助電容線(xiàn)的層相同的層所形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,還包含形成于前述絕緣膜與前述基板之間,且具有一對(duì)源極/漏極區(qū)域及柵極的薄膜晶體管,而且作為前述反射膜而發(fā)揮功能的反射材料層由與構(gòu)成前述柵極的層相同的層所形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,還包含形成于前述絕緣膜與前述基板之間的黑色矩陣薄膜,而且前述反射材料層由與構(gòu)成前述黑色矩陣薄膜的層相同的層所形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的顯示裝置,其特征在于,除了前述反射區(qū)域之外,還包括未形成前述反射材料層的透過(guò)區(qū)域。
8.一種具有反射區(qū)域的顯示裝置的制造方法,其特征在于,具有在基板上形成具有不同于作為反射膜的功能的設(shè)定功能的反射材料層的工序;以在與前述反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中形成的方式而對(duì)前述反射材料層進(jìn)行圖案化的工序;于前述反射材料層上形成絕緣膜的工序;以及在前述絕緣膜上形成透明電極的工序。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,還包含于前述絕緣膜與前述基板之間,形成具有一對(duì)源極/漏極區(qū)域及柵極的薄膜晶體管的工序,形成前述反射材料層的工序包括形成與前述一對(duì)源極/漏極區(qū)域相連接的源極/漏極電極層的工序,而對(duì)前述反射材料層進(jìn)行圖案化的工序包括以形成在與前述源極/漏極區(qū)域及前述反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域中的方式對(duì)前述源極/漏極電極層中的至少一個(gè)電極層進(jìn)行圖案化的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,還包含形成具有輔助電容電極的輔助電容線(xiàn)的工序,形成前述反射材料層的工序包括形成構(gòu)成前述輔助電容電極的輔助電容線(xiàn)的層的工序,而對(duì)前述反射材料層進(jìn)行圖案化的工序包括以形成在與前述反射區(qū)域相對(duì)應(yīng)的區(qū)域的方式對(duì)構(gòu)成前述輔助電容線(xiàn)的層進(jìn)行圖案化的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示裝置及其制造方法,其中,該顯示裝置具有形成在與玻璃基板(1)上的反射區(qū)域(60a)相對(duì)應(yīng)的區(qū)域,且具有作為反射膜的功能的源極(7);形成于源極(7)上方的平坦化膜(9);以及形成于平坦化膜(9)上方的透明電極(10)。
文檔編號(hào)G02F1/13GK1540417SQ20041003722
公開(kāi)日2004年10月27日 申請(qǐng)日期2004年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月25日
發(fā)明者小田信彥, 山田努, 奧山正博, 博 申請(qǐng)人:三洋電機(jī)株式會(huì)社