專利名稱：濾色片基板、液晶顯示板、液晶顯示設(shè)備及其制法的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種濾色片基板、液晶顯示板、液晶顯示設(shè)備和該濾色片基板的制法。更加特別地，本發(fā)明涉及一種具有增高亮度的濾色片基板、液晶顯示板、具有該濾色片基板的液晶顯示設(shè)備、以及用于降低成本的制造該濾色片基板的方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示設(shè)備包括具有薄膜晶體管的陣列基板、濾色片基板和設(shè)置在陣列基板與濾色片基板之間的液晶層。液晶層中的液晶材料具有各向異性的介電常數(shù)和各向異性的透射率。因此，在向液晶層施加電場時，液晶層中的液晶分子重新排列，從而調(diào)整光的透射率以顯示圖像。
一般而言，液晶材料不發(fā)射光。因此，液晶顯示設(shè)備使用環(huán)境光或由液晶顯示設(shè)備內(nèi)部裝置產(chǎn)生的光來顯示圖像。
當(dāng)移動裝備的液晶顯示設(shè)備僅使用由內(nèi)部裝置產(chǎn)生的光時，用于提供電源的電池尺寸增大，導(dǎo)致了該移動裝備尺寸增大。當(dāng)液晶顯示設(shè)備僅使用環(huán)境光時，液晶顯示設(shè)備無法在陰暗處顯示圖像。然而，當(dāng)液晶顯示設(shè)備使用由內(nèi)部裝置產(chǎn)生的光和環(huán)境光兩者時，可以解決上述問題。
通常，反射透射型液晶顯示設(shè)備包括液晶顯示板、光學(xué)膜組件和背光組件。
液晶顯示板包括濾色片基板、陣列基板和液晶層。濾色片基板包括濾色片和公共電極。陣列基板包括反射電極、透明電極和薄膜晶體管。液晶層設(shè)置在陣列基板與濾色片之間。光學(xué)膜組件包括偏振片和補償膜。背光組件設(shè)置在液晶顯示板下，用于為液晶顯示板提供光。
液晶可以按各種方式配向。因此，根據(jù)液晶的配向，液晶顯示設(shè)備可以分類為扭轉(zhuǎn)向列(TNtwisted nematic)模式、超扭轉(zhuǎn)向列(STNsupertwisted nematic)模式、混合扭轉(zhuǎn)向列(MTNmixed twisted nematic)模式、垂直配向(VAvertical alignment)模式或電控雙折射(ECBelectrically controlledbirefringence)模式。
濾色片允許波長與濾色片的顏色相對應(yīng)的光通過濾色片。因此，在光通過濾色片時，亮度降低。
進入液晶顯示設(shè)備的外部光通過濾色片和液晶層，從而在反射電極上反射。由此，反射光再次通過液晶層和濾色片，以離開液晶顯示設(shè)備。因此，外部光通過液晶層和濾色片兩次。
由背光組件產(chǎn)生的光通過透明電極、液晶層和濾色片，從而離開液晶顯示設(shè)備。因此，由背光組件產(chǎn)生的光通過液晶層和濾色片一次。
在光通過濾色片時，光的亮度降低。因此，從反射電極反射的光的亮度比通過透明電極的光的亮度低。
韓國待審查專利公開No.2001-0055636公開了一種包括具有不同厚度的濾色片的濾色片基板。即，濾色片具有分別與透明電極和反射電極相對應(yīng)的第一和第二部分，且第一部分比第二部分厚。
然而，從反射電極反射的光通過液晶層兩次，而通過透明電極的光通過液晶層一次。因此，從反射電極反射的光的光學(xué)條件與通過透明電極的光的光學(xué)條件不同，使得顯示質(zhì)量下降。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種濾色片基板，其提高了亮度的均勻性，并且降低了制造成本。
本發(fā)明還提供了一種制造該濾色片基板的方法。
本發(fā)明還提供了一種包括該濾色片基板的液晶顯示板。
本發(fā)明還提供了一種制造該液晶顯示板的方法。
本發(fā)明還提供了一種包括該濾色片基板的液晶顯示設(shè)備。
在根據(jù)本發(fā)明的典型濾色片基板中，該濾色片基板包括基板、濾色片和公共電極?；灏ㄍ干鋮^(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)。濾色片形成在基板上，并且濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共電極設(shè)置在濾色片上。公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分。第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
在制造該濾色片基板的典型方法中，在包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)的基板上形成濾色片。濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分。第一部分和第二部分具有彼此不同的厚度。然后，在濾色片上形成公共電極。公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分。第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
在根據(jù)本發(fā)明的典型液晶顯示板中，液晶顯示板包括第一基板、第二基板和液晶層。第一基板包括基板、濾色片和公共電極。基板包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)。濾色片形成在基板上，并且濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共電極設(shè)置在濾色片上，并且公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分。第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。第二基板面對該第一基板。液晶層設(shè)置在第一與第二基板之間。
在制造該液晶顯示板的典型方法中，形成第一基板。該第一基板包括基板、濾色片和公共電極?；灏ㄍ干鋮^(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)。濾色片形成在基板上，并且濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共電極設(shè)置在濾色片上。公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分。第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。另外，形成第二基板。然后，將該第一和第二基板組裝在一起，并且在第一與第二基板之間形成液晶層。
在根據(jù)本發(fā)明的典型液晶顯示板中，液晶顯示板包括第一基板、第二基板、液晶層、上部光學(xué)膜組件和下部光學(xué)膜組件。第一基板包括基板、濾色片和公共電極?；灏ㄍ干鋮^(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)。濾色片形成在基板上，并且濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共電極設(shè)置在濾色片上，并且公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分。第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。第二基板面對該第一基板。液晶層設(shè)置在第一與第二基板之間。上部光學(xué)膜組件設(shè)置在第一基板的上表面上。上部光學(xué)膜組件包括上部四分之一波片和設(shè)置在上部四分之一波片上的上部偏振片。下部光學(xué)膜組件設(shè)置在第二基板的下表面上。下部光學(xué)膜組件包括下部四分之一波片和設(shè)置在下部四分之一波片上的下部偏振片。
根據(jù)本發(fā)明，濾色片基板包括厚度根據(jù)區(qū)域而不同的濾色片。即，透射區(qū)的濾色片比反射區(qū)的濾色片厚，使得反射電極與公共電極之間的距離大于透明電極與公共電極之間的距離。由此，透射區(qū)的電場比反射區(qū)的強。因此，即使外部光通過反射區(qū)的液晶層兩次，而從背光組件產(chǎn)生的光通過透射區(qū)的液晶層一次，也可以使亮度均勻。


通過參照附圖詳細(xì)介紹本發(fā)明的典型實施例，本發(fā)明的上述及其它特征和優(yōu)點將變得更加明顯易懂，其中圖1為顯示具有厚度不同的公共電極的液晶顯示設(shè)備的示意圖；圖2為沿著圖1的線A-A’截取的截面圖；圖3A至3I為顯示圖1的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖；圖4為顯示根據(jù)本發(fā)明第一典型實施例的液晶顯示設(shè)備的示意分解透視圖；圖5為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的示意圖；圖6為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的反射和透明電極的平面圖；圖7為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的公共電極的平面圖；圖8為沿圖5的線B-B’截取的截面圖；圖9A至9J為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖；圖10為顯示根據(jù)本發(fā)明第二典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖；圖11A至11E為顯示圖10的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖；圖12為顯示根據(jù)本發(fā)明第三典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖；圖13A至13E為顯示圖12的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖；圖14為顯示根據(jù)本發(fā)明第四典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖；以及圖15為顯示根據(jù)本發(fā)明第五典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖。
具體實施例方式
下面將參照附圖詳細(xì)介紹本發(fā)明的優(yōu)選實施例。
包括帶狹縫濾色片的液晶顯示設(shè)備圖1為顯示具有厚度不同的公共電極的液晶顯示設(shè)備的示意圖，而圖2為沿著圖1的線A-A’截取的截面圖。
參照圖1和2，液晶顯示設(shè)備分別包括液晶顯示板、上部和下部光學(xué)膜組件130和135。
液晶顯示板包括第一和第二基板170和180，以及液晶層108。第一基板170包括上基板100、黑矩陣102、濾色片104a和104b、覆蓋層105a和105b、公共電極106和間隔層110。第一基板170包括透射區(qū)157和反射區(qū)158。第二基板180包括下基板120、薄膜晶體管119、柵極絕緣層126、鈍化層116、有機層114、透明電極112和反射電極113。第二基板180包括像素區(qū)140和光阻擋區(qū)145。
液晶顯示設(shè)備通過調(diào)整液晶層180的液晶分子的排列來顯示圖像。像素區(qū)140包括反射電極區(qū)149和透明電極區(qū)147。反射電極反射進入液晶顯示板的外部光，而透明電極允許由背光組件產(chǎn)生的光通過透明電極。
透射區(qū)157與透明電極區(qū)147相對應(yīng)，而反射區(qū)158與光阻擋區(qū)145和反射電極區(qū)149相對應(yīng)。反射區(qū)158還與透射區(qū)157相鄰。反射區(qū)158可以僅與反射電極區(qū)149相對應(yīng)。
薄膜晶體管119、透明電極112的一部分和反射電極113設(shè)置在反射電極區(qū)149中，而反射電極112的其余部分設(shè)置在透明電極區(qū)147中。
光阻擋區(qū)145與像素區(qū)140相鄰。源極線118a’、柵極線118b和驅(qū)動電路(未示出)設(shè)置在光阻擋區(qū)145中。
黑矩陣102形成于上基板上，使得黑矩陣102設(shè)置于光阻擋區(qū)145中。
濾色片104a和104b形成于其上形成有黑矩陣102的上基板100上，使濾色片104a和104b允許具有特定波長的光通過。濾色片104a和104b包括用于提高透射率的狹縫103。狹縫103設(shè)置在反射電極113上方。
覆蓋層105a和105b、以及公共電極106交替設(shè)置在其上形成有黑矩陣102、以及濾色片104a和104b的上基板100上。與透射區(qū)157相對應(yīng)的公共電極106b設(shè)置在位于濾色片104a上的覆蓋層105a上。而，與反射區(qū)158相對應(yīng)的公共電極106a設(shè)置在濾色片104a和104b以及覆蓋層105b之間。
由此，即使反射電極區(qū)149的單元間隙與透明電極區(qū)147的單元間隙基本相同，公共電極106a和106b的高度差也能在反射電極區(qū)149與透明電極區(qū)147之間形成不同的電場。
覆蓋層105a和105b保護濾色片104a和104b，并且覆蓋層105a和105b平整了形成在黑矩陣102與濾色片104a和104b之間的臺階部分。
間隔層110形成在其上形成有黑矩陣102、濾色片104a和104b、覆蓋層105a和105b、以及公共電極106的上基板100上。
形成在下基板120上的薄膜晶體管119包括源極電極118a、柵極電極118b、漏極電極118c和半導(dǎo)體層圖形。
驅(qū)動電路(未示出)經(jīng)源極線118a’向源極電極118a施加數(shù)據(jù)電壓。驅(qū)動電路(未示出)還經(jīng)柵極線118b’向柵極電極118b施加掃描信號。
存儲電容(未示出)形成在下基板120上，使得存儲電容保持公共電極106與反射電極113之間或公共電極106與透明電極112之間的電壓。
柵極絕緣層126形成在其上形成有柵極電極118b的下基板120上，使得柵極絕緣層126將柵極電極118b與源極電極118a和漏極電極118c電學(xué)絕緣。
鈍化層116形成在其上形成有薄膜晶體管119的下基板120上，并且鈍化層116包括用于暴露部分漏極電極118c的接觸孔。
透明電極112形成在鈍化層116上和接觸孔的內(nèi)壁上，使得透明電極112與漏極電極118c電連接。
反射電極113設(shè)置在鈍化層116和部分透明電極112上。反射電極113反射外部光。
驅(qū)動電路(未示出)經(jīng)薄膜晶體管119向透明電極112和反射電極113施加數(shù)據(jù)電壓，從而在公共電極116a與反射電極113之間和公共電極116b與透明電極112之間形成電場。
液晶層108設(shè)置在第一與第二基板170與180之間，并且用密封劑(未示出)密封液晶顯示層108。
研磨層(未示出)可形成在第一和第二基板170和180上，從而對準(zhǔn)液晶層108的液晶分子。對研磨層(未示出)的表面進行研磨。
上部光學(xué)膜組件130包括上部四分之一波片132和上部偏振片134。上部四分之一波片132設(shè)置在上基板100的上表面上，且上部四分之一波片132將通過上部四分之一波片132的光的相位延遲λ/4。上部偏振片134設(shè)置在上部四分之一波片132上，從而偏振通過上部四分之一波片132的光。
下部光學(xué)膜組件135包括下部四分之一波片136和下部偏振片138。下部四分之一波片136設(shè)置在下基板120的下表面上，且下部四分之一波片136將通過下部四分之一波片136的光的相位延遲λ/4。下部偏振片138設(shè)置在下部四分之一波片136上，從而偏振通過下部四分之一波片136的光。
圖3A至3I為顯示圖1的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖。
參照圖3A，用于顯示圖像的像素區(qū)140和用于阻擋光的光阻擋區(qū)145定義在下基板120上。另外，反射電極區(qū)149和透明電極區(qū)147定義在像素區(qū)140內(nèi)。
然后，在下基板120上形成薄膜晶體管119、柵極線118b’和源極線118a’。
然后，具有用于暴露薄膜晶體管119的漏極電極118c的接觸孔的鈍化層116形成在其上形成有薄膜晶體管119的下基板120上。
然后，在鈍化層116上形成透明電極112和反射電極113。
由此，完成了包括下基板120、薄膜晶體管119、源極線118a’、柵極線118b’、透明電極112和反射電極113的第二基板180。
參照圖3B，在上基板100上形成黑矩陣102，使得黑矩陣設(shè)置在光阻層145上方。然后，在其上形成有黑矩陣102的上基板100上形成包括狹縫103的濾色片104a和104b。狹縫103設(shè)置在反射電極區(qū)149上方。
參照圖3C，在其上形成有濾色片104a和104b的上基板100上涂覆包括光致抗蝕劑的透明熱固性塑料(thermosetting plastic)。然后，經(jīng)掩模107a曝光熱固性塑料。掩模107a具有與反射區(qū)158相對應(yīng)的開口。掩模107a與狹縫103相對應(yīng)的部分包括狹縫或網(wǎng)目(half tone)，使得僅一部分光可以通過掩模107a。
參照3D，顯影熱固性塑料從而形成狹縫103，并且在透射區(qū)157中形成覆蓋層105a。
參照圖3E，在其上形成有黑矩陣102、濾色片104a和104b、以及覆蓋層105a的上基板100上涂覆透明且導(dǎo)電的材料，從而形成公共電極106。公共電極106具有根據(jù)區(qū)域而不同的高度。公共電極106形成在反射區(qū)158中的部分106a的高度與形成在透射區(qū)157中的部分106b的高度不同。
參照圖3F，在公共電極106上涂覆熱固性塑料105b’。然后，經(jīng)暴露出透射區(qū)157的掩模107b曝光熱固性塑料105b’。熱固性塑料105b’可以基本上與圖3C的熱固性塑料105a’相同，或熱固性塑料105b’可以與圖3C的熱固性塑料105a’不同。
參照圖3G，顯影熱固性塑料105b’從而形成平整了公共電極106的臺階部分的覆蓋層105b。
參照圖3H，具有公共電極106和覆蓋層105b的上基板100上形成間隔層110。由此，形成了包括濾色片104a和104b、覆蓋層105a和105b、公共電極106、以及間隔層110的第一基板170。
參照圖3I，將第一和第二基板170和180組裝在一起，并且在第一與第二基板170與180之間諸如液晶材料，從形成液晶層108。由此，完成液晶顯示板。
然后，在液晶顯示板的上表面上附裝上部四分之一波片132和上部偏振片134，從而形成上部光學(xué)膜組件130，并且在液晶顯示板的下表面上附裝下部四分之一波片136和下部偏振片138，從而形成下部光學(xué)膜組件135。
由此，形成在反射電極區(qū)149中的狹縫103增高了在反射電極113上反射的光的亮度。另外，在反射電極區(qū)149和透明電極區(qū)處具有不同高度的公共電極106優(yōu)化了與反射電極區(qū)149和透明電極區(qū)147相對應(yīng)的液晶層108的光學(xué)條件。
然而，交替形成覆蓋層105a和105b、以及公共電極106的工藝非常復(fù)雜，使得該工藝增大了制造成本。因此，生產(chǎn)率下降。另外，公共電極106與狹縫103相鄰的部分可具有不規(guī)則的形狀。
實施例1圖4為顯示根據(jù)本發(fā)明第一典型實施例的液晶顯示設(shè)備的示意分解透視圖。圖5為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的示意圖。圖6為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的反射和透明電極的平面圖。圖7為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的公共電極的平面圖，而圖8為沿圖5的線B-B’截取的截面圖。
參照圖4至8，根據(jù)本發(fā)明第一典型實施例的液晶顯示設(shè)備包括液晶顯示板、上部光學(xué)膜組件230和下部光學(xué)膜組件235。
液晶顯示板包括第一基板270、第二基板280和液晶層208。第一基板270包括上基板200、黑矩陣202、濾色片204a和204b、覆蓋層205a、公共電極206和間隔層210a。第一基板270包括透射區(qū)257和反射區(qū)258。第二基板280包括下基板220、薄膜晶體管219、柵極絕緣層226、鈍化層216、有機層214、透明電極212和反射電極213。第二基板280包括像素區(qū)240和光阻擋區(qū)245。像素區(qū)240包括紅色像素區(qū)、綠色像素區(qū)和藍色像素區(qū)。
液晶顯示設(shè)備調(diào)整液晶層208的液晶分子的排列來顯示圖像。像素區(qū)240包括用于反射外部光的反射電極區(qū)249，以及由背光組件(未示出)產(chǎn)生的光通過其中的透明電極透明電極區(qū)247。透射區(qū)257與透明電極區(qū)247相對應(yīng)。反射區(qū)258與透射區(qū)257相鄰，并且反射區(qū)258與光阻擋區(qū)245和反射電極區(qū)249相對應(yīng)。反射區(qū)258還可以僅與反射電極區(qū)249相對應(yīng)。
薄膜晶體管219和透明電極212設(shè)置在反射電極區(qū)249中，而反射電極213設(shè)置在透明電極區(qū)247中。
光阻擋區(qū)245設(shè)置在像素區(qū)240附近。源極線218a’、柵極線218b’和驅(qū)動電路(未示出)設(shè)置在光阻擋區(qū)245中。
上基板200和下基板220包括諸如玻璃的透明材料。用于上基板200和下基板220的玻璃不包括堿離子。當(dāng)玻璃包括堿離子時，液晶層208中液晶材料的電阻率由于堿離子而降低，導(dǎo)致顯示質(zhì)量的降低。另外，堿離子降低了密封劑與玻璃之間的結(jié)合力，且薄膜晶體管的運行劣化。
上基板200和下基板220可以包括三醋酸纖維(TACtriacetylcellulose)、聚碳酸酯(PCpolycarbonate)、聚醚砜(PESpolyethersulfone)、聚對苯二甲酸乙二酯(PETpolyethyleneterephthalte)、聚對敘二甲酸乙二酯(PENpolyethylenenaphthalte)、聚乙烯醇(PVApolyvinylalcohol)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMApolymethylmethacrylate)、環(huán)烯聚合物(COPcyclo-olefin polymer)等。
優(yōu)選地，上基板200和下基板220為光學(xué)等向性的。
在上基板上設(shè)置黑矩陣202，使得黑矩陣202設(shè)置于光阻擋區(qū)245中。黑矩陣202阻擋通過光阻擋區(qū)245的光以提高顯像質(zhì)量。黑矩陣202可以通過蝕刻金屬或不透明有機材料膜形成。金屬可包括鉻(Cr)、氧化鉻(CrOx)、氮化鉻(CrNx)等，而不透明有機材料可包括碳黑、色素合成物、染料合成物等。色素合成物或染料合成物包括紅色合成物、綠色合成物和藍色合成物?？梢栽谏匣?00上涂覆包括光致抗蝕劑的不透明材料，并構(gòu)圖以形成黑矩陣202。紅色濾色片、綠色濾色片和藍色濾色片可交疊以形成黑矩陣。
濾色片204a和204b形成于其上形成有黑矩陣202的上基板200上，從而選擇性地使具有特定波長的光通過。濾色片204a和204b包括紅色濾色片、綠色濾色片和藍色濾色片。濾色片204a和204b包括光起始劑(photoinitiator)、單體(monomer)、粘合劑(binder)、色素(pigment)、分散劑(disperser)、溶劑(solvent)、光致抗蝕劑(photoresist)等。透射區(qū)257的濾色片204a和204b比反射區(qū)258的濾色片204a和204b厚。優(yōu)選，透射區(qū)257的濾色片204a和204b對反射區(qū)258的濾色片204a和204b的厚度比為從約1.8∶1至約2.2∶1。
由背光組件(未示出)產(chǎn)生的光通過透明電極區(qū)247的濾色片204a和204b一次，而離開液晶顯示設(shè)備。然而，經(jīng)反射電極區(qū)249的濾色片204a和204b進入液晶顯示設(shè)備的外部光在反射電極上朝向反射電極區(qū)249的濾色片204a和204b反射，并再次經(jīng)反射電極區(qū)249的濾色片204a和204b離開液晶顯示設(shè)備。因此，透明電極區(qū)247的亮度基本與反射電極區(qū)249的亮度相同。
公共電極206設(shè)置在濾色片204a和204b上。相對于上基板200的表面，透射區(qū)257的公共電極206比反射區(qū)258的公共電極206高。公共電極206包括透明導(dǎo)電材料，例如氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)。
因此，即使反射電極區(qū)249的單元間隙基本與透明電極區(qū)247的單元間隙相同，根據(jù)反射電極區(qū)249和透明電極區(qū)247而具有不同高度的公共電極也將根據(jù)反射電極區(qū)249和透明電極區(qū)247而產(chǎn)生對液晶層208的不同電場。
即，反射電極區(qū)249的公共電極206a與反射電極213之間的距離比透明電極區(qū)247的公共電極206b與透明電極212之間的距離大，使得反射電極區(qū)249的公共電極206a與反射電極213之間形成的電場比透明電極區(qū)247的公共電極206b與透明電極212之間的電場弱。
因此，在向公共電極206a和206b施加參考電壓，并向反射電極213和透明電極212施加像素電壓時，反射電極區(qū)249的液晶的排列與透明電極區(qū)247的液晶的排列不同。
從背光組件(未示出)產(chǎn)生的光通過透明電極區(qū)247的液晶層208一次而離開液晶顯示設(shè)備。外部光經(jīng)反射電極區(qū)249的液晶層208進入液晶顯示設(shè)備，在反射電極213上反射，而后經(jīng)反射電極區(qū)249的液晶層208離開液晶顯示設(shè)備。因此，外部光通過液晶層208兩次。然而，反射電極區(qū)249的液晶分子的排列與透明電極區(qū)247的液晶分子的排列不同。因此，經(jīng)透明電極區(qū)247離開液晶顯示設(shè)備的光的光學(xué)特性與經(jīng)反射電極區(qū)249離開液晶顯示設(shè)備的光的光學(xué)特性類似。
覆蓋層205a設(shè)置在反射區(qū)258的公共電極206a上。覆蓋層205a保護公共電極206a并平整化濾色片204a和204b的臺階部分。優(yōu)選，覆蓋層205可包括諸如丙烯樹脂、聚酰亞胺等的熱固性塑料。覆蓋層205a可形成在透射區(qū)257的公共電極206b上。當(dāng)覆蓋層205a形成在透射區(qū)257的公共電極206b上時，形成在公共電極206a上的覆蓋層205a的厚度比僅在反射區(qū)上形成覆蓋層205a的情況大。
間隔層210a形成在具有黑矩陣202、濾色片204a和204b、覆蓋層205a、以及公共電極206的上基板上。間隔層210a保持第一基板270與第二基板280之間的單元間隙。優(yōu)選，間隔層210a與黑矩陣202相對應(yīng)地設(shè)置。
間隔層210a可以是柱狀間隔層、球狀間隔層或混合間隔層。
薄膜晶體管219形成在下基板220上。薄膜晶體管219包括源極電極218a、柵極電極218b、漏極電極218c和半導(dǎo)體層圖形。
驅(qū)動電路(未示出)經(jīng)源極線218a’向源極電極218a施加數(shù)據(jù)電壓，驅(qū)動電路還經(jīng)柵極線218b’向柵極電極218b施加掃描信號。
存儲電容(未示出)形成在下基板220上。存儲電容保持反射區(qū)258的公共電極206a與反射電極213之間、或透射區(qū)257的公共電極206b與透明電極212之間的電壓差。存儲電容(未示出)可以是前端柵極型或絕緣引線型。
柵極絕緣層226形成在其上形成有柵極電極218b的下基板220上，使得柵極絕緣層226將柵極電極218b從源極電極218a和漏極電極218c處電學(xué)絕緣。柵極絕緣層226可以包括氮化硅(SiNx)。
鈍化層216設(shè)置在其上形成有薄膜晶體管219的下基板220上。鈍化層216包括用于暴露部分漏極電極218c的接觸孔。鈍化層可包括氮化硅(SiNx)。
可以在鈍化層226上形成有機層(未示出)。
透明電極212形成在鈍化層216上和接觸孔的內(nèi)壁上。因此，透明電極212與漏極電極218c電連接。當(dāng)像素電壓施加于透明電極212時，電場形成在透明電極212與公共電極206b之間，以調(diào)整透明電極區(qū)247的液晶層208的液晶分子的排列。由此，調(diào)制光的透射率，以顯示圖像。透明電極212可包括透明且導(dǎo)電的材料，諸如氧化銦錫(IZO)、氧化銦鋅(ITO)、氧化鋅(ZO)等。
反射電極213形成在鈍化層216和部分透明電極212上，以反射外部光。反射電極213包括導(dǎo)電材料，并且經(jīng)透明電極212與漏極電極218c電連接。
驅(qū)動電路(未示出)經(jīng)薄膜晶體管219向透明電極212和反射電極213施加像素電壓。在反射電極213與公共電極206a之間、以及透明電極212與公共電極206b之間形成電場。
液晶層208設(shè)置在第一與第二基板270與280之間，并且用密封劑(未示出)密封液晶層208的液晶材料。
液晶層208中的液晶材料可以按各種方式配向。因此，液晶顯示設(shè)備可以根據(jù)液晶的配向分類為扭轉(zhuǎn)向列(TN)模式、超扭轉(zhuǎn)向列(STN)模式、混合扭轉(zhuǎn)向列(MTN)模式、垂直配向(VA)模式或電控雙折射(ECB)模式。
例如，液晶配向為垂直配向模式。
配向膜(未示出)可形成在第一和第二基板270和280上，從而通過研磨配向?qū)?未示出)來對準(zhǔn)液晶分子。
上部光學(xué)膜組件230包括上部四分之一波片232和上部偏振片234。上部四分之一波片232設(shè)置在上基板200的上表面上，且上部四分之一波片232將通過上部四分之一波片232的光的相位延遲λ/4。上部偏振片234設(shè)置在上部四分之一波片232上，從而偏振通過上部四分之一波片232的光。偏振軸垂直于上部偏振片234的偏振軸的光無法通過上部偏振片234。
可以在上部偏振片234的上表面上設(shè)置保護膜(未示出)。保護膜可設(shè)置在上部四分之一波片232與上部偏振片234之間，或在上部四分之一波片232與上基板200之間。
下部光學(xué)膜組件235包括下部四分之一波片236和下部偏振片238。下部四分之一波片236設(shè)置在下基板220的下表面上，且下部四分之一波片236將通過下部四分之一波片236的光的相位延遲λ/4。下部偏振片238設(shè)置在下部四分之一波片236上，從而偏振通過下部偏振片238的光。偏振軸垂直于下部偏振片238的偏振軸的光無法通過下部偏振片238。
可以在下部偏振片238的下表面上設(shè)置保護膜(未示出)。保護膜可設(shè)置在下部四分之一波片236與下部偏振片238之間，或在下部四分之一波片236與下基板220之間。
上部和下部光學(xué)膜組件230和235彼此面對，并且上部和下部偏振片234和238的偏振軸彼此可以基本垂直。
圖9A至9J為顯示圖4的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖。
參照圖9A，在下基板220上限定用于顯示圖像的像素區(qū)240和用于阻擋光的光阻擋區(qū)245。另外，在像素區(qū)240內(nèi)限定反射電極區(qū)249和透明電極區(qū)247。
然后，在下基板220上形成薄膜晶體管219、柵極線218b’和源極線218a’。
然后，在其上形成有薄膜晶體管219的下基板220上形成具有用于暴露薄膜晶體管219的漏極電極218c的接觸孔的鈍化層216。
然后，在透明電極區(qū)247及反射電極區(qū)249中的鈍化層216上形成透明電極212和反射電極213。
由此，完成了包括下基板220、薄膜晶體管219、源極線218a’、柵極線218b’、透明電極212和反射電極213的第二基板280。
參照圖9B，在上基板200上形成黑矩陣202，使得黑矩陣設(shè)置在光阻層245上方。在上基板200上限定與透明電極區(qū)247相對應(yīng)的透射區(qū)257、以及與光阻擋區(qū)245和反射電極區(qū)249相對應(yīng)的反射區(qū)258。
參照圖9C，在其上形成有黑矩陣202的上基板200上涂覆紅色濾色片合成物204a’。紅色濾色片合成物204a’包括光起始劑、單體、粘合劑、色素、分散劑、溶劑、光致抗蝕劑等。然后，在紅色濾色片合成物204a’上方設(shè)置紅色濾色片掩模207a。經(jīng)紅色濾色片掩模207a曝光紅色濾色片合成物204a’。紅色濾色片掩模207a包括透明區(qū)、半透明區(qū)和不透明區(qū)。紅色濾色片掩模207a的透明區(qū)與綠色濾色片區(qū)、藍色濾色片區(qū)、光阻擋區(qū)245和周邊區(qū)(未示出)相對應(yīng)。該半透明區(qū)可以經(jīng)狹縫或網(wǎng)目物質(zhì)形成，并且半透明區(qū)與光阻擋區(qū)245、周邊區(qū)(未示出)和紅色像素區(qū)中的反射電極區(qū)249相對應(yīng)。不透明區(qū)與透明電極區(qū)247相對應(yīng)。
參照9D，顯影紅色濾色片合成物從而形成紅色濾色片204a。反射電極區(qū)249的紅色濾色片204a比透明電極區(qū)247的紅色濾色片245a薄。
參照圖9E，在完成紅色濾色片時，在上基板200上涂覆綠色濾色片合成物204b’。綠色濾色片合成物204b’包括光起始劑、單體、粘合劑、色素、分散劑、溶劑、光致抗蝕劑等。然后，在綠色濾色片合成物204b’上方設(shè)置綠色濾色片掩模207b。經(jīng)綠色濾色片掩模207b曝光綠色濾色片合成物204b’。綠色濾色片掩模207b包括透明區(qū)、半透明區(qū)和不透明區(qū)。綠色濾色片掩模207b的透明區(qū)與紅色濾色片區(qū)、藍色濾色片區(qū)、光阻擋區(qū)245和周邊區(qū)(未示出)相對應(yīng)。該半透明區(qū)可以經(jīng)狹縫或網(wǎng)目物質(zhì)形成，并且半透明區(qū)與綠色像素區(qū)中的反射電極區(qū)249相對應(yīng)。不透明區(qū)與透明電極區(qū)247相對應(yīng)。
參照圖9F，顯影綠色濾色片合成物，從而形成綠色濾色片204b。反射電極區(qū)249的綠色濾色片比透明電極區(qū)247的綠色濾色片204b薄。
然后，可以通過相同的工序，在其上形成有紅色和綠色濾色片的上基板200上形成藍色濾色片(未示出)。
在上述內(nèi)容中，例如，紅色、綠色和藍色濾色片按順序形成。也可以按照任意順序形成紅色、綠色和藍色濾色片。
參照圖9G，在濾色片204a和204b上涂覆透明且導(dǎo)電的材料，從而形成公共電極206。相對于上基板200的表面，透射區(qū)257的公共電極206比反射電極區(qū)258的公共電極206高。
參照圖9H，在公共電極206上涂覆包括光致抗蝕劑的熱固性塑料。然后，經(jīng)掩模(未示出)曝光熱固性塑料，并且顯影熱固性塑料以形成覆蓋層205a。覆蓋層205a設(shè)置在反射區(qū)258的公共電極206a上。
參照圖9I，在公共電極206和覆蓋層205a上涂覆熱固性塑料，并且曝光并顯影熱固性塑料，從而形成間隔層210a。
由此，完成了包括濾色片204a和204b、覆蓋層205、公共電極206、以及間隔層210的第一基板270。
參照圖9J，第一和第二基板270和280組裝在一起，在第一與第二基板270與280之間注入液晶材料，從而形成液晶層208。由此完成液晶顯示板。
然后，在液晶顯示板的上表面上附裝上部四分之一波片232和上部偏振片234，從而形成上部光學(xué)膜組件230，并在液晶顯示板的下表面上附裝下部四分之一波片236和下部偏振片238，從而形成下部光學(xué)膜組件235。
液晶顯示設(shè)備包括濾色片204a和204b、公共電極206、以及覆蓋層205a。透射區(qū)257的濾色片204a和204b比反射區(qū)258的濾色片204a和204b厚。因此，形成在濾色片204a和204b上的公共電極206具有不同的高度。即，反射電極區(qū)249的公共電極206與反射電極213之間的距離比透明電極區(qū)247的公共電極206與透明電極212之間的距離大，使得反射電極區(qū)249的公共電極206與反射電極213之間形成的電場比透明電極區(qū)247的公共電極206與透明電極212之間的電場弱。由此，與透明電極區(qū)247和反射電極區(qū)249相對應(yīng)的亮度均勻。
另外，覆蓋層205a僅形成在公共電極層206上，從而降低了制造成本，并提高了生產(chǎn)率。另外，濾色片204a和204b不包括狹縫，使得形成在反射區(qū)258中的公共電極206a具有均勻的截面。
實施例2圖10為顯示根據(jù)本發(fā)明第二典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖。本實施例的液晶顯示設(shè)備與實施例1中的相同，除去覆蓋層和間隔層。因此，用相同的附圖標(biāo)記表示與實施例1中相同或相似的部件，并且將略去進一步的說明。
參照圖10，根據(jù)本發(fā)明第二典型實施例的液晶顯示設(shè)備包括液晶顯示板、上部光學(xué)膜組件230和下部光學(xué)膜組件235。
液晶顯示板包括第一基板270、第二基板280和液晶層208。第一基板270包括上基板200、黑矩陣202、濾色片204a和204b、公共電極206和間隔層210b。
公共電極206設(shè)置在濾色片204a和204b上。相對于上基板200的表面，透射區(qū)257的公共電極206比反射區(qū)258的公共電極206高。
間隔層210b形成在公共電極206上，而間隔層210b保持第一與第二基板270與280之間的單元間隙。
圖11A至11E為顯示圖10的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖。
參照圖11A，形成包括下基板220、薄膜晶體管219、源極線218a’、柵極線218b’、透明電極212和反射電極213的第二基板280。
參照圖11B，在上基板200上順序形成黑矩陣202、濾色片204a’和204b、以及公共電極206。
參照圖11C，在公共電極206上涂覆包括光致抗蝕劑的材料210b’。然后，在材料210b’上方設(shè)置掩模211b，并曝光材料210b’。掩模211b包括透明部分和不透明部分。不透明部分與間隔層210b相對應(yīng)。
參照圖11D，顯影材料210b’，從而形成間隔層210b。由此，完成了包括黑矩陣202、濾色片204a和204b、公共電極206和間隔層210b的第一基板270。
參照圖11E，將第一和第二基板270和280組裝在一起，并且在第一與第二基板270與280之間注入液晶材料，從而形成液晶層208。然后，分別在上基板200的上表面和下基板220的下表面上形成上部和下部光學(xué)膜組件230和235。
根據(jù)本發(fā)明，在公共電極206上未形成覆蓋層。然而，在光阻擋區(qū)245的公共電極206上形成間隔層210b。由此，簡化了制造工藝。
實施例3圖12為顯示根據(jù)本發(fā)明第三典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖。本實施例的液晶顯示設(shè)備與實施例1中的相同，除去覆蓋層和間隔層。因此，用相同的附圖標(biāo)記表示與實施例1中相同或相似的部件，并且將略去進一步的說明。
參照圖12，根據(jù)本發(fā)明第三典型實施例的液晶顯示設(shè)備包括液晶顯示板、上部光學(xué)膜組件230和下部光學(xué)膜組件235。
液晶顯示板包括第一基板270、第二基板280和液晶層208。第一基板270包括上基板200、黑矩陣202、濾色片204a和204b、覆蓋層205c、公共電極206和間隔層210c。
公共電極206設(shè)置在濾色片204a和204b上。相對于上基板200，透射區(qū)257的公共電極206b比反射區(qū)258的公共電極206a高。
覆蓋層205c設(shè)置在反射區(qū)258的公共電極206a上。在覆蓋層205c上形成間隔層210c，使得間隔層210c與覆蓋層205c一體地形成。因此，間隔層210c包括與覆蓋層205c相同的材料。間隔層210c和覆蓋層205c包括熱固性塑料，諸如丙烯樹脂、聚酰亞胺等。
覆蓋層205c平整化了的第一基板270的表面，使得液晶層208中的液晶分子配向均勻。
圖13A至13E為顯示圖12的液晶顯示設(shè)備的制造工序的截面圖。
參照圖13A，形成包括下基板220、薄膜晶體管219、源極線218a’、柵極線218b’、透明電極212和反射電極213的第二基板280。
參照圖13B，在上基板200上順序形成黑矩陣202、濾色片204a和204b、以及公共電極206。
參照圖13C，在公共電極206上涂覆包括光致抗蝕劑的熱固性塑料。然后，經(jīng)掩模211c曝光熱固性塑料。掩模211c包括透明區(qū)、半透明區(qū)和不透明區(qū)。透明區(qū)與透射區(qū)257相對應(yīng)。不透明區(qū)與間隔層210c相對應(yīng)，而半透明區(qū)與反射區(qū)258相對應(yīng)。
參照圖13D，顯影曝光的熱固性塑料，從而同時形成覆蓋層205c和間隔層210c。
由此，完成了包括黑矩陣202、濾色片204a和204b、公共電極206、覆蓋層205c和間隔層210c的第一基板270。
參照圖13E，將第一和第二基板270和280組裝在一起，并且在第一與第二基板270與280之間注入液晶材料，從而形成液晶層208。由此，完成液晶顯示板。
然后，在液晶顯示板的上表面和下表面上形成上部光學(xué)膜組件230和下部光學(xué)膜組件。
根據(jù)本實施例，間隔層210c與覆蓋層205c一體地形成，從而簡化了制造工藝。
實施例4圖14為顯示根據(jù)本發(fā)明第四典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖。本實施例的液晶顯示設(shè)備與實施例1中的相同，除去覆蓋層。因此，用相同的附圖標(biāo)記表示與實施例1中相同或相似的部件，并將略去進一步的說明。
參照圖14，根據(jù)本發(fā)明第四典型實施例的液晶顯示設(shè)備包括液晶顯示板、上部光學(xué)膜組件230和下部光學(xué)膜組件235。
液晶顯示板包括第一基板270、第二基板280和液晶層208。第一基板270包括上基板200、黑矩陣202、濾色片204a和204b、覆蓋層205d、公共電極206和間隔層210d公共電極206設(shè)置在濾色片204a和204b上。相對于上基板200，與透射區(qū)257對應(yīng)的公共電極206b比與反射區(qū)258對應(yīng)的公共電極206a高。
覆蓋層205d設(shè)置在與反射區(qū)258對應(yīng)的公共電極206a上。覆蓋層205d包括凹凸部分。凹凸部分提高了反射電極區(qū)249的光的光學(xué)性質(zhì)。
以下，將說明形成包括凹凸部分的覆蓋層205d的方法。
在公共電極206上涂覆包括光致抗蝕劑的熱固性塑料。
然后，經(jīng)掩模(未示出)曝光熱固性塑料。掩模包括透明區(qū)和半透明區(qū)。透明區(qū)與透射區(qū)257相對應(yīng)，而半透明區(qū)與反射區(qū)258相對應(yīng)。掩模(未示出)的半透明區(qū)包括多個狹縫。
然后，顯影熱固性塑料，從而形成包括凹凸部分的覆蓋層205d。
間隔層210d設(shè)置在覆蓋層205d上。
根據(jù)本實施例，覆蓋層205d包括凹凸部分，從而增強了反射電極區(qū)249的光的光學(xué)性質(zhì)。
實施例5圖15為顯示根據(jù)本發(fā)明第五典型實施例的液晶顯示設(shè)備的截面圖。本實施例的液晶顯示設(shè)備與實施例1中的相同，除去濾色片。因此，用相同的附圖標(biāo)記表示與實施例1中相同或相似的部件，并將略去進一步的說明。
參照圖15，根據(jù)本發(fā)明第五典型實施例的液晶顯示設(shè)備包括液晶顯示板、上部光學(xué)膜組件230和下部光學(xué)膜組件235。
液晶顯示板包括第一基板270、第二基板280和液晶層208。第一基板270包括上基板200、黑矩陣202、濾色片204c和204d、覆蓋層205e、公共電極206和間隔層210e。
濾色片204c和204d形成在其上形成有黑矩陣的上基板上。濾色片204c和204d選擇性地透射具有特定波長的光。透射區(qū)257的濾色片204c比反射區(qū)258的濾色片204d厚。濾色片204d包括凹凸部分。凹凸部分提高了反射電極區(qū)249的光的光學(xué)性質(zhì)。
以下，將說明形成具有凹凸部分的濾色片204c和204d的方法。
在其上形成有黑矩陣202的上基板200上涂覆用于形成紅色濾色片的紅色濾色片合成物。然后，經(jīng)掩模(未示出)曝光紅色濾色片合成物。該掩模包括透明區(qū)、半透明區(qū)和不透明區(qū)。透明區(qū)與綠色像素區(qū)、藍色像素區(qū)、光阻擋區(qū)(245)和周邊區(qū)(未示出)相對應(yīng)。半透明區(qū)包括狹縫，并且半透明區(qū)與光阻擋區(qū)245、周邊區(qū)(未示出)和紅色像素區(qū)的反射電極區(qū)249相對應(yīng)?？梢哉{(diào)節(jié)狹縫之間的距離和紫外光的強度來形成凹凸部分。
然后，顯影紅色濾色片合成物，從而形成紅色濾色片204c。
然后，順序形成綠色濾色片和藍色濾色片。紅色、綠色和藍色濾色片可以按任意順序形成。
公共電極206形成在濾色片204c和204d上。由此，將形成在凹凸部分204d上的公共電極206e形成為凹凸不平。
覆蓋層205e設(shè)置在與反射區(qū)258相對應(yīng)的公共電極206e上。
根據(jù)本實施例，濾色片204c和204d包括凹凸部分，以增強反射電極區(qū)249的光的光學(xué)性質(zhì)。另外，平整化第一基板270從而使液晶層208的液晶分子的配向均勻。
根據(jù)本發(fā)明典型實施例，液晶顯示設(shè)備包括厚度根據(jù)區(qū)域而不同的濾色片。即，透射區(qū)的濾色片比反射區(qū)的濾色片厚。由此，形成在濾色片上的公共電極具有根據(jù)區(qū)域而不同的高度。即，反射電極與公共電極之間的距離比透明電極與公共電極之間的距離長，從而使光的亮度均勻。
另外，在公共電極上形成覆蓋層，從而降低制造成本并提高生產(chǎn)率。另外，濾色片不包括狹縫，使得反射區(qū)的公共電極具有均勻的截面。
覆蓋層可以略去，或者間隔層可以與覆蓋層一體地形成，從而降低制造成本。
覆蓋層或濾色片可以包括凹凸部分，以提高反射電極區(qū)的光的光學(xué)性質(zhì)。
利用上述本發(fā)明典型實施例及其優(yōu)點，注意，可以在不脫離由所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下對此進行各種改動、替換和變化。
權(quán)利要求
1.一種濾色片基板，包括基板，包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)；濾色片，形成在基板上，濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；以及公共電極，設(shè)置在濾色片上，公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分，第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
2.如權(quán)利要求1所述的濾色片基板，其中該第一部分比第二部分厚。
3.如權(quán)利要求2所述的濾色片基板，其中該第一部分與該第二部分的比例在從約1.8∶1至約2.2∶1的范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的濾色片基板，其中該濾色片包括提高光學(xué)性質(zhì)的凹凸部分。
5.如權(quán)利要求1所述的濾色片基板，還包括形成在該公共電極上的間隔層。
6.如權(quán)利要求1所述的濾色片基板，還包括形成在該公共電極的第四部分上的覆蓋層。
7.如權(quán)利要求6所述的濾色片基板，還包括形成在該覆蓋層上的間隔層。
8.如權(quán)利要求7所述的濾色片基板，其中覆蓋層包括提高光學(xué)性質(zhì)的凹凸部分。
9.如權(quán)利要求7所述的濾色片基板，其中該覆蓋層和該間隔層彼此一體形成。
10.一種制造濾色片基板的方法，包括在包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)的基板上形成濾色片，濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分，第一部分和第二部分具有彼此不同的厚度；以及在濾色片上形成公共電極，公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分，第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中該第二部分包括提高光學(xué)性質(zhì)的凹凸部分。
12.如權(quán)利要求10所述的方法，還包括在公共電極上形成覆蓋層。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中該覆蓋層按以下方式形成在濾色片上涂覆包括光致抗蝕劑的材料；經(jīng)掩模曝光該材料；以及顯影該材料以形成該覆蓋層。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中該覆蓋層包括提高光學(xué)性質(zhì)的凹凸部分。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中該掩模包括狹縫。
16.如權(quán)利要求10所述的方法，還包括在公共電極上形成覆蓋層；以及在覆蓋層上形成間隔層。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其中該覆蓋層和該間隔層彼此一體形成。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中該覆蓋層和該間隔層按以下方式形成在濾色片上涂覆包括光致抗蝕劑的材料；經(jīng)掩模曝光該材料，該掩模包括透明區(qū)、半透明區(qū)和不透明區(qū)；以及顯影該材料，從而同時形成該覆蓋層和該間隔層。
19.一種液晶顯示板，包括第一基板；第二基板，面對該第一基板；以及液晶層，設(shè)置在第一與第二基板之間，其中，該第一基板包括基板，包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)；濾色片，形成在基板上，濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；以及公共電極，設(shè)置在濾色片上，公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分，第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
20.如權(quán)利要求19所述的液晶顯示板，其中該第一部分比該第二部分厚。
21.如權(quán)利要求20所述的液晶顯示板，其中該第一部分與該第二部分的比例在從約1.8∶1至約2.2∶1的范圍內(nèi)。
22.一種形成液晶顯示板的方法，包括形成第一基板；形成第二基板；組裝該第一和第二基板；以及在第一與第二基板之間形成液晶層，其中，該第一基板包括基板，包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)；濾色片，形成在基板上，濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；以及公共電極，設(shè)置在濾色片上，公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分，第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
23.如權(quán)利要求22所述的方法，其中該覆蓋層和該間隔層彼此一體形成。
24.如權(quán)利要求23所述的方法，其中該覆蓋層和該間隔層按以下方式形成在濾色片上涂覆包括光致抗蝕劑的材料；經(jīng)掩模曝光該材料，該掩模包括透明區(qū)、半透明區(qū)和不透明區(qū)；以及顯影該材料，從而同時形成該覆蓋層和該間隔層。
25.一種液晶顯示設(shè)備，包括第一基板；第二基板，面對該第一基板；液晶層，設(shè)置在第一與第二基板之間；上部光學(xué)膜組件，設(shè)置在第一基板的上表面上，上部光學(xué)膜組件包括上部四分之一波片和設(shè)置在上部四分之一波片上的上部偏振片；以及下部光學(xué)膜組件，設(shè)置在第二基板的下表面上，下部光學(xué)膜組件包括下部四分之一波片和設(shè)置在下部四分之一波片上的下部偏振片，其中，該第一基板包括基板，包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)；濾色片，形成在基板上，濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；以及公共電極，設(shè)置在濾色片上，公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分，第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。
26.如權(quán)利要求25所述的液晶顯示設(shè)備，其中該第一部分與該第二部分的比例在從約1.8∶1至約2.2∶1的范圍內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種濾色片基板、液晶顯示板、液晶顯示設(shè)備及其制法。該濾色片基板包括基板、濾色片和公共電極。基板包括透射區(qū)和與透射區(qū)相鄰的反射區(qū)。濾色片形成在基板上，并且濾色片包括形成在透射區(qū)中的第一部分和形成在反射區(qū)中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共電極設(shè)置在濾色片上。公共電極包括形成在透射區(qū)中的第三部分和形成在反射區(qū)中的第四部分。第三部分和第四部分相對于基板具有彼此不同的高度。因此，即使光通過反射區(qū)的液晶層兩次，而通過透射區(qū)的液晶層一次，亮度也能變得均勻。
文檔編號G02B5/20GK1624498SQ20041003173
公開日2005年6月8日 申請日期2004年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月5日
發(fā)明者姜承坤 申請人:三星電子株式會社