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液晶顯示裝置及其制造方法

文檔序號(hào):2692813閱讀:159來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:液晶顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)
液晶顯示裝置是一種對(duì)被夾入在一對(duì)基片之間的液晶層上施加電壓,來(lái)改變液晶分子方向,利用由于分子方向的改變而導(dǎo)致液晶層的光傳遞性能的改變,來(lái)顯示黑白或彩色特性或圖像的顯示裝置。
附圖40是表示背景技術(shù)中黑白液晶顯示裝置5的放大結(jié)構(gòu)的剖面圖。
液晶顯示裝置5包括一反向基片51,一透明基片60,和一通過(guò)在反向基片51和透明基片60之間注入液晶而形成的液晶層57。在透明基片60上形成有屏蔽膜59,薄膜電極58和定向膜55a。信號(hào)線52,諸如薄膜晶體管(簡(jiǎn)稱為“TFT”)的驅(qū)動(dòng)器件53,像素電極54和定向膜55a形成在反向基片51上。將由玻璃或塑料構(gòu)成的襯墊56夾入在反向基片51和透明基片60之間,用以保證反向基片51和透明基片60之間的預(yù)定間隙。將襯墊56涂布于反向基片51或透明基片60上。另外,使用光刻法將襯墊56形成在反向基片51或透明基片60之上。(參考“最新液晶應(yīng)用技術(shù)”(“The Latest Liquid Crystal ApplicationTechnologies”),液晶應(yīng)用技術(shù)研究會(huì)(Liquid Crystal ApplicationTechnology Research Society)編著,K.K.Kogyo Chosakai出版,11月15,1994,P3~6)。
如圖40所示,把信號(hào)線52,驅(qū)動(dòng)器件53和屏蔽膜59以朝向液晶層57突起的方式形成在液晶顯示裝置5中的不是用作顯示的非顯示區(qū)70上。因此,由在非顯示區(qū)70上互相相對(duì)的定向膜55所限定的間隙h1,明顯的小于由在顯示區(qū)71上互相相對(duì)的定向膜55所限定的間隙h2(h1<h2)。因此,在液晶顯示裝置5的制造過(guò)程中,當(dāng)將液晶注入在反向基片51和透明基片60之間時(shí),信號(hào)線52,驅(qū)動(dòng)裝置53和屏蔽膜59在非顯示區(qū)70起阻擋層作用。由于該阻擋層阻止了液晶的液化,并使液晶的液化通路變小,使得液晶不能平滑的注入,并且使液晶的注入速度下降,因此注入液晶需要很長(zhǎng)時(shí)間。
最近幾年隨著液晶顯示裝置越來(lái)越小,反向基片51和透明基片60之間的間隙也變得越來(lái)越小,上面所述的非顯示區(qū)70的間隙h1也變小。結(jié)果是液晶在非顯示區(qū)70的液化通路也變小,并且注入速度下降,由此導(dǎo)致了注入時(shí)間顯著增加的嚴(yán)重問(wèn)題。
隨著液晶顯示裝置尺寸的加大,像素?cái)?shù)目也變大,而非顯示區(qū)70的小間隙h1的不利影響也加大。有時(shí),很難將液晶作為一個(gè)整體注入到液晶顯示裝置中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種能通過(guò)增加液晶的注入速度而縮短液晶的注入時(shí)間的液晶顯示裝置,提高生產(chǎn)率,并實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)的液晶顯示裝置及其制造方法。
本發(fā)明的液晶顯示裝置,包括一第一基片,在第一基片一個(gè)表面上有多個(gè)用于驅(qū)動(dòng)液晶的像素電極,分別對(duì)應(yīng)于像素電極排列的多個(gè)驅(qū)動(dòng)器件,用于控制像素電極的電勢(shì),和與驅(qū)動(dòng)裝置電連接的電線;當(dāng)朝向在其上有像素電極的第一基片時(shí),與第一基片相對(duì)排列的第二基片;和通過(guò)在第一基片和第二基片之間注入液晶而形成的液晶層;其中第一基片包括在其上布置了驅(qū)動(dòng)器件和電線、不是用于顯示的非顯示區(qū),和除非顯示區(qū)以外的用于顯示的顯示區(qū),第二基片包括一透明層,透明層被布置在朝向第一基片的表面的至少一部分上,該部分對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)和非顯示區(qū)之外的顯示區(qū)。
根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置,包括一第一基片,在其一個(gè)表面上有多個(gè)用于驅(qū)動(dòng)液晶的像素電極,分別對(duì)應(yīng)于像素電極排列的多個(gè)驅(qū)動(dòng)器件,用于控制像素電極的電勢(shì),和與驅(qū)動(dòng)裝置電連接的電線;當(dāng)朝向在其上有像素電極的第一基片時(shí),與第一基片相對(duì)排列的第二基片;和通過(guò)在第一基片和第二基片之間注入液晶而形成的液晶層;其中第一基片包括在其上布置了驅(qū)動(dòng)器件和電線、不是用于顯示的非顯示區(qū),和不同于非顯示區(qū)的、用于顯示的顯示區(qū),第二基片包括一透明層,它被布置在朝向第一基片的表面的至少一部分上,該部分對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)和非顯示區(qū)之外的顯示區(qū)。依照上述結(jié)構(gòu),至少是作為非顯示區(qū)的一部分的液晶層的厚度t1可以不需要通過(guò)改變顯示區(qū)的液晶層的厚度t2就可以得到增加。
當(dāng)?shù)诙谄鋵?duì)應(yīng)于顯示區(qū)并朝向第一基片的表面上不具備透明層時(shí),則非顯示區(qū)液晶層的厚度t1取決于顯示區(qū)液晶層的厚度t2。為增加厚度t1,必須增加厚度t2。即不可以在不改變厚度t2的情況下改變厚度t1。但是在為增加厚度t1而增加厚度t2時(shí),注入液晶需要很長(zhǎng)的時(shí)間,這是因?yàn)樾枰⑷朐诘谝换偷诙g的液晶數(shù)量增加了。當(dāng)厚度t2變得相當(dāng)大時(shí),很難使厚度t2均勻地整體遍布液晶顯示裝置,顯示缺陷隨之發(fā)生。
如上所述,本發(fā)明的液晶顯示裝置,在至少顯示區(qū)第二基片朝向第一基片的的表面上具有透明層。因此,即使增大第一基片和第二基片之間的間隙而增加厚度t1時(shí),通過(guò)調(diào)節(jié)透明層的厚度,厚度t2的增量也比第一基片和第二基片之間的間隙增量小,即厚度t1可以增加,而厚度t2不改變,且厚度t1可以增加到大于厚度t2。因此,能增加基本垂直于第一和第二基片的非顯示區(qū)的液晶層表面的截面面積,當(dāng)液晶注入在第一和第二基片之間時(shí),能保證液晶在上面配置了驅(qū)動(dòng)器件和電線的非顯示區(qū)的液化通路,并能降低液化阻力。因此,可得到在生產(chǎn)過(guò)程中液晶的注入速度高、液晶的注入時(shí)間短且生產(chǎn)率高的液晶顯示裝置。還能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)液晶顯示裝置。
本發(fā)明優(yōu)選的是,至少部分非顯示區(qū)的液晶層的厚度t1是顯示區(qū)的液晶層厚度t2的0.48倍或更多(t1γ0.48t2)。
根據(jù)本發(fā)明,至少部分非顯示區(qū)的液晶層的厚度t1至少是顯示區(qū)的液晶層厚度t2的0.48倍(t1γ0.48t2)。因此,當(dāng)液晶注入在第一和第二基片之間時(shí),能保證液晶在上面配置了驅(qū)動(dòng)器件和電線的非顯示區(qū)的液化通路,并能降低液化阻力。因此,可在生產(chǎn)過(guò)程中,可得到液晶的注入速度高、液晶的注入時(shí)間短、具有高生產(chǎn)率的液晶顯示裝置。還能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)液晶顯示裝置。
本發(fā)明優(yōu)選的是透明層是由樹(shù)脂組成的。
根據(jù)本發(fā)明,透明層是由樹(shù)脂組成的。因此,透明層能很容易的成形在第二基片上。
本發(fā)明優(yōu)選的是,第二基片在其朝向第一基片的部分表面上有一個(gè)屏蔽膜,該部分表面對(duì)應(yīng)于第一基片的非顯示區(qū)。
根據(jù)本發(fā)明,第二基片還在該第二基片的朝向第一基片的部分表面上有一個(gè)屏蔽膜,該部分表面對(duì)應(yīng)于第一基片的非顯示區(qū)。包含在液晶層中的液晶的方向不能在非顯示區(qū)中得到控制,在該區(qū)中,驅(qū)動(dòng)器件和電線配置在第一基片上。因此,當(dāng)屏蔽膜不是位于朝向第一基片并與第一基片的非顯示區(qū)對(duì)應(yīng)的第二基片的部分表面上時(shí),通過(guò)非顯示區(qū)液晶層的光線通過(guò)第二基片并轉(zhuǎn)換為顯示光的一部分,由此引發(fā)了顯示缺陷的發(fā)生。由于本發(fā)明的液晶顯示裝置包括位于第二基片的朝向第一基片的與第一基片非顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的部分表面上的屏蔽膜,但是由于通過(guò)非顯示區(qū)液晶層的光線不通過(guò)第二基片,所以可以抑制顯示缺陷的發(fā)生。當(dāng)屏蔽膜不是位于第二基片的朝向第一基片的與第一基片的非顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的部分表面上時(shí),外部光束附帶進(jìn)入配置在第一基片非顯示區(qū)的驅(qū)動(dòng)器件內(nèi),并產(chǎn)生電流。該電流錯(cuò)誤的流過(guò)像素電極,并將電壓施加在液晶層上,從而某些情況下造成顯示缺陷的發(fā)生。由于本發(fā)明的液晶顯示裝置包括一位于第二基片的朝向第一基片的與第一基片的非顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的部分表面上的屏蔽膜,因此能阻止外部光線附帶進(jìn)入到驅(qū)動(dòng)器件,并抑制顯示缺陷的發(fā)生。由于第二基片在如前所述的朝向第一基片、與第一基片顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的第二基片的至少一部分上的透明層,因此,可將非顯示區(qū)液晶層的厚度t1增加,所以即使在非顯示區(qū)具有屏蔽膜的結(jié)構(gòu)下,也不需改變顯示區(qū)液晶層的厚度t2。因此,在制造過(guò)程中無(wú)需降低液晶的注入速度,就可使液晶顯示裝置的顯示缺陷減小。
本發(fā)明優(yōu)選的是,將透明層布置在朝向第一基片的第二基片的部分表面上,該部分表面分別對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)和非顯示區(qū),布置在至少對(duì)應(yīng)于非顯示區(qū)的至少部分表面上的透明層的厚度d1,比對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的部分表面上的透明層的厚度d2(d1<d2)小。
根據(jù)本發(fā)明,布置在與非顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的至少部分表面上的透明層的厚度d1,比于顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的部分表面上的透明層的厚度d2(d1<d2)小。由此,至少部分顯示區(qū)的液晶層在與第一和第二基片垂直的平面內(nèi)的截面面積可進(jìn)一步加大。布置在與非顯示區(qū)相對(duì)應(yīng)的部分表面上的透明層朝向第二基片凹進(jìn)形成一凹部,當(dāng)將液晶注入到第一基片和第二基片時(shí),該凹部起到通道的作用。由此,注入的液晶流過(guò)凹部,并快速注入到互相結(jié)合的第一和第二基片的末端。由此,液晶的注入速度得到進(jìn)一步的提高,生產(chǎn)過(guò)程中的注入時(shí)間也得到進(jìn)一步的縮短。
本發(fā)明優(yōu)選的是,不將透明層布置在對(duì)應(yīng)于非顯示區(qū)部分的至少一部分上。
根據(jù)本發(fā)明,透明層不是布置在對(duì)應(yīng)于非顯示區(qū)部分的至少一部分上。因此,至少部分顯示區(qū)的液晶層在與第一和第二基片垂直的平面內(nèi)的截面面積可以進(jìn)一步加大。在相鄰?fù)该鲗又g限定出一個(gè)間隙,當(dāng)將液晶注入第一和第二基片之間時(shí),該間隙作為一個(gè)流路。因此,注入的液晶流過(guò)間隙,并能快速注入到互相結(jié)合的第一和第二基片的末端。這樣在生產(chǎn)過(guò)程中能進(jìn)一步提高液晶的注入速度,縮短注入時(shí)間。
本發(fā)明優(yōu)選的是,不將透明層布置在對(duì)應(yīng)于非顯示區(qū)部分的至少一部分上,并且當(dāng)驅(qū)動(dòng)器件的厚度為0.2~0.4μm時(shí),顯示區(qū)的液晶層的厚度為1.0~5.0μm,屏蔽膜的厚度s為0.5~2.0μm時(shí),對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)部分的至少一部分的透明層的厚度d2與屏蔽膜厚度s的差Δd(Δd=d2-s)滿足以下公式(1)。
-1.5μm<Δd<2.4μm...(1)本發(fā)明優(yōu)選的是該差Δd滿足以下的公式(2)0μmφΔd<1.0μm ...(2)根據(jù)本發(fā)明,由于可以在一個(gè)合適的范圍內(nèi)選擇對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的透明層部分的厚度d2與屏蔽膜的差Δd,因此在制造過(guò)程中能進(jìn)一步提高液晶的注入速度和縮短注入時(shí)間。
本發(fā)明優(yōu)選的是,多個(gè)像素電極之間以預(yù)定間隙排列成矩陣,組成一像素電極矩陣,將像素電極矩陣的兩相鄰行,以由在行方向排列的多個(gè)像素電極所定義的像素周期互相一致的方式排列,將像素電極矩陣的兩相鄰列,以由在列方向排列的多個(gè)像素電極所定義的像素周期互相一致的方式排列,并且將屏蔽膜排列在向平行于像素電極矩陣的列方向延伸的像素電極矩陣的列之間的位置上。
根據(jù)本發(fā)明,由多個(gè)像素電極構(gòu)成的像素電極矩陣的兩相鄰行,是以排列周期互相一致的方式排列的,由多個(gè)像素電極構(gòu)成的像素電極矩陣的兩相鄰列,是以排列周期互相一致的方式排列的。每個(gè)屏蔽膜排列在像素電極矩陣的列之間的一個(gè)位置上,以沿與像素電極矩陣列的列方向平行的方向延伸。即,屏蔽膜不是沿與像素電極矩陣的列方向垂直的方向存在的并延伸,并且光傳遞區(qū)具有一條紋排列。由此,能獲得顯示性能等很好的液晶顯示裝置,其包括多個(gè)平行于像素電極矩陣列方向的線性元件,具有高的孔徑率,適合筆記本型電腦,電視接受器等。如上所述,第二基片具有位于朝向第一基片的第二基片的至少部分表面上的透明層,該部分表面對(duì)應(yīng)于第一基片的顯示區(qū)。因此能提高液晶的注入速度,縮短注入的時(shí)間,并提高制造這種液晶顯示裝置在制造過(guò)程中的生產(chǎn)率。
本發(fā)明優(yōu)選的是,多個(gè)像素電極之間以預(yù)定間隙排列成矩陣組成一像素電極矩陣,將像素電極矩陣的兩相鄰行,以由在行方向排列的多個(gè)像素電極所定義的像素周期互相一致的方式排列,像素電極矩陣的兩相鄰列,以由在列方向排列的多個(gè)像素電極所定義的像素周期互相一致的方式排列,將屏蔽膜排列在像素電極矩陣的行之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的行方向平行的方向延伸,且將其排列在像素電極矩陣的列之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的列方向平行的方向延伸。
根據(jù)本發(fā)明,由多個(gè)像素電極構(gòu)成的像素電極矩陣的兩相鄰行,是以排列周期互相一致的方式排列的,由多個(gè)像素電極構(gòu)成的像素電極矩陣的兩相鄰列,是以排列周期互相一致的方式排列的。將屏蔽膜排列在像素電極矩陣的行之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的行方向平行的方向延伸,并將其排列在像素電極矩陣的列之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的列方向平行的方向延伸。換句話說(shuō),光的可傳遞部分具有鑲嵌排列。由此可獲得具有在像素電極矩陣的行和列方向均具有高斜線的顯示性能的液晶顯示裝置,適于測(cè)量?jī)x器等。如前所述,第二基片在第二基片的朝向第一基片的至少部分表面上具有透明層,該部分表面對(duì)應(yīng)于第一基片的顯示區(qū)。因此,能提高液晶的注入速度,縮短注入時(shí)間并提高這種液晶顯示裝置的制造過(guò)程中的生產(chǎn)率。
本發(fā)明優(yōu)選的是,多個(gè)像素電極之間以預(yù)定間隙排列成矩陣形成一像素電極矩陣,將像素矩陣的兩相鄰行,以由在行方向排列的多個(gè)像素電極所確定的像素周期互相偏離大約半個(gè)周期的方式排列,將像素矩陣的兩相鄰列,以由在列方向排列的多個(gè)像素電極所確定的像素周期互相一致的方式排列,并且將屏蔽膜排列在像素電極矩陣的行之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的行方向平行的方向延伸,且將其排列在像素電極矩陣的列之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的列方向平行的方向延伸。
根據(jù)本發(fā)明,將像素矩陣的兩相鄰行,以由在行方向排列的多個(gè)像素電極所定義的像素周期互相偏離大約半個(gè)周期的方式排列,將像素矩陣的兩相鄰列,以像素周期互相一致的方式排列。并且將屏蔽膜排列在像素電極矩陣的行之間的位置上,以沿與像素電極矩陣列的行方向平行的方向延伸,并將其排列在像素電極矩陣的列之間的位置上,以沿像素電極矩陣列的列方向延伸。換句話說(shuō),光的可傳遞部分具有一德?tīng)査?Δ)排列。因此可獲得具有良好圖像顯示、適于電視接受器等的液晶顯示裝置。如前所述,第二基片在第二基片朝向第一基片的至少部分表面上具有透明層,該部分表面對(duì)應(yīng)于第一基片的顯示區(qū)。因此,可提高液晶的注入速度,縮短注入時(shí)間并提高這種液晶顯示裝置的制造過(guò)程中的生產(chǎn)率。
本發(fā)明優(yōu)選的是,透明層在可見(jiàn)光范圍具有至少80%的平均傳遞率。
根據(jù)本發(fā)明,透明層在可見(jiàn)光區(qū)域具有至少80%的平均傳遞率。因此能阻止用于顯示的光被透明層吸收,并阻止光能的下降和顯示的變暗。
本發(fā)明優(yōu)選的是透明層的厚度是2.0μm或以下。
根據(jù)本發(fā)明,透明層的厚度是2.0μm或以下。透明層的厚度在其形成時(shí)有5~10%的變化。但如上所述,當(dāng)透明層的厚度是2.0μm或以下時(shí),透明層厚度的變化可保持在0.2μm或以下。因?yàn)樯厦嫘纬捎型该鲗拥囊壕拥暮穸瓤梢詼p少,因此可以防止由于液晶層厚度的變化而導(dǎo)致的顯示質(zhì)量的降低。
本發(fā)明還提供一種制造液晶顯示裝置的方法,包括步驟在一個(gè)形成有多個(gè)用于驅(qū)動(dòng)液晶的像素電極的表面上,制備第一基片,布置分別與像素電極對(duì)應(yīng)的多個(gè)的驅(qū)動(dòng)器件,用于控制像素電極的電勢(shì),在第一基片的表面上將電線與驅(qū)動(dòng)器件電連接;制備用作另一基片的第二基片,在對(duì)應(yīng)于第一基片的顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面上形成透明層;將第一基片和第二基片結(jié)合,使上面形成有像素電極的第一基片的表面與上面具有透明層的第二基片的表面相對(duì),它們之間留有預(yù)定間隙;通過(guò)在第一基片和第二基片之間注入液晶形成液晶層。
根據(jù)本發(fā)明,把多個(gè)像素電極,多個(gè)驅(qū)動(dòng)器件和電線成形在第一基片的一個(gè)表面上,在對(duì)應(yīng)于第一基片的顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面上的一部分形成透明層,將第一基片和第二基片相互結(jié)合,使其上形成有像素電極的第一基片的表面與其上具有透明層的第二基片的表面以預(yù)定間隙彼此相對(duì);在第一基片和第二基片之間注入液晶而形成液晶層,由此完成液晶顯示裝置。由于透明層是形成在對(duì)應(yīng)于第一基片的顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面上的,所以當(dāng)將第一基片與第二基片結(jié)合時(shí),由第一基片的表面層和第二基片的表面層在非顯示區(qū)所確定的間隙T1增大,而不需改變由第一基片的表面層和第二基片的表面層在顯示區(qū)所確定的間隙T2。此處,術(shù)語(yǔ)“第一基片的表面層”是指第一基片朝向第二基片的所有層中最靠近第二基片的層。該術(shù)語(yǔ)是表示非顯示區(qū)中的驅(qū)動(dòng)器件或電線,而在顯示區(qū)做像素電極。
第一基片的表面層并不局限于驅(qū)動(dòng)器件、電線和像素電極,也可如圖1所示,是在制造液晶顯示裝置的定向膜時(shí)形成在第一基片上的層。術(shù)語(yǔ)“第二基片的表面層”是指第二基片朝向第一基片的所有層中最靠近第一基片的層。該術(shù)語(yǔ)表示在非顯示區(qū)的第二基片自身和在顯示區(qū)的透明層。第二基片的表面層并不局限是第二基片和透明層,也可如圖1所示,是在制造液晶顯示裝置的定向膜時(shí)形成在第二基片上的層。
當(dāng)透明層不是形成在對(duì)應(yīng)于成為第一基片的顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面上時(shí),非顯示區(qū)的間隙T1取決于顯示區(qū)的間隙T2。因此,為增加間隙T1,必須增加間隙T2。即,不可在不改變間隙T1的情況下改變間隙T2。但在為增加間隙T1而增加間隙T2時(shí),注入在第一基片和第二基片之間的液晶量增加,并需要更長(zhǎng)時(shí)間注入液晶。當(dāng)間隙T2過(guò)分大時(shí),很難使間隙T2均勻地整體遍布基片,由此液晶顯示裝置將產(chǎn)生顯示缺陷。
在本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法中,透明層是形成在對(duì)應(yīng)于成為第一基片的顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面上的。因此,即使加大第一基片和第二基片之間的間隙以增加間隙t1時(shí),通過(guò)調(diào)節(jié)透明層的厚度,間隙t2的增量也比第一基片和第二基片之間的增量小。即可以增加間隙t1而不改變間隙t2。間隙t1可做的比間隙t2大。因此,能增加在基本上垂直于第一和第二基片平面內(nèi)的非顯示區(qū)的液晶層表面的截面面積,當(dāng)液晶注入在第一和第二基片之間時(shí),能保證液晶在其上配置了驅(qū)動(dòng)器件和電線的非顯示區(qū)中的液化通路,并能降低液化阻力。因此,可提高液晶的注入速度,減少液晶的注入時(shí)間,并提高生產(chǎn)率。還能制造大規(guī)模生產(chǎn)液晶顯示裝置。
本發(fā)明優(yōu)選的是,該制造方法進(jìn)一步包括以下步驟在透明層形成在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上之前,在對(duì)應(yīng)于第一基片非顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的一部分上形成屏蔽膜。
根據(jù)本發(fā)明,在屏蔽膜形成在對(duì)應(yīng)于非顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面的一部分上之后,透明層形成在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面的一部分上。因此,當(dāng)屏蔽膜也形成在對(duì)應(yīng)于非顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的至少一個(gè)表面的一部分上時(shí),第一基片的表面層和第二基片的表面層之間的間隙T1可以在非顯示區(qū)增加。因此可以保證在當(dāng)將液晶注入在第一和第二基片之間時(shí)液晶的液化通路,并降低液化阻力。即可制造出不會(huì)降低液晶注入速度的液晶顯示裝置,其在布置了驅(qū)動(dòng)裝置和電線的非顯示區(qū)具有屏蔽膜,并能減少顯示缺陷。
本發(fā)明優(yōu)選的是,在透明層形成在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的步驟包括如下步驟通過(guò)在光照射下具有固化特性的透明樹(shù)脂用在第二基片(20)的一個(gè)表面上而形成一個(gè)可照相固化的透明樹(shù)脂層,將光輻射到對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分對(duì)應(yīng)的至少一部分上的可照相固化的透明樹(shù)脂層上,顯影光矯正樹(shù)脂層。
根據(jù)本發(fā)明,形成透明層的步驟在于通過(guò)在光照射下具有固化特性的透明樹(shù)脂用在第二基片(20)的一個(gè)表面上而形成一個(gè)可照相固化的透明樹(shù)脂層,將光輻射到對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的一部分上。由此,布置在第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的透明層可以使這一部分對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的方式很容易地形成。
本發(fā)明優(yōu)選的是,在透明層形成在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的部分上的步驟包括如下步驟形成一個(gè)可照相固化的透明樹(shù)脂層的步驟,它通過(guò)將具有光照射分解的透明樹(shù)脂用在第二基片的一個(gè)表面部分上,形成一個(gè)可溶解透明樹(shù)脂層,將光照射到除了對(duì)應(yīng)于成為顯示區(qū)的預(yù)定部分之外的光可溶解透明樹(shù)脂層上,顯影光可溶解透明樹(shù)脂層。
根據(jù)本發(fā)明,形成透明層的步驟在于由具有光照射而分解的分解特性的透明樹(shù)脂,在第二基片表面,形成一可照相固化的透明樹(shù)脂層,將光照射到除對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的其它部分,然后形成可照相固化的樹(shù)脂層。由此,布置在第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的透明層可以很容易的以這一部分對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的方式形成。
本發(fā)明優(yōu)選的是,在透明層形成在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的步驟包括如下步驟在第二基片的一個(gè)表面由透明樹(shù)脂形成透明樹(shù)脂層,在透明樹(shù)脂層的表面形成一保護(hù)層,對(duì)保護(hù)層施加曝光,使得在與顯示區(qū)的預(yù)定部分相對(duì)應(yīng)的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的保護(hù)層對(duì)顯影劑的溶解度低于除了對(duì)應(yīng)于預(yù)定部分以外的部分的溶解度,顯影保護(hù)層,并在除去保護(hù)層的部位除去透明樹(shù)脂層。
根據(jù)本發(fā)明,形成透明層的步驟在于在第二基片的一個(gè)表面上由透明樹(shù)脂形成透明樹(shù)脂層,在透明樹(shù)脂層的表面形成一保護(hù)層,對(duì)保護(hù)層施加曝光,使得在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的保護(hù)層的顯影劑的溶解度低于除對(duì)應(yīng)于預(yù)定部分的那一部分以外的部分上的溶解度,顯影保護(hù)層,并在除去保護(hù)層的位置除去透明樹(shù)脂層。因此,布置在第二基片的至少一個(gè)表面上的透明層可以很容易的以這種方式形成,這一部分對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分。
本發(fā)明優(yōu)選的是,在透明層形成在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的一部分上的步驟包括如下步驟在第二基片的一個(gè)表面上形成一保護(hù)層,對(duì)保護(hù)層施加曝光,使得在與顯示區(qū)的預(yù)定部分相對(duì)應(yīng)的至少部分上的保護(hù)層對(duì)顯影劑的溶解度高于除了對(duì)應(yīng)于預(yù)定部分以外的部分的溶解度,顯影保護(hù)層,由透明樹(shù)脂形成透明樹(shù)脂層,以覆蓋被除去保護(hù)層的第二基片的表面和保護(hù)層的表面,并使用溶解脫落法將保護(hù)層和形成在保護(hù)層表面的透明樹(shù)脂層除去。
根據(jù)本發(fā)明,形成透明層的步驟在于在第二基片的一個(gè)表面上形成保護(hù)層,對(duì)保護(hù)層施加曝光,使得在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的至少一部分上的保護(hù)層對(duì)顯影劑的溶解度高于除對(duì)應(yīng)于預(yù)定部分的那一部分以外的部分上的溶解度,顯影保護(hù)層,由透明樹(shù)脂形成透明樹(shù)脂層,以覆蓋被除去保護(hù)層的第二基片的表面和保護(hù)層的表面,并使用溶解脫落法將保護(hù)層和形成在保護(hù)層表面的透明樹(shù)脂層除去。換句話說(shuō),透明層是依據(jù)剝離方法形成的。因此,布置在對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分上的透明層可以很容易的形成。


本發(fā)明的其它進(jìn)一步的目的、性能和優(yōu)點(diǎn)將通過(guò)以下參考附圖的詳細(xì)描述將變得更加清楚,其中圖1表示本發(fā)明第一實(shí)施例的液晶顯示裝置部分結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單剖視圖;圖2是圖1所示液晶顯示裝置從箭頭40的方向所看的平面視圖;圖3是圖1所示液晶顯示裝置從斜向上方向所看的透視圖;圖4表示了液晶顯示裝置整體的主視圖;圖5A和5B表示液晶被注入的面積和從注入開(kāi)始經(jīng)過(guò)的時(shí)間之間的關(guān)系;圖6A和6B表示屏蔽膜對(duì)穿過(guò)定向缺陷區(qū)域的光線的作用;圖7A和7B表示屏蔽膜對(duì)外部光線的作用;圖8A-8C表示屏蔽膜和像素電極之間與屏蔽膜和透明層之間的位置關(guān)系;圖9A-9C示出了透明層在非顯示區(qū)中的排列形狀;圖10示出了在無(wú)屏蔽膜結(jié)構(gòu)時(shí)透明層在非顯示區(qū)的排列形狀;圖11顯示柵極形成在反向基片一個(gè)表面上的狀態(tài);圖12顯示門絕緣層形成的狀態(tài);圖13顯示第一半導(dǎo)體膜形成的狀態(tài);圖14顯示保護(hù)膜形成的狀態(tài);圖15顯示第二半導(dǎo)體膜形成的狀態(tài);圖16顯示將第一半導(dǎo)體膜和第二半導(dǎo)體膜制成島狀的狀態(tài);圖17顯示像素電極形成的狀態(tài);圖18顯示電極薄膜形成的狀態(tài);圖19顯示TFT器件和信號(hào)線形成的狀態(tài);圖20顯示定向膜形成的狀態(tài);圖21顯示屏蔽膜保護(hù)層形成在透明基板的一個(gè)表面上的狀態(tài);圖22顯示在屏蔽膜保護(hù)層上施加曝光的狀態(tài);圖23顯示屏蔽膜形成在透明基板的一個(gè)表面上的狀態(tài);圖24顯示光校正透明樹(shù)脂層形成在形成有屏蔽膜的透明層上的狀態(tài);圖25顯示在光校正透明樹(shù)脂層上施加曝光的狀態(tài);圖26顯示透明層形成的狀態(tài);圖27顯示圖26中箭頭40方向所示的380nm到780nm的光被允許穿過(guò)透明層發(fā)射時(shí)光波和傳遞率之間的關(guān)系;圖28顯示薄膜電極和定向膜形成的狀態(tài);圖29顯示透明基片和反向基片互相結(jié)合的狀態(tài);圖30A-30C顯示透明層形成與沒(méi)有形成時(shí)的比較;圖31顯示在保護(hù)層上曝光的狀態(tài);圖32顯示保護(hù)層顯影的狀態(tài);
圖33顯示透明絕緣層形成的狀態(tài);圖34顯示將保護(hù)層和保護(hù)層表面上的透明樹(shù)脂層除去的狀態(tài);圖35顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的液晶顯示裝置結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單剖視圖;圖36A-36C顯示了屏蔽膜和像素電極之間的位置關(guān)系和屏蔽膜和透明層之間的位置關(guān)系;圖37顯示本發(fā)明第三實(shí)施例的液晶顯示裝置結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單剖視圖;圖38A-38C顯示了屏蔽膜和像素電極之間的位置關(guān)系和屏蔽膜和透明層之間的位置關(guān)系;圖39顯示了顯示區(qū)透明層的厚度d2(μm)和每個(gè)間隙w(μm)的液晶充注時(shí)間(分鐘)之間的位置關(guān)系;圖40顯示了背景技術(shù)中黑白液晶顯示裝置結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單剖視圖。
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例作以描述。
圖1表示本發(fā)明第一實(shí)施例的液晶顯示裝置1部分結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單剖面視圖。圖2是圖1所示液晶顯示裝置1從箭頭40的方向所看的平面視圖。圖1與沿圖2中I-I線的剖面圖相對(duì)應(yīng)。圖3是圖1所示液晶顯示裝置1從斜向上方向所看的透視圖。圖4表示了液晶顯示裝置1整體的主視圖。另外,由于圖解太復(fù)雜不利于理解,圖1所示的反向基片11、信號(hào)線12、薄膜晶體管(TFT)器件13、像素電極14、定向膜15a和15b、液晶層17和薄膜電極18在圖2中省略。同樣由于圖解太復(fù)雜不利于理解,圖1所示的反向基片11、信號(hào)線12、薄膜晶體管(TFT)器件13、像素電極14、定向膜15a和15b、襯墊16、液晶層17和薄膜電極18在圖3中省略。
液晶顯示裝置1包括一個(gè)作為第一基片的反向基片11,一個(gè)作為第二基片的透明基片20和一個(gè)液晶層17。在與透明基片20相對(duì)的反向基片11的表面上,形成多個(gè)用于驅(qū)動(dòng)液晶層17中的液晶的像素電極14、多個(gè)作為用于像素電極14的驅(qū)動(dòng)器件的TFT器件13,這些器件分別控制像素電極14的電勢(shì)、與TFT驅(qū)動(dòng)器件13電連接的信號(hào)線12、與TFT器件13電連接的掃描線(未示)、以及控制包含在液晶層17中的液晶方向的定向膜15a。透明層10屏蔽膜19薄膜電極18和定向膜15b形成在與反向基片11相對(duì)的透明基片20的表面上。把由玻璃或塑料組成的襯墊16插入在反向基片11和透明基片20之間,以在它們之間保持一以預(yù)定值的間隙。把液晶從液晶單元28的注入口27注入到反向基片11和透明基片20之間就形成了液晶17,液晶單元是由反向基片11和透明基片20使用密封劑相互結(jié)合形成的。液晶顯示裝置1的顯示屏29是TFT器件13和信號(hào)線12于其上排列的一個(gè)部分。顯示屏29包括不是用于顯示的非顯示區(qū)30和其它除了非顯示區(qū)30的用于顯示的顯示區(qū)31。
把多個(gè)信號(hào)線12排列在反向基片11上,使其在規(guī)定的方向延伸,并在與此方向垂直的另一方向以規(guī)定的間隙互相平行。把多個(gè)掃描線排列在反向基片11上,使其在另一方向延伸,并在一方向以規(guī)定的間隙互相平行。把像素電極14排列在由信號(hào)線12和掃描線環(huán)繞的反向基片11上,用這樣的方式形成顯示區(qū)31。把TFT器件13排列在信號(hào)線12和掃描線的交點(diǎn)附近。把TFT器件13的柵極與掃描線電連接,與相應(yīng)的像素電極14和相應(yīng)的信號(hào)線12電連接。以使其覆蓋信號(hào)線12、TFT器件和像素電極14的方式形成定向膜15a。
把屏蔽膜19排列在透明層20的面對(duì)每個(gè)信號(hào)線12的位置上,并與每個(gè)信號(hào)線12平行,用這樣的方式沿上述方向延伸。把透明層10間斷的布置在與反向基片11相對(duì)的透明基片20的表面上,即透明層10是以覆蓋透明基片20的表面的方式插入的,透明基片在鄰近屏蔽膜19和屏蔽膜19的表面的一部分之間沿橫向延伸,該橫向垂直于上述的與反向基片11相對(duì)的方向。即屏蔽膜19,透明層10是以在屏蔽膜19的兩邊沿橫向以保持間隙W的方式排列的,以便暴露朝向反向基片11的屏蔽膜19的表面并形成一間隙10a。換句話說(shuō),不是把透明層10布置在非顯示區(qū)30的至少一部分上,也不用非顯示區(qū)30的至少一部分把透明層10斷開(kāi)。把薄膜電極18以覆蓋透明層10和其表面曝露的屏蔽膜19的方式排列。把定向膜15b以覆蓋薄膜電極18的方式排列。襯墊16與反向基片11的定向膜15a和透明基片20的定向膜15b保持接觸。
把透明層10排列在與反向基片11相對(duì)的透明基片20的表面的至少一部分上,該表面部分對(duì)應(yīng)于顯示區(qū)31。依照這種排列,在非顯示區(qū)30的至少一部分上的液晶層17的厚度t1可以不通過(guò)改變顯示區(qū)31的液晶層17的厚度t2而得以增加。厚度t1也可比厚度t2大。因此,可增大基本垂直反向基片11和透明基片20的非顯示區(qū)30的液晶層17的截面積,當(dāng)將液晶注入在反向基片11和透明基片20之間時(shí),保證具有TFT器件13和信號(hào)線12的非顯示區(qū)30中的液晶流動(dòng)路徑,并降低流化阻力。換言之,在生產(chǎn)中可獲得高液晶注入速度,短的液晶注入時(shí)間和高生產(chǎn)率的液晶顯示裝置。也可實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)液晶顯示裝置。在不具備濾色器的黑白液晶顯示裝置中這種效果更顯著,尤其是具有屏蔽膜19的黑白液晶顯示裝置。
附圖5A和5B是用于解釋液晶被注入的面積和從注入開(kāi)始經(jīng)過(guò)的時(shí)間之間的關(guān)系圖。5A是示意性地表示根據(jù)該實(shí)施例具有透明層10的結(jié)構(gòu)的平面視圖,圖5B是示意性地表示不具備透明層10的結(jié)構(gòu)的平面視圖。另外,附圖5A和5B表示簡(jiǎn)化形式的結(jié)構(gòu),圖解了透明層10、透明基片20和20’、反向基片11和11’和注入口27和27’。另外,圖5A和5B還表示了圖4所示的注入口27和與注入口27’,為進(jìn)行描述,使注入口27’的成型方法與注入口27的成型方法相同。
從注入開(kāi)始到過(guò)了時(shí)間tm1之后,把分別從注入口27和27’注入的液晶注入到由交叉斜線表示的區(qū)域81和91中。隨著時(shí)間流逝,在過(guò)了一段比時(shí)間tm1長(zhǎng)的時(shí)間tm2之后(tm2>tm1),把液晶注入在由左向下斜線表示的并比區(qū)域81和91寬的區(qū)域82和92中。此時(shí),具有透明層10的區(qū)域82大于不具有透明層10的區(qū)域92。進(jìn)一步隨著時(shí)間流逝,在過(guò)了一段比時(shí)間tm2長(zhǎng)的時(shí)間tm3之后(tm3>tm2),把液晶注入在由右向下斜線表示的并比區(qū)域82和92寬的區(qū)域83和93中。在時(shí)間tm3之后,具有透明層10時(shí)的區(qū)域83和不具有透明層10時(shí)的區(qū)域93之間的差異遠(yuǎn)大于過(guò)了時(shí)間tm2之后具備透明層10時(shí)的區(qū)域82和不具備透明層10時(shí)的區(qū)域92之間的差異。
具體地說(shuō),液晶的注入是通過(guò)以下步驟完成減少液晶單元內(nèi)部的壓力,液晶單元是由反向基片11、11’和透明基片20、20’通過(guò)襯墊結(jié)合形成的,將其中具有注入口27,27’的液晶單元的末端浸入到一個(gè)液晶儲(chǔ)藏庫(kù)中,當(dāng)保持浸入狀態(tài)的同時(shí),將液晶單元的壓力和圍繞液晶儲(chǔ)藏庫(kù)的壓力提高到大氣壓力,這將在以下作描述。
在從注入開(kāi)始到通過(guò)時(shí)間tm1之后,把從注入口27和27’注入的液晶注入在區(qū)域81和91中。此時(shí)液晶的注入?yún)^(qū)域在具有透明層時(shí)的情況(參見(jiàn)圖5A)和不具有透明層(參見(jiàn)圖5B)時(shí)的情況基本一樣。
隨著時(shí)間流逝,在過(guò)了一段比時(shí)間tm1長(zhǎng)的時(shí)間tm2之后,(tm2>tm1),把液晶注入在比區(qū)域81和91寬區(qū)域82和92中。此時(shí),具有透明層的液晶注入單元28的液晶注入?yún)^(qū)域大于不具有透明層的液晶注入單元28的。尤其是在具有透明層的液晶單元中,沿液晶單元的橫向,即透明層的延伸方向快速引導(dǎo)液晶。另一方面,在不具有透明層的液晶單元中,液晶沿液晶單元的長(zhǎng)度方向的注入速度略低于具有透明層的液晶單元的,并且在橫向的注入速度明顯低于具有透明層的液晶單元的。
隨著時(shí)間進(jìn)一步流逝,在過(guò)了一段比時(shí)間tm2長(zhǎng)的時(shí)間tm3之后(tm3>tm2>tm1),把液晶注入在比區(qū)域82和92寬的區(qū)域83和93中。在具有透明層的液晶單元中,沿約占液晶單元整個(gè)區(qū)域的一半?yún)^(qū)域的液晶單元的橫向?qū)⒁壕б蛘麄€(gè)長(zhǎng)度。另一方面,在不具有透明層的液晶單元,沿橫向在整個(gè)長(zhǎng)度上沒(méi)有把液晶導(dǎo)入的區(qū)域,液晶注入的區(qū)域小于具有透明層的液晶單元的情況。
在具有透明層的液晶單元的情況下,形成在非顯示區(qū)30的流動(dòng)路徑的截面面積變大,這是因?yàn)橥该鲗?0的存在,與不具備透明層和具有小的流動(dòng)路徑的液晶單元相比,液晶更有可能沿透明層10延伸的方向流動(dòng)。因此,沿液晶單元的橫向向可更快速的引導(dǎo)液晶。另一方面,在不具有透明層的液晶單元的情況下,形成在非顯示區(qū)中的流動(dòng)路徑的截面面積較小。因此,液晶不能很容易地沿液晶單元的橫向運(yùn)動(dòng),也不容易沿液晶單元的橫向被引導(dǎo)。
如上所述,在該本實(shí)施例中,把透明層10布置在與顯示區(qū)31對(duì)應(yīng)的透明基片20的至少表面部分上,該透明層朝向反向基片11。因此可增大與反向基片11和透明基片20基本垂直的非顯示區(qū)30表面的液晶層17表面的截面面積,在將液晶注入在反向基片11和透明基片20之間時(shí),保證液晶在非顯示區(qū)30內(nèi)的流動(dòng)路徑,降低流化阻力。因此如圖5A所示,從布置有透明層10的結(jié)構(gòu)的注入口27注入的液晶,比在相同預(yù)定時(shí)間內(nèi)從如圖5B所示的沒(méi)有布置透明層10的結(jié)構(gòu)的注入口27’注入的液晶,能填充更大的區(qū)域。因此,該結(jié)構(gòu)可提高液晶的注入速度、縮短注入時(shí)間。
如圖1~3所示,沒(méi)有把透明層布置在非顯示區(qū)的至少一部分上。因此,與反向基片11和透明基片20基本垂直的非顯示區(qū)30的液晶層17的至少一部分表面的截面面積,與把透明層10布置在整個(gè)非顯示區(qū)30上相比可進(jìn)一步增大。在鄰近透明層10之間限定了具有間隙W的間隙10a,當(dāng)把液晶注入在反向基片11和透明基片20之間時(shí),它起流動(dòng)通路的作用。由此,從注入口27注入的液晶流過(guò)間隙10a,并被快速注入到由反向基片11和透明基片20互相結(jié)合所形成的液晶單元28的最末端。即也可以理解為是如圖5A所示的依據(jù)本發(fā)明的這種布置了透明層10的結(jié)構(gòu),可將液晶注入的區(qū)域82和83擴(kuò)展到比沿由鄰近透明層之間所定義的間隙10a長(zhǎng)度方向更寬的區(qū)域。因此,與將透明層20布置在整個(gè)非顯示區(qū)的情況相比,該實(shí)施例可進(jìn)一步提高在生產(chǎn)過(guò)程液晶的注入速度并進(jìn)一步縮短注入時(shí)間。
在沒(méi)有把透明層10布置在非顯示區(qū)30的一部分中的結(jié)構(gòu)中,顯示區(qū)31的透明層10的厚度d2與屏蔽膜19的厚度s的差Δd(Δd=d2-s)優(yōu)選的滿足以下公式(1),并更優(yōu)選的滿足公式(2),當(dāng)作為驅(qū)動(dòng)器件的TFT器件的厚度L是從0.2~0.4μm時(shí),顯示區(qū)31的液晶層17的厚度t2是從1.0~5.0μm,并且屏蔽膜19的厚度是從0.5~2.0μm時(shí)-1.5μm<Δd≤2.4μm ...(1)0μm≤Δd≤1.0μm ...(2)因此可進(jìn)一步提高生產(chǎn)過(guò)程中液晶的注入速度、縮短注入時(shí)間。當(dāng)Δd的值小于-1.5μm時(shí),生產(chǎn)過(guò)程中很難在反向基片11和透明基片20之間注入液晶。當(dāng)Δd的值大于2.4μm時(shí),縮短注入時(shí)間的效果降低。另外,由于膜厚度的增加,通過(guò)光刻法形成的透明層10的圖案的精度,即,溶解度下將,并且圖1所示的具有間隙W的間隙10a也不容易在鄰近透明層10之間形成。因此,將Δd的值設(shè)定為滿足關(guān)系式-1.5μm<Δdφ2.4μm。
在可見(jiàn)光范圍內(nèi),透明層10的平均傳遞率是80%或更多。因此由于透明層10吸收光,所以能阻止用于顯示的光的光能減少,并阻止顯示的變暗。
把屏蔽膜19排列與非顯示區(qū)30相對(duì)應(yīng)的并朝向反向基片11的透明層20的表面上。由此可抑制顯示缺陷的發(fā)生。
圖6A和6B是用于解釋針對(duì)穿過(guò)定向缺陷區(qū)170的光線100,屏蔽膜19作用的說(shuō)明圖。圖7A和7B是用于解釋針對(duì)來(lái)自外部的光線200,屏蔽膜19作用的說(shuō)明圖。在圖6A、6B和圖7A、7B中,對(duì)比講解了具有屏蔽膜19的結(jié)構(gòu)和不具有屏蔽膜19的結(jié)構(gòu)。圖6A和7A示意性地解釋了本發(fā)明具有屏蔽膜19結(jié)構(gòu)的構(gòu)造,圖6B和7B示意性地解釋了本發(fā)明不具有屏蔽膜19結(jié)構(gòu)的構(gòu)造。
如圖6A和6B所示,存在用點(diǎn)劃線所示的定向缺陷區(qū)170,這是由于不能在非顯示區(qū)30控制液晶層17中的液晶方向引起的,在非顯示區(qū)中把TFT器件13和信號(hào)線12布置在反向基片11上。當(dāng)屏蔽膜19不是存在于朝向反向基片11的透明層20的部分表面上時(shí),該部分表面對(duì)應(yīng)于如圖6B所示的反向基片11的非顯示區(qū)30,通過(guò)非顯示區(qū)30液晶層17、即定向缺陷區(qū)170的光線100變?yōu)橥ㄟ^(guò)透明層20的顯示光的一部分,則定向缺陷很可能發(fā)生。當(dāng)屏蔽膜19存在于朝向反向基片11的透明層20的部分表面上時(shí),該部分表面對(duì)應(yīng)于如圖6A所示的反向基片11的非顯示區(qū)30,另一方面,通過(guò)非顯示區(qū)30的液晶層17即定向缺陷區(qū)170的光線100被屏蔽膜19吸收,不能通過(guò)透明層20。由此可以抑制顯示缺陷的發(fā)生。
如圖7B所示,當(dāng)屏蔽膜19不存在于朝著反向基片11的透明基片20的表面的一部分上時(shí),所述該表面部分對(duì)應(yīng)于反向基片11的非顯示區(qū)30,則外部的光線200射入非顯示區(qū)30的反向基片11上安置的TFT裝置13中,從而產(chǎn)生一電流。電流錯(cuò)誤地流過(guò)像素電極14,在液晶層17上產(chǎn)生一個(gè)電壓。因此,顯示缺陷很可能發(fā)生。另一方面,如圖7A所示,當(dāng)屏蔽膜19存在于朝著反向基片11的透明基片20的表面的一部分上時(shí),所述該表面部分對(duì)應(yīng)于反向基片11的非顯示區(qū)30,另一方面,光線200被屏蔽膜19吸收。這樣就能防止外部的光線200射入TFT裝置13,并防止顯示缺陷的發(fā)生。
如上所述,通過(guò)布置屏蔽膜19可以抑制顯示缺陷的發(fā)生。也如上所述,因?yàn)橥该骰?0至少在其面對(duì)反向基片11的表面的一部分上具有透明層10,而該表面部分相應(yīng)于反向基片的顯示區(qū)31,因此非顯示區(qū)30的液晶層17的厚度t1會(huì)增加,而不會(huì)改變顯示區(qū)31的液晶層17的厚度t2,即使在非顯示區(qū)30具有屏蔽膜19的結(jié)構(gòu)中也是如此。因此,在制造過(guò)程中不用降低液晶的注入速度就可以減少液晶顯示裝置的顯示缺陷。
圖8A至8C示出了屏蔽層19和像素電極14之間的位置關(guān)系及屏蔽層19和透明層10之間的位置關(guān)系。圖8A示意性地示出了從圖1中箭頭40所示的方向所看的屏蔽膜19和像素電極14之間的位置關(guān)系的平面圖。圖8B示意性地示出了從圖1中箭頭40所示的方向所看的屏蔽膜19和透明層10之間的位置關(guān)系的平面圖。圖8C是圖8B中沿II-II線所做的剖視圖。順便說(shuō)一句,圖8A僅僅示出了屏蔽膜19、像素電極14和透明基片20,圖8B和8C僅僅示出了屏蔽膜19、透明層10和透明基片20。
如圖8A所示,多個(gè)像素電極14以其間預(yù)定的間隙排列成矩陣,構(gòu)成一個(gè)像素電極矩陣140。像素電極矩陣140中彼此鄰近的兩行安排為這樣一種形式,即其間的間距與多個(gè)像素電極14形成的循環(huán)排列一致,這些電極沿標(biāo)號(hào)42表示的行方向排列,也就是間距B。像素電極矩陣140中彼此鄰近的兩列安排為這樣一種形式,即其間的間距與多個(gè)像素電極14形成的循環(huán)排列一致,這些電極沿標(biāo)號(hào)43表示的列方向排列,也就是間距A。屏蔽膜19安置在像素電極矩陣140的列之間的相應(yīng)位置,以在平行于像素電極矩陣140的列方向43的方向上延伸的方式排列。換句話說(shuō),屏蔽膜19不存在,且不在與像素電極矩陣140的列方向43垂直的行方向42的方向上延伸,光線30可通過(guò)并以斜線指示的部分(下面稱作光傳送部分)具有條紋排列。因此,就可以獲得適合于筆記本型個(gè)人電腦、電視機(jī)等的液晶顯示裝置,包括大量與像素電極矩陣140的列方向43平行的線性元件的特征的顯示是很出色的,且開(kāi)口比高。
如上所述,透明層10至少安置在透明基片20的表面20a的一部分上,透明基片20面向反向基片11。如圖8B所示,透明層10安置在相應(yīng)于未設(shè)置屏蔽膜19的像素電極矩陣140的每一列的位置,以便沿著與像素電極矩陣140的列方向43平行的方向延伸。因此,圖8A至8C所示,就可以增加液晶的注入速度,減少注入時(shí)間以及在生產(chǎn)具有屏蔽膜19的液晶顯示裝置的過(guò)程中提高生產(chǎn)率。
在具有上述結(jié)構(gòu)的上述液晶顯示裝置1中,上述非顯示區(qū)30的至少一部分的液晶層17的厚度t1,最好是顯示區(qū)31的液晶層17的厚度t2的0.48倍或更多。(t1γ0.48t2)。
圖9A至9C示意性地示出了置于非顯示區(qū)30中的透明層10的形狀。圖10示意性地示出了在結(jié)構(gòu)上不具有屏蔽膜19的非顯示區(qū)30中的透明層10的形狀。順帶說(shuō)一句,圖9A至9C僅示出了透明層10、屏蔽膜19和透明基片20,圖10僅示出了透明層10和透明基片20。如上所述,在本實(shí)施例中透明層10未置于非顯示區(qū)30的至少一個(gè)部分中,但是本發(fā)明不局限于此。透明層10可以很好地置于整個(gè)非顯示區(qū)30中。這樣,如圖9A至9C所示,非顯示區(qū)30中的透明層10在透明基片20的一邊最好呈一凹陷形狀。
具體地說(shuō),在安置在相應(yīng)于非顯示區(qū)30的部分的透明層10形成一凹槽,其開(kāi)口朝著面向反向基片11的表面且在一個(gè)方向上延伸。在圖9A所示的實(shí)施例中,凹槽由弧形表面限定,該弧面在與上述方向垂直的平面中具有預(yù)定的曲率半徑。在圖9B所示的實(shí)施例中,凹槽由兩個(gè)在其一端部彼此相連接的斜面組成。是一個(gè)V型的凹槽,該凹槽是由兩個(gè)沿相互分離的方向從表面內(nèi)側(cè)位置向表面延伸的斜面。在圖9C所示的實(shí)施例中,凹槽是梯形的,置于表面以內(nèi),具有一個(gè)與表面平行的底面且寬度小于開(kāi)口的寬度,兩個(gè)斜面從底面的兩端在寬度的方向上延伸且以相互分離的方向朝向表面延伸。
盡管不同于本發(fā)明的實(shí)施例,當(dāng)結(jié)構(gòu)上不設(shè)置屏蔽膜19,透明層10置于整個(gè)非顯示區(qū)30中時(shí),置于非顯示區(qū)30的透明層10的至少一部分的厚度d1最好小于顯示區(qū)31中的透明層10的厚度d2(d1<d2)。
具體地說(shuō),在圖10所示的實(shí)施例中,凹槽是被一個(gè)具有一預(yù)定曲率半徑的弧形表面限定的凹槽。這樣,非顯示區(qū)30中的透明層10的厚度d1指的是凹槽的最深位置與透明基片20的最接近該凹槽最深位置一側(cè)表面的位置之間的距離,透明層10的厚度d1最好小于顯示區(qū)31的透明層10的厚度d2(d1<d2)。
因此,就可以進(jìn)一步增加與反向基片11及透明基片20基本垂直的非顯示區(qū)30的液晶層17的至少一部分的表面截面積,這與透明層10未置于非顯示區(qū)30的至少一部分上時(shí)的方法相同。置于非顯示區(qū)30中的透明層10有一凹向透明基片20的凹槽,當(dāng)液晶注入到反向基片11和透明基片20之間時(shí),提供的凹槽作為運(yùn)行流路。因此,注入的液晶流過(guò)凹槽并迅速注入到通過(guò)粘合反向基片11和透明基片20形成的液晶單元28中。這就可以進(jìn)一步增加液晶的注入速度以及縮短制造過(guò)程中的注入時(shí)間。
本實(shí)施例中采用薄膜晶體管(TFT)裝置13作為驅(qū)動(dòng)裝置,但并不局限于此。也就是說(shuō),本實(shí)施例還可以采用其它三接頭元件或兩接頭元件比如薄膜二極管元件。
接下來(lái),將對(duì)圖1所示的液晶顯示裝置1的生產(chǎn)方法進(jìn)行說(shuō)明。圖11至26以及圖28和29分別是示意性地示出液晶顯示裝置1的生產(chǎn)過(guò)程的每一步的狀態(tài)的剖視圖。順便說(shuō)一句,圖11至19示出了TFT裝置13形成的預(yù)定位置。
圖11示出了在反向基片11的表面11a上形成一個(gè)柵極201的狀態(tài),例如,在反向基片11的例如由不含堿玻璃基片形成的一個(gè)表面11a上,以濺射方式形成一個(gè)鋁(Al)片或類似物,然后光刻成形成為如柵極201。
圖12示出了門絕緣膜202形成的狀態(tài)。通過(guò)化學(xué)氣相沉積法(縮寫為“CVD”)或?yàn)R射法,在柵極201的表面和反向基片11的一個(gè)表面11a上形成氮化硅(SiNx)膜,從而形成門絕緣膜202。
圖13示出了第一半導(dǎo)體膜203形成的狀態(tài)。例如通過(guò)CVD在如門絕緣膜202的表面形成非晶硅(縮寫為“a-Si”)膜或類似的膜,從而形成第一半導(dǎo)體膜203。
圖14示出了保護(hù)膜204形成的狀態(tài)。例如通過(guò)CVD在第一半導(dǎo)體膜203的表面形成氮化硅(SiNx)膜或類似的膜,然后通過(guò)光刻圖案形成保護(hù)膜204。
圖15示出了第二半導(dǎo)體膜205形成的狀態(tài)。例如通過(guò)CVD將摻加有高濃度n型雜質(zhì)的非晶硅(n+“a-Si”)膜沉積在保護(hù)膜204和第一半導(dǎo)體膜的表面上,n型雜質(zhì)例如是包括磷、砷、銻的五價(jià)元素,從而形成第二半導(dǎo)體膜205。
圖16示出了第一半導(dǎo)體膜203和第二半導(dǎo)體膜205被圖案化成一個(gè)島型的狀態(tài)。第一半導(dǎo)體膜203和第二半導(dǎo)體膜205例如通過(guò)干蝕法圖案化成如圖16所示的島型。
圖17示出了像素電極14形成的狀態(tài)。例如通過(guò)濺射在如門絕緣膜202、第二半導(dǎo)體膜205和第一半導(dǎo)體膜203的表面形成的氧化銦—錫膜(ITO)或類似的膜,然后通過(guò)光刻圖案,從而制成像素電極14。
圖18示出了電極206形成的狀態(tài)。例如通過(guò)濺射法在像素電極14、門絕緣膜202、第二半導(dǎo)體膜205和第一半導(dǎo)體膜203的表面形成形成一個(gè)鋁(Al)膜,從而形成電極膜206。
圖19示出了TFT裝置13和信號(hào)線12形成的狀態(tài)。電極膜206和第二半導(dǎo)體膜205例如通過(guò)光刻成型,形成與像素電極14電連接的漏極207、源極208,以及與源極208電連接的信號(hào)線12。結(jié)果,TFT裝置13就制成了。
圖20示出了定向膜15a形成的狀態(tài)。順帶說(shuō)一句,圖20示出了圖19中示出的柵極201、門絕緣膜202、第一半導(dǎo)體膜203、保護(hù)膜204、第二半導(dǎo)體膜205、漏極207和源極208,一起作為TFT裝置13。將定向膜的一種原料例如聚酰亞胺涂到上面形成有TFT裝置13、信號(hào)線12和像素電極14的反向基片11上,以形成定向膜15a。
圖21示出了屏蔽膜保護(hù)層21形成在透明基片20的一個(gè)表面20a上的狀態(tài)。例如通過(guò)旋涂將一個(gè)作為屏蔽膜19的保護(hù)層粘到透明基片20的一個(gè)表面20a上,透明基片比如是用不含堿的玻璃制成的玻璃基片,然后干燥以形成屏蔽膜保護(hù)層21。一個(gè)具有0.1%或更低的光透射率的保護(hù)膜和在它的用光照射的部分可恢復(fù)的保護(hù)膜用作該保護(hù)膜。
圖22示出了在屏蔽膜保護(hù)層21受到曝光的狀態(tài)。例如用光罩22將曝光光線23例如紫外線照到屏蔽膜保護(hù)層21的至少一個(gè)成為透明基片20的非顯示區(qū)30的預(yù)定位置。
圖23示出了屏蔽膜19在透明基片20的一個(gè)表面20a形成的狀態(tài)。采用了曝光后的屏蔽膜保護(hù)層21通過(guò)含堿的顯影劑溶解來(lái)顯影,然后烘干,形成成為透明基片20的一個(gè)表面20a的非顯示區(qū)30的屏蔽膜19,用這種方法與預(yù)定位置相對(duì)應(yīng)。以這種方式形成的屏蔽膜19的厚度s較佳是1.5μm或更低,更佳是1.0μm或更低。用附圖標(biāo)記44表示的方向的寬度s1較佳是6至30μm,最好是10至20μm。鄰近屏蔽膜19之間的間隙s2較佳至少是50μm。
圖24示出了光可固化的透明樹(shù)脂層24形成在其上形成有屏蔽膜19的透明基片20上的狀態(tài)。將一種在光照射的部分是光可固化的透明樹(shù)脂涂到其上形成有屏蔽膜19的透明基片20上,從而形成光可固化透明樹(shù)脂層24。
圖25示出了使光可固化透明樹(shù)脂層24曝光時(shí)的狀態(tài)。用光罩25將曝光的光例如紫外線照射在光可固化透明樹(shù)脂層24的成為透明基片20的顯示區(qū)31的預(yù)定部分上。結(jié)果,在顯影溶液中,光可固化透明樹(shù)脂層24在成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分處的溶解度比其它部分的溶解度要低。
圖26示出了透明層形成的狀態(tài)。用顯影溶液對(duì)曝光后的光可固化透明樹(shù)脂層24顯影后,將該樹(shù)脂層24烘干,從而在與至少成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分相對(duì)應(yīng)的透明基片20的一個(gè)表面20a的部分上形成透明層10。
如上文所述,以這種方式形成的透明層10的透射率在可見(jiàn)光區(qū)至少是80%。圖27示出了當(dāng)波長(zhǎng)為380至780nm的光從箭頭40的方向透射過(guò)如圖26所示的透明層10時(shí)波長(zhǎng)與透射率的關(guān)系。橫坐標(biāo)軸代表波長(zhǎng)(nm),縱坐標(biāo)軸代表透射率(%)。透射率是通過(guò)奧林巴斯化學(xué)工業(yè)公司(Olympus Optical Industry)的產(chǎn)品OSP-SP200測(cè)量的。此時(shí)的透射率以5nm一個(gè)單元制成表1。
表1


相應(yīng)于顯示區(qū)31的透明層10的部分的厚度d2較好是2.0μm或更低,最好是1.0至1.5μm。當(dāng)透明層10形成時(shí),其厚度有5至10%的偏差。但當(dāng)透明層10的厚度如上所述置于2.0μm或更低時(shí),透明層10的厚度的偏差就在0.2μm或更低。所以,由于在液晶層17的形成透明層10的部分的厚度偏差可被降低,因此由液晶層17的厚度引起的質(zhì)量下降就可以被避免。鄰近透明層10之間的間隙w較好是0μm,最好是至少3μm。
圖28示出了薄膜電極18和定向膜15b形成的狀態(tài)。通過(guò)濺射在其上形成有透明層10的透明基片20上形成由氧化銦錫合金(ITO)或其它類似物的薄膜,從而形成薄膜電極18。氧化銦錫合金(ITO)形成的薄膜具有90%的透射率,能充足地透射光。因此,薄膜電極18最好用ITO形成。將定向膜的一種材料例如聚酰亞胺涂到其上形成有薄膜電極18的透明基片20上,從而形成定向膜15b.
圖29示出了透明基片20與反向基片11互相粘合的狀態(tài)。圖20所示的具有像素電極14的反向基片11的表面11a與圖28所示的具有透明層10的透明基片20的表面20a相對(duì),且由玻璃或塑料制成的襯墊16夾在兩個(gè)基片之間。除了相應(yīng)于圖4中成為注入口27的預(yù)定部分以外的部分用膠粘合以形成注入口27。結(jié)果,就可獲得通過(guò)粘合反向基片11和透明基片形成的液晶單元28。液晶單元28的內(nèi)部壓力減小到足夠達(dá)到真空狀態(tài)。將形成注入口27的液晶單元28的末端浸入未示出的液晶容器(未示出)中。當(dāng)保持浸入狀態(tài)時(shí),液晶單元28的壓力和液晶容器周圍的壓力升高到大氣壓力。液晶就從注入口27充入到反向基片11和透明基片20之間,也就是說(shuō),進(jìn)入液晶單元28,從而形成液晶層17。接下來(lái),將注入口27封閉。圖1中所示的液晶顯示裝置1就以這種方式獲得。
圖30A至30C示出了與未形成透明層10的情況相對(duì)比的形成透明層10的情況。圖30A示意性地示出了根據(jù)本實(shí)施例形成的透明層10的結(jié)構(gòu)。圖30B示意性地示出了透明層形成的另一種結(jié)構(gòu)。圖30C示意性地示出了沒(méi)有形成透明層10的結(jié)構(gòu)。順帶說(shuō)一句,圖30A至30C僅僅示出了反向基片11、信號(hào)線12、TFT裝置13、透明層10、屏蔽膜19和透明基片20。此外,在圖30A至30C中,間隙T2是相等的。
如上所述,在依照本實(shí)施例的液晶顯示裝置1的生產(chǎn)方式中,在圖24至26所示的步驟中,透明層10至少形成在相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的透明基片20的一個(gè)表面20a的一部分上。因此,當(dāng)反向基片11和透明基片20如圖30A和30B所示互相粘合時(shí),不用改變由反向基片11的表面層和透明基片20的表面層在顯示區(qū)31所限定的間隙T2就能增大由反向基片11的表面層和透明基片20的表面層在非顯示區(qū)30所限定的間隙T1。
當(dāng)如圖30C所示,在透明基片20的一個(gè)表面20a上沒(méi)有形成透明層10以相應(yīng)于顯示區(qū)31的預(yù)定部分時(shí),非顯示區(qū)的間隙T1取決于顯示區(qū)31的間隙T2。因此,為了增大間隙T1就必須增大間隙T2。也就是說(shuō),不改變間隙T2就不可能增大間隙T1。當(dāng)為了增大間隙T1而增大間隙T2時(shí),注入到反向基片11和透明基片20之間的液晶的數(shù)量增加,且液晶的注入時(shí)間被延長(zhǎng)。當(dāng)間隙T2變得過(guò)大時(shí),就難以使間隙T2在整個(gè)基片均布,在液晶顯示裝置的生產(chǎn)中顯示缺陷就發(fā)生了。
如上所述,依照本實(shí)施例的液晶顯示裝置1的生產(chǎn)方法至少在相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的透明基片20的一個(gè)表面20a的部分表面上形成透明層10。因此,即使如上所述,為了增大間隙T1而增大反向基片11和透明基片20之間的間隙時(shí),間隙T2的增量也比通過(guò)調(diào)節(jié)透明層10的厚度產(chǎn)生的反向基片11和透明基片20之間間隙的增量要小。也就是說(shuō),如圖30B所示,不用改變間隙T2就可以增大間隙T1,或者如圖30A所示間隙T1可以比間隙T2大。因此,就可以增加作為非顯示區(qū)30的液晶層17工作的部分表面的截面積,該表面與反向基片11和透明基片20基本垂直,以便確保當(dāng)液晶注入到反向基片11和透明基片20之間時(shí)安置在非顯示區(qū)30中的TFT裝置13和信號(hào)線12的流動(dòng)路徑,并可以降低流動(dòng)阻力。因此可以提高液晶的注入速度,縮短注入時(shí)間并提高生產(chǎn)率。還可以大規(guī)模生產(chǎn)液晶顯示裝置。
在本實(shí)施例中,在透明基片20的一個(gè)表面20a的部分表面上形成屏蔽膜19以相應(yīng)于成為非顯示區(qū)30的預(yù)定部分之后,在相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的透明基片20a的至少部分表面20a上形成透明層10。因此,即使在形成屏蔽膜19以相應(yīng)于成為非顯示區(qū)30的預(yù)定部分時(shí),也可以增大由反向基片11的表面層和透明基片20的表面層在非顯示區(qū)30限定的間隙T1,從而確保當(dāng)液晶注入反向基片11和透明基片20之間時(shí)的流動(dòng)路徑,且降低流動(dòng)阻力。這樣不用降低液晶的注入速度,就可以生產(chǎn)出在非顯示區(qū)30具有屏蔽膜19、裝有TFT裝置13和信號(hào)線12且減少顯示缺陷的液晶顯示裝置。
如圖24至26所示,通過(guò)形成具有被光照射固化過(guò)的部分特性的光可固化透明樹(shù)脂層24的步驟來(lái)形成透明層10,在透明基片20的一個(gè)表面20a上,光照射到相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的透明基片20的一個(gè)表面20a上,然后實(shí)施顯影。因此,容易在至少相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的透明基片20的一個(gè)表面20a的至少部分表面20a上形成透明層10。
形成透明層10的方法不局限于上述方法。透明層10可通過(guò)在一個(gè)在透明基片20的一個(gè)表面20a從用光照射部分具有分解特性的透明樹(shù)脂中形成分解型透明樹(shù)脂層的步驟形成。光照射到不是成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的位置,并實(shí)施顯影。透明層10還可以通過(guò)在透明基片20的一個(gè)表面20a上用透明樹(shù)脂形成一個(gè)透明樹(shù)脂層的步驟來(lái)形成,在透明樹(shù)脂層的表面形成一個(gè)保護(hù)層,進(jìn)行曝光到至少在相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的保護(hù)層在顯影劑中的溶解度低于其它部分在顯影劑中的溶解度,然后實(shí)施顯影,并在除去保護(hù)層的部位除去透明樹(shù)脂層。而且,透明層10可通過(guò)發(fā)射法形成。
圖31至34示意性地示出了通過(guò)發(fā)射法形成的透明層10的每一步過(guò)程。當(dāng)采用發(fā)射法形成透明層10時(shí),用圖31至34所示的步驟代替圖24至26所示的步驟。
圖31示出了對(duì)保護(hù)層101進(jìn)行曝光的狀態(tài)。負(fù)型保護(hù)層具有在光照射的部分固化的特性,將該保護(hù)層加到其上有屏蔽膜19的透明基片20上以形成保護(hù)層101。用于曝光的光103例如紫外線通過(guò)光罩102照射到保護(hù)層101上的至少相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的部分上。這樣,保護(hù)層101至少在相應(yīng)于成為像素部分31的預(yù)定部分的部分上對(duì)顯影劑的溶解度高于不是相應(yīng)于預(yù)定部分的部分上的溶解度。
圖32示出了保護(hù)層101顯影時(shí)的狀態(tài)。曝光后的保護(hù)層101用顯影溶液顯影。結(jié)果,將至少成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分上的保護(hù)層101除去,形成保護(hù)層圖形104。
圖33示出了透明樹(shù)脂層105形成時(shí)的狀態(tài)。采用旋涂或類似的方法施加透明樹(shù)脂以在除去保護(hù)層101的位置處覆蓋透明基片20的一個(gè)表面20a、屏蔽膜19的表面和保護(hù)層101的表面形成透明樹(shù)脂層105。
圖34示出了將保護(hù)層101的表面上的保護(hù)層101和透明樹(shù)脂層105除去時(shí)的狀態(tài)。將其上面形成有透明樹(shù)脂層105的透明基片20浸入到保護(hù)層101的剝離溶液中,保護(hù)層101就溶解并從屏蔽膜19上剝離。此時(shí),形成在保護(hù)層101的表面上的透明樹(shù)脂層105同時(shí)也被除去。結(jié)果,透明層10就形成了。
在圖31至34所示的步驟中,保護(hù)層101由在光照射部分具有固化特性的負(fù)型保護(hù)層形成,但不局限于此。保護(hù)層101也可以由在光照射部分具有溶解特性的正型保護(hù)層形成。這樣,用于曝光的光線103線照射到圖31所示的步驟中的至少成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的保護(hù)層101上。
屏蔽膜19由樹(shù)脂形成但不局限于此。也就是說(shuō),屏蔽膜19也可由一種金屬例如鉻形成。
圖35示意性地示出了依據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的液晶顯示裝置2的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖36A至圖36C示出了屏蔽膜19和像素電極14之間的位置關(guān)系以及屏蔽膜19和透明層10之間的位置關(guān)系。圖36A示意性地示出了當(dāng)從圖35中箭頭40的方向看到的屏蔽膜19和像素電極14之間的位置關(guān)系的平面圖。圖36B示意性地示出了當(dāng)從圖35中箭頭40的方向看到的屏蔽膜19和透明層10之間的位置關(guān)系的平面圖。圖36C是沿圖36B的III-III線的剖視圖。順帶說(shuō)一句,圖36A僅示出了屏蔽膜19、像素電極14和透明基片20,圖36B和36C僅示出了屏蔽膜19、透明層10和透明基片20。第二實(shí)施例的液晶顯示裝置2與第一實(shí)施例的液晶顯示裝置1相類似。因此,同樣的附圖標(biāo)記將用來(lái)表示相應(yīng)的部分且它們的解釋被省略。
值得注意的是,除了在像素電極矩陣140的列之間的位置,在像素電極矩陣140的行之間的位置也安置了屏蔽膜19,沿著與像素電極矩陣140的行方向42平行的方向延伸。
如圖36A所示,將屏蔽膜19安置在像素電極矩陣140的行之間的位置中,以沿著與像素電極矩陣140的行方向42平行的方向延伸,同時(shí)將屏蔽膜19安置在像素電極矩陣140的列之間的位置,以沿著與像素電極矩陣140的列方向43平行的方向延伸。也就是說(shuō),屏蔽膜19排列成矩陣。用斜線表示的光透射部分301在矩陣中具有鑲嵌的排列方式,與構(gòu)成像素電極矩陣140的像素電極14的排列形式相同。因此,可以得到在其中向像素電極矩陣140的行方向42和列方向43傾斜的斜線的顯示很好的液晶顯示裝置,這種液晶裝置被廣泛地用于測(cè)量?jī)x器。
用與第一實(shí)施例的液晶顯示裝置1的同樣的方式,透明基片20至少在其表面20a的相應(yīng)于顯示區(qū)31的部分上具有透明層10。如圖36B所示,就像構(gòu)成像素電極矩陣140的多個(gè)像素電極14一樣,透明層10在矩陣中在相應(yīng)于屏蔽膜19未形成的像素電極矩陣140的行和列的位置上排成矩陣。因此,如圖36A至36C所示,就可以增加液晶的注入速度,縮短注入時(shí)間以及提高在具有屏蔽膜19的液晶顯示裝置的生產(chǎn)過(guò)程中的生產(chǎn)率。
圖37是一示意性剖視圖,示出了依據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的液晶顯示裝置3的結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)化形式。圖38A至38C示出了屏蔽膜19和像素電極14之間的位置關(guān)系以及屏蔽膜19和透明層10之間的位置關(guān)系。圖38A是一平面圖,示意性地示出了當(dāng)從圖37中箭頭40所示的方向看到的屏蔽膜19和像素電極14之間的關(guān)系。圖38B是一平面圖,示意性地示出了當(dāng)從圖37中箭頭40所示的方向看到的屏蔽膜19和透明層10之間的關(guān)系。圖38C是沿圖38B的IV-IV線的剖視圖。順帶說(shuō)一句,圖38A僅示出了屏蔽膜19、像素電極14和透明基片20,圖38B和38C僅示出了屏蔽膜19、透明層10和透明基片20。本實(shí)施例的液晶顯示裝置3與第一實(shí)施例的液晶顯示裝置1相類似。因此,同樣的附圖標(biāo)記將用來(lái)表示相應(yīng)的部分且其解釋被省略。
值得注意的是,由多個(gè)像素電極14在行方向排列形成的循環(huán),再以這種順序排列而成的像素電極14組成像素電極矩陣141,矩陣中兩個(gè)鄰近的行彼此偏差半個(gè)周期,屏蔽膜19排列在沿著與像素電極矩陣141的行方向42平行的方向延伸的像素電極矩陣141的行之間的位置上,且排列在像素電極矩陣141的列之間的沿著像素電極矩陣141的列方向430延伸的位置上。
如圖38A所示,多個(gè)像素電極14以它們之間預(yù)定的間隙排列成矩陣以組成像素電極矩陣141。像素電極矩陣141的兩個(gè)鄰近的行排列成由多個(gè)像素電極14限定的排列周期以行方向排列,也就是說(shuō),一個(gè)間距B使它們互相偏差半個(gè)周期,兩個(gè)鄰近的列排列成由以附圖標(biāo)記430表示的列方向排列的多個(gè)像素電極14確定的排列周期,也就是說(shuō),一個(gè)間隙A相互一致。將屏蔽膜19安置在像素電極矩陣141的行之間與列之間的位置中。由于一條線表示像素電極矩陣141的行方向42,所以在像素電極矩陣141的行之間的位置中的屏蔽膜19排列成帶狀以與像素電極矩陣141的行方向42平行的方向上延伸。另一方面,由于帶線表示像素電極矩陣141的列方向430,所以在像素電極矩陣141的列之間的屏蔽膜19沒(méi)有排列成帶狀而是沿著像素電極矩陣141的列方向430設(shè)置。也就是說(shuō),用斜線表示的光透射部分302有一個(gè)所謂的“Δ排列”,其中兩個(gè)鄰近的行的一行中的兩個(gè)相鄰的光透射部分302a和302b與另一行的光透射部分302c限定了一個(gè)三角形。結(jié)果,就可以得到圖象顯示優(yōu)良且適于電視機(jī)等物的液晶顯示裝置。
依據(jù)與第一實(shí)施例的液晶顯示裝置1的同樣的方式,透明基片20至少在其面對(duì)反向基片11的表面20a的相應(yīng)于顯示區(qū)31的部分具有透明層10。如圖38B所示,透明層10在相應(yīng)于沒(méi)有形成屏蔽膜19的像素電極矩陣141的行和列的位置上組成像素電極矩陣141的多個(gè)像素電極14以相同的方式排列成矩陣,。因此,如圖38A至38C所示,就可以增加液晶的注入速度,縮短注入時(shí)間以及提高在具有像素電極14和屏蔽膜19的液晶顯示裝置的生產(chǎn)過(guò)程中的生產(chǎn)率。
上述第2和第3實(shí)施例的液晶顯示裝置2和3可以這樣生產(chǎn)在第一實(shí)施例的液晶顯示裝置1的生產(chǎn)方法中,改變圖22所示的用于曝光形成屏蔽膜19的光罩22的形狀以及圖25所示的用于曝光形成透明層10的光罩25的形狀來(lái)生產(chǎn)。
(例子)本發(fā)明將參照例子進(jìn)行更詳細(xì)的闡述,但是并不局限于此。
(例1)生產(chǎn)圖1所示的液晶顯示器1。顯示屏29的長(zhǎng)度為306mm、寬度為408mm以及對(duì)角線41的長(zhǎng)度為20英寸。像素電極14長(zhǎng)255μm寬85μm。像素電極14的數(shù)量在縱向?yàn)?200像素和在橫向?yàn)?800像素。
信號(hào)線12、TFT裝置13和像素電極14形成在由不含堿的玻璃形成的反向基片11的一個(gè)表面11a上。一個(gè)鋁(Al)膜用于每個(gè)TFT裝置13的柵極201、漏極207和源極208以及信號(hào)線12。一個(gè)a-Si膜用于第一半導(dǎo)體膜203,一個(gè)n+a-Si膜用于第二半導(dǎo)體膜205。一個(gè)ITO膜用于像素電極14。一種定向膜(“OptomerAL”,JSR公司的產(chǎn)品)的材料用于其上具有TFT裝置13的反向基片、信號(hào)線12和像素電極14以形成一個(gè)定向膜15a。
將一種用于屏蔽膜19的保護(hù)層(“Color Mosaic CM-K”,F(xiàn)ujiFilm-Orlin公司的產(chǎn)品)旋涂在由不含堿的玻璃形成的透明基片20的一個(gè)表面20a上,接著被烘干形成屏蔽膜保護(hù)層21。用來(lái)曝光的光23照射到屏蔽膜保護(hù)層21的至少成為非顯示區(qū)30的一個(gè)表面20a的預(yù)定部分。此時(shí),曝光光線23具有365nm的波長(zhǎng)且曝光量為40至60兆焦耳/厘米2。曝光過(guò)的屏蔽膜保護(hù)層21用堿顯影溶液顯影并烘干,在透明基片20的一個(gè)表面20a上形成屏蔽膜19且相應(yīng)于將成為非顯示區(qū)30的一個(gè)預(yù)定部分。屏蔽膜19的厚度s為1.5μm,寬度s1是12μm,相鄰的屏蔽膜19之間的間隙s2是85μm。
將一種在光照射部位具有固化特性的透明樹(shù)脂(“OptomerNN”,JSR公司的一種產(chǎn)品)加到其上形成有屏蔽膜19的透明基片20上,形成一個(gè)可照相固化(photo-curable)的透明樹(shù)脂層24。
曝光用的光26照射到透明基片20的至少成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分的光可固化透明樹(shù)脂層24上,接下來(lái)顯影、烘干。透明層形成在透明基片20的一個(gè)表面20a的相應(yīng)于成為顯示區(qū)31的預(yù)定部分處。透明層10在相應(yīng)于顯示區(qū)的位置處的厚度d2是0.5μm,相鄰的透明層10之間的間隙w是0.0μm。也就是說(shuō),透明層10形成在非顯示區(qū)30的整個(gè)部分上。
在形成有透明層10的透明基片20上噴射形成一個(gè)氧化銦錫合金(ITO)的薄膜,從而形成一個(gè)薄膜電極18。將一種定向膜的材料(“Optomer Al”,JSR公司的一種產(chǎn)品)粘到其上形成有薄膜電極18的透明基片20上,從而形成一個(gè)定向膜15b。
其上形成有像素電極14的反向基片11的表面11a與其上形成有透明層10的透明基片20的表面20a彼此相對(duì)著置放,并在它們之間形成一個(gè)直徑為3.5μm的球形空間(“micro-pearl”,Sekisui KagakuKogyo K.K的一種產(chǎn)品)。除了將成為注入口27的預(yù)定部分以外的部分用膠粘成注入口27。因而得到反向基片11和透明基片20互相粘合的液晶單元28。
在液晶單元28的內(nèi)部壓力減少到2帕達(dá)到足夠的真空狀態(tài)之后,將形成有注入口27的液晶單元28的末端插入到液晶容器中。當(dāng)液晶單元28保持插入在液晶容器中時(shí),液晶單元28的壓力和液晶容器周圍的壓力都被升高到大氣壓力以將液晶注入到液晶單元28。在這個(gè)例子中,為了將液晶注入到整個(gè)液晶單元28,測(cè)量從壓力升高開(kāi)始至達(dá)到大氣壓力的時(shí)間,并將該時(shí)間作為液晶注入時(shí)間。接下來(lái),注入口27被封閉。
這樣,就制成了具有如圖1所示的結(jié)構(gòu)的液晶顯示裝置。
(例2至16)除了在透明層10的形成過(guò)程中,顯示區(qū)31中透明層10的厚度d2和相鄰?fù)该鲗?0之間的間隙w如表2變化以外,十五種液晶顯示裝置以和例1中相同的方式生產(chǎn)。
(比較的例子)除了不形成透明層10以外,一種液晶顯示裝置以與例1相同的方式制成。
而且,液晶不能注入整個(gè)液晶單元中。
表2

表3是上述每一種液晶顯示裝置的液晶注入時(shí)間。順帶說(shuō)一句,表3示出了上述具有厚度d2和間隙w的例1至16以及比較的例子的液晶顯示裝置。圖39示出了顯示區(qū)31的透明層10的厚度d2(μm)和每一種間隙w(μm)的液晶注入時(shí)間(min)之間的關(guān)系。在圖39中,附圖標(biāo)記45代表的曲線示出了當(dāng)間隙w為0μm時(shí)的關(guān)系,附圖標(biāo)記46代表的曲線示出了當(dāng)間隙w為3μm時(shí)的關(guān)系。附圖標(biāo)記47代表的曲線示出了當(dāng)間隙w為5μm時(shí)的關(guān)系,附圖標(biāo)記48代表的曲線示出了當(dāng)間隙w為8μm時(shí)的關(guān)系。
表3液晶注入時(shí)間(min)

從例1至16與比較的例子的對(duì)比可以明白,在比較的例子中未形成透明層10則液晶不能被注入整個(gè)液晶單元中,而在例1至16中有透明層10則液晶能被注入整個(gè)液晶單元中。當(dāng)顯示區(qū)31的透明層10的厚度d2變大且基本達(dá)到一個(gè)超過(guò)屏蔽膜19的厚度s的常數(shù)值時(shí),液晶注入時(shí)間就變短。還可以發(fā)現(xiàn),間隙w是3μm、5μm或8μm以及透明層10不在非顯示區(qū)30的一部分的例子2至4、6至8、10至12和14至16中的液晶顯示裝置的液晶注入時(shí)間比間隙w為0.0μm且透明層10置于非顯示區(qū)30的所有部分中的例子1、5、9和13的液晶顯示裝置的液晶注入時(shí)間短。
在不脫離本發(fā)明的精神和重要特征的情況下,本發(fā)明可以有其它特殊的形式。因此,無(wú)論從哪一方面來(lái)看,這些實(shí)施例是說(shuō)明性的而不是限定性的,本發(fā)明的范圍是通過(guò)下述的權(quán)利要求數(shù)而不是通過(guò)前述的實(shí)施例表述的,所有在含義之內(nèi)和與權(quán)利要求等效的改變都被視為是包含在其范圍內(nèi)的。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示裝置包括一個(gè)第一基片(11),在其一個(gè)表面上具有多個(gè)用于驅(qū)動(dòng)液晶的像素電極(14);分別對(duì)應(yīng)于像素電極(14)排列的多個(gè)驅(qū)動(dòng)器件(13),它們用于控制像素電極(14)的電勢(shì);以及與驅(qū)動(dòng)器件(13)電連接的導(dǎo)線(12);一個(gè)第二基片(20),當(dāng)朝向其上具有像素電極(14)的第一基片(11)時(shí)與第一基片(11)相對(duì)排列;以及液晶層(17),通過(guò)在第一和第二基片(11,20)之間注入液晶而形成,其中,第一基片(11)具有一個(gè)其上安置有驅(qū)動(dòng)器件(13)和導(dǎo)線(12)的不用來(lái)顯示的非顯示區(qū)(30),除了非顯示區(qū)(30)以外的部分是用來(lái)顯示的顯示區(qū)(31),第二基片(20)在朝向第一基片(11)的表面的至少一部分設(shè)置透明層(10),該部分相應(yīng)于顯示區(qū)(31)和非顯示區(qū)(30)之外的顯示區(qū)(31)。
2.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,該非顯示區(qū)(30)的至少一部分的液晶層(17)厚度t1是顯示區(qū)(31)的液晶層(17)厚度t2的0.48倍或更多,即t1≥0.48t2。
3.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,該透明層(10)由樹(shù)脂形成。
4.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,該第二基片(20)在朝向第一基片(11)的部分表面上還具有屏蔽膜(19),該部分相應(yīng)于第一基片(11)的非顯示區(qū)(30)。
5.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,將透明層(10)安置在第二基片(20)朝向第一基片(11)的部分表面上,這些部分表面相應(yīng)于顯示區(qū)(31)和非顯示區(qū)(30),安置在相應(yīng)于非顯示區(qū)(30)的部分中的至少一部分上的透明層(10)厚度d1小于相應(yīng)于顯示區(qū)(31)的部分的透明層(10)厚度d2,即d1<d2。
6.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,該透明層(10)不安置在相應(yīng)于非顯示區(qū)(30)的部分中的至少一部分上。
7.如權(quán)利要求4的液晶顯示裝置,其特征在于,該透明層(10)不安置在相應(yīng)于非顯示區(qū)(30)的部分中的至少一部分上,并且當(dāng)驅(qū)動(dòng)器件(13)的厚度為0.2至0.4μm,顯示區(qū)(31)部分的液晶層(17)的厚度t2為1.0至5.0μm,屏蔽膜(19)的厚度s為0.5至2.0μm時(shí),相應(yīng)于顯示區(qū)(31)部分的至少一部分的透明層(10)的厚度d2與屏蔽膜(19)的厚度s的差Δd,即Δd=d2-s,滿足下面的公式(1),-1.5μm<Δd≤2.4μm ...(1)。
8.如權(quán)利要求7的液晶顯示裝置,其特征在于,該差Δd,即Δd=d2-s,滿足下面的公式(2)0μm≤Δd≤1.0μm ...(2)。
9.如權(quán)利要求4的液晶顯示裝置,其特征在于,多個(gè)像素電極(14)之間以預(yù)定的間隙相隔排成矩陣,組成像素電極矩陣(140),像素電極矩陣(140)的兩個(gè)相鄰行以由在行方向(42)上排列的多個(gè)像素電極(14)所限定的排列周期B相互一致的方式進(jìn)行排列,像素電極矩陣(140)的兩個(gè)相鄰的列以由在列方向(43)上排列的多個(gè)像素電極(14)所限定的排列周期A相互一致進(jìn)行排列,以及將屏蔽膜(19)排列在像素電極矩陣(140)的列之間的位置上,以在與像素電極矩陣(140)的列方向(43)平行的方向上延伸。
10.如權(quán)利要求4的液晶顯示裝置,其特征在于,該多個(gè)像素電極(14)之間以預(yù)定的間隙相隔排成矩陣,組成像素電極矩陣(140),像素電極矩陣(140)的兩個(gè)相鄰的行以由在行方向(42)上排列的多個(gè)像素電極(14)所限定的排列周期B相互一致的方式進(jìn)行排列,像素電極矩陣(140)的兩個(gè)相鄰的列以由在列方向(43)上排列的多個(gè)像素電極(14)所限定的排列周期A相互一致的方式進(jìn)行排列,以及將屏蔽膜(19)排列在像素矩陣(140)的行之間的位置上,以在與像素電極矩陣(140)的行方向(42)平行的方向上延伸,且排列在像素電極矩陣(140)的列之間的位置上,以在平行于像素電極矩陣(140)的列方向(43)的方向上延伸。
11.如權(quán)利要求4的液晶顯示裝置,其特征在于,多個(gè)像素電極(14)之間以預(yù)定的間隙相隔排成矩陣,組成像素電極矩陣(141),將像素電極矩陣(141)的兩個(gè)相鄰的行以由排列在行方向(42)上的多個(gè)像素電極(14)所限定的排列周期(B)相互偏離約半個(gè)周期的方式進(jìn)行排列,將像素電極矩陣(141)的兩個(gè)相鄰的列以由排列在列方向(43)上的多個(gè)像素電極(14)所限定的排列周期(A)相互一致的方式進(jìn)行排列,以及將屏蔽膜(19)排列在像素矩陣(141)的行之間的位置上,以在平行于像素電極矩陣(141)的行方向(42)的方向上延伸,且排列在像素電極矩陣(141)的列之間的位置上,以在沿著像素電極矩陣(141)的列方向(43)延伸。
12.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,該透明層(10)在可見(jiàn)光的范圍具有至少80%的平均透射率。
13.如權(quán)利要求1的液晶顯示裝置,其特征在于,該透明層(10)的厚度為2.0μm或更低。
14.一種制造液晶顯示裝置的方法包括以下步驟制備一個(gè)第一基片(11),在其表面形成多個(gè)驅(qū)動(dòng)液晶的像素電極(14),分別相應(yīng)于像素電極(14)布置的多個(gè)驅(qū)動(dòng)器件(13),以便控制像素電極(14)的電勢(shì),以及與驅(qū)動(dòng)器件(13)電連接的導(dǎo)線(12),它們都在第一基片(11)的一個(gè)表面上;制備一個(gè)作為另一片基片的第二基片(20),在第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的相應(yīng)于作為第一基片(11)的顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的至少一部分形成一個(gè)透明層;將第一基片(11)和第二基片(20)粘合,以使其上形成具有像素電極(14)的第一基片(11)的一個(gè)表面與其上形成有透明層(10)的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)以一個(gè)預(yù)定間隙相對(duì);以及通過(guò)在第一基片(11)和第二基片(20)之間注入液晶而形成液晶層(17)。
15.如權(quán)利要求14的制造液晶顯示裝置的方法,該方法進(jìn)一步還包括步驟在于相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的至少一部分上形成透明層(10)以前,在相應(yīng)于成為第一基片(11)的非顯示區(qū)(30)的預(yù)定部分的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的一部分上形成屏蔽膜(19)。
16.如權(quán)利要求14或15的制造液晶顯示裝置的方法,其特征在于,在相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的至少一部分上形成透明層(10)的步驟中包括如下步驟通過(guò)在光照射下具有固化特性的透明樹(shù)脂用在第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)上,而形成一個(gè)可照相固化的透明樹(shù)脂層(24),光照射到相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的至少一部分上的可照相固化的透明樹(shù)脂層(24),以及使可照相固化的透明樹(shù)脂層(24)顯影。
17.如權(quán)利要求14或15的制造液晶顯示裝置的方法,其特征在于,在相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的一部分上形成透明層(10)的步驟包括如下步驟通過(guò)將在光矯正照射下具有可溶解特性的透明樹(shù)脂用在第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)上,形成一個(gè)光可溶解透明樹(shù)脂層,將光照射到除了相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分之外的光可溶解樹(shù)脂層上,以及使光可溶解透明樹(shù)脂層顯影。
18.如權(quán)利要求14或15的制造液晶顯示裝置的方法,其特征在于,在相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的至少一部分上形成透明層(10)的步驟包括如下步驟由透明樹(shù)脂在第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)上的形成一個(gè)透明樹(shù)脂層,在透明樹(shù)脂層的表面形成一個(gè)保護(hù)層,對(duì)保護(hù)層曝光,使在相應(yīng)于成為顯示區(qū)的預(yù)定部分的第二基片的一個(gè)表面的至少一部分的保護(hù)層對(duì)顯影劑的溶解度低于除了相應(yīng)于預(yù)定部分的部分的溶解度,使保護(hù)層顯影,以及在除去保護(hù)層的部位除去透明樹(shù)脂層。
19.如權(quán)利要求14或15的制造液晶顯示裝置的方法,其特征在于,在相應(yīng)于顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)的一部分上形成透明層(10)的步驟包括如下步驟在第二基片(20)的一個(gè)表面(20a)上形成一個(gè)保護(hù)層(101),對(duì)保護(hù)層(101)曝光,使在相應(yīng)于成為顯示區(qū)(31)的預(yù)定部分的至少一部分中的保護(hù)層(101)對(duì)顯影劑的溶解度高于除了相應(yīng)于預(yù)定部分的部分中的溶解度,使保護(hù)層(101)顯影,由透明樹(shù)脂形成一個(gè)透明樹(shù)脂層(105),以覆蓋第二基片(20)的除去保護(hù)層(101)的表面(20a)和保護(hù)層(101)的表面,以及用剝離溶液將保護(hù)層(101)和形成在保護(hù)層(101)的表面的透明樹(shù)脂層(105)除去。
全文摘要
一種液晶顯示裝置(1)通過(guò)下述步驟制成在一個(gè)基片(11)的一個(gè)表面上設(shè)置像素電極(14)、TFT裝置(13)和信號(hào)線(12),在透明基片(20)的一個(gè)表面的將成為顯示區(qū)(31)的一部分上設(shè)置透明層(10),將一個(gè)基片(11)與透明基片(20)互相粘合,具有像素電極(14)的一個(gè)表面朝向具有透明層(10)的一個(gè)表面,在基片之間注入液晶形成液晶層(17)。液晶的流動(dòng)路徑被確定在非顯示區(qū)(30),當(dāng)液晶注入時(shí),TFT裝置(13)和信號(hào)線(12)也設(shè)置在非顯示區(qū)中。因此,通過(guò)提高液晶的注入速度可以縮短注入時(shí)間和提高生產(chǎn)率。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK1514292SQ0316483
公開(kāi)日2004年7月21日 申請(qǐng)日期2003年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月24日
發(fā)明者藤井利夫, 近藤直文, 文 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社
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