專利名稱：具有可調(diào)式反射成分的多層式光電感光體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于一種多層式光電感光體以及一種調(diào)整多層式光電感光體的反射率的方法，特別有關(guān)于一種調(diào)整多層式光電感光體的反射率以符合彩色打印機(jī)的內(nèi)設(shè)既定反射率的方法。
背景技術(shù)：
相較于單色的光電顯像設(shè)備，彩色光電顯像設(shè)備如彩色打印機(jī)及復(fù)印機(jī)，其采用不同且更進(jìn)步的制造技術(shù)。因此，傳統(tǒng)的材料和設(shè)備構(gòu)造被調(diào)整以適于精確色彩對(duì)位的需求。彩色打印機(jī)構(gòu)成組件不僅需兼具有色彩正確套色及準(zhǔn)確定位能力，而且打印機(jī)裝置還有自我監(jiān)控程序以協(xié)調(diào)組件間的相互作用。美國(guó)專利第5355154號(hào)、第5909235號(hào)、第6061538號(hào)和第6246844號(hào)揭示用于色彩對(duì)位校正的光束偵測(cè)器的方法與裝置(beam sensor method and apparatuses，BSMA)，提供在彩色打印機(jī)和復(fù)印機(jī)中用的自我監(jiān)控及調(diào)整程序的例子。這光束偵檢器的方法具有連續(xù)偵測(cè)控制彩色打印機(jī)輸出的功能。而自我監(jiān)控組件則裝置在打印機(jī)的電路板及感光鼓卡匣上。BSMA的構(gòu)成組件中，光二極管傳感器是一個(gè)非常重要的組件。借由光二極管收集光電感光體(electrophotographicphotoreceptor)(其形式常為鼓形，以下亦稱感光鼓)表面上的測(cè)試圖塊的反射光訊號(hào)以完成色彩校正。這些測(cè)試圖塊來自打印機(jī)校正程序啟動(dòng)時(shí)，所產(chǎn)生的標(biāo)準(zhǔn)圖像。反射光訊號(hào)被光二極管所收集并傳送至主要程序單元中(main process unit，MPU)。然后借由主要程序單元進(jìn)行校正及調(diào)整，并建立最適化的顯像滾筒及布電滾筒的電壓。為了得到成功的校正以提供精確色彩對(duì)位，光電感光體被建構(gòu)成與偵測(cè)光束間具有適當(dāng)?shù)慕换ビ绊?，并提供精確反射光訊號(hào)給光二極管傳感器。
在上述BSMA和其相關(guān)的方法中，如美國(guó)專利第6061538號(hào)揭示，新一代的感光鼓(organic photoconductor，OPC；或photoreceptor drum)卡匣在制造時(shí)，每個(gè)卡匣組件都設(shè)定有其最佳性能參數(shù)，并被設(shè)定及編碼于卡匣上的記憶芯片中。這代表如果不正確的更換卡匣中的感光鼓組件，將無法與卡匣中原有感光鼓最佳性能參數(shù)配合，可能導(dǎo)致不正確地打印機(jī)圖像色彩密度補(bǔ)償校正。產(chǎn)生可靠的色彩輸出需要使打印機(jī)的組成組件及供應(yīng)物(碳粉及紙張等)間達(dá)到平衡及最適化。根據(jù)BSMA的揭示，新一代的打印機(jī)將包含有一光密度計(jì)及起始數(shù)據(jù)表，用于調(diào)整布電滾輪及顯像滾輪的偏壓。且OPC卡匣的記憶裝置中，儲(chǔ)存了關(guān)于有機(jī)感光鼓上的光密度、廢碳粉量及校正演算數(shù)據(jù)等重要的信息。換句話說，關(guān)系到感光鼓反射率(reflectivity；反射光量)的信息將被用在調(diào)整能量輸出水準(zhǔn)的光密度校正程序中。光密度校正程序主要是在偵測(cè)有機(jī)感光鼓上測(cè)試塊的反射光。在打印機(jī)啟動(dòng)的期間，打印系統(tǒng)會(huì)進(jìn)行校正程序與調(diào)整程序。因此，為了使打印機(jī)產(chǎn)生可靠的色彩輸出，精確控制有機(jī)感光鼓的反射率是非常重要的。
圖1顯示一種前述BSMA系統(tǒng)可能架構(gòu)的示意圖。如圖所示，布電滾輪(PCR；primary corona roller)5布電在感光鼓(OPC)8之后，由激光光源1而來的激光光照到感光鼓8上，感光鼓8表面的電位將由表面電位偵測(cè)器9測(cè)得，并將訊號(hào)透過電位調(diào)整計(jì)3傳至MPU2中。利用顯像組件6在感光鼓表面形成一測(cè)試碳粉圖像11，并借由圖案讀取裝置10讀取此測(cè)試圖案。圖案讀取裝置10是由光源10a及讀取感應(yīng)器10b所組成。讀取感應(yīng)器10b是由電荷耦合組件(Charge Coupled Device，CCD)或光二極管感應(yīng)器的光接受體所構(gòu)成。借由光源10a投射光至測(cè)試圖案11上，并反射至讀取感應(yīng)器10b中。測(cè)試圖案11上的碳粉密度可以由反射光讀取傳感器10b測(cè)得，透過密度轉(zhuǎn)換電路4將其轉(zhuǎn)換成密度訊號(hào)后傳遞至MPU2中。多余的碳粉由刮刀12刮除。所有偵測(cè)訊號(hào)將匯集至MPU中進(jìn)行校正步驟，以建立最適化的布電滾輪5、顯像滾輪6及傳遞滾輪7等的操作偏壓。例如，當(dāng)光束偵檢器所測(cè)得OPC表面的反射率大于打印機(jī)內(nèi)設(shè)的最佳反射率時(shí)，則訊號(hào)傳回MPU后，MPU就會(huì)調(diào)整布電滾輪5、顯像滾輪6及傳遞滾輪7等的操作偏壓，造成OPC上生成的標(biāo)準(zhǔn)圖像所需的碳粉量增加，并調(diào)整入射光束強(qiáng)度，以期降低表面附有碳粉的光電感光體的反射率，使得光束偵檢器測(cè)得的反射率落于系統(tǒng)內(nèi)設(shè)可操作區(qū)間內(nèi)。此流程可借由系統(tǒng)生成的標(biāo)準(zhǔn)圖像來達(dá)成打印機(jī)自我校正和調(diào)整的程序，以完成色彩校正。
一般而言，有機(jī)感光鼓表面的反射光可借由數(shù)種方法改變，例如，表面粗化、抗反射涂布及光散射顆粒添加等，來改變涂層反射率。美國(guó)專利第5660961號(hào)揭示添加光散射顆粒至電洞阻絕層(hole-blockinglayer)，可以消除光干涉波紋效應(yīng)(interferenee fringe effect)。光散射顆粒包括有氧化錫、氧化銦錫、氧化鈦、氧化硅及其它無機(jī)顆粒等。相似的方法被揭示在美國(guó)專利第5051328號(hào)、第5139907號(hào)、第5215839號(hào)、第5641599號(hào)、第5958638號(hào)和第6156468號(hào)。前述的專利主要揭示添加光散射物質(zhì)可減弱反射光及消除光干涉波紋效應(yīng)。其它如美國(guó)專利第6255027號(hào)揭示可借由對(duì)光散射顆粒進(jìn)行外層涂布來調(diào)整反射率。不同基材表面處理技術(shù)應(yīng)用在調(diào)整反射率的方法，包含有表面粗化、陽(yáng)極處理及抗反射涂布等，被揭示在美國(guó)專利第4618552號(hào)、第5096792號(hào)、第5104756號(hào)、第5139907號(hào)、第5916720號(hào)和第6156468號(hào)。
上述提及的專利所揭示的技術(shù)是為了削弱基材表面反射光，借以抑制打印結(jié)果生成“波紋狀”(moire)的干涉波紋圖像(interference fringepatterns)。美國(guó)專利第4618552號(hào)揭示一種不同于光散射的方法，其將光吸收物質(zhì)加在可彎曲式導(dǎo)電基材中以減弱反射光。美國(guó)專利第4756993號(hào)揭示一光電感光體，其包括一導(dǎo)電基材，在導(dǎo)電基材上的感光層(electrophotographic photosensitive layer)，以及在導(dǎo)電基材上的光散射層或光吸收層，借此可以得到清晰且無光干涉及碳粉不均的圖像。此光散射層或光吸收層與感光層在相反側(cè)。其中光散射層由無機(jī)微粒及高分子載體組成，光吸收層則由吸旋光性染料及高分子載體組成。其它相關(guān)的方法有應(yīng)用光吸收顏料顆粒分散在透明的基層中，此法被揭示在美國(guó)專利第5051328號(hào)中。其結(jié)構(gòu)為一多層感光體，包含電荷傳遞層(CTL；charge transport layer)，電荷發(fā)生層(CGL；charge generation layer)，透明低反射材料的導(dǎo)電基板和一底部有抗卷曲(anti-curl)涂布的絕緣基材層。此專利揭示添加光吸收物質(zhì)至絕緣基材層中，具有吸收來自抗卷曲涂層與空氣界面間的二次反射光的效果。與其相似的方法見于美國(guó)專利第5460911號(hào)，其揭示感光體膜層中的電洞阻絕層是由溶于或分散于高分子載體中的吸旋光性染料、顏料或其混合物所組成。值得注意的是其電洞阻絕層中除了含有吸光材料外，并未添加光散射物質(zhì)。另外還有如美國(guó)專利第5641599號(hào)展示一多層感光體中的電洞阻絕層是由具有短電洞區(qū)間及電子傳遞能力的有機(jī)顏料固態(tài)微粒分散在高分子薄膜的母體中所組成。在此有機(jī)顏料擔(dān)任電洞阻礙及電子傳遞的材料，而非當(dāng)作光吸收或光反射物質(zhì)。
簡(jiǎn)言之，在習(xí)知色彩校正的方法中，當(dāng)光束偵檢器測(cè)得光電感光體表面的反射率和打印機(jī)內(nèi)設(shè)的反射率不符時(shí)，訊號(hào)會(huì)傳到MPU中，MPU就會(huì)調(diào)整布電滾輪5、顯像滾輪6及傳遞滾輪7等的操作偏壓，以改變OPC上的標(biāo)準(zhǔn)圖像所需的碳粉吸附量及入射光束強(qiáng)度，來調(diào)整表面附有碳粉的光電感光體的反射率，以符合打印機(jī)內(nèi)設(shè)的可操作區(qū)間的反射率。值得注意的是，在可操作區(qū)間內(nèi)的OPC感光鼓雖可正常打印，但其打印品質(zhì)并非在最佳狀態(tài)。因此，適當(dāng)?shù)恼{(diào)整OPC反射率有利于使光偵檢器測(cè)得的反射率落在打印機(jī)內(nèi)設(shè)的最適操作區(qū)間內(nèi)，以達(dá)到最佳打印品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的即為提供一種可用于彩色打印機(jī)內(nèi)的多層式光電感光體，其可改善打印機(jī)輸出因電荷不足導(dǎo)致的缺陷、干涉效應(yīng)造成的波紋缺陷及感光鼓反射率異常所導(dǎo)致的套色偏差，且可精確色彩對(duì)位。
本發(fā)明的另一目的為提供一種光電顯像設(shè)備，例如一彩色打印機(jī)，其包括本發(fā)明的多層式光電感光體。
本發(fā)明的又一目的為提供一種調(diào)整一光電感光體的反射率的方法。借由調(diào)整反射率，可達(dá)到精確色彩對(duì)位，但對(duì)光電感光體的光電性質(zhì)無不良影響，甚至可改善其它打印品質(zhì)，例如色彩的明暗、飽和度及密度等。
為了達(dá)成本發(fā)明的上述目的，本發(fā)明的多層式光電感光體包括一導(dǎo)電基材、在該導(dǎo)電基材上的一底層、以及在該底層上的一電荷發(fā)生層和一電荷傳遞層。此底層包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成份，此可調(diào)式反射成份包括光吸收材料、光散射顆粒、或上述兩者的混合物。
本發(fā)明調(diào)整一光電感光體的反射率的方法有兩種，其一為改變可調(diào)式反射成份的濃度，以調(diào)整光電感光體的反射率。另一種方法為，改變底層的涂布厚度，以調(diào)整光電感光體的反射率。


圖1顯示傳統(tǒng)上色彩對(duì)位校正用的光束偵測(cè)器的方法與裝置(BSMA)的示意圖；圖2為本發(fā)明光電感光體的組成構(gòu)造的示意圖；圖3為OPC表面反射光偵測(cè)裝置的示意圖；圖4為電荷傳遞層、電荷發(fā)生層及底層的紫外光/可見光吸收光譜圖。
符號(hào)說明1-激光光源2-MPU3-電位調(diào)整計(jì)4-密度轉(zhuǎn)換電路5-布電滾輪(PCR)6-顯像組件7-傳遞滾輪8-感光鼓(OPC)9-表面電位偵測(cè)器10-圖案讀取裝置10a-光源10b-讀取感應(yīng)器11-測(cè)試碳粉圖像12-刮刀20-導(dǎo)電基材30-底層40-光感應(yīng)層41-電荷發(fā)生層(CGL)42-電荷傳遞層(CTL)51-鹵素?zé)艄庠?2-光度計(jì)53-光二極管54-感光鼓55-光纖
具體實(shí)施例方式
材料制備氨錯(cuò)合精練的TiOPcTiOPc的合成及氨處理過程與方法已于先前揭示于中華民國(guó)專利第085000號(hào)及美國(guó)專利第5567559號(hào)，此法可獲得高感度TiOPc晶型結(jié)構(gòu)。其配制的方法簡(jiǎn)述如下，將TiOPc置于球磨罐中研磨3-7日，然后將此非晶型TiOPc分散于氯苯中，并將氨氣導(dǎo)入此分散的溶液中，以機(jī)械攪拌或震蕩的方式，使TiOPc的氯苯分散液能與氨分子充分接觸，此程序持續(xù)大約10小時(shí)后，將TiOPc以過濾的方式分離并純化，即可得到高感度的氨錯(cuò)合精練的TiOPc。
β-type TiOPcTiOPc經(jīng)合成純化后，以球磨方式獲得非晶型TiOPc，再經(jīng)氯苯震蕩處理10小時(shí)后，過濾干燥，即可得β-type TiOPc。
α-type TiOPcTiOPc經(jīng)合成純化后，以球磨方式獲得非晶型TiOPc，再經(jīng)四氫呋咈喃震蕩處理10小時(shí)后，過濾干燥，即可得α-type TiOPc。
β-type CuPc經(jīng)合成純化為不含氯的CuPc后，再經(jīng)乙醇水溶液以球磨方式處理數(shù)天后，蒸除乙醇，并以稀酸和稀堿清洗，過濾干燥后，即可得α-type CuPc。將此α-type CuPc加入丙酮，并球磨24小時(shí)，蒸除丙酮，再以稀酸和稀堿清洗，過濾干燥后即可得β-type CuPc。
如圖2所示，顯示本發(fā)明多層式光電感光體的構(gòu)造的示意圖。此多層式光電感光體包括一導(dǎo)電基材20、在導(dǎo)電基材20上的一底層30、以及在底層30上的一光感應(yīng)層40。光感應(yīng)層40可包括一電荷發(fā)生層(CGL)41和一電荷傳遞層(CTL)42，其兩者的位置可互換，亦即，依實(shí)際需要，電荷發(fā)生層41可在電荷傳遞層42之上或之下。在底層30與光感應(yīng)層40之間可選擇性加入電荷阻絕層或黏結(jié)層(未顯示)。
本發(fā)明的第一特征在于，底層30包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成份(RTE；reflectivity-tuning element)，而此可調(diào)式反射成份包括光吸收材料、光散射顆粒、或上述兩者的混合物。含有可調(diào)式反射成份的底層30位于光感應(yīng)層(CGL，CTL)40和導(dǎo)電基材(如鋁管)20之間。此可調(diào)式反射成份可提供感光體調(diào)整及控制反射光的能力，并不具有電荷發(fā)生或傳遞的特性，因此不會(huì)干擾光感應(yīng)層(CGL，CTL)的機(jī)能。
導(dǎo)電基材20的厚度并沒有一定的限制，一般是依機(jī)械強(qiáng)度及成本而定。典型的導(dǎo)電基材為金屬，例如鋁、鋯、鈮、鈦、鎳、不銹鋼及其合金等。
適用于本發(fā)明的光散射顆粒最好是無機(jī)材料，例如非晶形二氧化硅及礦物質(zhì)等。典型的礦物質(zhì)包含金屬氧化物、硅酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽、氫氧化物、磷酸鹽、黏土、硫磺及其它礦物等。選擇光散射顆粒的重要依據(jù)為折射率需不同于高分子載體，如此才能達(dá)到適當(dāng)?shù)纳⑸湫Ч跋缮娌y的影響。具代表性的高分子載體折射率約在1.54-1.60間，顯著地異于此折射率的適當(dāng)材料包括有氧化硅、氧化鋁、氧化銻、氧化鐵、氧化鉛、氧化鎳、氧化錫、氧化鎂、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、硫酸鉛、硫酸鈉、硫化鋅、碳酸鐵、碳酸鈉、氫氧化鋁、氫氧化鐵、氯化銅、氯化鉛及其它相似物質(zhì)等。較佳的光散射顆粒為金屬氧化物中的二氧化鈦(折射率2.7 6)及氧化鋅(折射率2.02)。
雖然選擇無機(jī)光散射顆粒如金屬氧化物，具有高于典型高分子載體折射率的優(yōu)點(diǎn)，但仍存有潛在的問題。因?yàn)橄窠饘傺趸镏惖臒o機(jī)顆粒，通常具有較載體高的密度，易導(dǎo)致顆粒發(fā)生沉淀的問題。此現(xiàn)象將對(duì)感光體底層的均勻性造成不利的影響，并且會(huì)影響到打印的品質(zhì)。針對(duì)此問題，可借由對(duì)光散射顆粒進(jìn)行表面處理來增進(jìn)其分散的穩(wěn)定性。常見的表面處理材料有硅烷偶合劑、鈦酸鹽偶合劑、鋯酸鹽偶合劑、鋁偶合劑或者像聚醯胺硅烷和聚二甲基硅氧烷之類的高分子等。他們具有抑制光散射顆粒表面的親水性及提升親油性或親有機(jī)性，強(qiáng)化顆粒與高分子載體間物理及化學(xué)的交互作用以達(dá)到分散穩(wěn)定的效果。根據(jù)化合物分類，偶合劑的型式包含有丙烯三甲基硅氧烷，丙烯三乙基硅氧烷，γ-丙胺三甲基硅氧烷，γ-丙胺三乙基硅氧烷，乙烯三甲基硅氧烷，乙烯三乙基矽氧烷，乙烯三甲基二甲基矽氧烷，γ-甲基丙烯氧基丙基三甲基硅氧烷，γ-丙基氰酸酯三乙基硅氧烷，γ-氧丙氧基丙基三甲基硅氧烷，丙烯二甲基氯硅烷，丙烯二甲基硅氧烷和其它類似化合物。
適用于本發(fā)明的光吸收材料，可為有機(jī)顏料或染料，較佳者為有機(jī)顏料。有機(jī)顏料的具體例子包括α-type CuPc、β-type CuPc、非晶型CuPc、α-type TiOPc、β-type TiOPc、非晶型 TiOPc、2，7-bis(3-(2-chloro-anilino-carboxy)-2-hydroxy-naphthalen-1-yl-azo) fluoren-9-one、和2，7-bis(3-(2-fluoro-anilino-carboxy)-2-hydroxy-naphthalen-1-yl-azo)fluoren-9-one。較佳的光吸收材料需具有極低或可忽略的光感度，符合此條件的有機(jī)顏料包括β-typeCuPc、β-type TiOPc和非晶型TiOPc等。
適用于底層30的高分子載體，需具備有接合導(dǎo)電基材20和光感應(yīng)層40的能力。常使用的高分子載體包括了熱塑性及熱固性樹脂，例如聚酯，環(huán)氧樹脂，聚苯乙烯，聚醯胺，聚甲基丙烯酸甲酯，聚乙烯縮丁醛，酚醛樹脂，三聚氰胺樹脂，聚氨基甲酸酯，乙烯-醋酸乙烯共聚物，聚碳酸酯，聚硅氧烷，聚氯乙烯，聚丙烯酸酯，氨基樹脂，聚乙烯醇，聚醋酸乙烯及其相關(guān)的高分子等。一種或多種高分子樹脂溶于適當(dāng)?shù)娜軇┲?，?dāng)作底層的涂液。底層30的膜厚范圍在0.5μm至30μm之間，較佳的膜厚范圍在2μm至10μm之間。
適用于本發(fā)明的可調(diào)式反射成份的粒徑范圍最好是在0.05μm至1μm之間。底層組成中，高分子載體與可調(diào)式反射成份的重量比范圍為1∶10至20∶1。當(dāng)可調(diào)式反射成份同時(shí)包括光吸收材料和光散射顆粒時(shí)，光吸收材料和光散射顆粒的重量比范圍可為1∶5至1∶100之間。
發(fā)明實(shí)例的一揭示以β-type CuPc和氧化鈦(二氧化鈦)做為底層的RTEs(reactivity-tuning elements；可調(diào)式反射成份)，氨錯(cuò)合的TiOPc(ammonia-modified TiOPc)使用于CGL作為電荷發(fā)生物質(zhì)。底層涂液的制備是由RTEs、高分子載體、甲醇及正丁醇混合溶解后，經(jīng)由充分砂磨或震蕩混合而成。在未混合高分子載體前，β-type CuPc需先與正丁醇混合，并以砂磨珠研磨至少6小時(shí)以上。高分子載體溶液則是將高分子溶于甲醇及正丁醇中而得。然后將混合均勻的β-type CuPc的正丁醇溶液、高分子載體溶液及氧化鈦粉粒置入球磨設(shè)備中混合，進(jìn)行劇烈震蕩及研磨。此程序所需的時(shí)間為1～5天，較佳的時(shí)間為1～2天，即可獲得一RTEs與高分子載體充分均勻混合的底層涂液。上述底層中所需的光吸收材料和光散射顆粒的重量比為1∶5至1∶100，較佳的重量比是在1∶10至1∶60之間。高分子載體與RTEs的重量比為1∶10至20∶1，較佳的比例為1∶1至10∶1。這些組成比例下制備的感光體，在光致放電曲線(PIDC；photo-induced discharge curve)中有最佳光感度及視覺檢查下有高品質(zhì)的輸出。具有共聚醯胺不對(duì)稱主干結(jié)構(gòu)的樹脂可被用為底層中的高分子載體。此高分子載體由Daicel-Huls公司所提供，商品名為DAIAMID。極性的醯胺結(jié)構(gòu)使得醇溶性的高分子載體與電荷發(fā)生物質(zhì)及RTEs間，能產(chǎn)生緊密的交互作用。其它具有類似結(jié)構(gòu)的高分子樹脂如Elvamide 8061，Elvamide 8064，Elvamide 8023(E.I.Dupont Nemour)，CM8000(Toray)，Vestamelt 171，Vestamelt 470(Degussa AG)和polyvinyl butyral等。使用于底層中的光散射顆粒的粒徑大小在0.05μm至1.0μm，較佳的大小為0.1μmm至0.3μm。適用于本發(fā)明的光散射顆?？蔀镮shihara Sangyo Kaisha公司所提供，品名為ET500W的二氧化鈦粉末。此二氧化鈦粉末的外觀為圓形，表面披覆銻薄膜，粒徑范圍在0.2～0.3μm之間。
依據(jù)本發(fā)明，可同時(shí)使用光吸收材料和光散射顆粒兩者作為可調(diào)式反射成份，光吸收材料可補(bǔ)光散射顆粒(如金屬氧化物顆粒)在光反射調(diào)整的不足。光吸收材料也可能包含其它顏料，例如偶氮系、是和咝喹系等顏料。光吸收材料的選擇原則為，大的光吸收能力極遠(yuǎn)小于電荷發(fā)生層中的電荷發(fā)生材料的電荷發(fā)生能力。以避免可調(diào)式反射成份對(duì)電荷發(fā)生及光感度產(chǎn)生不良的影響。
本發(fā)明的另一實(shí)例揭示底層中的光吸收物質(zhì)亦可使用不同形式的TiOPc，如α-type TiOPc，β-type TiOPc和非晶型TiOPc。此光吸收物質(zhì)與正丁醇混合及劇烈研磨后，形成均勻分散的微粒。其粒徑大小可為0.05μm至1μm，較佳粒徑范圍在0.1μm至0.3μm。此光吸收物質(zhì)與正丁醇的重量比由1∶2至1∶50，較佳的比例為1∶5至1∶20。上述比例可使光吸收物質(zhì)與玻璃珠有效的接觸研磨，并在研磨過程中維持溶液的均勻性。然后加入醇溶性copolyamide高分子溶液及選擇性加入的光散射顆粒，最后再以甲醇及正丁醇稀釋此混合液。其固含量的變化由5％至50％，較佳的固含量為10％至30％。整個(gè)混合程序需要時(shí)間為1～5天，較佳的操作時(shí)間為2～3天，便可獲得混合均勻的底層涂布液。
電荷發(fā)生層的涂布液是由氨錯(cuò)合TiOPc分散于甲乙酮及聚乙烯縮丁醛的環(huán)己酮溶液而得。其中氨錯(cuò)合TiOPc是將TiOPc經(jīng)由一連串處理程序，如球磨、在含氯的有機(jī)溶劑及氨氣下濕磨、過濾及干燥等過程而獲得。制備此涂布液的方法是，首先將氨錯(cuò)合TiOPc加入環(huán)己酮中研磨，隨后再加入甲乙酮及聚乙烯縮丁醛的環(huán)己酮溶液，并連續(xù)研磨至產(chǎn)生均勻涂布液為止。其它已知可用于CGL中的高分子載體有polyester，polystyrene，polyvinyl acetate，polyvinyl butyral，polyvinylchloride，polymethyl methacrylate，polycarbonate(雙酚A型或Z型)，酚醛樹脂和硅樹脂。高分子載體與電荷發(fā)生物質(zhì)的重量比一般設(shè)定在1∶10至10∶1，較佳的比例為1∶2至2∶1。CGL的厚度變化范圍在0.01μm至5μm，較佳的厚度為0.05μm至2μm。
電荷傳遞層是由高分子載體與電荷傳遞物質(zhì)所組成。本發(fā)明多層式光電感光體的電荷傳遞層中所使用的高分子載體必須是耐磨耗物質(zhì)，同時(shí)高分子載體與電荷傳遞物質(zhì)的兼容性會(huì)顯著的影響到涂料固化后的熱力相穩(wěn)定。此外，高分子載體需有較強(qiáng)的極性以使電荷傳遞物質(zhì)能有效地傳遞電荷。一般用于CTL中的高分子載體樹脂包括polycarbonates如bisphenol A type或Z type resins，polystyrene，聚砜，壓克力樹脂和丙烯腈-苯乙烯共聚物。商用的電荷傳遞物質(zhì)通常須具有電荷移動(dòng)能力在10-6～10-4(cm2V-1sec-1)，如三芳香胺系分子，腙系hydrazone衍生物，惡嗪二唑系衍生物，喹唑系衍生物和芴酮系分子等。本發(fā)明的實(shí)例采用hydrazone作為電荷傳遞物質(zhì)，此hydrazone分子被溶解分散在Z typepolycarbonates的甲苯溶液中，以形成CTL的涂布液。Hydrazone與Z typepolycarbonates的重量比被保持在3∶5至1∶1，間。較高的含量可以得到較高的電荷傳遞效率，但需付出涂料固化后熱力相穩(wěn)定較差的代價(jià)。此外，包含Hydrazone與Z type polycarbonates的重量固含量被維持在15％至25％。所得的CTL厚度范圍在10μm至50μm，較佳的厚度為20μm至40μm。
在一彩色打印機(jī)中，正確的色彩表現(xiàn)取決于四色碳粉不同比例(灰階)的套色結(jié)果。因此，有效的灰階表現(xiàn)及碳粉密度控制，對(duì)于彩色打印輸出具有決定性的影響。依據(jù)本發(fā)明，光電感光體(有機(jī)感光鼓；OPC)中有添加可調(diào)式反射成份，借由改變可調(diào)式反射成份的濃度，可有效改變及微調(diào)感光體(OPC)的反射率，達(dá)到精確控制來自O(shè)PC表面的反射光，因而可達(dá)到控制碳粉灰階及密度的目的。因此，可以適度的調(diào)整OPC打印性能，來達(dá)到精確的色彩套色，使其符合不同彩色打印機(jī)及復(fù)印機(jī)的要求。
本發(fā)明調(diào)整光電感光體的反射率的方法，和傳統(tǒng)上調(diào)整光電感光體的反射率的方法并不相同。如上所述，在習(xí)知色彩校正的方法中，是利用調(diào)整布電滾輪、顯像滾輪及傳遞滾輪等的操作偏壓，改變碳粉吸附量，以達(dá)到調(diào)整光電感光體表面的光反射量的目的，以符合打印機(jī)內(nèi)設(shè)的反射率。本發(fā)明則是利用改變光電感光體本身成份的配方，來改變光電感光體的反射率。依據(jù)本發(fā)明，有兩種方法可用來調(diào)整光電感光體的反射率。其一為調(diào)整本發(fā)明多層式光電感光體中可調(diào)式反射成份的濃度，以調(diào)整反射率；另一種方法為調(diào)整光電感光體的底層的涂布厚度，以調(diào)整反射率。
本發(fā)明的多層式光電感光體可裝設(shè)于各種不同的光電顯像設(shè)備中，例如激光打印機(jī)、發(fā)光二極管打印機(jī)及復(fù)印機(jī)中，特別是裝設(shè)于一彩色打印機(jī)中。
以下具體說明本發(fā)明多層式光電感光體的應(yīng)用。當(dāng)本發(fā)明多層式光電感光體裝設(shè)在一光電顯像設(shè)備(例如彩色打印機(jī))中時(shí)，若測(cè)得感光體的反射率與光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍不符時(shí)，可改變感光體的配方，重新制作新的感光體，以改變感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。
例如，當(dāng)光電感光體的底層含有光吸收材料時(shí)，而測(cè)得感光體的反射率比光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍大時(shí)，可增加光吸收材料的濃度，重新制作新的感光體，以降低光電感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。或者，當(dāng)測(cè)得感光體的反射率比光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍小時(shí)，可減少光吸收材料的濃度，重新制作新的感光體，以提高光電感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。
同樣地，當(dāng)光電感光體的底層含有光散射顆粒時(shí)，而測(cè)得感光體的反射率比光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍大時(shí)，可增加光散射顆粒的濃度，重新制作新的感光體，以降低光電感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。或者，當(dāng)測(cè)得感光體的反射率比光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍小時(shí)，可減少光散射顆粒的濃度，重新制作新的感光體，以提高光電感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。
由于光散射顆粒的濃度改變，會(huì)大幅變動(dòng)感光體的反射率，而光吸收材料的濃度改變，僅會(huì)小幅變動(dòng)感光體的反射率。因此，實(shí)際應(yīng)用上，可采用底層中同時(shí)含有光吸收材料和光散射顆粒的感光體。當(dāng)測(cè)得感光體的反射率和光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率不符時(shí)，借由改變光散射顆粒的濃度，可大幅調(diào)整感光體的反射率，而借由改變光吸收材料的濃度，則可對(duì)于感光體的反射率作微調(diào)。如此，可使操作區(qū)間加大，獲得更明顯的灰階變化及碳粉密度。
再者，本發(fā)明也可利用改變底層的涂布厚度來調(diào)整光電感光體的反射率。例如，當(dāng)測(cè)得感光體的反射率比光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍大時(shí)，可增加底層的涂布厚度，重新制作新的感光體，以降低光電感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。或者，當(dāng)測(cè)得感光體的反射率比光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍小時(shí)，可減少底層的涂布厚度，重新制作新的感光體，以提高光電感光體的反射率，以配合光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率。
實(shí)施例1100g共聚醯胺(DAIAMID，Daicel-Hulls)的高分子載體、280g的正丁醇與280g的甲醇混合溶解后，再加入15g二氧化鈦粉末(ET500W，I.S.K.)的光散射顆粒混合成樹脂載體溶液。然后再加入均勻分散的β-type CuPc重量分率10％的正丁醇溶液10g，并進(jìn)行劇烈震蕩及研磨24hr后得到底層涂布液。以浸漬涂布(dip coating)的方式將涂布液涂布至無陽(yáng)極處理的亮面鋁基材上，形成厚度約4.5μm的底層。
CGL涂液的配制是將14g的氨錯(cuò)合精練的TiOPc與366g的環(huán)己酮混合劇烈震蕩研磨4hr。然后添加7g聚乙烯縮丁醛(PVB，Sekisui)及313g甲乙酮再劇烈震蕩研磨48hr后得到涂布液。所制得的涂布液涂布于底層上，形成膜厚約0.5μm的電荷產(chǎn)生層。
CTL的涂布液是由83g的hydrazone、605g的甲苯及101g的聚碳酸酯(Z-type polycarbonate，Mitsubishi Chemical)混合溶解和劇烈攪拌6hr后所得。所制得的涂布液涂布于感光鼓的CGL上，形成電荷傳遞層。
實(shí)施例2本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例1相同。唯一的不同在于鋁基材采用有陽(yáng)極處理的霧面鋁管。其它材料及配制方法如底層、CGL及CTL等，皆與實(shí)施例1相同。
實(shí)施例3本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例2相同。唯一的不同在于底層涂液中，光吸收顏料β-type CuPc改為添加1g β-type TiOPc。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例2相同。
實(shí)施例4本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例2相同。其不同處在于光散射顆粒ET500W的添加量改為10g。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例2相同。
實(shí)施例5本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法和實(shí)施例4相同。其不同處在于底層涂布厚度改為2μm。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例4相同。
比較例1本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例1相同。不同點(diǎn)在于感光體不涂含可調(diào)式反射成份的底層。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例1相同。
比較例2本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例2相同。不同點(diǎn)在于感光體不涂含可調(diào)式反射成份的底層。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例2相同。
比較例3本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例2相同。不同點(diǎn)僅在于底層涂液中不添加可調(diào)式反射成份，亦即，底層涂液中不添加二氧化鈦(ET500W)及β-type CuPc。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例2相同。
比較例4本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法和實(shí)施例2相同。唯一的不同在于底層配方中，只添加15g的光散射顆粒ET500W，但不添加β-type CuPc的光吸收顏料。其它材料及配制方法等，皆與實(shí)施例2相同。
比較例5本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例2相同。唯一的不同在于底層涂液中，光吸收顏料β-type CuPc增加為10g，且不添加光散射顆粒ET500W。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與實(shí)施例2相同。
比較例6本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法及涂布厚度和實(shí)施例2相同。唯一的不同在于底層配方中，光散射顆粒ET500W增加為30g，但不添加β-type CuPc的光吸收顏料。其它材料及配制方法等，皆與實(shí)施例2相同。
比較例7本實(shí)施例的涂布液的配制、感光體的涂布方法和比較例5相同。不同處在于底層膜厚增加為12μm，且使用無陽(yáng)極處理的鋁基材。其它材料及配制方法如CGL及CTL等，皆與比較例5相同。
電性測(cè)試本發(fā)明的光電感光體的各種電氣性質(zhì)是以PDT-2000(QEA)儀器量測(cè)獲得。首先利用6.5K伏特的電暈放電，并在感光體表面布上靜電，產(chǎn)生約-700伏特的表面電壓。連續(xù)布電、曝光、除電等步驟重復(fù)循環(huán)8次，測(cè)得各次感光體表面電位后，求其平均值后定義其為感光體的表面電荷接受度(charge acceptance，Vo)。暗衰減電位(dark decay)則定義為布電后在未曝光的狀況下維持2秒后，所測(cè)得的表面電位與Vo間的差值(DD2)。感光體在布電后，并以波長(zhǎng)為780nm的光源照射。此時(shí)感光體中的CGL會(huì)有光致放電現(xiàn)象發(fā)生，進(jìn)而中和表面電荷導(dǎo)致表面電位下降。半衰減能量(half-expo sure energy，E1/2)則定義為感光體表面電位下降至起始電位的一半時(shí)(Vo/2)，所需的曝光能量值。其值越小表示感光體的光電效應(yīng)越佳，也就是光感度越好。殘余電位(residual potential，Vr)的定義為連續(xù)曝光后，感光體表面最終電位值。本發(fā)明各實(shí)施例中的電性測(cè)量采用1.5μJ/cm2的最終曝光能量，其所對(duì)應(yīng)的表面電位即是殘留電位。
各實(shí)施例及比較例的光致放電曲線(Photo-Induced Discharge Curve，PIDC)測(cè)試結(jié)果如表一所示。由表一可知，本發(fā)明在有機(jī)感光鼓中增加含可調(diào)式反射成份的底層，并不會(huì)顯著影響其電性。其中殘余電位的變化較顯著，由表中可以發(fā)現(xiàn)無陽(yáng)極處理的鋁基材其殘余電位顯著較低。
表一、PIDC所測(cè)得的電性數(shù)據(jù)


打印品質(zhì)與碳粉密度測(cè)試本發(fā)明各實(shí)施例所制備的有機(jī)感光鼓，皆以型號(hào)4500的惠普彩色激光打印機(jī)(Hewlett-Packard Color LaserJet 4500)作為測(cè)試平臺(tái)。其中除了將HP Color LaserJet 4500感光鼓卡匣內(nèi)的惠普原廠感光鼓置換成本發(fā)明所制備的感光鼓外，其余打印裝置如碳粉、傳送套件及熱壓套件等，皆使用惠普原廠附件。測(cè)試的方法采用HP Color LaserJet 4500內(nèi)建打印機(jī)訊息(Information Menu)中的打印機(jī)組態(tài)頁(yè)(ConfigurationPage)及打印機(jī)展示頁(yè)(LaserJet Demo)，作為色彩灰階、密度及套色的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試頁(yè)。其中，打印機(jī)組態(tài)頁(yè)包含黑(K)、青藍(lán)(C)、洋紅(M)及黃色(Y)四種碳粉的色塊，且每一色皆具有四種灰階變化的色塊。而碳粉密度是借由Macbeth公司所生產(chǎn)的RD-921反射式密度計(jì)，偵測(cè)上述組態(tài)頁(yè)中的色塊而得。
各實(shí)施例及比較例的打印測(cè)試評(píng)比如表二所示。表三顯示不同灰階色塊的碳粉密度。
由表二可見，本發(fā)明(實(shí)施例1至5)在有機(jī)感光鼓中增加含可調(diào)式反射成份的底層，具有較佳的打印品質(zhì)。
在表二的打印評(píng)比及表三碳粉密度的偵測(cè)中，清楚的說明若有機(jī)感光鼓無可調(diào)式反射成份的底層(比較例1、2及3)，不論其使用的鋁基材是否有陽(yáng)極處理，所得的打印結(jié)果傾向色彩的灰階無法有效顯現(xiàn)，碳粉密度較低，導(dǎo)致不佳的套色結(jié)果及低劣的輸出品質(zhì)。例如對(duì)照實(shí)施例1、3與比較例1、2的測(cè)試結(jié)果得知，含可調(diào)式反射成份的底層的有機(jī)感光鼓可以大幅改善色彩的灰階表現(xiàn)、增加輸出碳粉密度及正確的套色打印。
此外，比較例3、4、6及實(shí)施例2、4相互比較發(fā)現(xiàn)，隨著光散射顆粒含量增加，打印輸出的品質(zhì)及密度增加。但光散射顆粒若過量，則會(huì)造成碳粉密度過高，因而導(dǎo)致碳粉暈染、色彩過飽和及灰階不易辨識(shí)等缺陷。相類似的結(jié)果亦出現(xiàn)在實(shí)施例4、5，和比較例5、7的比較，當(dāng)含可調(diào)式反射成分的底層較厚時(shí)，其打印輸出的品質(zhì)及密度增加。但當(dāng)?shù)讓舆^薄時(shí)，會(huì)造成碳粉密度過低，導(dǎo)致色彩飽和度不足及灰階不易辨識(shí)等缺陷。
值得注意的是，底層中可調(diào)式反射成份若只含有光散射顆?；蚬馕疹伭蠒r(shí)(如比較例4、5、6、7)，由表三的灰階密度值得知，其打印輸出的灰階品質(zhì)將較同時(shí)含有光散射顆粒及光吸收顏料的底層差(如實(shí)施例1、2、3、4)。
表二、打印評(píng)比


E極好；G良好；F尚可；P不好表三、不同灰階色塊的碳粉密度













G1-G4代表不同灰階密度，G1的灰階密度值最高，G4的灰階密度值最低。
反射光的量測(cè)反射光的量測(cè)是用International Light公司的IL1400光度計(jì)，整個(gè)量測(cè)的裝置如圖3所示。測(cè)量反射光時(shí)，感光鼓54被經(jīng)過濾鏡的鹵素?zé)艄庠?1照射。此光束透過光纖55傳遞至感光鼓54表面，并借由硅的光二極管53偵測(cè)其反射光。此反射光訊號(hào)透過光二極管53傳送至IL1400光度計(jì)52中，并顯示出反射光強(qiáng)度。
針對(duì)比較例1、3及實(shí)施例1、2、4、5進(jìn)行反射光測(cè)量，其結(jié)果如表四所示。由表中反射率數(shù)據(jù)得知，本發(fā)明在底層添加可調(diào)式反射成份時(shí)，可有效降低反射光，且與不含可調(diào)式反射成份的底層(比較例1、3)及基材是否處理(實(shí)施例1、2)無關(guān)。此外，反射率亦隨可調(diào)式反射成份含量及厚度增加而降低。因此，控制可調(diào)式反射成份的含量(實(shí)施例2、4)及底層厚度(實(shí)施例4、5)，可有效調(diào)整OPC的反射率以適用不同的色彩校正系統(tǒng)。
表四、不同底層組成與膜厚下的反射率

吸收光的量測(cè)吸收光的量測(cè)是用Perkin Elmer公司的Lambda 11紫外光/可見光譜儀。測(cè)量吸收光時(shí)，底層、CGL及CTL各層的涂布液被涂布在載玻片上，作為光譜測(cè)試片。而空白的載玻片當(dāng)成紫外光/可見光譜儀的空白基材比對(duì)測(cè)試片。所得底層(UCL)、CGL及CTL各層的吸收光譜圖如圖4所示。
權(quán)利要求
1.一種多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體包括一導(dǎo)電基材、在該導(dǎo)電基材上的一底層、以及在該底層上的一電荷發(fā)生層和一電荷傳遞層，其中該底層包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成份，該可調(diào)式反射成份包括光吸收材料、或光散射顆粒、或上述兩者的混合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體底層組成中的光吸收材料為有機(jī)顏料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體光吸收材料為α型銅酞花菁(α-type CuPc)、β型銅酞花菁、非晶型銅酞花菁、α型氧化鈦酞花菁(α-type TiOPc)、β型氧化鈦酞花菁、非晶型氧化鈦酞花菁、2，7-雙(3-(2-氯苯胺羧基)-2-羥基萘-1-偶氮)芴-9-酮、或2，7-雙(3-(2-氟苯胺羧基)-2-羥基萘-1-偶氮)芴-9-酮。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體底層組成中的光散射顆粒為二氧化鈦。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體底層組成中高分子載體與可調(diào)式反射成份的重量比范圍為1∶10至20∶1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體可調(diào)式反射成份包括光吸收材料和光散射顆粒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體底層組成中的光吸收材料與光散射顆粒的重量比范圍為1∶5至1∶100。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體底層組成中可調(diào)式反射成份的粒徑范圍在0.05μm至1μm之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體底層的涂布厚度范圍為0.5μm至30μm之間。
10.一種光電顯像設(shè)備，包括一多層式光電感光體，其特征在于所述多層式光電感光體包括一導(dǎo)電基材、在該導(dǎo)電基材上的一底層、以及在該底層上的一電荷發(fā)生層和一電荷傳遞層，其中該底層包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成份，該可調(diào)式反射成份包括光吸收材料、光散射顆粒、或上述兩者的混合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光電顯像設(shè)備，其特征在于所述光電顯像設(shè)備為一彩色打印機(jī)或復(fù)印機(jī)。
12.一種調(diào)整一光電感光體的反射率的方法，其中該光電感光體包括一導(dǎo)電基材、在該導(dǎo)電基材上的一底層、以及在該底層上的一電荷發(fā)生層和一電荷傳遞層，其中該底層包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成份，其中該方法包括改變?cè)摽烧{(diào)式反射成份的濃度，以調(diào)整該光電感光體的反射率。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中該方法包括改變?cè)摽烧{(diào)式反射成份的濃度，以調(diào)整該光電感光體的反射率，使其符合一光電顯像設(shè)備的內(nèi)設(shè)既定的反射率范圍。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中該光電顯像設(shè)備為一彩色光電顯像設(shè)備。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該光電顯像設(shè)備為一彩色打印機(jī)或復(fù)印機(jī)。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中該可調(diào)式反射成份包括一光吸收材料，該方法包括改變?cè)摴馕詹牧系臐舛取?br> 17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中該方法包括增加該光吸收材料的濃度，以降低該光電感光體的反射率，或者減少該光吸收材料的濃度，以提高該光電感光體的反射率。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中該可調(diào)式反射成份包括一光散射顆粒，該方法包括改變?cè)摴馍⑸漕w粒的濃度。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中該方法包括增加該光散射顆粒的濃度，以降低該光電感光體的反射率，或者減少該光散射顆粒的濃度，以提高該光電感光體的反射率。
20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中該可調(diào)式反射成份包括一光吸收材料和一光散射顆粒，該方法包括改變?cè)摴馕詹牧虾凸馍⑸漕w粒的濃度。
21.一種調(diào)整一光電感光體的反射率的方法，其中該光電感光體包括一導(dǎo)電基材、在該導(dǎo)電基材上的一底層、以及在該底層上的一電荷發(fā)生層和一電荷傳遞層，其中該底層包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成份，其中該方法包括改變?cè)摰讓拥耐坎己穸?，以調(diào)整該光電感光體的反射率。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中該方法包括增加該底層的涂布厚度，以降低該光電感光體的反射率，或者減少該底層的涂布厚度，以增加該光電感光體的反射率。
全文摘要
本發(fā)明提供一種多層式光電感光體，其包括一導(dǎo)電基材、在導(dǎo)電基材上的一底層、以及在底層上的一電荷發(fā)生層和一電荷傳遞層。底層包括一高分子載體和一可調(diào)式反射成分，可調(diào)式反射成分包括光吸收材料、光散射顆粒、或上述兩者的混合物。本發(fā)明亦提供一種調(diào)整光電感光體的反射率的方法，是改變可調(diào)式反射成分的濃度，或改變底層的涂布厚度，以調(diào)整光電感光體的反射率。如此，將本發(fā)明的光電感光體應(yīng)用在激光打印機(jī)、發(fā)光二極管打印機(jī)及復(fù)印機(jī)中時(shí)，可以精確控制光電感光體表面的光反射率，借以獲得精準(zhǔn)的全彩圖像對(duì)位結(jié)果。
文檔編號(hào)G03G15/04GK1591203SQ0315586
公開日2005年3月9日 申請(qǐng)日期2003年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月25日
發(fā)明者劉明輝, 楊振仁 申請(qǐng)人:光華開發(fā)科技股份有限公司