專利名稱：用來照射紫外線的掩膜架的制作方法
本申請要求享有2002年2月21日提出的第P2002-009338號和2002年2月22日提出的第P2002-009613號韓國申請的權(quán)益，它們在此引用以作參考。
如

圖1所示，這種液晶顯示裝置通常包括下基板1，其上形成有多個(gè)薄膜晶體管(圖中未示)和象素電極3；上基板2，它有一黑色矩陣層4、一濾色器層6和一公共電極8；和一液晶層5，該層5在下基板1與上基板2之間。在象素電極3與公共電極8之間產(chǎn)生電場，以便驅(qū)動液晶層5。通過受驅(qū)動的液晶層5控制透光率，以便將圖像顯示在顯示屏上。
此外，在基板1和2的正面上形成取向?qū)?alignment layers)(圖中未示)用以使液晶5初始取向。
在下基板1與上基板2之間形成有一密封劑10，以防止液晶從基板間漏出并且使基板相互粘接。
密封劑10涂敷在下基板1或上基板2上，然后在將下基板1和上基板2相互粘附之后固化該密封劑10。這樣的密封劑類型包括熱固化密封劑和紫外光固化密封劑，它們分別用熱和紫外線固化。
同時(shí)，也可以從熱固化密封劑和紫外光固化密封劑之一中選擇密封劑類型，這取決于液晶顯示裝置的制造方法。
在利用毛細(xì)現(xiàn)象和壓差將液晶注入粘附的基板中的真空注入法中，在將下基板和上基板相互粘附之后，于液晶注入之前固化密封劑。即使密封劑漏出，也沒有機(jī)會污染液晶。因此，真空注入法主要使用熱固化密封劑。
在液晶滴加法中，在將液晶分配到基板1和2其中之一上之后，執(zhí)行兩基板的粘附處理過程。在形成液晶層之后固化密封劑。因此，當(dāng)使用熱固化密封劑時(shí)，密封劑會在加熱過程中流出，由此污染液晶。所以，紫外光固化密封劑主要用于液晶滴加法形成的LCD。
圖2是一透視圖，它示出一種用已有技術(shù)液晶滴加法的液晶顯示裝置中固化紫外光固化密封劑的紫外線發(fā)射裝置。
參見圖2，已有技術(shù)的紫外線發(fā)射裝置包括一基板臺20和一紫外光源單元30，該單元30有一置于基板臺20之上的紫外燈32。
采用這種已有技術(shù)紫外線發(fā)射裝置的密封劑固化過程是以下述方式進(jìn)行的即用紫外光源單元30將紫外線照射到裝到紫外線發(fā)射裝置的基板臺20上的所粘附的基板1和2。這種情況下，紫外光固化密封劑10形成在所粘附基板1和2的內(nèi)側(cè)。
在已有技術(shù)的紫外線發(fā)射裝置中，來自紫外光源30的紫外線照射到其上裝有粘附后基板的基板臺20的整個(gè)表面上。這樣，紫外線照射到所粘附基板的整個(gè)暴露表面上。
但是，一旦紫外線照射到所粘附基板的整個(gè)表面上，諸如薄膜晶體管之類基板上各器件的性能就會衰減。此外，用于初始取向液晶的取向?qū)宇A(yù)傾角會發(fā)生變化。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種照射紫外線的掩膜架，它包括一掩膜，該掩膜用來有選擇地將紫外線僅照射在密封劑形成區(qū)域上，以便固化一紫外光固化密封劑而不使基板上各器件如取向?qū)印⒈∧ぞw管等的性能發(fā)生衰減。
本發(fā)明的又一個(gè)目的在于提供一種照射紫外線的掩膜架，它能有效地固定掩膜。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在以下的描述中列出，根據(jù)該描述，它們的一部分將變得很明顯，或者可以通過實(shí)踐本發(fā)明來學(xué)會。通過以下的描述及其權(quán)利要求書以及附圖中特別指出的結(jié)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)和得到本發(fā)明的這些目的和其他優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其他優(yōu)點(diǎn)，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)目的，如具體和廣義性描述的那樣，一種照射紫外線的掩膜架包括一下部，它有一框架和支撐一掩膜的掩膜支撐部件，其中該掩膜支撐部件在該框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分；和一上部，它有與第一連接部分對齊的多個(gè)第二連接部分。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面中，一種紫外線發(fā)射裝置包括一基板臺、一紫外光源單元、基板臺與紫外光源單元之間的掩膜和一掩膜架，該掩膜架包括一下部和一上部，該下部有一框架和一支撐掩膜的掩膜支撐部件，其中掩膜支撐部件在框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分，該上部有與第一連接部分對齊的多個(gè)第二連接部分。
應(yīng)理解的是，上述一般性的描述和以下的詳細(xì)描述僅是示例性和解釋性的，意欲用它們提供對如所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步解釋。
這些附圖中圖1示出了一種用以解釋液晶顯示裝置的示意性剖視圖；圖2是一示意性透視圖，它示出一種采用已有技術(shù)液晶滴加法的液晶顯示裝置中固化紫外光固化密封劑的紫外線發(fā)射裝置；圖3是一放大的透視圖，它示出了根據(jù)本發(fā)明的一種紫外線發(fā)射裝置；圖4A是一放大的透視圖，他示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的一種掩膜架；圖4B示出圖4A的掩膜架所固定的掩膜布局；圖4C示出沿圖4B的線IVC-IVC所取的一個(gè)剖視圖；圖5至7分別示出根據(jù)本發(fā)明第二、第三和第四實(shí)施例的紫外線發(fā)射裝置的掩膜架；圖8A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的一種掩膜架；圖8B示出圖8A的掩膜架所固定的掩膜布局；圖8C示出沿圖8B的線VIIIC-VIIIC所取的剖視圖；圖9是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的一種紫外線發(fā)射裝置的掩膜架；圖10A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的一種掩膜架；圖10B示出圖10A掩膜架所固定的掩膜布局；圖10C示出沿圖10B的線XC-XC所取的剖視圖；圖11至13分別示出根據(jù)本發(fā)明第八、第九和第十實(shí)施例的紫外線發(fā)射裝置的掩膜架；圖14A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第十一實(shí)施例的一種掩膜架；圖14B示出圖14A掩膜架所固定的掩膜布局；圖14C示出沿圖14B的線XIVC-XIVC所取的剖視圖；圖14D示出沿圖14B的線XIVD-XIVD所取的剖視圖；圖15A和15B是放大的透視圖，它們示出根據(jù)本發(fā)明第十二實(shí)施例的掩膜架；圖16至20分別示出根據(jù)本發(fā)明第十三、第十四、第十五、第十六和第十七實(shí)施例的掩膜架。
圖3是一放大的透視圖，它示出了根據(jù)本發(fā)明的一種紫外線發(fā)射裝置。
參見圖3，根據(jù)本發(fā)明的紫外線發(fā)射裝置包括一基板臺100、一紫外光源單元200、一形成于基板臺100與紫外光源單元200之間的掩膜300和固定掩膜300的下部400與上部500。
把其上形成有一密封劑750的所粘附的基板700裝到基板臺100上。為進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)，可以用一傳送帶或類似物來移動基板臺100。
在紫外光源單元200上形成一紫外燈210。雖然圖中只示出一盞紫外燈，不過可以隨基板尺寸的增大而安裝多盞紫外燈。
掩膜300的圖案310與密封劑750的圖案相同，以便使紫外線照射到所粘附基板700形成有密封劑750的區(qū)域上。因此，可以根據(jù)隨不同模具而變化的密封劑750的圖案來改變掩膜圖案310。
掩膜300置于和固定在下部400與上部500之間。如下說明下部400和上部500的形狀以及將掩膜300固定到掩膜架上的方法。
圖4A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的一種掩膜架。圖4B示出圖4A掩膜架所固定的掩膜布局。圖4C示出沿圖4B的線IVC-IVC所取的剖視圖。
參見圖4A，根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的一種掩膜架包括一下部400、一上部510和連接上部510與下部400的連接部件600。
這種情況下，下部400包括一矩形框架410和板狀部件440。第一連接部分450形成于每一個(gè)板狀部件440上。
板狀部件440支撐掩膜300并且形成于矩形框架410的左右兩側(cè)。板狀部件440還可以形成于矩形框架410的上下兩側(cè)。
上部510包括一對直條。第二連接部分550形成于上部510上并且對應(yīng)于板狀部件440的第一連接部分450。
上部510固定到矩形框架410內(nèi)側(cè)形成的板狀部件440上，并且其大小與這些板狀部件440相匹配。
如圖4B和4C所示，一種把一掩膜固定到上述掩膜架的方法包括將掩膜300與下部400的板狀部件440對齊；將上部510置于掩膜300之上；并且將連接部件600分別放入板狀部件440的第一連接部分450與上部510的第二連接部分550中，以固定掩膜300。
同時(shí)，如前面所述的那樣，由于掩膜300的圖案可以根據(jù)產(chǎn)品模具改變，所以也可以更換掩膜300。因此，連接部件600并不永久地將上部510固定到下部400上，而是象螺栓等物一樣可拆卸。
此外，紫外線穿過掩膜300的圖案310以便照射到所粘附基板的密封劑上。如果掩膜300的圖案310一部分與板狀部件440重疊，那么紫外線無法照射到所粘附基板的密封劑上。因此，可以用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成固定掩膜300的下部400的板狀部件440和上部510。
圖5至7分別示出根據(jù)本發(fā)明第二、第三和第四實(shí)施例的一種紫外線發(fā)射裝置的掩膜架，其中如第一實(shí)施例所示，一掩膜置于和固定在下部與上部之間。
圖5中根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的一種掩膜架類似于圖4中第一實(shí)施例的掩膜架，不過其上部的形狀不同。因此，在圖5中使用相同的標(biāo)號，為簡便起見省略對其的描述。
如圖5所示，根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩膜架包括一矩形部件520，該部件520代替一對直條作為一個(gè)上部。該矩形部件520將掩膜固定得更穩(wěn)定。
如圖6所示，根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部400所有四個(gè)側(cè)面的板狀部件440。第三實(shí)施例的其他部分與圖4A中所示第一實(shí)施例的掩膜架中那些部分相同。
如圖7所示，根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部400所有四個(gè)側(cè)面的板狀部件440和作為一上部的矩形部件520。
這樣，增大了掩膜與支撐掩膜的掩膜架之間的接觸面積，由此將掩膜固定得更穩(wěn)定。
圖8A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的一種掩膜架。圖8B示出圖8A的掩膜架所固定的掩膜布局。圖8C示出沿圖8B的線VIIIC-VIIIC所取的剖視圖。
如圖8A至8C所示，根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的一種掩膜架包括一板430，它位于下部400的矩形框架410底部內(nèi)側(cè)并且支撐掩膜的整個(gè)側(cè)面。因此，使掩膜與掩膜架之間的接觸面積最大，從而將掩膜固定得更穩(wěn)定。
這種情況下，用一種紫外線透光材料如壓克力或石英制成板430，以便使紫外線照射到掩膜內(nèi)形成的圖案上。其他部分與圖4A中所示掩膜架的那些部分類似，對相同的部分使用相同的標(biāo)號。
圖9是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的一種紫外線發(fā)射裝置的掩膜架。該掩膜架類似于圖4A中所示第一實(shí)施例的掩膜架，不過其上部不同。本實(shí)施例中，將一矩形部件520用于上部。
圖10A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的一種掩膜架。圖10B示出圖10A的掩膜架所固定的掩膜布局。圖10C示出沿圖10B的線XC-XC所取的剖視圖。
參見圖10A，根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的一種掩膜架包括一下部400、一上部510和一將上部510連接到下部400內(nèi)的連接部件600。
這種情況下，下部400包括一矩形框架410和形成于矩形框架410內(nèi)的多個(gè)突出部件420。第一連接部分450形成于矩形框架410各角處的每一個(gè)突出部件420上。
突出部件420支撐掩膜。多個(gè)突出部件420形成于矩形框架410的左右兩側(cè)。突出部件420還形成于矩形框架410的上下兩側(cè)。
上部510包括一對直條。第二連接部分550形成于上部510上并且對應(yīng)于突出部件420的第一連接部分450。
上部510固定到矩形框架410內(nèi)形成的突出部件420上，其大小與矩形框架410相匹配。
同時(shí)，如前面所述的那樣，由于掩膜300的圖案可以根據(jù)不同的產(chǎn)品模具改變，所以也可以更換掩膜300。因此，連接部件600并不永久地將上部510固定到下部400上，而是象螺栓等物一樣可拆卸。
此外，紫外線穿過掩膜300的圖案310以便照射到所粘附基板的密封劑上。如果掩膜300的圖案310一部分與板狀部件440重疊，那么紫外線無法照射到所粘附基板的密封劑上。因此，用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成固定掩膜300的下部400的突出部件420和上部510。
圖11至13分別示出根據(jù)本發(fā)明第八、第九和第十實(shí)施例的紫外線發(fā)射裝置的掩膜架。
如圖11所示，根據(jù)本發(fā)明第八實(shí)施例的掩膜架包括一矩形框架520，它代替一對直條作為上部。其他部分與根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的掩膜架的那些部分相類似。
如圖12所示，根據(jù)本發(fā)明第九實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部所有四個(gè)側(cè)面上而不是下部400的上下兩側(cè)或左右兩側(cè)上的多個(gè)突出部件420。其他部分與根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的掩膜架的那些部分相同。
如圖13所示，根據(jù)本發(fā)明第十實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部400內(nèi)所有四個(gè)側(cè)面上的多個(gè)突出部件420和作為上部的一個(gè)矩形框架520。
如果在下部400內(nèi)使用更多突出部件420或者將矩形框架520用作上部，那么掩膜可以得到更穩(wěn)定的支撐。但是，增大了掩膜與掩膜架之間的接觸面積，從而可以使紫外線不根據(jù)密封劑圖案照射到掩膜圖案上。因此，可以不固化密封劑。
所以，可以用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成突出部件420和矩形框架520。
圖14A是一放大的透視圖，它示出根據(jù)本發(fā)明第十一實(shí)施例的一種掩膜架。圖14B示出圖14A的掩膜架所固定的掩膜布局。圖14C示出沿圖14B的線XIVC-XIVC所取的剖視圖。圖14D示出沿圖14B的線XIVD-XIVD所取的剖視圖。
參見圖14A，根據(jù)本發(fā)明第十一實(shí)施例的一種掩膜架包括一下部400、一上部510和一將上部510連接到下部400內(nèi)的連接部件600。
這種情況下，下部400包括一矩形框架410、形成于矩形框架410內(nèi)部的多個(gè)突出部件420和粘附到兩個(gè)突出部件420上的支撐棒460。第一連接部分450形成于矩形框架410各角處的每一個(gè)突出部件420上。
突出部件420是掩膜的主支撐部件，而支撐棒460是一輔助掩膜支撐部件。更具體地說，當(dāng)基板的尺寸增大時(shí)，掩膜也因此增大。所以，如果掩膜僅僅由突出部件420支撐，那么掩膜的中央部分可能向下彎折。因此，支撐棒460防止發(fā)射這一問題。
這種情況下，有紫外線穿過照射到所粘附基板內(nèi)密封劑上的掩膜300圖案310的一部分與作為輔助掩膜支撐部件的支撐棒460重疊。因此，用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成支撐棒460。
如圖所示，突出部件420和支撐棒460分別形成于矩形框架410的左右兩側(cè)上。突出部件420和支撐棒460還可以分別形成于矩形框架410的上下兩側(cè)上。此外，突出部件420和支撐棒460的寬度可以隨其他條件改變。而且，可以在下部400內(nèi)安裝一個(gè)以上的支撐棒460。
上部510包括一對直條。第二連接部分550形成于上部510上并且對應(yīng)于突出部件420的第一連接部分450。
上部510固定到矩形框架410內(nèi)形成的突出部件420內(nèi)，以使其大小與矩形框架410匹配。
同時(shí)，如前面所述的那樣，由于掩膜300的圖案可以根據(jù)產(chǎn)品模具改變，所以也可以更換掩膜300。因此，連接部件600并不永久地將上部510固定到下部400上，而是象螺栓等物一樣可拆卸。
此外，紫外線穿過掩膜300的圖案310以便照射到所粘附基板的密封劑上。如果掩膜300的圖案310一部分與突出部件420重疊，那么紫外線無法照射到所粘附基板的密封劑上。因此，可以用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成固定掩膜300的下部400的突出部件420和上部510。
圖15A和15B是放大的透視圖，它們示出根據(jù)本發(fā)明第十二實(shí)施例的掩膜架，其中一支撐棒460接至一矩形框架410上沒有粘附突出部件420的內(nèi)側(cè)面，其他部分與本發(fā)明第十一實(shí)施例中的那些部分類似。因此對其他部分采用相同的標(biāo)號。
參見圖15A，支撐棒460接至其上沒有形成突出部件420的矩形框架410的內(nèi)側(cè)面。參見圖15B，支撐棒460接至矩形框架410上多個(gè)突出部件420之間的內(nèi)表面上。
圖16至20分別示出根據(jù)本發(fā)明第十三、第十四、第十五、第十六和第十七實(shí)施例的掩膜架。
參見圖16至20，根據(jù)本發(fā)明第十三至第十七實(shí)施例的掩膜架是本發(fā)明上述實(shí)施例的各種結(jié)合。
因此，本發(fā)明用來將紫外線僅僅照射到一密封劑形成區(qū)域上，以固化一紫外線固化密封劑而不使基板上各器件如取向?qū)?、薄膜晶體管等的性能發(fā)生衰減。
此外，根據(jù)本發(fā)明的掩膜架有效地固定掩膜，并且可以隨掩膜圖案改變而不考慮密封劑圖案的變化。
對本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說很明顯的是，在不脫離本發(fā)明的實(shí)質(zhì)或范圍的情況下，可以在本發(fā)明用于照射紫外線的掩膜架中作各種修改和變換。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍覆蓋所有落在所附權(quán)利要求書及其等同物的范圍內(nèi)的修改和變換。
權(quán)利要求
1.一種用來照射紫外線的掩膜架，包括一下部，它具有一框架和一支撐掩膜的掩膜支撐部件，其中掩膜支撐部件在該框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分；和一上部，它具有與第一連接部分對齊的多個(gè)第二連接部分。
2.權(quán)利要求1的掩膜架，其中掩膜支撐部件包括單獨(dú)一塊板。
3.權(quán)利要求2的掩膜架，其中該板由一種紫外線透光材料制成。
4.權(quán)利要求2的掩膜架，其中該板的中央有一去除部分(removedportion)。
5.權(quán)利要求4的掩膜架，其中該去除部分的面積大于掩膜的面積。
6.權(quán)利要求1的掩膜架，還包括掩膜支撐部件內(nèi)的一個(gè)輔助掩膜支撐部件。
7.權(quán)利要求6的掩膜架，其中輔助掩膜支撐部件由一種紫外線透光材料制成。
8.權(quán)利要求7的掩膜架，其中紫外線透光材料包括壓克力和石英中的一種。
9.權(quán)利要求1的掩膜架，其中掩膜支撐部件包括至少兩塊板。
10.權(quán)利要求9的掩膜架，其中至少兩塊板是一對條。
11.權(quán)利要求9的掩膜架，其中至少兩塊板基本上小于掩膜。
12.權(quán)利要求1的掩膜架，其中掩膜支撐部件由一種紫外線透光材料制成。
13.權(quán)利要求12的掩膜架，其中紫外線透光材料包括壓克力和石英中的一種。
14.權(quán)利要求1的掩膜架，其中上部包括一對條。
15.權(quán)利要求1的掩膜架，其中上部的周長基本上與下部相同。
16.權(quán)利要求1的掩膜架，其中上部由一種紫外線透光材料制成。
17.權(quán)利要求16的掩膜架，其中紫外線透光材料包括壓克力和石英中的一種。
18.一種紫外線發(fā)射裝置，包括一基板臺；一紫外光源單元；基板臺與紫外光源單元之間的掩膜；和一掩膜架，該掩膜架包括一下部和一上部，該下部有一框架和一支撐掩膜的掩膜支撐部件，其中掩膜支撐部件在框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分，該上部有與第一連接部分對齊的多個(gè)第二連接部分。
19.權(quán)利要求18的紫外線發(fā)射裝置，其中基板臺是可移動的。
全文摘要
本發(fā)明中公開了一種照射紫外線的掩膜架。該掩膜架包括一下部，它有一框架和支撐一掩膜的掩膜支撐部件，其中該掩膜支撐部件在該框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分；和一上部，它有與第一連接部分對齊的多個(gè)第二連接部分。
文檔編號G02F1/1339GK1439916SQ0310303
公開日2003年9月3日 申請日期2003年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月21日
發(fā)明者卞溶相, 樸武烈, 丁圣守 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社