本實(shí)用新型涉及辦公領(lǐng)域，具體涉及涂鴉膜。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的涂鴉膜表面光滑，無定位用的線，在使用過程中，無法對(duì)涂鴉位置進(jìn)行定位。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種內(nèi)置有觸摸定位線的涂鴉膜，以解決上述至少一種技術(shù)問題。

本實(shí)用新型所解決的問題可以采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

內(nèi)置有觸摸定位線的涂鴉膜，包括一高分子涂料制成的膜狀基體，所述膜狀基體包括用來涂鴉的正面、用來粘貼墻壁的背面，其特征在于，所述膜狀基體的正面設(shè)有復(fù)數(shù)條凹槽，各凹槽橫向平行排布；

所述凹槽內(nèi)填充有熒光粉，所述凹槽的槽口通過所述高分子涂料密封。

熒光粉在受到自然光、日光燈光、紫外光等照射后，把光能儲(chǔ)存起來，在停止光照射后，再緩慢地以熒光的方式釋放出來，所以在夜間或者黑暗處，仍能看到發(fā)光，持續(xù)時(shí)間長達(dá)幾小時(shí)至十幾小時(shí)。本專利通過在膜狀基體上設(shè)凹槽，并在凹槽內(nèi)填熒光粉，可以形成復(fù)數(shù)條可以發(fā)光的平行線，利用這個(gè)平行線能夠?qū)ν盔f位置進(jìn)行定位。

用于密封所述凹槽的槽口的高分子涂料到所述膜狀基體的背面的最大距離大于所述膜狀基體的正面到背面的距離。從而使凹槽處厚度增加，因凹槽處厚度較大，在熒光粉不發(fā)光或外界光線較強(qiáng)的情況下涂鴉時(shí)，可以用手觸摸內(nèi)置有觸摸定位線的涂鴉膜，通過感覺高起的位置，粗估當(dāng)前位置。

所述凹槽內(nèi)還設(shè)有鐵絲，所述熒光粉粘在所述鐵絲上。通過鐵絲可以改善熒光粉噴灑不均勻、噴灑過少等造成的用于密封所述凹槽的槽口的高分子涂料不容易凸起的問題。從而降低制作難度。

一個(gè)凹槽內(nèi)的鐵絲優(yōu)選有兩根，兩根鐵絲絞合在一起。通過絞合的方式，可以降低熒光粉的粘結(jié)難度，提高熒光粉的分布密度。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的部分結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的部分結(jié)構(gòu)剖面圖。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體圖示進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。

參照?qǐng)D1，圖2，內(nèi)置有觸摸定位線的涂鴉膜，包括一高分子涂料制成的膜狀基體1，膜狀基體1包括用來涂鴉的正面、用來粘貼墻壁的背面，膜狀基體1的正面設(shè)有復(fù)數(shù)條凹槽11，各凹槽11橫向平行排布；凹槽11內(nèi)填充有熒光粉2，凹槽11的槽口通過高分子涂料密封。熒光粉2在受到自然光、日光燈光、紫外光等照射后，把光能儲(chǔ)存起來，在停止光照射后，再緩慢地以熒光的方式釋放出來，所以在夜間或者黑暗處，仍能看到發(fā)光，持續(xù)時(shí)間長達(dá)幾小時(shí)至十幾小時(shí)。本專利通過在膜狀基體1上設(shè)凹槽11，并在凹槽11內(nèi)填熒光粉2，可以形成復(fù)數(shù)條可以發(fā)光的平行線，利用這個(gè)平行線能夠?qū)ν盔f位置進(jìn)行定位。

用于密封凹槽11的槽口的高分子涂料到膜狀基體1的背面的最大距離大于膜狀基體1的正面到背面的距離。從而使凹槽11處厚度增加，因凹槽處厚度較大，在熒光粉2不發(fā)光或外界光線較強(qiáng)的情況下涂鴉時(shí)，可以用手觸摸內(nèi)置有觸摸定位線的涂鴉膜，通過感覺高起的位置，粗估當(dāng)前位置。

凹槽內(nèi)還設(shè)有鐵絲，熒光粉粘在鐵絲上。通過鐵絲可以改善熒光粉噴灑不均勻、噴灑過少等造成的用于密封凹槽的槽口的高分子涂料不容易凸起的問題。從而降低制作難度。一個(gè)凹槽內(nèi)的鐵絲優(yōu)選有兩根，兩根鐵絲絞合在一起。通過絞合的方式，可以降低熒光粉的粘結(jié)難度，提高熒光粉的分布密度。

以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。