專利名稱：電波透過性裝飾膜以及使用該裝飾膜的裝飾部件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有金屬光澤的電波透過性裝飾膜以及使用該裝飾膜的裝飾部件。本申請(qǐng)基于并要求2009年3月17日在日本提出的專利申請(qǐng)2009-64568號(hào)的優(yōu)先權(quán)，并將其內(nèi)容引用于此。
背景技術(shù)：
便攜式電話的殼體、開關(guān)按鈕，時(shí)鐘的殼體，以及汽車的前格柵、保險(xiǎn)杠、面板等， 從外觀設(shè)計(jì)性方面，多使用金屬色調(diào)的裝飾部件，特別是具有鏡面那樣的金屬光澤的裝飾部件。而且，作為所述裝飾部件，由于下述的理由等，需要透射電波(微波等)且不對(duì)電波造成影響的裝飾部件。(i)在便攜式電話的殼體內(nèi)部配置有發(fā)送、接收電波的天線。(ii)在帶有接收標(biāo)準(zhǔn)電波并自動(dòng)修正誤差的功能的電波鐘的殼體內(nèi)部，配置有接收電波的天線。(iii)在搭載進(jìn)行障礙物檢測(cè)、車間距離的測(cè)定等的雷達(dá)裝置的汽車上，在前格柵或保險(xiǎn)杠的附近配置有上述雷達(dá)裝置的天線。(iv)通信設(shè)備(藍(lán)牙、UWB、ZigBee等無線PAN等)處理的電波的頻率從毫米波向微波和高頻波段轉(zhuǎn)移，電波容易受裝飾部件影響，在上述設(shè)備中容易產(chǎn)生功能障礙。上述裝飾部件能夠通過在例如裝飾部件的基體的表面設(shè)置具有電波透過性的裝飾膜來制造。作為上述裝飾膜及裝飾部件，提出有下述的方案。(1)在透明樹脂膜的背面具有銦或錫的蒸鍍膜的裝飾膜及便攜設(shè)備(專利文獻(xiàn) 1)。(2)交替地層疊30層以上兩種以上的樹脂層，IOnm以上且小于220nm的層的數(shù)目比220nm 320nm的層的數(shù)目多的、包含可見光反射率在30%以上的層疊膜的裝飾膜(專利文獻(xiàn)2)。(1)的裝飾膜因?yàn)橄率隼碛啥哂须姴ㄍ高^性且具有金屬光澤。在銦或錫的金屬蒸鍍膜中，所述金屬作為微細(xì)的獨(dú)立的“島”存在，目視下能識(shí)別為均質(zhì)的金屬層，而一個(gè)島的大小比通過的電波的波長(zhǎng)還充分小，因此能夠使電波通過，這是廣為人知的。(2)的裝飾膜因?yàn)橄率隼碛啥哂须姴ㄍ高^性且具有金屬光澤。層疊多層折射率不同的薄樹脂層而得的膜能夠識(shí)別為金屬色調(diào)，另外，由于未使用金屬導(dǎo)體，因此能夠使電波通過。然而，在(1)的裝飾膜中，為了得到充分的金屬光澤而增厚金屬蒸鍍膜，或在制造裝飾部件時(shí)的二次成型中島彼此因加在所述金屬蒸鍍膜的壓力而部分地連接，則形成作為良導(dǎo)體的網(wǎng)絡(luò)，因而根據(jù)電波的頻率，會(huì)發(fā)生反射或吸收。因此，使用⑴的裝飾膜的產(chǎn)品， 需要對(duì)其使用裝飾膜的全部產(chǎn)品進(jìn)行以下檢驗(yàn)是否妨礙電波的直行性、或是否發(fā)生其他的故障，而生產(chǎn)率低。另外，錫容易發(fā)生氧化、氯化等，故金屬光澤隨時(shí)間而喪失。另一方面， 銦由于稀少，是非常昂貴的金屬。至于O)的裝飾膜，層疊膜的生產(chǎn)效率低，成本變高。另外，加熱延伸成型性差，不能成型為期望的形狀。而且，裝飾膜的折射率及各層的平衡因加熱成型而改變，導(dǎo)致金屬光澤喪失。專利文獻(xiàn)1 日本特開2007-285093號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2008-200861號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供具有電波透過性以及如鏡面般的金屬光澤的電波透過性裝飾膜以及使用該裝飾膜的裝飾部件，該電波透過性裝飾膜的上述金屬光澤難以喪失，并且延伸成型性優(yōu)良且成本較低。本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的特征在于，具有第1高分子膜；第2高分子膜；存在于上述第1高分子膜和上述第2高分子膜之間，通過硅和金屬的合金的物理性蒸鍍而形成的光反射層。優(yōu)選上述金屬具有的反射率大于硅的反射率。優(yōu)選上述金屬是鋁。優(yōu)選本發(fā)明的電波透過性裝飾膜還具有存在于上述第1高分子膜或上述第2高分子膜與上述光反射層之間的粘接促進(jìn)層。本發(fā)明的裝飾部件的特征在于，本發(fā)明的電波透過性裝飾膜設(shè)置于基體的表面。本發(fā)明的電波透過性裝飾膜具有電波透過性以及如鏡面般的金屬光澤，上述金屬光澤難以喪失，該電波透過性裝飾膜延伸成型性優(yōu)良且成本較低。本發(fā)明的裝飾部件具有電波透過性以及如鏡面般的金屬光澤，所述金屬光澤難以喪失，在角落部分等裝飾膜延伸的部分中外觀特性也優(yōu)良，且成本較低。


圖1是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的一例的剖面圖。圖2是光反射層的剖面的高分辨率透射型電子顯微鏡圖像。圖3是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。圖4是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。圖5是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。圖6是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。圖7是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。圖8是示出本發(fā)明的裝飾部件的一例的剖面圖。圖9是示出本發(fā)明的裝飾部件的另一例的剖面圖。圖10是實(shí)施例1的裝飾膜的電波透過衰減量(S21)以及反射衰減量(Sll)的圖表。圖11是實(shí)施例1的裝飾膜的可見光中的反射率的圖表。圖12是實(shí)施例1的裝飾膜的光反射層的表面的SEM圖像。
圖13是實(shí)施例4的裝飾膜的光反射層的表面的SEM圖像。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明中的光意指可見光。本發(fā)明中的電波意指頻率為IOMHz 1000GHz的電磁波(亞毫米波 微波)。本發(fā)明中的透明意指具有光透過性。(第1實(shí)施方式)圖1是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜(以下簡(jiǎn)記為裝飾膜)的一例的剖面圖。 裝飾膜1具有第1高分子膜12、設(shè)置于第1高分子膜12的表面的光反射層14以及設(shè)置于光反射層14的表面的第2高分子膜16。(高分子膜)第1高分子膜12及第2高分子膜16 (以下也統(tǒng)稱為高分子膜)是具有電波透過性的膜。需要第1高分子膜12以及第2高分子膜16的至少一個(gè)是透明的。優(yōu)選透明的高分子膜的可見光線透射率為80%以上。從裝飾膜1的成型性考慮，優(yōu)選高分子膜的厚度為10 μ m 100 μ m。優(yōu)選裝飾膜的厚度為20μπι 150 μ m。作為高分子膜的材料，例如能夠例舉聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物等)、環(huán)狀聚烯烴、改性聚烯烴、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚-(4-甲基-1-戊烯)、離聚物、丙烯酸樹脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS樹脂)、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)、丁二烯-苯乙烯共聚物、聚酯(聚乙烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚丁烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚環(huán)己烷對(duì)苯二甲酸乙二醇酯等)、聚苯醚、改性聚苯醚、聚砜、聚醚砜、聚偏二氟乙烯、不飽和聚酯、硅樹脂、聚氨酯樹脂等。高分子膜的材料可單獨(dú)使用一種，也可組合兩種以上作為共聚物、混合物、聚合物合金等而使用。
作為高分子膜的材料，從透明性、強(qiáng)度、濕度透過性方面來看，優(yōu)選聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、AS樹脂、聚苯乙烯、環(huán)狀聚烯烴類、聚乙烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚丁烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯及其改性物、共聚物等。作為高分子膜的材料，從和裝飾部件的基體一體化方面來看，優(yōu)選與基體的材料相同種類的材料。另外，作為高分子膜，可使用對(duì)裝飾部件的基體具有粘合性的膜。作為高分子膜，可以層疊多個(gè)高分子膜而成。在層疊時(shí)，可使用熱固化性粘合劑或熱可塑性粘合劑。高分子膜也可根據(jù)需要包含添加劑。作為添加劑，例如有增強(qiáng)材料、抗氧化劑、紫外線吸收劑、潤(rùn)滑劑、去霧劑、抗霧劑、增塑劑、顏料、近紅外吸收劑、抗靜電劑、著色劑等。(光反射層)光反射層14是通過物理性蒸鍍硅和金屬的合金而形成的層。硅和金屬的合金與單一的硅相比，反射率以及亮度高，因此能得到明亮的光反射層14。另外，所述合金與單純的硅相比較軟，因此光反射層14的內(nèi)部應(yīng)力下降，與第1高分
5子膜12的密合性提高，裂紋的產(chǎn)生得到抑制。硅與后述的金屬不同，是半導(dǎo)體物質(zhì)。硅具有下述的特征，與其他的半導(dǎo)體物質(zhì)相比是優(yōu)選的。(i)反射率高，因而明亮。(ii)由于導(dǎo)電率低，能夠增加合金中的金屬的比例，以維持電波透過性不變而更明亮，又能夠降低光反射層的內(nèi)部應(yīng)力。(iii)易于購(gòu)入等。只要能維持光反射層14的表面電阻率較高，硅也可包含不構(gòu)成摻雜劑的雜質(zhì)。優(yōu)選硅盡量不含摻雜劑(硼、磷、砷、銻等)。優(yōu)選摻雜劑的量在Ippm以下，更加優(yōu)選在IOppb以下。作為金屬，優(yōu)選反射率在50%以上的金屬。作為所述金屬，可例舉金、銀、銅、鋁、 鉬、鐵、鎳、鉻等，從反射率以及成本考慮，優(yōu)選鋁、銀，更加優(yōu)選鋁。反射率是采用JIS Z8722的條件d(n-D)的包含正反射率的擴(kuò)散反射率，是短波長(zhǎng)側(cè)為360nm 400nm、長(zhǎng)波長(zhǎng)側(cè)為760nm 830nm的可見光線區(qū)域的平均值，使用積分球?qū)⒐鉂沙煞莸恼瓷涔獍趦?nèi)加以測(cè)定。優(yōu)選金屬的比例在合金(100體積％ )中為0. 1 70體積％，更加優(yōu)選為40 70 體積％。若金屬的比例為0. 1體積％以上，則光反射層14的亮度提高，另外光反射層14的內(nèi)部應(yīng)力下降。若金屬的比例在70體積％以下，則電波透過性進(jìn)一步提高。只要能維持光反射層14的表面電阻率及金屬光澤較高，合金除了硅及金屬以外， 還可包含雜質(zhì)。優(yōu)選光反射層14的厚度為IOnm 500nm，更加優(yōu)選為50nm 200nm。若光反射層14的厚度在IOnm以上，則光變得難以透過，能充分獲得金屬光澤。若光反射層14的厚度在500nm以下，則導(dǎo)電性的上升得到抑制，能夠維持充分的電波透過性。另外，光反射層 14的內(nèi)部應(yīng)力的上升得到抑制，裝飾部件的翻翹、變形、裂紋、剝離等得到抑制。在光反射層14較薄的情況下，光會(huì)透過從而反射率降低，因此能夠得到暗金屬光澤。因此，能夠通過改變光反射層14的厚度來進(jìn)行金屬光澤的亮度調(diào)整。光反射層14的厚度能夠從光反射層14的剖面的高分辨率顯微鏡圖像測(cè)定。優(yōu)選光反射層14的表面電阻率為IO3 Ω以上，更加優(yōu)選為IO6 Ω以上。若光反射層14的表面電阻率為103Ω以上，則能夠維持充分的電波透過性。光反射層14的表面電阻率通過JIS Κ7194記載的四探針法測(cè)定。優(yōu)選光反射層14的平均表面粗糙度為0. 05 μ m以下。若光反射層14的平均表面粗糙度為0. 05 μ m以下，則散射得到抑制，能得到充分的金屬光澤。光反射層14的平均表面粗糙度的下限設(shè)為能用研磨加工實(shí)現(xiàn)的0. lnm。光反射層14的平均表面粗糙度為JIS B0601-2001的算術(shù)平均粗糙度Ra。具體而言，通過原子間力顯微鏡測(cè)定表面形狀，沿平均線的方向截取基準(zhǔn)長(zhǎng)度，總計(jì)從截取部分的平均線到粗糙度曲線為止的偏差的絕對(duì)值，并求出平均值(算術(shù)平均粗糙度Ra)。光反射層14的平均表面粗糙度受第1高分子膜12的平均表面粗糙度影響。因此， 優(yōu)選第1高分子膜12的平均表面粗糙度為0. 5 μ m以下，更加優(yōu)選在0. 1 μ m以下。若平均表面粗糙度為0. 5 μ m以下，則即使光反射層14變薄，也會(huì)由于光反射層追隨第1高分子膜12的表面，因此能充分得到鏡面般的金屬光澤。第1高分子膜12的平均表面粗糙度是JIS B0601-2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度
Ra0光反射層可以設(shè)置在第1高分子膜的兩個(gè)表面。在該情況下，能夠使單側(cè)的光反射層變薄從而提高撓性，另外，能夠強(qiáng)化金屬光澤色調(diào)。光反射層14通過硅和金屬的合金的物理蒸鍍而形成。物理蒸鍍法是在真空化的容器中以某種方法使蒸發(fā)材料(合金)氣化并使得氣化的蒸發(fā)材料堆積在放置在附近的基底上而形成薄膜的方法，根據(jù)蒸發(fā)材料的氣化方法的不同，可分為蒸發(fā)類和濺射類。作為蒸發(fā)類，可例舉EB蒸鍍、離子電鍍、脈沖激光蒸鍍等，作為濺射類，可例舉RF (高頻)濺射、磁控濺射、對(duì)向靶型磁控濺射、ECR濺射等。EB蒸鍍法雖然具有膜容易變得多孔、膜強(qiáng)度不足的傾向，但具有基底的損傷較少的特征。依據(jù)離子電鍍法能夠得到附著力強(qiáng)的膜，因此是優(yōu)選的。磁控濺射中膜的生長(zhǎng)速度快，對(duì)向靶型磁控濺射能夠不給基底帶來等離子損傷地生成薄膜，而在RF濺射中能夠選擇電阻高的靶(蒸發(fā)材料)，因而是優(yōu)選的。圖2是通過使用硅-鋁合金的DC磁控濺射形成的光反射層的剖面的高分辨率透射型電子顯微鏡圖像。與現(xiàn)有的使用銦、錫等的情況下所見的獨(dú)立的島(微細(xì)的集群)的集合體不同，未形成不存在合金的間隙，成為具有均勻的非晶結(jié)構(gòu)的連續(xù)層。(第2實(shí)施方式)圖3是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。裝飾膜1具有第1 高分子膜12、設(shè)置于第1高分子膜12的表面的粘接促進(jìn)層20，設(shè)置于粘接促進(jìn)層20的表面的光反射層14以及設(shè)置于光反射層14的表面的第2高分子膜16。在第2實(shí)施方式中，對(duì)于與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，以相同符號(hào)標(biāo)記并省略說明。(粘接促進(jìn)層)粘接促進(jìn)層20是提高光反射層14和高分子膜的密合性的層。粘接促進(jìn)層20在形成光反射層14前預(yù)先在高分子膜的表面形成，或在形成光反射層14后在光反射層14的表面形成。作為粘接促進(jìn)層20的材料，優(yōu)選具有電波透過性或光透過性、對(duì)高分子膜有粘合力且能夠與光反射層形成共價(jià)鍵、配位鍵或氫鍵的材料。作為所述材料，可例舉粘接促進(jìn)劑、無機(jī)物、粘接促進(jìn)劑和無機(jī)物的復(fù)合材料等。作為粘接促進(jìn)層20，可例舉(a)由粘接促進(jìn)劑構(gòu)成的層、(b)由無機(jī)物構(gòu)成的層、 (c)由粘接促進(jìn)劑與無機(jī)物的復(fù)合材料構(gòu)成的層、(d)在高分子膜的表面實(shí)施物理或化學(xué)表面處理而形成的層等。(a)作為粘接促進(jìn)劑，可例舉在主鏈或側(cè)鏈具有帶極性的鍵(酯鍵、聚氨酯鍵、脲鍵、尿鍵、縮二脲鍵、酰胺鍵等)或帶極性的基(羥基、羧基、氨基、異氰酸酯基、惡唑啉基、巰基、環(huán)氧基等)的樹脂(以下記為極性樹脂)。作為極性樹脂，可例舉硝化棉、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、聚磷腈、聚酰胺、環(huán)氧樹脂等。粘接促進(jìn)劑還可包含硅烷偶聯(lián)劑。作為硅烷偶聯(lián)劑，可例舉乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三O-甲氧基乙氧基)硅烷、3-異丁烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2_(氨基乙基)3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、 N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、氰基乙基三甲氧基硅烷、氰基丙基三甲氧基硅烷等。也可向粘接促進(jìn)劑混合染料、顏料等透明著色材料，使其兼有透明著色層的功能。 透明著色層調(diào)整金屬光澤的亮度、彩度，能夠產(chǎn)生期望的外觀設(shè)計(jì)性。(b)作為無機(jī)物，可例舉金屬氧化物，優(yōu)選氧化硅或氧化鈦。優(yōu)選金屬氧化物為粒子。優(yōu)選金屬氧化物的平均粒徑為5nm lOOOnm。(c)作為粘接促進(jìn)劑和無機(jī)物的復(fù)合材料，可例舉(Cl)在粘接促進(jìn)劑混合金屬氧化物的材料，(^)在粘接促進(jìn)劑混合金屬醇鹽后，使其脫醇縮合而將金屬氧化物凝集于粘接促進(jìn)劑中并析出的有機(jī)無機(jī)混合物、(c!3)使在側(cè)鏈具有金屬烷氧基的極性樹脂(環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚酰胺等)脫醇縮合而將金屬氧化物凝集于極性樹脂中并析出的有機(jī)無機(jī)混合物等。從金屬氧化物和作為粘接促進(jìn)劑的極性樹脂具有共價(jià)鍵考慮，優(yōu)選(U)。從與光反射層14也能夠形成共價(jià)鍵考慮，優(yōu)選在形成光反射層14后進(jìn)行脫醇縮合。另外，預(yù)先對(duì)高分子膜的表面進(jìn)行親水化處理(采用藥品的化成處理、電暈放電處理、UV照射、氧等離子處理、ITRO處理等)后，通過脫醇縮合使得金屬氧化物凝集、析出，能夠遍及高分子膜的整個(gè)表面地配置金屬氧化物，而能夠提高粘附力及反射率。優(yōu)選復(fù)合材料中的金屬氧化物的比例用固體含量換算為15 70體積％。在粘接促進(jìn)層20含有金屬氧化物的情況下，具有下述的效果。在高分子膜的表面通過物理蒸鍍法形成光反射層14的情況下，構(gòu)成光反射層14 的元素(硅、鋁等)的離子從界面侵入高分子膜中并埋入，因此高分子膜和光反射層14的界面變得不整齊，界面的面積變得非常大。其結(jié)果是，從高分子膜側(cè)的面向光反射層14入射的光的反射率比向高分子膜的相反側(cè)的光反射層14的面入射的光的反射率低。因此，通過在高分子膜和光反射層14的界面配置透明且硬的金屬氧化物，能夠抑制離子向高分子膜侵入或埋入。(d)表面處理是使得高分子膜的表面粗糙化，或使得高分子膜的表面積極地與氧氣等氣體反應(yīng)，形成羥基、酮基等氧復(fù)合物、或胺基等反應(yīng)性高的極性基的處理。作為表面處理，例如有噴射(blast)處理、化成處理、電暈放電處理、紫外線處理、 電子線處理、等離子處理等。(第3實(shí)施方式)圖4是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。裝飾膜1具有第1高分子膜12、設(shè)置于第1高分子膜12的表面的光反射層14、設(shè)置于光反射層14的表面的粘接促進(jìn)層20、以及設(shè)置于粘接促進(jìn)層20的表面的第2高分子膜16。在第3實(shí)施方式中，對(duì)與第1實(shí)施方式以及第2實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)記相同符號(hào)并省略說明。(第4實(shí)施方式)圖5是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。裝飾膜1具有第1高分子膜12、設(shè)置于第1高分子膜12的表面的粘接促進(jìn)層20、設(shè)置于粘接促進(jìn)層20的表面的光反射層14、設(shè)置于光反射層14的表面的粘接促進(jìn)層20、以及設(shè)置于粘接促進(jìn)層20的表面的第2高分子膜16。在第4實(shí)施方式中，對(duì)與第1實(shí)施方式以及第2實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)記相同符號(hào)并省略說明。(第5實(shí)施方式)圖6是示出本發(fā)明的電波透過性裝飾膜的另一例的剖面圖。裝飾膜1具有第1高分子膜12、設(shè)置于第1高分子膜12的表面的粘接促進(jìn)層20、設(shè)置于粘接促進(jìn)層20的表面的一部分的圖樣部18、設(shè)置于粘接促進(jìn)層20以及圖樣部18的表面的光反射層14、以及設(shè)置于光反射層14的表面的第2高分子膜16。在第5實(shí)施方式中，對(duì)與第1實(shí)施方式以及第2實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)記相同符號(hào)并省略說明。(圖樣部)圖樣部18是將隱蔽性(光非透過性或光低透過性)的材料配置成期望的圖案狀而形成的部分(文字、記號(hào)、圖、圖紋等)。從第1高分子膜12—側(cè)看裝飾膜1時(shí)，以金屬光澤為背景，描繪有文字(假名、英文字母、數(shù)字等)、記號(hào)等。圖樣部18能夠通過使用公知的印刷油墨、涂料進(jìn)行印刷等而形成。(第6實(shí)施方式)裝飾膜1是平面狀的，但在使用該裝飾膜1的裝飾部件的情況下，需要附形于三維形狀，而裝飾膜1被部分地延伸。雖然依賴于裝飾部件的形狀，但根據(jù)延伸度或延伸方向， 在光反射層14產(chǎn)生能夠目視確認(rèn)程度的未預(yù)期的裂紋，外觀特性受到損害。因此，在光反射層14、粘接促進(jìn)層20或高分子膜中預(yù)先設(shè)置許多納米級(jí)的不規(guī)則點(diǎn)，通過在裝飾膜1延伸時(shí)在設(shè)有所述不規(guī)則點(diǎn)的位置分割光反射層14并細(xì)分化，而能夠抑制可目視確認(rèn)的程度的較大裂紋的產(chǎn)生，抑制外觀特性的劣化。光反射層14的細(xì)分化的尺寸，是能夠目視識(shí)別為光澤的大小，因此在約為5 μ m以下。被細(xì)分化的光反射層14的間隔，隨著延伸而擴(kuò)大，在目視下識(shí)別為反射率下降，而光反
射層變薄。作為不規(guī)則點(diǎn)，例如有下述的情況
(α)硬質(zhì)化光反射層14的一部分而形成的不規(guī)則點(diǎn)。(β)在高分子膜或粘接促進(jìn)層20形成的、比周圍的粘合強(qiáng)度低的不規(guī)則點(diǎn)。(γ)在粘接促進(jìn)層20形成的、比周圍的彈性率低的不規(guī)則點(diǎn)。(α)的不規(guī)則點(diǎn)是硬質(zhì)且易碎的，因此能用所述不規(guī)則點(diǎn)分割、細(xì)分化光反射層 14。在(β)的不規(guī)則點(diǎn)中，高分子膜和光反射層14的粘合強(qiáng)度弱，因此在延伸裝飾膜 1時(shí)，光反射層14無法隨其延伸，從而在所述不規(guī)則點(diǎn)光反射層14被分割、細(xì)分化。( y )的不規(guī)則點(diǎn)中，粘接促進(jìn)層20的彈性率低，因此在裝飾膜1延伸時(shí)，粘接促進(jìn)層20也同時(shí)延伸，光反射層14無法隨其延伸，從而能在所述不規(guī)則點(diǎn)分割、細(xì)分化光反射層14。另一方面，在(Y)的不規(guī)則點(diǎn)的周圍，粘接促進(jìn)層20的彈性率高，因此在裝飾膜1 延伸時(shí)，粘接促進(jìn)層20不延伸，從而光反射層14不被分割、細(xì)分化。( α )的不規(guī)則點(diǎn)能夠通過在納米級(jí)硬質(zhì)化光反射層14的硅以及金屬的一部分而形成。例如，在基底物理蒸鍍硅和金屬的合金時(shí)，通過使得含有典型非金屬元素的氣體和硅及金屬反應(yīng)，而能夠使得光反射層14的一部分陶瓷化，形成不規(guī)則點(diǎn)。作為典型非金屬元素，可例舉氮、碳、氧、硼、磷、硫，從氣體的易處理性、反應(yīng)生成物的影響等考慮，優(yōu)選氮、氧、碳。作為含有氮的氣體，可例舉分子狀氮，作為含有氧的氣體， 可例舉分子狀氧，作為含有碳的氣體，可例舉烴。優(yōu)選陶瓷化的程度為光反射層14的0. 01 10摩爾％。若陶瓷化的程度不足0. 01 摩爾％，則不規(guī)則點(diǎn)的位置不足，易于產(chǎn)生能夠目視確認(rèn)的裂紋。陶瓷化的程度超過10摩爾％時(shí)，則因陶瓷化導(dǎo)致的泛白、透明度增強(qiáng)，金屬光澤容易變得不充分。陶瓷化的程度雖然隨真空室的大小、蒸鍍率而不同，但能夠通過將典型非金屬氣體的流量設(shè)置在0. Isccm 50SCCm的范圍來調(diào)整。在物理蒸鍍法中的接受等離子輔助的蒸鍍法中，通過使得氧或氮流動(dòng)，能夠在高分子膜的表面實(shí)施親水化處理，因而從密合性考慮是優(yōu)選的。陶瓷化的分析(不規(guī)則點(diǎn)的確認(rèn))可通過X線衍射裝置進(jìn)行。( β )及/或(Y )的不規(guī)則點(diǎn)例如能夠如下述的(I) (V)那樣地形成。(I)使用(a)粘接促進(jìn)劑形成粘接促進(jìn)層20。在該情況下，能夠用以干燥處理為基本的方法形成微細(xì)的核。例如，通過加熱蒸鍍具有極性基的單體、低聚物或多聚物，由具有極性基的樹脂構(gòu)成的微細(xì)部分均勻地分布，形成(β)的不規(guī)則點(diǎn)。此時(shí)，通過調(diào)整蒸鍍量等調(diào)整分布密度。另外，在高分子膜的表面實(shí)施大氣等離子處理、電暈放電處理等表面處理并導(dǎo)入極性基后，通過較薄地涂敷具有極性基的樹脂的(水)溶液，通過氫鍵等使得高分子膜的表面的極性基與具有極性基的樹脂結(jié)合，從而固定化具有極性基的樹脂，使得由具有極性基的樹脂構(gòu)成的微細(xì)部分均勻地分布，形成(β)的不規(guī)則點(diǎn)。另外，在高分子膜的表面通過等離子聚合無極性基的甲烷等的烴形成均勻分布的交聯(lián)烯烴的微細(xì)部分后，通過以此為掩模涂敷之前的(水)溶液，使得由具有極性基的樹脂構(gòu)成的微細(xì)部分均勻分布，形成(β)的不規(guī)則點(diǎn)。另外，在硅烷偶聯(lián)劑的情況下，也在部分地通過等離子處理等進(jìn)行親水化、或通過交聯(lián)烯烴的化學(xué)蒸鍍等進(jìn)行親油化后，通過涂敷硅烷偶聯(lián)劑水溶液，部分地使得親和性高的微細(xì)部分均勻地分布，形成(β)的不規(guī)則點(diǎn)。(II)使用(b)無機(jī)物形成粘接促進(jìn)層20。在該情況下，也能夠用以干燥處理為基本的方法形成微細(xì)的核。例如，在對(duì)無機(jī)物進(jìn)行物理蒸鍍或化學(xué)蒸鍍時(shí)，通過控制蒸鍍量的密度，使得由無機(jī)物構(gòu)成的微細(xì)部分均勻地分布。然后，由于在無機(jī)物部分(金屬氧化物粒子等)與其周圍(樹脂等)產(chǎn)生粘接強(qiáng)度的差異，因此粘接強(qiáng)度高的微細(xì)部分和粘接強(qiáng)度低的微細(xì)部分均勻地分布，形成(β)的不規(guī)則點(diǎn)。另外，由于在無機(jī)物部分(金屬氧化物粒子等)與其周圍(樹脂等)產(chǎn)生彈性率的差異，因此彈性率高的微細(xì)部分和彈性率低的微細(xì)部分均勻分布，而同時(shí)也形成(Y)的不規(guī)則點(diǎn)。此時(shí)，優(yōu)選無機(jī)物和高分子膜很好地粘接。作為提高無機(jī)物和高分子膜的粘合力的方法，可舉出在高分子膜的表面實(shí)施表面處理的方法；在用物理蒸鍍或化學(xué)蒸鍍形成微細(xì)的無機(jī)物的情況下，設(shè)置偏置電壓，用高能量加速無機(jī)物并打入高分子膜的方法；在用化學(xué)聚合法形成微細(xì)的無機(jī)物的情況下，通過PBII (等離子基離子注入)法等形成DLC (類金剛石碳)或含有硅等的DLC等的方法等。在化學(xué)聚合法的情況下，能夠通過聚合條件的強(qiáng)弱改變附著密度，能夠形成均勻分布的微細(xì)的無機(jī)物。(III)使用(c)粘接促進(jìn)劑和無機(jī)物的合成材料形成粘接促進(jìn)層20。在該情況下， 能夠用以干燥處理為基本的方法形成微細(xì)的核。具體而言，能夠與(II)或(III)同樣地形成。(IV)在高分子膜的表面具有彈性率不同的微細(xì)部分的層與通過(III)形成的粘接促進(jìn)層20具有同樣的效果。例如使用以具有軟鏈段和硬鏈段的共聚物將硬鏈段部分微相分離成島狀的高分子膜。作為所述共聚物，可例舉聚酯類、聚烯烴類、聚酰胺類熱可塑性彈性體，或硅-聚酰亞胺共聚物等。(V)在高分子膜的表面實(shí)施(d)表面處理而形成粘接促進(jìn)層20時(shí)，通過提高控制處理的強(qiáng)度，使得粘接強(qiáng)度高的微細(xì)部分和粘接強(qiáng)度低的微細(xì)部分均勻分布，形成(β)的不規(guī)則點(diǎn)。圖7示意性地示出了在粘接促進(jìn)層20中交替地形成的、粘接強(qiáng)度或彈性率高的微細(xì)部分22以及粘接強(qiáng)度或彈性率低的微細(xì)部分24(不規(guī)則點(diǎn))的裝飾膜1的剖面圖。在裝飾膜1延伸時(shí)，光反射層14被粘接強(qiáng)度或彈性率低的微細(xì)部分M細(xì)分化。(第7實(shí)施方式)圖8是示出本發(fā)明的裝飾部件的一例的剖面圖。裝飾部件2是在具有多個(gè)凸部的基體30的表面沿著基體30的形狀一體地組合裝飾膜1而成的。(基體)基體30是電波透過性材料的成型體。作為電波透過性材料，可例舉絕緣性的有機(jī)材料。絕緣性意味著表面電阻率在 IO6 Ω以上，優(yōu)選表面電阻率在IO8 Ω以上。表面電阻率通過JISK7194記載的四探針法測(cè)定。作為電波透過性材料，從成型加工性考慮，優(yōu)選絕緣性有機(jī)材料。作為有機(jī)材料，可例舉聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物等)、環(huán)狀聚烯烴、改性聚烯烴、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚酰胺(尼龍 6、尼龍46、尼龍66、尼龍610、尼龍612、尼龍11、尼龍12、尼龍6_12、尼龍6_66等)、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚碳酸酯、聚- -甲基戊烯-1)、離聚物、丙烯酸樹脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、ABS樹脂、AS樹脂、丁二烯-苯乙烯共聚物、聚氧亞甲基、聚乙烯乙醇、乙烯-乙烯乙醇共聚物、聚酯(聚乙烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚丁烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚環(huán)己烷對(duì)苯二甲酸乙二醇酯等)、聚醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚酰亞胺、聚甲醛、聚苯醚、改性聚苯醚、 聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯、芳香族聚酯(液晶多聚物)、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、 其他的氟類樹脂、熱可塑性彈性體(苯乙烯類、聚烯烴類、聚氯乙烯類、聚氨酯類、聚酯類、 聚酰胺類、聚丁二烯類、反式聚異戊二烯類、氟橡膠類、氯化聚乙烯類等)、環(huán)氧樹脂、苯酚樹脂、尿素樹脂、密胺樹脂、不飽和聚酯、硅樹脂、聚氨酯樹脂、聚封二甲苯樹脂、天然橡膠、聚丁二烯橡膠、聚異戊二烯橡膠、丙烯腈-丁二烯共聚物橡膠、苯乙烯-丁二烯共聚物橡膠、苯乙烯-異戊二烯共聚物橡膠、苯乙烯-丁二烯-異戊二烯共聚物橡膠、二烯類橡膠的氫添加物、飽和聚烯烴橡膠(乙烯· 丙烯共聚物等的乙烯· · α-烯烴共聚物等)、乙烯-丙烯-二烯共聚物、α -烯烴-二烯共聚物、聚氨酯橡膠、硅橡膠、聚醚類橡膠、丙烯橡膠等。
有機(jī)材料可以單獨(dú)使用1種，也可組合兩種以上而作為共聚物、混合物、聚合物合
金、層疊體等使用。有機(jī)材料也可根據(jù)需要含有添加劑。作為添加劑，可例舉增強(qiáng)材料、抗氧化劑、紫外線吸收劑、潤(rùn)滑劑、去霧劑、抗霧劑、增塑劑、顏料、近紅外吸收劑、抗靜電劑、著色劑等。裝飾部件2能夠通過在將裝飾膜1成型為期望形狀后，放入同樣形狀的模具中，從模具的開口部注入液狀的樹脂而一體化來制造。裝飾膜1的基體30側(cè)的高分子膜(未圖示)使用和基體30相同的樹脂，從而獲得良好粘接?；w30的凸部的各角落部分特別地延伸，裝飾膜1的內(nèi)部的光反射層用許多微細(xì)部分細(xì)分化(略去圖示)。(第8實(shí)施方式)圖9是示出本發(fā)明的裝飾部件的另一例的剖面圖。裝飾部件2是在近似甜甜圈 (doughnut)狀的基體30的表面，沿著基體30的形狀一體地配合裝飾膜1而成的部件。在預(yù)先賦形的基體30使用粘接性膜32 —體化被加熱的裝飾膜1。在第8實(shí)施方式中，對(duì)與第7實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)記相同符號(hào)并省略說明。基體30的凸部的角落部分特別地延伸，裝飾膜1的內(nèi)部的光反射層用許多微細(xì)部分細(xì)分化(略去圖示)。在以上說明的本發(fā)明的裝飾膜以及使用該裝飾膜的裝飾部件，由于具有通過物理蒸鍍硅和金屬的合金而形成的、具有高反射率的明亮光反射層，因此具有電波透過性，而具有與鉻鍍層相同的金屬光澤。另外，由于使用與銦、錫等相比化學(xué)性穩(wěn)定的硅和金屬的合金，因此金屬光澤難以隨時(shí)間而喪失。另外，光反射層被高分子膜保護(hù)，因此金屬光澤難以喪失。另外，使用與銦等稀有金屬單質(zhì)相比廉價(jià)的硅和金屬的合金，因此成本較低。另外，裝飾膜中的層數(shù)少，因此成本較低。另外，光反射層被2塊高分子膜夾住，因此裝飾膜延伸成型性優(yōu)良，使用該裝飾膜的裝飾部件，在角落部分等的外觀特性優(yōu)良。另外，在光反射層、粘接促進(jìn)層或高分子膜具有許多不規(guī)則點(diǎn)的情況下，裝飾膜的延伸成型性進(jìn)一步提高，使用該裝飾膜的裝飾部件的角落部分等的外觀特性進(jìn)一步提高。另外，在光反射層中，導(dǎo)電性的金屬元素通過半導(dǎo)體硅固定，不存在在使用現(xiàn)有裝飾膜的裝飾部件中所常見的因成型時(shí)的壓力等而導(dǎo)致銦等的島彼此部分地連接的現(xiàn)象，從而不需要檢查電波透過性的性能，生產(chǎn)率高。含有硅那樣的半導(dǎo)體物質(zhì)的合金透過電波并具有金屬光澤的理由，可認(rèn)為如下所述。作為金屬的特征的自由電子使得帶有導(dǎo)電性。另外，電磁波(光、電波)進(jìn)入金屬中時(shí)，自由電子運(yùn)動(dòng)并產(chǎn)生強(qiáng)電子極化，誘發(fā)出與進(jìn)入的電磁波的電場(chǎng)相反的電通量，因此電磁波難以進(jìn)入金屬中，電磁波被反射而無法透射。另外，在可見光區(qū)域具有高反射率，因此能識(shí)別為金屬光澤。另一方面，在半導(dǎo)體物質(zhì)的情況下，僅有少數(shù)的自由電子，與金屬不同，電波未被反射而是能夠透射。至于金屬光澤，可認(rèn)為是，不是因自由電子而是因區(qū)域間的直接遷移而引起的強(qiáng)吸收存在于可見光區(qū)域，因此產(chǎn)生強(qiáng)電子極化，具有高折射率，從而具有高反射率。另外，本發(fā)明中使用硅和金屬的合金的理由如下。硅雖然在可見光區(qū)域具有高反射率，但比金屬的反射率低(例如銀98%、鋁90%、 在 620nm、文獻(xiàn)值、Hand book of Optical Constants of Solids, E. L. Palik, Academic Press. , (1985))，為36% (在620nm，文獻(xiàn)值)。因此，通過與反射率在50%以上的金屬合金化，提高反射率，提高亮度，而能夠得到具有與明亮的鉻鍍層同等以上的金屬光澤的光反射層。另外，所述金屬比硅要軟，因而光反射層的內(nèi)部應(yīng)力下降，密合性提高，裂紋的產(chǎn)生得到抑制。[實(shí)施例](電波透過性)使用同軸管型屏蔽效果測(cè)定系統(tǒng)(KEYC0M公司制造，S-39D，根據(jù)ASTM D4935)，在外部機(jī)體(內(nèi)徑39mm)的同軸管內(nèi)放置圓盤狀的平坦樣品，通過與同軸管兩端連接的向量網(wǎng)絡(luò)分析儀(ANRITSU公司制造，37247C)求出透過衰減量(S21)及反射衰減量(Sll)。透射衰減量越接近OdB則電波透過性越優(yōu)良。(反射率)反射率是采用JIS Z8722的條件d(n-D)的包含正反射率的擴(kuò)散反射率，使用積分球測(cè)定包含光澤成份的正反射光。具體而言，使用紫外可視近紅外分光光度計(jì)(日本分光公司制造，V-570)，使用積分球測(cè)定包含光澤成份的正反射光的裝飾部件的反射率。求出從波長(zhǎng)380nm到780nm的測(cè)定點(diǎn)401處的平均。(透過率)使用紫外可視近紅外分光光度計(jì)(日本分光公司制造，V-570)，使用積分球測(cè)定裝飾部件的透過率。(光反射層的厚度)使用透射型電子顯微鏡(日本電子公司制造，JEM-4000EX)，觀察光反射層的剖面，測(cè)定5處的光反射層的厚度并求平均。(平均表面粗糙度)使用掃描型探頭顯微鏡(SII納米科技公司制造，SPA400)，用原子間力顯微鏡DFM 模式掃描樣品的表面ι μ m2，生成表面形狀的圖像并求出平均表面粗糙度(算術(shù)平均粗糙度 Ra)。在形成光反射層后不久測(cè)定。(表面電阻率)使用電阻率計(jì)(DIAhstruments 公司制造，L0RESTA GP MCP-T600 型，基于 JIS K7194)，將直列四探針探頭(ASP)置于樣品上測(cè)定樣品的表面電阻率。測(cè)定電壓為10V。在形成光反射層后立即測(cè)定。(彈性率)如下地確認(rèn)粘接促進(jìn)層或高分子膜的表面的微細(xì)部分的彈性率的不同。使用掃描型探頭顯微鏡(SII納米科技公司制造，SPA400)的微粘彈性測(cè)定模式， 通過從傳感桿的彎曲振動(dòng)使得粘接促進(jìn)層或高分子膜的表面的粘彈性分布圖像化，確認(rèn)微細(xì)部分的彈性率的不同。
(SEM 像)使用掃描電子顯微鏡(日本電子公司制造，JSM6390LV)觀察光反射層的表面。由于未進(jìn)行樣品表面的導(dǎo)體化及接地處理，由于較大地延伸裝飾膜，而使得光反射層的電阻增大的位置無法圖像化。(實(shí)施例1)在作為第1高分子膜12的厚度50 μ m的丙烯酸膜的表面，用DC濺射裝置，使用下述的靶進(jìn)行物理蒸鍍，形成光反射層14。作為靶，使用摻硼的硅與鋁的合金(鋁的比例60體積％、摻硼量約10_7摩爾％)。鋁單質(zhì)的反射率為87.6%。隨后，將作為第2高分子膜16的厚度50 μ m的丙烯酸膜熱層壓在光反射層14的表面，得到圖1所示的裝飾膜1。對(duì)裝飾膜1，測(cè)定光反射層14的厚度、IGHz及3GHz中的電波的透射衰減量(S21)、 從第1高分子膜12側(cè)入射的可見光中的反射率、表面電阻率、平均表面粗糙度。另外，觀察裝飾膜1的外觀。此外，光反射層14中的鋁的比例與靶中的鋁的比例相同。結(jié)果如表1所示。另外，圖10生成電波透過性裝飾膜1的電波的透射衰減量(S21)及反射衰減量(Sll) 的圖表。另外，在圖11示出裝飾膜1的反射率的圖表。進(jìn)而將裝飾膜1向一個(gè)方向拉伸， 觀察回到原來的長(zhǎng)度時(shí)的光反射層14的表面的SEM圖像(圖12)。這樣在拉伸方向細(xì)分成為約Iym寬度的光反射層。(比較例1)作為靶，除了使用硅單質(zhì)以外，與實(shí)施例1同樣地得到裝飾膜。對(duì)于所述裝飾膜，測(cè)定光反射層的厚度、IGHz及3GHz中的透射衰減量(S21)、反射率、表面電阻率、平均表面粗糙度。另外，觀察裝飾膜的外觀。結(jié)果在表1示出。(實(shí)施例2)在作為第1高分子膜12的厚度100 μ m的聚碳酸酯膜的表面，在DC濺射裝置內(nèi)使用與實(shí)施例1相同的靶，在氮?dú)?. 5SCCm流入下進(jìn)行物理蒸鍍，形成一部分被陶瓷化的光反射層14。隨后，將在作為第2高分子膜16的厚度100 μ m的黑色ABS膜的表面層疊氯化聚烯烴層而得的膜，以氯化聚烯烴層作為粘合劑粘貼在光反射層14上，得到裝飾膜1。對(duì)裝飾膜1測(cè)定光反射層14的厚度、IGHz及3GHz中的透射衰減量(S21)、反射率、 表面電阻率、平均表面粗糙度。另外，觀察裝飾膜1的外觀。結(jié)果在表1示出。在模具內(nèi)預(yù)成型裝飾膜1后，向模具內(nèi)噴射ABS樹脂，得到如圖8所示的一體化的裝飾膜1和基體30的裝飾部件2。觀察裝飾部件2的外觀、特別是凸部的角落部分的金屬光澤。結(jié)果在表1示出。(實(shí)施例3)作為第1高分子膜12，準(zhǔn)備厚度25 μ m的聚酯共聚膜(東洋紡織公司制造，商品名S0FTSHINE)和厚度50 μ m的丙烯酸膜的層疊體。在聚酯共聚膜側(cè)的表面，在功率500W、時(shí)間2分鐘、到達(dá)真空度6X KT1P^氧流入量=Msccm的條件下實(shí)施氧等離子處理。在被等離子處理的表面上，在DC濺射裝置內(nèi)將硅和鋁的合金(鋁的比例70體積％ )作為靶進(jìn)行物理蒸鍍，形成光反射層14。與實(shí)施例2同樣地粘貼黑色ABS膜，得到裝飾膜1。對(duì)裝飾膜1，測(cè)定光反射層14的厚度、IGHz及3GHz中的透射衰減量(S21)、反射率、表面電阻率、平均表面粗糙度。另外，觀察裝飾膜1的外觀。結(jié)果在表1示出。在模具內(nèi)預(yù)成型裝飾膜1后，向模具內(nèi)噴射ABS樹脂，得到圖8所示的一體化的裝飾膜1和基體30的裝飾部件2。觀察裝飾部件2的外觀、特別是凸部的角落部分的金屬光澤。結(jié)果在表1中示出。(實(shí)施例4)作為第1高分子膜，準(zhǔn)備厚度125 μ m的聚酯類熱可塑性彈性體膜(Toray公司制造，商品名=Hytrel,以芳香族聚酯為硬鏈段，以聚醚酯為軟鏈段)。測(cè)定所述膜的表面的彈性率，確認(rèn)彈性率高的微細(xì)部分與彈性率低的微細(xì)部分(不規(guī)則點(diǎn))均勻分布。在所述膜的表面與實(shí)施例3同樣地實(shí)施氧等離子處理。在被等離子處理的表面，在DC濺射裝置狀使用硅和鋁的合金(鋁的比例65體積％ )作為靶進(jìn)行物理蒸鍍，形成光反射層14。隨后，將在作為第2高分子膜的厚度50 μ m的透明聚碳酸酯膜的表面層疊透明氯化聚烯烴層而得的膜，以氯化聚烯烴層為粘合劑粘貼在光反射層14，得到裝飾膜1。進(jìn)而將裝飾膜1拉伸100%，觀察回到原來的長(zhǎng)度時(shí)的光反射層14的表面的SEM圖像(圖13)。由此，在拉伸方向被細(xì)分化為約1 μ m寬的光反射層。對(duì)裝飾膜1測(cè)定光反射層14的厚度、IGHz及3GHz中的透射衰減量(S21)、反射率、 表面電阻率、平均表面粗糙度。另外，觀察裝飾膜1的外觀。結(jié)果在表2中示出。如圖9所示的由聚丁烯對(duì)苯二甲酸乙二醇酯構(gòu)成的基體30，將裝飾膜1以設(shè)置在裝飾膜1的第1高分子膜12側(cè)的氯化聚烯烴層為粘合劑通過壓空成型而一體化，得到裝飾部件2。觀察裝飾部件2的外觀、特別是凸部的角落部分的金屬光澤。結(jié)果在表2中示出。(實(shí)施例5)作為第1高分子膜，準(zhǔn)備厚度25 μ m的聚酯共聚膜(東洋紡織公司制造，商品名 S0FTSHINE)和厚度50 μ m的聚碳酸酯膜的層疊體。在聚酯共聚膜側(cè)的表面，以PBII裝置(栗田制造所公司制造)使用含有硅的DLC 進(jìn)行化學(xué)蒸鍍，形成多個(gè)硬質(zhì)的微細(xì)部分，形成粘接促進(jìn)層20。并且，在功率250W、時(shí)間 1分鐘、到達(dá)真空度6X KT1P^氧流入量=Ikccm的條件下，進(jìn)行氧等離子處理。測(cè)定粘接促進(jìn)層20的表面的彈性率，確認(rèn)彈性率高的微細(xì)部分和彈性率低的微細(xì)部分(不規(guī)則點(diǎn)) 均勻分布。在被等離子處理的表面，在DC濺射裝置中使用硅和鋁的合金(鋁的比例55體積％ )作為靶進(jìn)行物理蒸鍍，形成光反射層14。與實(shí)施例2相同地，粘貼黑色ABS膜，得到裝飾膜1。對(duì)裝飾膜1測(cè)定光反射層14的厚度、IGHz及3GHz中的透射衰減量(S21)、反射率、 表面電阻率、平均表面粗糙度。另外，觀察裝飾膜1的外觀。結(jié)果在表2中示出。在如圖9所示的由ABS樹脂構(gòu)成的基體30上，將裝飾膜1以設(shè)置在裝飾膜1的第 1高分子膜12側(cè)的氯化聚烯烴層為粘合劑通過壓空成型而一體化，得到裝飾部件2。觀察裝飾部件2的外觀，特別是凸部的角落部分的金屬光澤。結(jié)果在表2中示出。
表 權(quán)利要求
1.一種電波透過性裝飾膜，包括 第1高分子膜；第2高分子膜；以及存在于所述第1高分子膜與所述第2高分子膜之間、通過物理蒸鍍硅和金屬的合金而形成的光反射層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電波透過性裝飾膜，其中，所述金屬具有的反射率大于硅的反射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波透過性裝飾膜，其中，所述金屬是鋁。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的電波透過性裝飾膜，其中，還具有存在于所述第 1高分子膜或所述第2高分子膜與所述光反射層之間的粘接促進(jìn)層。
5.一種裝飾部件，其中，在所述裝飾部件的基體的表面設(shè)置有根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的電波透過性裝飾膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種電波透過性裝飾膜以及使用該裝飾膜的裝飾部件，該電波透過性裝飾膜具有電波透過性以及如鏡面般的金屬光澤，而所述金屬光澤難以喪失，該電波透過性裝飾膜延伸成型性優(yōu)良且成本較低。上述裝飾部件在基體的表面設(shè)置有裝飾膜(1)，該裝飾膜(1)具有第1高分子膜(12)、第2高分子膜(16)、以及通過物理蒸鍍硅和金屬的合金而形成的存在于這些高分子膜之間的光反射層(14)。
文檔編號(hào)G09F7/00GK102395462SQ20108001702
公開日2012年3月28日 申請(qǐng)日期2010年3月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月17日
發(fā)明者佐賀努, 川口利行, 田原和時(shí) 申請(qǐng)人:信越聚合物株式會(huì)社