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核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識的制作方法

文檔序號:2529850閱讀:453來源:國知局
專利名稱:核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種綜合防偽標(biāo)識。
目前,國內(nèi)較多應(yīng)用“防偽油墨技術(shù)”、“激光全息技術(shù)”等防偽標(biāo)識,由于上述防偽技術(shù)單一、查詢不便,且后序生產(chǎn)工藝、技術(shù)、生產(chǎn)設(shè)備不具備專控性,容易被造假者仿制,導(dǎo)致用戶和消費者對防偽標(biāo)識的信任程度有所下降。后來有人發(fā)明了核徑跡防偽技術(shù),并依此制成一種核微孔膜,該核微孔膜具有無法仿制的獨特微孔結(jié)構(gòu),具有良好的透氣、透水性能。
本實用新型的目的在于提供一種運用多項防偽技術(shù),防偽鑒別方法獨特、簡單、迅速和有效的核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識。
為達到上述目的,本實用新型采用如下方案核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識,其特征在于包括有首層核微孔膜,核微孔膜上有用核徑跡技術(shù)制備的微孔圖案或文字,第二層流延膜,第三層局部全息膜。
本實用新型將核微孔膜和其他防偽層有效的結(jié)合起來,具有兩項防偽技術(shù)(包括核微孔膜和局部全息加密防偽技術(shù)),防偽性能可靠,使用安全、簡單,適應(yīng)現(xiàn)代化商品包裝的要求。
以下結(jié)合附圖對本實用新型進一步說明


圖1本實用新型的正面視圖;圖2
圖1的A-A剖視圖;圖3本實用新型所述的核微孔膜平面圖;圖4核微孔膜與白紙結(jié)合用色筆涂拭后的效果圖;圖5用色筆涂拭后的本實用新型的效果圖;圖6本實用新型與載體硅油紙結(jié)合時的結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖2,本實用新型所述的核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識,其包括有首層核微孔膜1,核微孔膜上有用核徑跡技術(shù)制備的微孔圖案或文字7(如圖3),第二層流延膜2,第三層局部全息膜3。
核微孔膜上的防偽文字及圖案由經(jīng)核徑跡防偽技術(shù)制備的、直徑為2-5μm,密度為6×105/cm2的微孔組成(該微孔圖案或文字可根據(jù)需要自由設(shè)計),上述的微孔具有良好的透水、透氣性能,當(dāng)用色筆涂拭后,液體顏料會存留在核徑跡技術(shù)制備的微孔圖案或文字中,顯示色澤圖案和文字8(如圖5),當(dāng)核微孔膜墊在白紙上用色筆涂拭后,液體顏料會透過核徑跡技術(shù)制備的微孔圖案或文字在白紙上形成核微孔膜圖案和文字對應(yīng)的圖案和文字10(如圖4)。核微孔膜的上述性能使核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識具有簡單、迅速和可靠的被識別性能,有效地體現(xiàn)了核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識的第一道防偽性能。第二層流延膜是核微孔膜和局部全息膜的結(jié)合層,流延膜材料通過擠出機形成薄膜,起貼結(jié)作用,通過對貼結(jié)力的控制,既可保證核微孔膜微孔不被流延膜堵塞而影響透水、透氣性能,又能實現(xiàn)與流延膜的剝離。如圖3,剝離后的核微孔膜可見由微孔組成的防偽文字及圖案7。
第三層局部全息膜是運用全息成象、激光制版、真空鍍膜、鍍層剝離技術(shù)生產(chǎn)的局部全息材料,在膜層的指定位置上體現(xiàn)全息圖案,作為本實用新型的第二道防偽性能。局部全息與通用的激光全息的不同之處在于局部全息僅在該膜層的特定位置上,其他位置無全息信息。如
圖1所示,“CTP”組成的火炬圖形6為局部全息圖案。為使體現(xiàn)防偽標(biāo)識更具特色,外觀艷麗,更加適應(yīng)現(xiàn)代化商品包裝的要求,(如
圖1)在該局部全息膜的局部全息周邊位置上配有精確的彩色套印9(其定位精度小于0.5mm)形成彩色及局部全息印刷膜。為襯托上述彩色及局部全息印刷膜的彩色印刷和局部全息效果,在彩色及局部全息印刷膜下通過干法復(fù)合有鍍鋁膜4(如圖2)。本實用新型所述的核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識通過不干膠直接與載體硅油紙5復(fù)合(如圖6)。
權(quán)利要求1核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識,其特征在于包括有首層核微孔膜,核微孔膜上有用核徑跡技術(shù)制備的微孔圖案或文字,第二層流延膜,第三層局部全息膜。
2根據(jù)權(quán)利要求1所述的核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識,其特征在于它還包括有第四層鍍鋁膜。
3根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識,其特征在于在第三層局部全息膜的局部全息以外位置上配有彩色套印。
專利摘要本實用新型公開了一種核徑跡局部全息綜合防偽標(biāo)識,其特征在于包括有首層核微孔膜,核微孔膜上有用核徑跡技術(shù)制備的微孔圖案或文字,第二層流延膜,第三層局部全息膜。本實用新型具有簡單、迅速和可靠的被識別性能。
文檔編號G09F3/02GK2433689SQ0022768
公開日2001年6月6日 申請日期2000年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2000年3月23日
發(fā)明者崔清臣 申請人:崔清臣
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