流體噴射設(shè)備的制作方法
【專利摘要】一種流體噴射設(shè)備(20,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420,1490,1720,1820)和方法使用從通道(44,244,1344,1444,1494,1544,1744)接收流體的滴生成器(46,246,1546)噴射流體的小滴，所述通道(44,244,1344,1444,1494,1544,1744)具有鄰近流體狹槽(40,240,1540)的入口(54,254,1554)和與入口(54,254,1554)間隔開且鄰近流體狹槽(40,240,1540)的出口(56,256,1556)。流體用在通道(44,244,1344,1444,1494,1544,1744)內(nèi)的泵(48,248,1548)抽吸通過過濾器(50,250,650,1550)，泵(48,248,1548)將流體朝入口(54,254,1554)泵送至滴生成器(46,246,1546)。
【專利說明】流體噴射設(shè)備

【背景技術(shù)】
[0001]諸如打印機(jī)的一些裝置將流體選擇性地噴射到打印介質(zhì)或基底上。這樣的裝置可能由于夾帶污染性顆粒和氣泡而遇到性能問題。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0002]圖1是示例性流體噴射設(shè)備的示意圖。
[0003]圖2是可由圖1的設(shè)備執(zhí)行的示例性方法的流程圖。
[0004]圖3是包括圖1的示例性流體噴射設(shè)備的示例性打印系統(tǒng)的示意圖。
[0005]圖4是圖1的流體噴射設(shè)備的示例的仰視剖面圖。
[0006]圖5是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0007]圖6是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0008]圖7是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0009]圖8是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0010]圖9是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0011]圖10是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0012]圖11是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0013]圖12是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0014]圖13是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0015]圖14是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0016]圖15是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0017]圖16是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0018]圖17是圖1的流體噴射設(shè)備的另一個(gè)示例的仰視剖面圖。
[0019]圖18A-18H是示出用于形成圖18H中所示的示例性流體噴射設(shè)備的示例性方法的剖面圖。
[0020]圖19是另一個(gè)示例性流體噴射設(shè)備的剖面圖。
[0021]圖20是圖19的流體噴射設(shè)備的仰視圖。
[0022]圖21是另一個(gè)示例性流體噴射設(shè)備的剖面圖。
[0023]圖22是圖21的流體噴射設(shè)備的仰視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0024]圖1示意性地示出示例性的流體噴射設(shè)備20。流體噴射設(shè)備20將諸如墨的液體或流體的小滴噴射到打印介質(zhì)或基底上。如下文將描述的，流體噴射設(shè)備20噴射流體的這種小滴，同時(shí)經(jīng)歷較少的由于污染性顆粒和氣泡的夾帶所導(dǎo)致的性能問題。流體噴射設(shè)備20包括流體狹槽40、通道44、滴生成器46、流體循環(huán)泵48和過濾器50。
[0025]流體狹槽40包括連接到流體源的通槽。流體狹槽40將流體從流體源導(dǎo)向至一個(gè)或多個(gè)滴生成器46。在一個(gè)實(shí)施方式中，流體狹槽40可在各行滴生成器46之間延伸。在另一個(gè)實(shí)施方式中，流體狹槽40可在滴生成器46上方延伸。
[0026]通道44有時(shí)稱為再循環(huán)通槽,其包括通槽、管腔、管或從狹槽40延伸以將流體從狹槽40遞送至滴生成器46的其它結(jié)構(gòu)。通道44包括入口 54和出口 56。入口 54連接到狹槽40并且提供開口，流體通過該開口從狹槽40進(jìn)入通道44并且開始在通道44內(nèi)流動(dòng)。入口 54位于狹槽40和泵48之間。
[0027]出口 56與入口 54間隔開以便獨(dú)立于入口 54。出口 56連接到狹槽40并且提供開口，流體可通過該開口流出通道44。在所示示例中，通道44將從通道44排放的這樣的流體導(dǎo)入狹槽40中。
[0028]出口 56和入口 54配合以提供流體在從通道44排放之前越過過濾器50、越過泵48并且越過滴生成器46的循環(huán)。在一個(gè)實(shí)施方式中，這種循環(huán)由通道44提供，通道44為U形的并且在基本上水平的平面內(nèi)延伸或包含在該平面內(nèi)，該平面垂直于流體小滴由滴生成器46噴射的方向并且垂直于滴生成器46的噴嘴開口面對(duì)的方向。在一個(gè)實(shí)施方式中，入口 54和出口 56面向垂直于流體小滴被滴生成器46吸引的方向的方向。在另一個(gè)實(shí)施方式中，這種循環(huán)由通道44提供，通道44為U形的并且在基本上豎直的平面內(nèi)延伸或包含在該平面內(nèi)，該平面平行于流體小滴由滴生成器46噴射的方向并且平行于滴生成器46的噴嘴開口面對(duì)的方向。在一個(gè)實(shí)施方式中，入口 54和出口 56面向垂直于流體小滴被滴生成器46吸引的方向的方向。雖然示出為具有大體上U形的形狀，但在其它實(shí)施方式中，通道44可具有其中出口 56和入口 54獨(dú)立的各種其它形狀。
[0029]滴生成器46包括按需滴落裝置，其配置成生成各個(gè)液體或流體小滴并且排出這樣的小滴。在一個(gè)實(shí)施方式中，滴生成器46包括鄰近和靠近室及噴嘴或噴嘴開口的噴射元件，其中，噴射元件包括能夠操作以將流體滴噴射通過對(duì)應(yīng)的噴嘴的裝置。在一個(gè)示例中，滴生成器46包括熱阻式按需滴落噴墨裝置，其中，電流(由例如薄膜晶體管)選擇性地施加到包括電阻器的噴射元件，電阻器生成足夠的熱以汽化液體，形成將室內(nèi)的剩余液體有力地噴射通過噴嘴的氣泡。在一個(gè)實(shí)施方式中，噴射元件可包括熱阻式噴射元件，其可采用形成于基底的頂部表面上的氧化物層上的熱電阻器以及施加在氧化物層的頂部上的薄膜疊堆，其中，薄膜疊堆包括限定噴射元件的金屬層、導(dǎo)電跡線和鈍化層。
[0030]在另一個(gè)實(shí)施方式中，滴生成器46包括壓阻式按需滴落噴墨裝置，其中，電流(由例如薄膜晶體管)選擇性地施加到壓阻構(gòu)件以偏轉(zhuǎn)隔膜，該隔膜將室內(nèi)的剩余液體有力地噴射通過噴嘴。在另外一些實(shí)施方式中，滴生成器46可包括其它形式的目前可用或未來開發(fā)的滴生成器。滴生成器46大體上位于通道44內(nèi)與至少一個(gè)噴嘴開口相對(duì)處并且還位于出口 56和泵48之間。
[0031]泵48包括用于將流體從入口 54至滴生成器46且朝出口 56泵送或移動(dòng)的裝置。泵48位于通道44內(nèi)的過濾器50和滴生成器46之間。在一個(gè)實(shí)施方式中，泵48相對(duì)于通道44的長(zhǎng)度的中心點(diǎn)不對(duì)稱地定位。泵48的不對(duì)稱位置可形成在泵48和流體狹槽40之間的通道44的短側(cè)以及在泵48和出口 56之間的通道44的長(zhǎng)側(cè)。泵48的不對(duì)稱位置在通道44內(nèi)提供流體雙極性，其導(dǎo)致在朝通道44的長(zhǎng)側(cè)且朝出口 56的正向上的凈流體流動(dòng)。
[0032]在一個(gè)實(shí)施方式中，泵48包括泵送元件，其中，泵送元件包括能夠操作以將液體或流體通過且沿著通道44移動(dòng)的裝置。在一個(gè)實(shí)施方式中，泵送元件可類似于滴生成器46存在的噴射元件。在一個(gè)示例中，泵送元件可包括熱阻式泵送元件，其可采用形成于基底的頂部表面上的氧化物層上的熱電阻器以及施加在氧化物層的頂部上的薄膜疊堆，其中，薄膜疊堆包括限定泵送元件的金屬層、導(dǎo)電跡線和鈍化層。在另一示例中，泵送元件可包括壓阻式泵送元件，其中，電流(由例如場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET))選擇性地施加到壓阻構(gòu)件以使隔膜偏轉(zhuǎn)，該隔膜將流體沿著通道44朝出口 56且朝滴生成器46有力地泵送。在另外一些實(shí)施方式中，泵48可包括其它形式的泵，例如，靜電泵和電液動(dòng)力泵等。
[0033]過濾器50包括配置成傳導(dǎo)流體同時(shí)也抑制流體中的顆粒到達(dá)滴生成器46的結(jié)構(gòu)。過濾器50延伸越過入口 54或越過在狹槽40和泵48之間的通道44的部分。過濾器50包括網(wǎng)孔組件，其限定多個(gè)孔口開口，流體穿過所述孔口開口形成流，但其中，所述孔口或開口足夠小以限制污染物或顆粒流過其中。在一個(gè)實(shí)施方式中，當(dāng)用于墨時(shí)，過濾器50包括6-10微米的過濾器。在其它實(shí)施方式中，過濾器50可具有其它密度例如更稀或更密的網(wǎng)孔。
[0034]圖2是示出可由圖1的流體噴射設(shè)備20執(zhí)行的示例性方法100的流程圖。如由步驟102所指示的，響應(yīng)于來自控制器的命令，流體被滴生成器46噴射到基底打印介質(zhì)上。滴生成器46接收來自通道44的流體，通道44具有連接到流體狹槽40的入口 54和出口56。
[0035]如由步驟104所指示的，噴射的流體或液體由設(shè)備20來補(bǔ)給。特別地，流體由泵48從狹槽40通過且越過過濾器50抽吸。由泵48抽入通道44中的流體被進(jìn)一步朝出口56泵送至滴生成器46。在一個(gè)實(shí)施方式中，泵在由滴生成器46噴射小滴之后的時(shí)間內(nèi)被啟動(dòng)，使得在與滴生成器46相對(duì)的室內(nèi)的噴射的流體的大部分在流體滴的噴射之后立即由已抽吸通過過濾器50的流體來補(bǔ)給。在一個(gè)示例中，泵在由滴生成器46噴射小滴之后的時(shí)間內(nèi)被致動(dòng)，使得在與滴生成器46相對(duì)或相鄰的室內(nèi)的所有噴射的流體都完全由已抽吸通過過濾器50的流體來補(bǔ)給。
[0036]在一個(gè)示例中，泵48被致動(dòng)一次以完成這樣的補(bǔ)給。在其它示例中，泵48可被致動(dòng)多次，以便充分地補(bǔ)給在滴噴射期間被消耗或排出的流體。在一個(gè)示例中，泵48在由滴生成器46噴射滴之后至少50毫秒(ms)、標(biāo)稱地在至少20ms內(nèi)并且標(biāo)稱地在由滴生成器46噴射滴之后約2ms被致動(dòng)。在其它實(shí)施方式中，根據(jù)通道44的配置、由滴生成器46噴射的小滴的大小、和過濾器50的過濾密度、以及其它因素，泵48在滴的噴射之后被起動(dòng)或啟動(dòng)的時(shí)間可以變化。
[0037]因?yàn)榱黧w在由滴生成器46噴射之前被抽吸通過過濾器50，所以設(shè)備20減少外部污染物和氣泡的引入，當(dāng)噴射的流體被補(bǔ)給時(shí)或者例如在啟動(dòng)注液或擦拭(wiping)期間，外部污染物和氣泡本來可能被吸入噴嘴中。同時(shí)，因?yàn)楸?8將流體越過滴生成器46循環(huán)回狹槽40，所以在滴生成器46附近截留的污染物和氣泡在下一個(gè)滴生成循環(huán)之前被排出。因此，噴嘴失效的發(fā)生率降低，并且打印性能提高。再循環(huán)應(yīng)在啟動(dòng)注液或擦拭之后開始以沖刷任何顆粒。
[0038]圖3示意性地示出結(jié)合了流體噴射設(shè)備20的示例性打印系統(tǒng)120。打印系統(tǒng)120配置成將流體或液體的滴122選擇性地遞送到打印介質(zhì)124上。打印系統(tǒng)120利用按需滴定噴墨技術(shù)。打印系統(tǒng)120包括介質(zhì)傳輸器130、打印頭組件或打印單元132、流體源134、托架136、控制器138、存儲(chǔ)器140和噴墨射出致動(dòng)器電源系統(tǒng)142。介質(zhì)傳輸器130包括配置成將打印介質(zhì)124相對(duì)于打印單元132輸送或移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。在一個(gè)示例中，打印介質(zhì)124可包括幅材。在另一示例中，打印介質(zhì)124可包括單獨(dú)的片材。在一個(gè)示例中，打印介質(zhì)124可包括纖維素基材料，例如紙張。在另一示例中，打印介質(zhì)124可包括在上面沉積墨或其它液體的其它材料。在一個(gè)示例中，介質(zhì)傳輸器130可包括一系列輥和臺(tái)板，其配置成在液體被沉積在打印介質(zhì)124上時(shí)支撐介質(zhì)124。在另一示例中，介質(zhì)傳輸器130可包括轉(zhuǎn)筒，當(dāng)液體被沉積在介質(zhì)124上時(shí)，介質(zhì)124被支撐在該轉(zhuǎn)筒上。
[0039]打印單元132將小滴122噴射到介質(zhì)124上。雖然為了方便圖示而示出一個(gè)單元132，但打印系統(tǒng)120可包括多個(gè)打印單元132。每個(gè)打印單元132包括打印頭144和流體源146。打印頭144包括一個(gè)或多個(gè)室150、一個(gè)或多個(gè)噴嘴52和流體噴射設(shè)備20 (如上所述)。每個(gè)室150包括連接到流體源146以接收來自流體源146的流體的流體空間。每個(gè)室150位于一個(gè)或多個(gè)噴嘴52和流體噴射設(shè)備20之間且與它們相關(guān)聯(lián)。一個(gè)或多個(gè)噴嘴152各自包括小開口，流體或液體通過該小開口噴射到打印介質(zhì)124上。
[0040]流體源146包括緊鄰打印頭144的包含流體的板載空間、容器或貯存器。流體源134包括通過一個(gè)或多個(gè)流體管道供應(yīng)至流體源146的流體的遠(yuǎn)程或偏軸空間、容器或貯存器。在一些示例中，流體源134可被省略，其中，用于打印頭144的液體或流體的全部供應(yīng)由流體貯存器146提供。例如，在一些示例中，打印單元132可包括打印儲(chǔ)盒，其為在來自流體源146的流體用盡時(shí)可置換或可再填充的。
[0041]托架136包括配置成將打印單元132相對(duì)于打印介質(zhì)124和介質(zhì)傳輸器130線性平移或掃描的機(jī)構(gòu)。在其中打印單元132跨越介質(zhì)傳輸器130和介質(zhì)124(例如像頁寬陣列打印機(jī)那樣)的一些示例中，托架136可被省略。
[0042]控制器138包括一個(gè)或多個(gè)處理單元，其配置成生成指導(dǎo)介質(zhì)傳輸器130、流體源134、托架136和打印頭144的致動(dòng)器154的操作的控制信號(hào)。就本申請(qǐng)而言，術(shù)語“處理單元”應(yīng)表示目前開發(fā)或未來開發(fā)的處理單元，其執(zhí)行包含在存儲(chǔ)器中的指令序列。指令序列的執(zhí)行造成處理單元執(zhí)行諸如生成控制信號(hào)的步驟。指令可從只讀存儲(chǔ)器(ROM)、海量存儲(chǔ)裝置或某些其它永續(xù)儲(chǔ)存器加載到隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)中以由處理單元執(zhí)行。在其它示例中，硬連線電路可代替軟件指令或與軟件指令結(jié)合使用以實(shí)現(xiàn)所描述的功能。例如，控制器138可作為一個(gè)或多個(gè)專用集成電路(ASIC)而嵌入。除非另外具體指出，控制器不限于硬件電路和軟件的任何具體組合，也不限于由處理單元執(zhí)行的指令的任何特定來源。
[0043]在所示示例中，控制器138執(zhí)行或遵循包含在存儲(chǔ)器140中的指令155。在操作中，控制器138生成對(duì)流體源134的控制信號(hào)，以確保流體源146具有用于打印的足夠的流體。在其中流體源134被省略的那些示例中，這樣的控制步驟也被省略。為了基于至少臨時(shí)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器140中的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行打印，控制器138生成指導(dǎo)介質(zhì)傳輸器130將介質(zhì)124相對(duì)于打印單元132定位的控制信號(hào)。控制器138也生成造成托架136來回越過打印介質(zhì)124掃描打印單元132的控制信號(hào)。在其中打印單元132充分地跨越介質(zhì)124的那些示例中(例如像頁寬陣列那樣)，控制器138對(duì)托架136的控制可被省略。為了將流體沉積到介質(zhì)124上，控制器138生成控制信號(hào)，其執(zhí)行圖2的方法100，以便選定的噴嘴152將液體噴射或射出到介質(zhì)124上，以根據(jù)圖像數(shù)據(jù)157形成圖像。
[0044]圖4是作為流體噴射設(shè)備20的特定示例的流體噴射設(shè)備220的仰視剖面圖。設(shè)備220形成為打印頭144的一部分并且包括管芯或基底230、狹槽240、通道244、滴生成器246、泵井247、泵248、過濾器250、室251、噴嘴252和收窄部260。基底230包括充當(dāng)設(shè)備220的其余部件的基礎(chǔ)的結(jié)構(gòu)。基底230形成狹槽240，狹槽240連接到流體源，例如，圖3中所示流體源146。基底230還在狹槽240的每一側(cè)上形成擱架260，其中，擱架形成或包括設(shè)備220的剩余部件。在一個(gè)實(shí)施方式中，基底230可由硅形成，而形成通道244的擱架264的那些部分可由諸如SU8的環(huán)氧基負(fù)性光刻膠形成。在其它實(shí)施方式中，基底230和擱架264可由其它材料形成。
[0045]通道244各自包括通槽、管腔、管或從狹槽240延伸以將流體從狹槽240遞送至滴生成器246的其它結(jié)構(gòu)。通道244包括入口 254和出口 256。入口 254連接到狹槽240并且提供開口，流體通過該開口從狹槽240進(jìn)入通道244并且開始在通道244內(nèi)流動(dòng)。入口254位于狹槽240和泵248之間。
[0046]出口 256與入口 254間隔開以便獨(dú)立于入口 254。出口 256連接到狹槽240并且提供開口，流體可通過該開口流出通道244。在所示示例中，通道244將從通道244排放的這樣的流體導(dǎo)入狹槽240中。
[0047]出口 256和入口 254配合以提供流體在從通道244排放之前越過過濾器250、越過泵248并且越過滴生成器246的循環(huán)。在所示示例中，通道244為U形的并且在基本上水平的平面內(nèi)延伸或包含在該平面內(nèi)，該平面垂直于流體小滴由滴生成器246噴射的方向并且垂直于滴生成器46的噴嘴開口面對(duì)的方向。通道244包括包含泵248的第一部分262和包含滴生成器246的第二部分或分支264。在一個(gè)實(shí)施方式中，部分262和264的中心線間隔開42Mm、28Mm或2lMm的距離D，以分別提供每線英寸600、900或1200個(gè)噴嘴。在其它實(shí)施方式中，部分262和264可具有其它間距。
[0048]室251包括沿著通道244的主要或中央部分形成為通道244的一部分的腔室。室251在噴嘴252和滴生成器246之間延伸。噴嘴252包括開口，流體或液體通過該開口噴射。
[0049]滴生成器246包括按需滴落裝置，其配置成生成各個(gè)液體或流體小滴并且排出這樣的小滴。在一個(gè)實(shí)施方式中，滴生成器246包括由室251和噴嘴252包封的噴射元件，其中，噴射元件包括能夠操作以將流體滴噴射通過對(duì)應(yīng)的噴嘴252的裝置。在一個(gè)示例中，滴生成器246包括熱阻式按需滴落噴墨裝置，其中，電流被選擇性地施加到包括電阻器(例如，薄膜晶體管)的噴射元件，電阻器生成足夠的熱以汽化液體，形成將室內(nèi)的剩余液體有力地噴射通過噴嘴的氣泡。在一個(gè)實(shí)施方式中，噴射元件可包括熱阻式噴射元件，其可采用形成于基底的頂部表面上的氧化物層上的熱電阻器以及施加在氧化物層的頂部上的薄膜疊堆，其中，薄膜疊堆包括限定噴射元件的金屬層、導(dǎo)電跡線和鈍化層。
[0050]在另一個(gè)實(shí)施方式中，滴生成器246包括壓阻式按需滴落噴墨裝置，其中，電流(由例如薄膜晶體管)選擇性地施加到壓阻構(gòu)件以偏轉(zhuǎn)隔膜，該隔膜將室內(nèi)的剩余液體有力地噴射通過噴嘴。在另外一些實(shí)施方式中，滴生成器246可包括其它形式的目前可用或未來開發(fā)的滴生成器。滴生成器246大體上位于通道244內(nèi)與至少一個(gè)噴嘴開口 252相對(duì)處并且還位于出口 256和泵248之間。
[0051]泵井247包括鄰近且沿著通道244的主要部分的腔室、凹陷或空間。泵井247尺寸設(shè)計(jì)成接納泵248。在其它實(shí)施方式中，泵井247可被省略，產(chǎn)生“平坦”或甚至突出的泵248。
[0052]泵248包括用于將流體從入口 254至滴生成器246且朝出口 256泵送或移動(dòng)的裝置。泵248位于通道244內(nèi)的過濾器250和滴生成器246之間。在所示示例中，泵248相對(duì)于通道244的長(zhǎng)度的中心點(diǎn)不對(duì)稱地定位。泵248的不對(duì)稱位置形成在泵248和流體狹槽240之間的通道244的短側(cè)和在泵248和出口 256之間的通道244的長(zhǎng)側(cè)。泵248的不對(duì)稱位置在通道244內(nèi)提供流體雙極性，其導(dǎo)致在朝通道44的長(zhǎng)側(cè)且朝出口 256的正向上的凈流體流動(dòng)。
[0053]在一個(gè)實(shí)施方式中，泵248包括泵送元件，其中，泵送元件包括能夠操作以將液體或流體通過且沿著通道244移動(dòng)的裝置。在一個(gè)實(shí)施方式中，泵送元件可類似于滴生成器246存在的噴射元件。在一個(gè)示例中，泵送元件可包括熱阻式泵送元件，其可采用形成于基底的頂部表面上的氧化物層上的熱電阻器以及施加在氧化物層的頂部上的薄膜疊堆，其中，薄膜疊堆包括限定泵送元件的金屬層、導(dǎo)電跡線和鈍化層。在另一示例中，泵送元件可包括壓阻式泵送元件，其中，電流(由例如薄膜晶體管)選擇性地施加到壓阻構(gòu)件以使隔膜偏轉(zhuǎn)，該隔膜將流體沿著通道244朝出口 56且朝滴生成器246有力地泵送。在另外一些實(shí)施方式中，泵248可包括其它形式的泵，例如，靜電泵和電液動(dòng)力泵等。
[0054]過濾器250包括配置成傳導(dǎo)流體同時(shí)也抑制流體中的顆粒到達(dá)滴生成器246的結(jié)構(gòu)。過濾器250延伸越過入口 254或越過在狹槽240和泵248之間的通道244的部分。過濾器250包括網(wǎng)孔組件，其限定多個(gè)孔口開口，流體穿過所述孔口開口形成流，但其中，所述孔口或開口足夠小以限制污染物或顆粒流過其中。在一個(gè)實(shí)施方式中，當(dāng)用于墨時(shí)，過濾器250包括6-10微米的過濾器。在其它實(shí)施方式中，過濾器50可具有其它密度例如更稀或更密的網(wǎng)孔。
[0055]收窄部260各自包括在出口 256處或附近的流體通道244的縮窄部分。每個(gè)收窄部260充當(dāng)?shù)螄娚浜土黧w頻率調(diào)諧特征/旋鈕。當(dāng)室247內(nèi)的流體在滴生成器246對(duì)液體的射出和噴射之后被補(bǔ)給時(shí)，收窄部260還減少或使得狹槽240內(nèi)的流體更難再次進(jìn)入通道244中。收窄部260也在這樣的液體或流體補(bǔ)給期間限制污染物和氣泡通過出口 256向通道240內(nèi)的流動(dòng)。同時(shí)，這樣的收窄部260足夠大，以允許氣泡在由泵248提供的正壓下被泵送離開通道244并且進(jìn)入狹槽240中。在所示示例中，通道244在收窄部260之間具有在100X50Mm2和5X9Mm2之間的橫截面積。在其它實(shí)施方式中，橫截面積可以變化到甚至超出此范圍。在這樣的實(shí)施方式中，橫截面積由每線英寸的噴嘴密度或噴嘴間距限制。對(duì)于典型的17/20Mm疊堆和1200噴嘴/線英寸來說，橫截面積在28X21和5X17Mm2的范圍內(nèi)。在所示示例中，過濾器250的外壁或外部侵占部分地越過出口 256的突伸以限制出口256。在其它實(shí)施方式中，收窄部260可由其它形狀的結(jié)構(gòu)提供。
[0056]圖5示出了流體噴射設(shè)備320，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例。流體噴射設(shè)備320類似于流體噴射設(shè)備220，不同的是流體噴射設(shè)備320包括箍縮收窄部360，而不是收窄部260。與流體噴射設(shè)備220的部件相對(duì)應(yīng)的流體噴射設(shè)備320的那些剩余部件被類似地編號(hào)。箍縮收窄部360包括在每一個(gè)通道244內(nèi)的結(jié)構(gòu)。與收窄部260 —樣，收窄部360在這樣的液體或流體補(bǔ)給期間限制污染物和氣泡通過出口 256向室247內(nèi)的流動(dòng)。同時(shí)，這樣的收窄部足夠大，以允許氣泡在由泵248提供的正壓下被泵送離開通道244并且進(jìn)入狹槽240中。在所示示例中，通道244在收窄部360之間具有在100X50Mm2和5X9Mm2之間的橫截面積。在一些實(shí)施方式中，橫截面積可以變化到甚至超出此范圍，其中，橫截面積由每線英寸的噴嘴密度或噴嘴間距限制。對(duì)于典型的17/20Mm SU-8疊堆來說，該具體示例在從28X21至5X17Mm2的范圍內(nèi)變化。
[0057]圖6示出了流體噴射設(shè)備420，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例。流體噴射設(shè)備420類似于流體噴射設(shè)備220，不同的是流體噴射設(shè)備320包括流動(dòng)阻塞部460，而不是收窄部260。與流體噴射設(shè)備220的部件相對(duì)應(yīng)的流體噴射設(shè)備420的那些剩余部件被類似地編號(hào)。流動(dòng)阻塞部460包括在每一個(gè)通道244內(nèi)的諸如柱子或柱的結(jié)構(gòu)。與收窄部260—樣，流動(dòng)阻塞部460在這樣的液體或流體補(bǔ)給期間限制污染物和氣泡通過出口 256向室247內(nèi)的流動(dòng)。同時(shí)，這樣的阻塞部460足夠大，以允許氣泡在由泵248提供的正壓下被泵送離開通道244并且進(jìn)入狹槽240中。在所示示例中，通道244在每個(gè)阻塞部460周圍具有在40X50Mm2和5X9Mm2之間的橫截面積。對(duì)于17/20Mm的疊堆示例和1200個(gè)噴嘴/線英寸來說，橫截面積在10X21和5X17Mm2的范圍內(nèi)。
[0058]圖7示出了流體噴射設(shè)備520，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例。流體噴射設(shè)備520類似于流體噴射設(shè)備220，不同的是流體噴射設(shè)備520省略了靠近通道244的出口256的任何收窄部或阻塞部。與流體噴射設(shè)備220的部件相對(duì)應(yīng)的流體噴射設(shè)備420的那些剩余部件被類似地編號(hào)。
[0059]圖8是示出流體噴射設(shè)備620的仰視圖,其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例性實(shí)施方式。流體噴射設(shè)備620類似于流體噴射設(shè)備520，不同的是設(shè)備620包括過濾器650和流體排放口或孔664，以取代過濾器250。與設(shè)備520的部件相對(duì)應(yīng)的設(shè)備620的那些剩余部件被類似地編號(hào)。
[0060]過濾器650類似于過濾器250，不同的是過濾器650在狹槽240的至少一側(cè)上連續(xù)地延伸越過多個(gè)流體通道244的入口 254。在所示示例中，過濾器650在狹槽240的兩側(cè)上連續(xù)地延伸越過多個(gè)流體通道244的入口 254。在所示示例中，過濾器250從狹槽240的一側(cè)向狹槽240的另一側(cè)連續(xù)地延伸越過狹槽240。因?yàn)檫^濾器650連續(xù)地延伸越過多個(gè)流體通道244的入口 254，所以有利于用于多個(gè)通道244的過濾器650的制造。
[0061]排放孔664包括在過濾器650內(nèi)鄰近每個(gè)出口 256的單獨(dú)的開口。這樣的排放孔664減小了空氣將變得截留在通道244內(nèi)的可能性。在所示示例中，這樣的排放孔664由籠狀物或壁666與過濾器650進(jìn)一步分離，這減少了污染物或顆粒吸入或閉塞出口 256的機(jī)會(huì)。雖然示出為省略了任何收窄部或阻塞部，但在其它實(shí)施方式中，設(shè)備620可附加地包括收窄部260、360或阻塞部460、或它們的組合中的一個(gè)或多個(gè)，如上文分別在圖9-11中的流體噴射設(shè)備720、820和920中所描述和示出的。
[0062]圖12-14分別示出了流體噴射設(shè)備1020、1120和1220。設(shè)備1020、1120和1220與設(shè)備620相同，不同的是設(shè)備1020、1120和1220附加地包括在泵248和入口 254之間的收窄部或阻塞部，以減少或減輕氣泡從狹槽240向通道244中的引入。這樣的箍縮收窄部或阻塞部類似于上述箍縮收窄部360和流動(dòng)阻塞部460，不同的是這樣的收窄部或阻塞部位于泵248和入口 254之間的通道244。圖12的設(shè)備1020包括在泵248和入口 254之間的通道244內(nèi)的箍縮收窄部1060。在所示示例中，通道244在收窄部1060之間具有在100X50和5X9Mm2之間的橫截面積。圖13的設(shè)備1120包括在泵248和入口 254之間的通道244內(nèi)的流動(dòng)阻塞部1160。在所示示例中，通道244在阻塞部1160周圍具有在40X50和5X9Mm2之間的橫截面積。圖14的設(shè)備1220包括箍縮收窄部1060和流動(dòng)阻塞部1160兩者。在所示示例中，通道244收窄部1060和阻塞部1160之間具有在40X50和5X9Mm2之間的橫截面積。在其它實(shí)施方式中，這樣的收窄部和阻塞部可具有其它配置。
[0063]圖15是流體噴射設(shè)備1320的仰視剖面圖，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例。流體噴射設(shè)備1320與流體噴射設(shè)備620相同，不同的是流體噴射設(shè)備1320包括通道1344，以取代通道244。與設(shè)備620的部件相對(duì)應(yīng)的設(shè)備1320的那些剩余部件被類似地編號(hào)。雖然未示出，但在其它實(shí)施方式中，流體噴射設(shè)備1320可附加地包括上述收窄部260、360、1060或流動(dòng)阻塞部460、1160中的一個(gè)或多個(gè)。
[0064]流體通道1344類似于通道244，不同的是流體通道1344包括部分1370、1372和出口收窄部1374。部分1370從入口 254延伸至部分1372且包含泵248。部段1344可在多個(gè)位置處連接到部分1372，例如，在部段1372上居中或從中心錯(cuò)開。部分1370具有相比部分1372較小的寬度和較小的橫截面積。部分1372具有較大橫截面積和較大寬度，其從部分1370延伸至出口 256。部分1372與噴嘴252相對(duì)地延伸且包含滴生成器246。因?yàn)椴糠?370的橫截面積和寬度小于包含滴生成器246的部分1372的橫截面積和寬度，滴生成器246可以相對(duì)較大，從而提供更快的滴生成和噴射；而通道1344的部分1370較小，從而抑制污染物和氣泡穿過其中。
[0065]出口收窄部1374限制出口 256的大小，使得出口 256具有相比部分1372更小的橫截面積和寬度。因此，空氣或污染物顆粒較不可能在流體噴射之后的流體補(bǔ)給期間被吸回到通道1344中。在所示示例中，出口收窄部1374由壁或籠狀物666形成。在其它實(shí)施方式中，收窄部1374可由其它結(jié)構(gòu)形成或者可被省略。
[0066]圖16是流體噴射設(shè)備1420的仰視剖面圖，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例。流體噴射設(shè)備1420與流體噴射設(shè)備620相同，不同的是流體噴射設(shè)備1420包括非均勻地或不均等地分布的噴嘴252。如圖16所示，流體噴射設(shè)備1420類似于設(shè)備620，不同的是設(shè)備1420包括取代通道244的通道1444、入口收窄部1473和出口收窄部1374。與設(shè)備620的部件相對(duì)應(yīng)的設(shè)備1420的那些剩余部件被類似地編號(hào)。雖然未示出，但在其它實(shí)施方式中，流體噴射設(shè)備1420可附加地包括上述收窄部260、360、1060或流動(dòng)阻塞部460、1160中的一個(gè)或多個(gè)。
[0067]流體通道1444類似于通道244，不同的是流體通道1444包括部分1476、1478和1480。部分1476從入口 254延伸，夾在部分1478和1480之間。部分1476支出和并入部分1478和1480中的每一個(gè)。部分1476包含泵248并且將流體從入口 254進(jìn)料或?qū)蛑敛糠?478和1480中的每一個(gè)。
[0068]入口收窄部1473限制入口 254的大小，使得入口 254具有相比部分1476更小的橫截面積和寬度。因此，空氣或污染物顆粒較不可能在流體噴射之后的流體補(bǔ)給期間被吸回到通道1444中。在所示示例中，入口收窄部1473由將部分1476與部分1478和1480分離的壁形成。在其它實(shí)施方式中，收窄部1473可由其它結(jié)構(gòu)形成或者可被省略。
[0069]部分1478和1480各自從部分1476延伸。部分1478延伸至出口 256中的第一個(gè)，而部分1480延伸至出口 256中的第二個(gè)。第一和第二出口 256中的每一個(gè)通入由籠狀物666形成且在過濾器650內(nèi)的流體排放口 664。部分1478和1480中的每一個(gè)延伸越過且背對(duì)噴嘴252，并且包含與相關(guān)聯(lián)的噴嘴252相對(duì)的滴生成器246。出口 256中的每一個(gè)還設(shè)有出口收窄部1374(上文所述)。就示例性設(shè)備1420而言，流體可由單個(gè)泵248泵送和供應(yīng)至兩個(gè)滴生成器246。
[0070]在其它實(shí)施方式中，可利用滴生成器和泵的其它組合。圖17示出了流體噴射設(shè)備1490，其示出兩個(gè)備選的示例性組合或構(gòu)造。如圖17所示，在狹槽240上方的流體噴射設(shè)備1490的頂半部類似于流體噴射設(shè)備1420的頂半部，不同的是，代替單個(gè)泵248將液體供應(yīng)至兩個(gè)滴生成器246，設(shè)備1490的頂半部利用兩個(gè)泵248，以將液體泵送或驅(qū)動(dòng)至和越過單個(gè)滴生成器246。液體通過入口 256中的每一個(gè)、通過通道1444的部分1478、1480并且通過部分50和78被抽吸至滴生成器246。雖然圖17示出兩個(gè)泵248將流體供應(yīng)至單個(gè)滴生成器246，但在其它實(shí)施方式中，通道1444可具有其它配置，并且多于兩個(gè)的泵248可提供用于將流體供應(yīng)至單個(gè)滴生成器246。在另外一些實(shí)施方式中，通道1444可重新配置成將多個(gè)泵248連接到多個(gè)滴生成器246，其中，泵240的數(shù)量在一個(gè)實(shí)施方式中大于滴生成器246的數(shù)量，或者其中，滴生成器246的數(shù)量在另一個(gè)實(shí)施方式中大于泵248的數(shù)量。
[0071]流體噴射設(shè)備1490的底半部示出了包括取代通道1444的通道1494的示例性構(gòu)造。通道1494包括單個(gè)主要部分1496，部分1498和1500從主要部分1496朝狹槽240延伸。部分1498包括泵248，而部分1500包括滴生成器246。因此，多個(gè)泵48將液體供應(yīng)至多個(gè)滴生成器246。
[0072]雖然分支1444和1494的部分中的每一個(gè)已示出為包括單個(gè)泵248或單個(gè)滴生成器246，但在一些實(shí)施方式中，單個(gè)分支或部分可包含多于一個(gè)泵248或多于一個(gè)滴生成器246。在其它實(shí)施方式中，設(shè)備1420可包括獨(dú)立的過濾器，例如，上述過濾器250，而不是單個(gè)連續(xù)的過濾器650。在其它實(shí)施方式中，部分1476可具有相比部分1478、1480更小的寬度或橫截面積，類似于設(shè)備1320的配置。
[0073]圖18A-18H是示出用于形成示例性流體噴射設(shè)備1520 (圖18H中示出)的一種示例性方法的剖面圖。如圖18A所示，互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)層1600、薄膜疊堆1602和鈍化層1604被沉積在諸如硅的介電基底1606上。如圖18B所示，導(dǎo)電跡線、電阻器區(qū)域、鈍化層和抗氣蝕層接著被圖案化。如圖18C所示，圖案化的底漆層1610被沉積在鈍化層1604上。如圖18D所示，圖案化的底漆層1610被進(jìn)一步圖案化以限定過濾器1550。然后，室層1612被沉積為圖案以形成通道1544。如圖18E所示，進(jìn)行填充蠟1613和化學(xué)-機(jī)械平面化(CMP)。如圖18F所示，在室層1612上形成內(nèi)孔層1614。內(nèi)孔層1614限定噴嘴1552。如圖18G所示，基底1606、CMOS層1600、薄膜疊堆1602和鈍化層1604被蝕刻以形成狹槽1640。
[0074]最后，如圖18H所示，蠟填充物被移除以形成流體噴射設(shè)備1520。流體噴射設(shè)備1520包括流體狹槽1540、通道1544、滴生成器1546、泵1548和過濾器1550。流體狹槽1540、通道1544、滴生成器1546、泵1548和過濾器1550對(duì)應(yīng)于上文結(jié)合圖1所描述的流體狹槽40、通道44、滴生成器46、泵48和過濾器50。在使用中，在流體通過噴嘴1552射出或噴射之后，在腔室1551內(nèi)的噴射的流體被用諸如墨的流體補(bǔ)給，該流體由泵1548從狹槽1540抽吸通過過濾器1550并且在通道1544內(nèi)圍繞室壁1555泵送(進(jìn)入頁面并且隨后離開頁面，如由帶圈的十字所指示的)至滴生成器1546，如由箭頭1560所指示的。
[0075]圖19和圖20示出了流體噴射設(shè)備1720，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例性實(shí)施方式。流體噴射設(shè)備1720在其制造和構(gòu)造方面均類似于流體噴射設(shè)備1520，不同的是流體噴射設(shè)備1720利用直的或線性的流體通道1744代替U形的通道1544。與流體噴射設(shè)備1520的部件相對(duì)應(yīng)的流體噴射設(shè)備1720的那些剩余部件被類似地編號(hào)。如由箭頭1760所指示的，在流體通過噴嘴1552的射出或噴射之后，在腔室1551(與噴嘴1552相對(duì))內(nèi)的噴射的流體被用諸如墨的流體補(bǔ)給，該流體由泵1548從狹槽1540抽吸通過入口 1554、通過過濾器1550并且在通道1544內(nèi)在直線方向上泵送至滴生成器1546，該直線方向平行于連接過濾器1550和出口 1556的線并且垂直于噴嘴1552面向的方向。
[0076]圖21和圖22示出了流體噴射設(shè)備1820，其為流體噴射設(shè)備20的另一個(gè)示例性實(shí)施方式。流體噴射設(shè)備1820類似于流體噴射設(shè)備1720，不同的是流體噴射設(shè)備1820附加地包括硅支撐件1821。支撐件1821包括連接到形成泵1548和滴生成器1546的層的在狹槽1548內(nèi)的柱子或肋。支撐件1821在泵1548和滴生成器1546之間延伸，其中，形成滴生成器1546和泵1548的層向外延伸超出支撐件1821。在一個(gè)實(shí)施方式中，支撐件1821由形成基底1606的材料層形成。
[0077]如由虛線所指示的，在另一個(gè)實(shí)施方式中，流體噴射設(shè)備1820可備選地包括取代支撐件1821的硅脊或隔離壁1823。隔離壁1823在過濾器1550和出口 1556之間在狹槽1540內(nèi)延伸。隔離壁1823類似于支撐件1821，但附加地下伏(或覆蓋，根據(jù)取向而定)形成滴生成器1546和泵1548的層。在一個(gè)實(shí)施方式中，隔離壁1823由形成基底1606的材料層形成。
[0078]雖然已經(jīng)結(jié)合示例性實(shí)施例描述了本公開，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員將會(huì)知道，在不脫離所要求保護(hù)的主題的精神和范圍的前提下，可以在形式和細(xì)節(jié)上進(jìn)行更改。例如，雖然不同的示例性實(shí)施例可能已描述為包括提供一個(gè)或多個(gè)益處的一個(gè)或多個(gè)特征，但可以設(shè)想，所描述的特征在所描述的示例性實(shí)施例中或在其它備選實(shí)施例中可彼此互換或備選地彼此結(jié)合。由于本公開的技術(shù)相對(duì)復(fù)雜，并非技術(shù)上的所有更改都是可預(yù)知的。結(jié)合示例性實(shí)施例描述和在所附權(quán)利要求中闡述的本公開顯然旨在為盡可能地廣泛的。例如，除非另外具體指出，引用單個(gè)特定元件的權(quán)利要求也涵蓋多個(gè)這樣的特定元件。
【權(quán)利要求】
1.一種流體噴射設(shè)備(20，220, 320, 420, 520, 620, 720, 820, 920, 1020，.1120，1220，1320，1420，1490，1720，1820)，包括: 流體狹槽(40，240, 1540)； 通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)，其具有連接到所述流體狹槽(40，.240，1540)的入口(54，254，1554)和與所述入口(54，254，1554)間隔開且連接到所述流體狹槽(40，240, 1540)的出口(56，256，1556)； 滴生成器(46，246，1546)，其沿著所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，.1744)； 流體循環(huán)泵(48，248，1548)，其在所述滴生成器(46，246，1546)和所述入口(54，.254，1554)之間；以及 過濾器(50，250, 650, 1550)，其在所述流體狹槽(40，240, 1540)和所述流體循環(huán)泵(48，248，1548)之間越過所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括在所述滴生成器(46，246，1546)和所述出口(56，256，1556)之間的流動(dòng)收窄部(260，360，1060，1374)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括流動(dòng)阻塞部(460，1160)，所述流動(dòng)阻塞部(460, 1160)在所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)內(nèi)且由在所述滴生成器(46，246，1546)和所述出口(56，256，1556)之間的所述通道(44，244，1344，.1444，1494，1544，1744)圍繞。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括: 第二通道(1444)，其具有連接到所述流體狹槽(240)的第二入口(254)和與所述第二入口(254)間隔開且連接到所述流體狹槽(240)的第二出口(256)； 第二滴生成器(246)，其沿著所述通道(1444)； 第二流體循環(huán)泵(248)，其中，所述過濾器(650)連續(xù)地延伸越過所述入口(254)和所述第二入口(254)，并且其中，所述出口(256)和所述第二出口(256)各自具有在所述過濾器(650)中的對(duì)應(yīng)開口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括: 第二入口(254)，其用于所述通道(1444)且連接到所述流體狹槽(40，240，1540)； 第二滴生成器(246)，其沿著所述通道(1444);以及 第二流體循環(huán)泵(248)，其在所述第二滴生成器(246)和所述第二入口(254)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括: 第二入口(254)，其用于所述通道(1444)且連接到所述流體狹槽(240);以及 第二流體循環(huán)泵(248)，其在所述滴生成器(246)和所述第二入口(254)之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括在所述流體循環(huán)泵(48，248，1548)和所述入口(54，254，1554)之間的流動(dòng)收窄部(260，360，1060，1473)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，還包括阻塞部(460，1160)，所述阻塞部(460，1160)在所述泵(48，248，1548)和所述入口(54，254，1554)之間的所述通道(44，244，.1344，1444，1494，1544，1744)內(nèi)且由所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，.1444)圍繞。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，還包括阻塞部(460，1160)，所述阻塞部(460，1160)在所述泵(48，248，1548)和所述入口(54，254，1554)之間的所述通道(44，244，.1344，1444，1494，1544，1744)內(nèi)且由所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，.1744)圍繞。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述通道(44，244，1344，1444，1494，.1544，1744)包括: 第一部分，其具有鄰近所述滴生成器(46，246，1546)且延伸至所述出口(56，256，.1556)的第一橫截面區(qū)域；以及 第二部分，其具有小于所述第一橫截面區(qū)域且從所述滴生成器(46，246，1546)延伸至所述入口(54，254，1554)的第二橫截面區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述通道(1444)包括: 第一部分，其從所述入口(254)延伸且包括所述泵(248)； 第二部分，其從所述第一部分延伸至所述出口(256)且包括所述滴生成器(246);以及 第三部分，其從所述第一部分延伸至連接到所述流體狹槽(240)的第二出口(256)，其中，所述設(shè)備還包括在所述第三部分內(nèi)的第二流體滴生成器(246)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述滴生成器(246)在第一方向上噴射滴，并且其中，所述入口(254)面向基本上垂直于所述第一方向的第二方向。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述滴生成器(1546)在第一方向上噴射滴，并且其中，所述入口(1554)面向基本上平行于所述第一方向的第二方向。
14.一種方法,包括: 使用從通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)接收流體的滴生成器(46，.246，1546)噴射流體的小滴，所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)具有鄰近流體狹槽(40，240, 1540)的入口(54，254，1554)和與所述入口(54，254，1554)間隔開且鄰近所述流體狹槽(40，240，1540)的出口(56，256，1556);以及 利用所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)內(nèi)的泵(48，248，1548)將流體抽吸通過過濾器(50，250, 650, 1550)，所述泵(48，248，1548)將所述流體朝所述入口(54，254，1554)泵送(48，248，1548)至所述滴生成器(46，246，1546)，其中，所述泵(48，248，1548)在所述小滴的所述噴射之后的時(shí)間內(nèi)啟動(dòng)，使得噴射的流體大部分被由所述泵(48，248，1548)越過所述入口(54，254，1554)抽吸通過所述過濾器(50，.250，650, 1550)的所述流體補(bǔ)給。
15.一種方法，包括: 形成流體狹槽(40，240, 1540)； 形成通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)，所述通道(44，244，1344，.1444，1494，1544，1744)具有連接到所述流體狹槽(40，240, 1540)的入口(54，254，.1554)和與所述入口(54，254，1554)間隔開且連接到所述流體狹槽(40，240, 1540)的出口(56，256，1556)； 沿著所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)提供滴生成器(46，246，.1546)； 在所述滴生成器(46，246，1546)和所述入口(54，254，1554)之間提供流體循環(huán)泵(48，248，1548);以及提供在所述流體狹槽(40，240，1540)和所述流體循環(huán)泵(48，248，1548)之間越過所述通道(44，244，1344，1444，1494，1544，1744)的過濾器(50，250, 650, 1550)。
【文檔編號(hào)】B41J2/175GK104302483SQ201280072840
【公開日】2015年1月21日 申請(qǐng)日期:2012年7月3日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月3日
【發(fā)明者】A.N.戈亞迪諾夫, P.A.里查德斯 申請(qǐng)人:惠普發(fā)展公司，有限責(zé)任合伙企業(yè)