專利名稱::組合物、制品、其制造方法及用途的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
:本發(fā)明涉及可成像組合物、平印版前體(在此指未成像印版,在一個(gè)表面上負(fù)載待成像的涂層)、其制造方法以及其在制作印版(在此指具有即可印刷的涂層的印版,其表示正片或者負(fù)片形式的待印刷的圖像)中的用途。在此的印版通常指印刷版或可供選擇的印刷表面。
背景技術(shù):
:本發(fā)明探索改善平印版前體,尤其是陽圖型平印版前體。這樣的前體具有顯影劑可溶的聚合物涂層。在傳統(tǒng)的具有堿溶性聚合物如酚醛清漆樹脂和重氮萘醌(NQD)部分作為涂層的陽圖型平印版前體中,未曝光于紫外(UV)輻射的涂層區(qū)域在傳統(tǒng)的堿性顯影液中具有非常低的溶解率,因?yàn)镹QD是很強(qiáng)的溶解抑制劑。這意味著其抑制一阻止或延遲一涂層在所述顯影液中的溶解。涂層的曝光區(qū)域可能經(jīng)歷很多化學(xué)和物理變化(可包括體積、極性、構(gòu)型、化學(xué)結(jié)構(gòu)、反應(yīng)熱、氫鍵、和水解的任一種或全部),這可能導(dǎo)致它們?cè)趬A性顯影劑中的溶解速率發(fā)生劇烈變化。本發(fā)明的方法在曝光區(qū)域和未曝光區(qū)域之間提供巨大的加工反差,通常對(duì)于給定的曝光能量和顯影條件,大于100:1。在許多熱系統(tǒng)中(例如熱計(jì)算機(jī)直接制版(CTP)正系統(tǒng)),僅在曝光期間發(fā)生的變化是由(通常通過作用在涂層中的IR吸收劑上的IR激光)提供的熱量導(dǎo)致的。該熱量導(dǎo)致三級(jí)結(jié)構(gòu)產(chǎn)生物理變化;例如導(dǎo)致氫鍵結(jié)構(gòu)的破壞。這引起曝光區(qū)域和未曝光區(qū)域之間較低的加工反差,通常對(duì)于給定的曝光能量和顯影條件為10-20:1。為了獲得商業(yè)可行的陽圖型印版前體,涂層的曝光區(qū)域在顯影劑中的溶解速率必須相當(dāng)高,并且加工反差應(yīng)當(dāng)期望是高的。在顯影后必須保留足夠的涂層用于印刷,而過量的涂層溶解顯著縮短了加工用化學(xué)制品的壽命。這使得較高曝光水平的應(yīng)用成為必要,以提供能量分解抗顯影劑涂層。這限制了印刷機(jī)的生產(chǎn)率。因而,本發(fā)明的目的是用較低曝光水平達(dá)到相當(dāng)?shù)娘@影劑耐受性;或?qū)ο嗤毓饽芰窟_(dá)到更好的顯影劑耐受性。US5554664描述了一種包含陽離子(如定義的)和陰離子的能量可激活的鹽,其可以是雙或三(高度氟化的烷基磺?;?甲基化物或者雙或三(氟化芳基磺?;?甲基化物。通過電子束、或UV或可見光輻射(約200nm-800nm)來成像。US6841333描述了具有氟化陰離子例如PF6'、SbF6'、CF3S03—、C4H9SCV、和C8HnS0r的光敏產(chǎn)酸劑。所述陰離子據(jù)稱提供高酸強(qiáng)度和非常強(qiáng)的催化活性;給予快速的成像速度(在正型光刻膠中)和快速的固化速度(在負(fù)型光刻膠中);并且是對(duì)環(huán)境無害的。通過電子束、離子束、X射線、遠(yuǎn)UV、深UV、中UV、近UV或可見光輻射來成像。US6358665描述了輻射敏感組合物,包含羥基苯乙烯樹脂和產(chǎn)生氟化烷磺酸作為光敏產(chǎn)酸劑的鐵鹽前體。所述光敏產(chǎn)酸劑是氟化烷磺酸的锍鹽或鎗碘鹽;陰離子為CF3CHFCF2S03^CF3CF2CF2CF2S(V??梢杂媒饘冫u素?zé)簟⑻蓟?、氙氣燈和水銀燈成像。GB1245924公開了熱在酚醛樹脂涂層以及許多其它聚合物涂層上的成像應(yīng)用,以增加曝光區(qū)域中的涂層相對(duì)于未曝光區(qū)域中的溶解度。然而,描述NQDs和其它降低涂層在顯影液中的溶解度的抑制劑的同時(shí),需要大量曝光能量以使曝光區(qū)域可溶。US4708925描述了使用鐵鹽以賦予酚醛樹脂耐溶劑性。所述鑰鹽抑制酚醛樹脂涂層在顯影劑中的溶解。然而,一旦曝光于紅外輻射,該抑制作用喪失。在此情況下,通過在鐵陽離子上應(yīng)用光敏酸陰離子(即潛在的布朗斯特德酸)而在曝光時(shí)釋放酸有助于在相同量的曝光能量下使涂層的曝光區(qū)域更易溶于顯影劑。該技術(shù)也能通過激光曝光后和顯影前的加熱,而后通過整片UV曝光和顯影而用于負(fù)極板上。在該專利中,公開很多陰離子和陽離子。所述陰離子包括六氟磷酸根、全氟烷基锍、CF3COO—、SbF5—禾口BF"這兩個(gè)專利的技術(shù)提議也都有與穩(wěn)定性有關(guān)的問題,即當(dāng)制備好涂層并迅速曝光后,其需要XmJ/cr^的曝光能量以達(dá)到最佳結(jié)果,但是當(dāng)持續(xù)1周后,其需要YmJ/cm2,其中Y大于X。6Y值受幾乎每種包括在酚醛樹脂配方中的組分的影響,也受用于制備平印版前體的每個(gè)過程的影響。這使得印刷機(jī)幾乎不可能設(shè)定印刷排版;基本上當(dāng)Y顯著大于X時(shí),這兩個(gè)專利的技術(shù)提議在商業(yè)上都不可行。US6461795和US6706466認(rèn)識(shí)到該穩(wěn)定性問題,描述了一種通過使涂覆前體經(jīng)受至少4小時(shí)的40-9(TC的溫和熱處理來克服所述問題的方法。US5340699公開了鎿類化合物可用于用UV或IR輻射產(chǎn)生陽圖型或陰圖型印刷版。在該情況下,在顯影之前正片曝光版能被直接用于或經(jīng)受大量加熱的過程,這導(dǎo)致由與可熔可溶酚醛樹脂一起存在的鎗類潛在布朗斯特德酸產(chǎn)生的酸引起曝光區(qū)域的交聯(lián)。也就是說,該過程全部是明暗相反的。相比能量要求,曝光前和曝光后的相對(duì)顯影劑溶解性的限制也存在于這些系統(tǒng)中,并且在陽圖型中,穩(wěn)定性也是一個(gè)問題。為了阻遏曝光前對(duì)曝光后的加工反差和能量需求的問題,EP1024963A用有機(jī)硅聚合物作為涂層溶液組分,并提出當(dāng)其干燥時(shí),其轉(zhuǎn)移至涂層的表面。人們認(rèn)為,由于有機(jī)硅排斥水溶液,涂層的未曝光部分對(duì)顯影液的耐受性增強(qiáng)。在涂層被加熱的區(qū)域,表面被破壞,顯影液能迅速進(jìn)入大部分的涂層曝光區(qū)域。這使得形成具有與不用有機(jī)硅的參照類似的顯影劑性能的涂層需要較低的能量,或者在相同的能量需求下具有更好的耐顯影劑性能。然而,該技術(shù)的問題是,在所公開的液體組合物中負(fù)載高水平的有機(jī)硅聚合物(3-6%)下,有機(jī)硅在所述涂層中具有不穩(wěn)定性效果。在所述文獻(xiàn)中,需要注意的是聚合物涂層中的有機(jī)硅(例如通常用作流平和薄膜表面外觀助劑(US4510227))通常的用量基本上小于1%。在EP1024963A的3-6%水平下,不相容性引起干燥涂層中的不均勻性,伴隨著出現(xiàn)白斑、或涂覆空隙,我們相信這歸因于由于有機(jī)硅聚合物的不對(duì)稱分布而導(dǎo)致的區(qū)域受保護(hù)不足。另一個(gè)提出的針對(duì)反差和能量需求問題的解決方案是使用兩層或更多層構(gòu)成涂層,尤其是具有不同組成的層。在此,鄰接或接近基底的下層應(yīng)當(dāng)具有比上層例如表面層或外層更高的顯影劑溶解性,如US6153353和US6352812所描述。在這樣的實(shí)施方案中,當(dāng)涂層被正片曝光時(shí),未曝光區(qū)域的整個(gè)涂層具有低溶解率,而在曝光區(qū)域,其以典型的速率顯影。一旦成像的上層被溶解掉,在顯影劑中具有非常高的溶解率的下層非常迅速地溶解。總之,曝光區(qū)域比未曝光區(qū)域顯影快得多,相同能量的加工反差得到提高。然而,此方法存在一些重要的成本問題(資金和收入)。一是需要兩個(gè)涂覆、干燥和檢查機(jī)器,另一個(gè)是需要的人工操作增加,導(dǎo)致勞動(dòng)成本增加。另一個(gè)問題是較高水平的涂層質(zhì)量缺陷。涂層質(zhì)量缺陷在任何涂覆操作中是不可避免的。例如,如果由單獨(dú)涂層產(chǎn)生的碎片為3%(典型值),兩層系統(tǒng)則預(yù)期會(huì)增加至約6%。另外,這些基于正型酚醛樹脂/環(huán)氧樹脂涂層的系統(tǒng)隨時(shí)間的穩(wěn)定性不足??傊休椛涿舾薪M合物的需求,當(dāng)將其涂覆在基材上以形成平印版前體時(shí),所述組合物具有當(dāng)曝光于成像能量時(shí)具有非常高的顯影劑溶解率的區(qū)域,而在未曝光于成像能量的區(qū)域中具有高的顯影劑耐受性;而不顯著增加實(shí)際需要的曝光能量(換句話說,不降低印版前體的"速度")。一個(gè)主要目的是改善"單層"涂層。然而,對(duì)由兩層或更多層形成的涂層的改善也包括在內(nèi)。
發(fā)明內(nèi)容依據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供一種包含聚合物的組合物,所述聚合物含有羥基,所述組合物適用作可IR成像的平版印刷前體的涂層,所述組合物包含一種或多種實(shí)施以下功能的試劑a)吸收波長(zhǎng)大于800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)用作不溶劑,其在顯影期間抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以改善非成像/成像區(qū)域的溶解反差比(DCR);其中實(shí)施功能c)的試劑包含具有離子和優(yōu)選疏水特征的部分。在該第一方面的優(yōu)選組合物中,所述用作不溶劑的試劑在吸收IR輻射時(shí)不分解。優(yōu)選這樣的試劑,在輻射導(dǎo)致其喪失使不溶解的作用后,隨著時(shí)間再恢復(fù)其使不溶解的作用。優(yōu)選試劑吸收波長(zhǎng)為805nm-1500nm,優(yōu)選805-1250nm的輻射。所述羥基可包括直接在各自聚合物的骨架上的羥基?;蛘呋蛄硗?,羥基可包括為較大側(cè)基的一部分的羥基,例如羧基(-COOH)或其鹽、或磺8酸基(-S03H)或醇(-CH2OH)或其混合物。優(yōu)選成像后,聚合物在水中或在水溶液中可溶或可分散,溶液的pH超過5,優(yōu)選超過7,最優(yōu)選超過8.5。適合的聚合物是酚醛聚合物,例如可熔可溶酚醛樹脂或酚醛清漆樹脂;或聚乙烯基苯酚(例如羥基苯乙烯的均聚物或雜聚物)。最優(yōu)選其為酚醛清漆樹月旨。實(shí)施功能a)、b)和c)的試劑可以分別是單獨(dú)的化合物,或者可以由一種化合物實(shí)施兩個(gè)或三個(gè)這樣的功能。因此,一種化合物可以實(shí)施功能a)和b);或者一種化合物可以實(shí)施功能a)和c);或者一種化合物可以實(shí)施功能b)和c)。或者一種混合物可以實(shí)施功能a)、b)和c)。實(shí)施功能a)、b)和c)的試劑可以是單獨(dú)的化合物,或者可以是聚合物攜帶的可離解的側(cè)基。原則上,實(shí)施功能a)、b)和c)的試劑可以全部是聚合物攜帶的。優(yōu)選可成像平版印刷前體為印版前體、用于印刷的掩膜、或電子部件。我們己經(jīng)發(fā)現(xiàn),通過使用實(shí)施功能c)的試劑以改善DCR,我們得到關(guān)于在成像區(qū)域和非成像區(qū)域之間在顯影劑中的溶解率方面優(yōu)越的選擇性,而達(dá)到所述差異(或"操作速度")所需的能量基本上不受損害。優(yōu)選用液體顯影劑實(shí)施成像,但是免處理操作原則上是可能的(例如在印版的情況下的在機(jī)顯影)。優(yōu)選組合物是陽圖型。因此,在這樣的實(shí)施方案中,我們得到關(guān)于在成像的可溶性區(qū)域和非成像的耐顯影劑的區(qū)域(成像時(shí)使不溶解作用喪失)之間顯影劑中的溶解率方面優(yōu)越的選擇性;而達(dá)到所述差異所需的能量不黨fe告。本發(fā)明的優(yōu)選組合物形成可在普通室內(nèi)照明條件下進(jìn)行操作而不受到破壞的涂層,所述室內(nèi)照明條件包括環(huán)境自然光通過窗戶照進(jìn)室內(nèi)和在標(biāo)準(zhǔn)潔凈室照明下。優(yōu)選不需要UV安全照明。本發(fā)明第一方面的組合物的期望的其它組分是乙酸酞酸纖維素(CAHPh)。CAHPh在賦予所述組合物對(duì)用于印刷的溶劑的耐受性,從而增加所述涂層在溶劑(包括侵蝕性溶劑)存在下的運(yùn)轉(zhuǎn)周期能力上是特別有用的。CAHPh對(duì)于使用硅氧垸來助長(zhǎng)顯影劑耐受性的現(xiàn)有組合物是期望的添加,但由于硅氧烷和CAHPh之間的物理不相容性該添加僅在有限的水平下。在本發(fā)明的組合物中,優(yōu)選不存在硅氧垸。在這樣的實(shí)施方案中,CAHPh能以較高的水平添加,例如2-10重量%,優(yōu)選3-8%?,F(xiàn)在將說明優(yōu)選的試劑種類。通常疏水性能可以來自陽離子或陰離子、或來自兩者。優(yōu)選該試劑包含鑰陽離子或碳陽離子。鑰陽離子的實(shí)例包括碳鐺、銨、重氮鹽、锍、氧化锍、磷鎗或碘鎿陽離子。碳陽離子的實(shí)例為碳正離子。碳正離子、銨、碘鐺和,尤其是磷鏠陽離子是優(yōu)選的。鐺或碳正離子部分可以是聚合物的側(cè)基,但是優(yōu)選為一種或多種單獨(dú)化合物的形式。鐺或碳正離子部分可以具有連接在無機(jī)中心(或在碳正離子的情況下的碳中心)上的烷基或芳基官能團(tuán)。鎗陽離子優(yōu)選實(shí)施上述不溶性功能b)。其為離子的,并可以是疏水的,并且也實(shí)施上述功能c)。在這樣的實(shí)施方案中,其優(yōu)選具有至少一種下列促進(jìn)疏水方式-至少一個(gè)具有至少6個(gè)碳原子,優(yōu)選6-24個(gè)碳原子,尤其是8-16個(gè)碳原子的疏水垸基(優(yōu)選至少兩個(gè)或至少三個(gè)或至少四個(gè)所述基團(tuán));-至少一個(gè)具有至少1個(gè)碳原子,優(yōu)選至少2個(gè),優(yōu)選1-12個(gè),最優(yōu)選2-8個(gè)碳原子的疏水氟化烷基(優(yōu)選至少兩個(gè)或至少三個(gè)或至少四個(gè)所述基團(tuán));所述或每個(gè)氟化垸基優(yōu)選為全氟化烷基。-至少一個(gè)疏水含硅基團(tuán),例如式SiJl2^—的甲硅烷基,其中每個(gè)R獨(dú)立地為氫或CM烷基,n為l-8;禾口-至少一個(gè)芳基,尤其是苯基(優(yōu)選至少兩個(gè)或至少三個(gè)或至少四個(gè)芳基基團(tuán)),其任選被至少1、2或3個(gè)選自如下的疏水部分取代具有至多24個(gè)碳原子的垸基,其任選為疏水烷基(正如上所限定的);氟原子;疏水氟化烷基(正如上所限定的)和疏水含硅基團(tuán)(正如上所限定的)。優(yōu)選的磷鎗陽離子可以具有下式10<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>n表示O或1-5的整數(shù);R1水.'表示氫原子或氟原子或垸基或d.12氟化烷基;和在具有超過一個(gè)R1的情況下它們可以相同或不同。m表示O或1-5的整數(shù);^表示氫原子或氟原子或C,.24垸基或d.,2氟化烷基;和在具有超過一R2的情況下它們可以相同或不同。p表示0或1-5的整數(shù);^表示氫原子或氟原子或C,-24烷基或Cw2氟化烷基;和在具有超過一W的情況下它們可以相同或不同。q為1-4的整數(shù);S表示0或1-5的整數(shù);禾口R"表示氫原子或氟原子或C,.24垸基或Cm2氣化院基;和在具有超過一,R"的情況下它們可以相同或不同。優(yōu)選的烷基R1、112和113含有l(wèi)-16個(gè)碳原子,優(yōu)選1-12個(gè)碳原子。優(yōu)選的氟化烷基R1、112和R3實(shí)質(zhì)上全部被氟原子取代(即,R1、R2和R3優(yōu)選為全氟烷基)。優(yōu)選的氟化烷基為Cl8氣化院基,優(yōu)選三氟甲基或全氟庚基。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n是5而每個(gè)R'是氫;或每個(gè)R'是氟;或每個(gè)R1是三氟甲基<水d4水在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n是5而每個(gè)W是氫;或每個(gè)112是氟;或每W是三氟甲基。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n是5而每個(gè)Fe是氫;或每個(gè)113是氟;或每個(gè)RS是三氟甲基。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n、m和p全部是5而每個(gè)R1、E和W都是氫。在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n、m和p全部是5而每個(gè)R1、W和R都是氟。在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n、m和p全部是5而每個(gè)R1、112和113都是三氟甲基。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n是l而R'是全氟C4一8垸基,優(yōu)選全氟庚基,優(yōu)選連在P+原子的對(duì)位。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,111是1而112是全氟<34.8烷基,優(yōu)選全氟庚基,優(yōu)選連在對(duì)位。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,p是1而113是全氟(:4.8烷基,優(yōu)選全氟庚基,優(yōu)選連在對(duì)位。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,n、m和p都是l,而R1、&和113都是全氟C^烷基,優(yōu)選都是全氟庚基;各個(gè)氟化烷基優(yōu)選連在對(duì)位。優(yōu)選W是氟原子、Q.24垸基或Cw2氟化烷基。優(yōu)選s為l、2或3。尤其優(yōu)選R"是氟和三氟甲基。在一個(gè)尤其優(yōu)選的實(shí)施方案中,s為1和R"是三氟甲基,該取代基在對(duì)位。適合的q為l-4的整數(shù);尤其是l。一個(gè)尤其優(yōu)選的疏水陽離子為(m,m-雙(三氟甲基)節(jié)基)三苯基磷鏠。疏水磷鎿陽離子的其它實(shí)例包括如下12R=CF3,H甲硅烷化陽離子的實(shí)例包括如下:適當(dāng)?shù)年栯x子可以為染料陽離子,如三芳基甲垸陽離子(例如結(jié)晶紫、FlexoBlue636或乙基紫的情況);菁染料,例如產(chǎn)自FEWChemie的S0094或S0253;噻嗪染料,例如亞甲基藍(lán);或噁嗪染料,例如NileBlue。這些可以用上述方式進(jìn)行疏水改性,例如通過將烷基官能度換成更長(zhǎng)鏈的烷基官能度或氟化垸基官能度。例如,結(jié)晶紫具有三個(gè)二甲氨基官能度,而在它們的位置上具有三個(gè)二(三氟甲基)氨基官能度的類似但更疏水的染料材料能被制備。同樣地,乙基紫具有三個(gè)二乙氨基,而在它們的位置上具有三個(gè)二(五氟乙基)氨基的類似但更疏水的染料材料能被制備。前面討論了對(duì)陽離子可能的促進(jìn)疏水改性,但是實(shí)際上,依據(jù)本發(fā)明,優(yōu)選未改性的陽離子,優(yōu)選對(duì)陰離子進(jìn)行改性。優(yōu)選用于本發(fā)明的未改性磷鐵陽離子的實(shí)例包括二苯基芐基磷鎿和,尤其是,三苯基芐基磷錄,和三芳基甲烷染料,特別是結(jié)晶紫。優(yōu)選陰離子是pKa小于15,優(yōu)選小于12,更優(yōu)選小于9,最優(yōu)選小于6的酸的共軛堿。優(yōu)選陰離子是疏水性的,并因而可實(shí)施上述功能c)。優(yōu)選其通過氟、硅、脂肪垸基或芳基官能性的存在而得到所述性質(zhì)。在陰離子是疏水性的實(shí)施方案中,優(yōu)選其具有至少一種下述促進(jìn)疏水方式-至少一個(gè)具有至少6個(gè)碳原子,優(yōu)選6-24個(gè)碳原子,尤其是8-16個(gè)碳原子的疏水烷基(優(yōu)選至少兩個(gè)或至少三個(gè)或至少四個(gè)所述基團(tuán));-至少一個(gè)具有至少1個(gè)碳原子,優(yōu)選至少2個(gè),優(yōu)選l-20個(gè),最優(yōu)選2-10個(gè)碳原子的疏水氟化烷基(優(yōu)選至少兩個(gè)或至少三個(gè)或至少四個(gè)所述基團(tuán));所述氟化烷基優(yōu)選為全氟垸基;-至少一個(gè)疏水含硅基團(tuán),例如硅氧烷基團(tuán)或式為SinF^+r的甲硅烷基團(tuán),其中每個(gè)R獨(dú)立地為氫或CM烷基,n為l-8;和-至少一個(gè)芳基,尤其是苯基(優(yōu)選至少兩個(gè)或至少三個(gè)或至少四個(gè)芳基),其任選被至少l、2或3個(gè)選自如下的疏水部分取代具有至多24個(gè)碳原子的烷基,其任選為疏水垸基(正如上所限定的);氟原子;疏水氟化烷基(正如上所限定的)和疏水含硅基團(tuán)(正如上所限定的)。一個(gè)實(shí)例包括鎿鹽或碳正離子的甲硅烷基反離子,例如<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>其中在第一個(gè)化合物中,每個(gè)R和R'獨(dú)立地表示任選取代的C(l-20)烷基或任選取代的芳基(尤其是任選取代的苯基),x是整數(shù),和y是1-8的整數(shù);和其中在第二和第三個(gè)化合物中,硅原子和磺酸基部分之間的鏈總共有1-20個(gè)碳原子,優(yōu)選3-12個(gè)碳原子。優(yōu)選任何陰離子,包括上述那些,可以用以下基團(tuán)中的一種來封端-03S-、-02C-、-02S-、H2P04-、-HP03。適合的具有芳基的疏水陰離子的實(shí)例包括二甲苯磺酸根、均三甲苯磺酸根和,尤其是,甲苯磺酸根。在此所述和限定的特定陽離子和陰離子是新的并如下進(jìn)一步限定為(1)具有新的或已知的陰離子和陽離子的化合物,其中所述陽離子具有-至少一個(gè)上面所限定的疏水垸基;-至少一個(gè)上面所限定的疏水氟化烷基;-至少一個(gè)上面所限定的疏水含硅基團(tuán);和-至少一個(gè)芳基,其任選被至少l、2或3個(gè)選自氟原子或垸基、氟化烷基或含硅基團(tuán)的部分取代。在這樣的實(shí)施方案中,所述陰離子可以是新的(如下所限定)或其自身可以是已知的;例如CF3COCT、SbF6-、BF4-、PF6\SbF6\CF3S03-、C8H17SCV、CF3CHFCF2S03,CF3CF2CF2CF2S03。優(yōu)選的陽離子是氟化磷鐵陽離子,如氟化BnPh3P+,優(yōu)選(二CF3)BnPh3P+。(2)具有新的或已知的陽離子和陰離子的化合物,其中所述陰離子具有-至少一個(gè)上面所限定疏水垸基;-至少一個(gè)上面所限定的疏水含硅基團(tuán);和-至少一個(gè)芳基,其任選被至少1、2或3個(gè)選自氟原子、或者上面所限定的烷基、氟化烷基或含硅基團(tuán)的部分取代。傳統(tǒng)上,在此應(yīng)用的符號(hào)Bn表示芐基-CH2-Ph。在這樣的實(shí)施方案中,所述陽離子可以是新的(如上所限定)或其本身可以是已知的;例如其可以是已知的磷鐵鹽如(Ph)3BnP+、或(Ph)/或可以是三芳基甲烷染料,如結(jié)晶紫和乙基紫。令人感興趣的新化合物可以包括磷鐺陽離子如(Ph)3BnP+,疏水改性的或傳統(tǒng)的,具有通過氟、硅、脂肪垸基或芳基部分的存在而具有疏水性的垸基或芳基羧酸根或磺酸根陰離子,如上所限定。令人感興趣的新化合物可以包括三芳基甲垸染料如結(jié)晶紫和乙基紫的鹽,疏水改性的或傳統(tǒng)的,具有通過氟、硅、脂肪垸基或芳基部分的存在而具有疏水性的羧酸根或磺酸根陰離子,如上所限定。新化合物代表本發(fā)明的第二方面。我們不要求下述化合物作為本發(fā)明的新化合物-在US5,554,664中更精確限定的氟化甲基化物或酰亞胺化合物,在此被更精確地定義。-在US6,841,333中更精確限定的具有嵌段烷烴-氟碳-磺酸根陰離子的化合物。-在US6,358,665中更精確限定的氟化烷磺酸的锍鹽或碘鑰鹽。然而,應(yīng)當(dāng)注意的是,由于在本發(fā)明中對(duì)所述化合物的應(yīng)用不同于US5,554,664、US6,841,333和US6,358,665中所公開的,這樣的應(yīng)用被認(rèn)為是本發(fā)明的一個(gè)方面。依據(jù)本發(fā)明的第三方面,提供一種制備第二方面所述的新化合物的方法。當(dāng)化合物是鎿鹽時(shí),合適的反應(yīng)是適宜在正常條件下進(jìn)行的親核取代。如下舉例說明磷鐺鹽的制備方法16方案1個(gè)rA,P、Ar方案2個(gè)「Ar,、ArAr個(gè)rAr111Ar'八YIV個(gè)r產(chǎn)P十-ArY-ArV陰離子A交換^ArIII7^T制備通式in的化合物的方法在方案1和2中進(jìn)行了描述,其中-化合物I是三芳基膦或其任何穩(wěn)定的鹽。Ar是芳基或雜芳基;優(yōu)選苯基、垸基取代的苯基、烷氧基取代的苯基、呋喃基、a-和卩-萘基。每個(gè)Ar可以相同或不同,并可以任選被任何上面限定的促進(jìn)疏水部分所取代。-化合物II中的Ar'是芳基或雜芳基,與Ar相同或不同;優(yōu)選苯基、烷基取代的苯基、垸氧基取代的苯基、羧苯基、烷氧基羰基苯基、a-和p-萘基。Ar'可以任選被任何上面限述的促進(jìn)疏水部分所取代。-X是任何通常本領(lǐng)域技術(shù)人員用于親核取代反應(yīng)的離去基團(tuán)。優(yōu)選用于方案1中的方法的基團(tuán)為OH、OAc、OOC(CF2)0-20CF3、O3S(CF2)0-20CF3。優(yōu)選用于方案2中的方法的基團(tuán)為F、Cl、Br、I、OH、OAc、d-Cso鏈烷磺酸酯基、苯磺酸酯基和單取代或多取代芳基磺酸酯基(特別包括被一個(gè)或多個(gè)下述優(yōu)選基團(tuán)取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-烷基或其任意組合)。-Y是任何通常本領(lǐng)域技術(shù)人員用于親核取代反應(yīng)的離去基團(tuán)。優(yōu)選用于方案2中的方法的基團(tuán)為F、Cl、Br、I、OH、OAc、C廣C2。鏈烷磺酸酯基、苯磺酸酯基和單取代或多取代芳基磺酸酯基(特別包括被一個(gè)或多個(gè)下述優(yōu)選基團(tuán)取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-烷基或其任意組合)。方案1的方法包括對(duì)本體或懸浮或溶解在適當(dāng)?shù)娜軇?例如二甲苯)中的I/II化學(xué)計(jì)量比為0.1-10的化合物I和II進(jìn)行加熱(例如在100-150°C下)1-24小時(shí),任選在選自強(qiáng)質(zhì)子酸(優(yōu)選硫酸、硝酸、鹽酸、氫溴酸、氫碘酸、三氟乙酸、C,-C20鏈垸磺酸、苯磺酸和單取代或多取代芳基磺酸(特別包括用一個(gè)或多個(gè)下述優(yōu)選基團(tuán)取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-垸17基或其任意組合)、路易斯酸、沸石、酸性離子交換樹脂的酸催化劑的存在或不存在下。微波和/或超聲波可用于增加產(chǎn)率和減少反應(yīng)時(shí)間。方案2的方法包括對(duì)本體或懸浮或溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲械腎/IV化學(xué)計(jì)量比為0.1-10的化合物I和IV進(jìn)行加熱1-24小時(shí),任選在選自強(qiáng)質(zhì)子酸(優(yōu)選硫酸、硝酸、鹽酸、氫溴酸、氫碘酸、三氟乙酸、C,-C2o鏈垸磺酸、苯磺酸和單取代或多取代芳基磺酸(特別包括用一個(gè)或多個(gè)下述優(yōu)選基團(tuán)取代CH3、N02、F、Cl、Br、I、O-垸基或其任意組合)、路易斯酸、沸石、酸性離子交換樹脂的酸催化劑的存在或不存在下。微波和/或超聲波可用于增加產(chǎn)率和減少反應(yīng)時(shí)間。通過用于陰離子置換的常用系統(tǒng)處理V來實(shí)施化合物V到化合物III的轉(zhuǎn)化。所述轉(zhuǎn)化最好通過以下方式來實(shí)施用陰離子X—的適當(dāng)鹽的第二溶液從m的溶液中沉淀出III;或者用陰離子交換樹脂處理V的溶液或懸浮液;或者將V的溶液流過離子交換樹脂填充柱并隨后洗脫期望的化合物III;或者用期望的陰離子X—的第二溶液分離V溶液來實(shí)施,后者溶液部分與第一溶液混溶,導(dǎo)致III被萃取到這兩種溶液之一中?;衔颕II的回收通過蒸發(fā)或冷凍干燥相應(yīng)的溶液或通過添加適當(dāng)?shù)牡蜆O性溶劑沉淀III而實(shí)施。通式V的化合物的制備的典型實(shí)例可以在下述參考中找到1)JOC1985,10872)J.Phys.Org.Chem.2005,9623)ICA2003,35,39所述方法可用于其它在此所述的鑰鹽中。疏水改性的鎗陽離子可以通過由適當(dāng)?shù)目缮藤彽那绑w化合物n或iv,例如可商購的(CF3)2Bn-Br開始應(yīng)用上述方式而得到。依據(jù)本發(fā)明的第四方面,本發(fā)明提供一種涂覆的用于成像的平版印刷前體,其涂層通過施涂前述組合物到平版印刷基材上而形成。優(yōu)選施涂組合物在溶劑中的溶液,并干燥以形成涂層。優(yōu)選進(jìn)行一次施涂,并干燥以形成均勻干燥涂層。然而,不排除一次施涂,并干燥以形成組分分離的非均勻干燥涂層;或者進(jìn)行了兩次或多次施涂。依據(jù)第五方面,本發(fā)明提供一種制造第二方面的前體的方法。我們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)對(duì)所述前體進(jìn)行熱處理作為其制造的一部分是有益的。對(duì)前體的穩(wěn)定熱處理本身是已知的。WO99/21715描述了一種熱處理,其中對(duì)巻繞或堆疊的印版在適度溫度例如40-9(TC下進(jìn)行熱處理較長(zhǎng)的時(shí)間,例如至少4小時(shí)。然而,這存在的問題是在接近堆材或巻材的末端的性能可能很差,例如在頂部或底部,和在邊緣區(qū)域。EP1074889A提出進(jìn)行類似的熱處理,但是在熱處理期間抑制濕氣從前體中除去的條件下。這在更大面積上優(yōu)化了前體的性能。在EP1074889A中提及,這可能需要在提供相對(duì)濕度為至少25%,或絕對(duì)濕度為至少0.028的氣氛的爐中進(jìn)行熱處理步驟。還提到優(yōu)選在至少4(TC的溫度下進(jìn)行熱處理。EP1074889A的方法被認(rèn)為是有效的同時(shí),其的確需要仔細(xì)和可靠的工藝控制并帶來顯著的資本成本。我們已經(jīng)設(shè)計(jì)了一種可選的熱處理,同樣有效,而且實(shí)施簡(jiǎn)單,其對(duì)依據(jù)本發(fā)明的前體是有效的。因此,優(yōu)選依據(jù)第四方面的前體經(jīng)歷包括如下階段的熱處理作為其制造的一部分第一階段,其中將前體處于等于或超過參考溫度的溫度下和未超過20%的相對(duì)濕度和/或未超過0.025的絕對(duì)濕度下;和第二階段,在第一階段后,其中將前體處于低于參考溫度的溫度下和至少30%的相對(duì)濕度和/或至少0.032的絕對(duì)濕度下。在此限定的相對(duì)濕度是空氣中存在的水蒸氣的量,表示為相同溫度下飽和所需要的量的百分?jǐn)?shù)。在此限定的絕對(duì)濕度是在水蒸汽-空氣混合物中水蒸氣的質(zhì)量對(duì)空氣的質(zhì)量的比率。所述參考溫度優(yōu)選為35-50°C,例如35'C、45°C、5(TC或,優(yōu)選40。C。優(yōu)選第一階段持續(xù)至少4小時(shí),優(yōu)選至少8小時(shí),優(yōu)選至少12小時(shí),最優(yōu)選至少24小時(shí)。優(yōu)選在整個(gè)第一階段中都使前體處于等于或超過參考溫度的溫度下和限定的濕度條件下。優(yōu)選第一階段期間的溫度可以達(dá)到35-70°C,優(yōu)選45-65°C,最優(yōu)選50-60°C;在任何情況下,都優(yōu)選在參考溫度之上。為結(jié)束第一階段,使溫度優(yōu)選達(dá)到參考溫度。這可通過停止供熱的簡(jiǎn)單方法來實(shí)現(xiàn)。前體位于其中的爐是良好絕緣的,爐溫可能需要至少1小時(shí)才能從優(yōu)選的高溫降至參19考溫度,這是第一階段和第二階段間的轉(zhuǎn)變點(diǎn)。在第一階段過程中,在第一階段持續(xù)時(shí)間的至少50%,和優(yōu)選至少70%的時(shí)間,即在至少參考溫度的溫度下的時(shí)間期間中,溫度優(yōu)選為35-70°C,優(yōu)選50-65。C,和最優(yōu)選50-6(TC。當(dāng)我們?cè)诖颂岬綔囟葧r(shí),我們指前體或者前體堆材或巻材的平衡溫度。在堆材或巻材的情況下,一旦位于堆材或巻材的中心區(qū)域的熱電偶達(dá)到穩(wěn)定態(tài)溫度,等于爐溫或堆材或巻材的周圍區(qū)域的溫度時(shí),達(dá)到平衡溫度。在第一階段期間,優(yōu)選不進(jìn)行濕度的控制;或者控制濕度至相對(duì)濕度最大值為20%和/或絕對(duì)濕度最大值為0.025。在特定條件下,在第一階段中,控制相對(duì)濕度至最大值為15%,適當(dāng)?shù)貫?0%,適當(dāng)i也為5%。在特定條件下,在第一階段中,控制相對(duì)濕度至最小值為5%,適當(dāng)?shù)貫?0%,適當(dāng)?shù)貫?5%。在特定條件下,在第一階段中,控制絕對(duì)濕度至最大值為0.015,適當(dāng)?shù)貫?.01,適當(dāng)?shù)貫?.005。在特定條件下,在第一階段中,控制絕對(duì)濕度至最小值為0.005,適當(dāng)?shù)貫?.01,適當(dāng)?shù)貫?.015。優(yōu)選基本上在第二階段開始時(shí),濕度水平上升??刂葡鄬?duì)濕度為至少30%,優(yōu)選至少35%,和最優(yōu)選至少38%。優(yōu)選控制相對(duì)濕度不高于100%,優(yōu)選不高于80%,優(yōu)選不高于60%,優(yōu)選不高于50%,和最優(yōu)選不高于42%。優(yōu)選在第二階段期間,溫度下降。一旦溫度下降至參考溫度以下,第二階段就開始了。在優(yōu)選實(shí)施方案中,隨著供熱被停止,爐及其內(nèi)容物的溫度下降,使溫度自然下降;但是如果期望,可供給選定溫度下的空氣以進(jìn)行可控的冷卻。這在環(huán)境溫度高于參考溫度的情況下是特別有用的。在第二階段中,使溫度降至環(huán)境溫度需要至少1小時(shí),優(yōu)選至少2小時(shí),優(yōu)選至少4小時(shí),更優(yōu)選至少12小時(shí)。優(yōu)選第二階段的持續(xù)時(shí)間為至少1小時(shí),優(yōu)選至少2小時(shí),優(yōu)選至少4小時(shí),更優(yōu)選至少8小時(shí)。其可以比降至環(huán)境溫度需要的時(shí)間更長(zhǎng),因?yàn)樯踔猎谝呀抵镰h(huán)境溫度后,前體仍可能經(jīng)受在參考溫度以下的可控溫度條件,或者在達(dá)到環(huán)境溫度后仍留在爐中。然而,優(yōu)選達(dá)到環(huán)境溫度的前體就是熱處理的終點(diǎn)。當(dāng)有前體堆材或前體巻材時(shí),優(yōu)選當(dāng)堆材或巻材達(dá)到環(huán)境溫度時(shí),或當(dāng)堆材或巻材的所有部分都不高于環(huán)境溫度l(TC時(shí),或優(yōu)選不高于環(huán)境溫度5'C時(shí),達(dá)到熱處理的終點(diǎn)。優(yōu)選在整個(gè)第二階段期間,前體始終處于參考溫度以下的溫度,和所限定的濕度條件下。在熱處理的終點(diǎn),可以取出前體,并包裝銷售。在開始熱處理時(shí),溫度必須從環(huán)境溫度上升。從在環(huán)境溫度下開始到達(dá)到參考溫度的時(shí)間段可以認(rèn)為是預(yù)備階段。一旦達(dá)到參考溫度,第一階段開始。優(yōu)選在整個(gè)第二階段期間,都對(duì)濕度進(jìn)行控制。優(yōu)選同時(shí)對(duì)前體堆材進(jìn)行熱處理。合適的堆材包括至少100個(gè),和通常至少500個(gè)經(jīng)歷熱處理的前體?;蛘撸瑢?duì)具有一些涂層的前體巻材進(jìn)行熱處理,之后切割成單獨(dú)的前體。通常,這樣的巻材具有至少20001112的可成像表面。盡管EP1074398A發(fā)明涉及在整個(gè)熱處理過程中對(duì)濕度的控制,我們發(fā)覺這是不必要的。熱處理的主要部分,我們稱為第一階段,能以非常普通的方式進(jìn)行,不進(jìn)行任何控制或者控制相對(duì)濕度達(dá)到20%和/或絕對(duì)濕度達(dá)到0.025。進(jìn)行包層以作為防潮層是不需要的,優(yōu)選不實(shí)施。如果進(jìn)行包層,其優(yōu)選不是防潮層而是簡(jiǎn)單的防塵層??梢院侠淼仡A(yù)期,在例如堆材或巻材的邊緣區(qū)域?qū)?huì)有一些水分損失。然而,第二階段期間對(duì)濕度的控制顯示具有完全恢復(fù)的效果。以這種方式經(jīng)受熱處理的前體的性能是優(yōu)越的。我們相信,不受理論的限制,盡管在第一階段中,外圍或暴露區(qū)域可能有脫水效果,第二階段致使再水化。依據(jù)本發(fā)明的第六方面,本發(fā)明提供一種用于印刷的平印版前體,或一種用于蝕刻或用于摻雜的電子零件前體,其由對(duì)依據(jù)本發(fā)明第二方面的平印版前體或電子部件前體進(jìn)行成像,以在涂層中形成潛像并對(duì)圖像顯影而得到,得到的成像印版或電子部件前體具有期望的殘留涂層的圖案。優(yōu)選在成像后用顯影劑對(duì)印版或電子部件前體顯影。依據(jù)本發(fā)明的第七方面,本發(fā)明提供一種制造第五方面的平印版或電子部件前體的方法。21依據(jù)本發(fā)明的第八方面,本發(fā)明提供平印版前體在印刷中的用途,或電子部件前體在電子部件制造中的用途,每種情況下都是負(fù)載待成像的涂層的平版印刷基材,所述涂層通過在平版印刷基材上施涂并干燥包含聚合物的液體組合物而形成,所述組合物適用作IR可成像平版印刷前體的涂層,其包含一種或多種實(shí)施以下功能的試劑a)吸收波長(zhǎng)超過800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)作為不溶劑,其抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以提高非成像/成像區(qū)域的溶解比;其中試劑c)包含具有疏水和離子特征的部分;使平版印刷前體經(jīng)受波長(zhǎng)超過800nm的成像用IR輻射,而后在顯影劑中選擇性地去除接受輻射的區(qū)域或未接受輻射的區(qū)域;而后進(jìn)行施涂或處理步驟;在平印版前體的情況下,所述施涂或處理步驟是供給印刷油墨,所述油墨聚集在去除區(qū)域或者未去除區(qū)域;在電子部件前體的情況下,所述施涂或處理步驟是蝕刻或摻雜步驟。依據(jù)本發(fā)明的第九方面,本發(fā)明提供一種或多種實(shí)施以下功能的試劑在包含聚合物的可成像涂料中的用途a)吸收波長(zhǎng)超過800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)用作不溶劑,其抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以提高非成像/成像區(qū)域的溶解比率;其中試劑c)包含具有疏水和離子特征的部分。優(yōu)選用于本發(fā)明任何方面的顯影劑是顯影劑水成液,優(yōu)選堿性顯影劑水成液。優(yōu)選的堿性顯影劑水成液包括偏硅酸鈉溶液或偏硅酸鉀溶液或偏硅酸鈉/鉀混合溶液。適當(dāng)?shù)氖?,偏硅酸鈉和/或鉀構(gòu)成5-20重量%,優(yōu)選8-15重量%的顯影液。在偏硅酸鈉/鉀混合溶液中,偏硅酸鈉優(yōu)選多于偏硅酸鉀(重量比),其比例優(yōu)選為1.5-2.5(w/w),最優(yōu)選1.8-2.2。根據(jù)需要,可以在組合物中添加表面活性劑,以得到印刷版需要的特征。使用表面活性劑以增強(qiáng)涂料在鋁或聚酯載體上的施涂??捎玫谋砻婊钚詣┌ǚ急砻婊钚詣绠a(chǎn)自3MCorporation的FC-430或產(chǎn)自DuPont的ZonylNs;產(chǎn)自BASF的被稱為Pluronic的環(huán)氧乙垸和環(huán)氧丙垸的嵌段聚合物;和聚硅氧垸表面活性劑,如產(chǎn)自BYKChemie的BYK377。這些表面活性劑在施涂到基材上的過程中改善涂料組合物外觀,避免層上出現(xiàn)缺陷和空隙。表面活性劑的用量基于組合物中固體總重量為0.01-0.5重量%。優(yōu)選用于此的堿性顯影劑水成液含有甜菜堿表面活性劑,其含量?jī)?yōu)選占顯影液的0.05-2重量%,更優(yōu)選0.2-1%(活性甜菜堿含量)。甜菜堿表面活性劑是具有陽離子官能團(tuán)如銨或磷鐺離子、或其它鐺離子和負(fù)電荷官能團(tuán)如羧基的化合物。優(yōu)選在此使用的甜菜堿具有脂肪烷基鏈。優(yōu)選在此使用的甜菜堿為具有如下通式的水溶性化合物其中R,是具有10-20個(gè)碳原子,優(yōu)選12-16個(gè)碳原子的烷基;或酰氨基:其中R是具有9-19個(gè)碳原子的烷基,a是l-4的整數(shù);R2和R3各自為具有1-3個(gè)碳原子,優(yōu)選1個(gè)碳原子的垸基;R4是具有1-4個(gè)碳原子和任選一個(gè)羥基的亞垸基或羥基亞垸基。垸基二甲基甜菜堿包括癸基二甲基甜菜堿、2-(N-癸基-N,N-二甲基-氨)乙酸鹽、椰油二甲基甜菜堿、2-(N-椰油基N,N-二甲氨基)乙酸鹽、肉豆蔻基二甲基甜菜堿、棕櫚基二甲基甜菜堿、月桂基二甲基甜菜堿、十六垸基二甲基甜菜堿和十八烷基二甲基甜菜堿等。酰氨基甜菜堿包括椰油酰氨基乙基甜菜堿、椰油酰氨基丙基甜菜堿,椰油(C8-C18)酰氨基丙基二甲基甜菜堿等。優(yōu)選在此使用的堿性顯影劑水成液含有磷酸酯,其含量?jī)?yōu)選占顯影液的0.2-5重量%,優(yōu)選0.2-2%,尤其是0.3-1%(活性磷酸酯含量)。優(yōu)選的磷酸酯包括芳族乙氧基化合物的堿金屬磷酸鹽、芳族乙氧基化合物、鉀鹽,23例如在售的產(chǎn)自Rhodia的RHODAFACH66。優(yōu)選在此使用的堿性顯影劑水成液含有螯合劑,尤其是螯合鋁離子的螯合劑,其含量?jī)?yōu)選為0.1-5重量%,優(yōu)選0.2-2重量%,尤其是0.3-1重量%(螯合劑的活性含量)。適合的螯合劑包括膦酸和膦酸鹽,例如五亞乙基六胺八(亞甲基膦酸)的鈉鹽。用于本發(fā)明的尤其優(yōu)選的堿性顯影劑水成液本質(zhì)上由在水中的7-9%偏硅酸鈉、3.5-4.5%偏硅酸鉀、0.2-1%甜菜堿表面活性劑、0.2-1%磷酸酯和0.2-1%螯合劑(所述為活性含量)組成。上面給出的定義適用于本發(fā)明的所有方面,除非另外陳述或除非上下文不允許。具體實(shí)施例方式本發(fā)明現(xiàn)在參照隨后的實(shí)施例來進(jìn)一步說明。實(shí)施例組1下面的化合物被用作在實(shí)施例組1中被測(cè)試的組合物中的DCR改進(jìn)劑。<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>ASl、2......10分別含有DCR改進(jìn)劑MSl、2......10。ASO禾HASl是對(duì)比例。EP3525是源自Asahi,Japan并由DKSHFranceS.A.分銷的酚醛清漆樹脂。LB744是源自HexibnSpecialityChemicalGmbH,Germany的甲酚醛樹脂。S0094是源自FewChemicalGmbH,Germany的IR吸收花菁染料。S0253是源自FewChemical的IR吸收花菁染料。CV是結(jié)晶紫IR染料,也被稱為甲基紫10B,其具有三(二甲氨基苯基)甲垸陽離子和氯陰離子,源自DKSH,F(xiàn)rance的SiberViolet。在溶劑DowanolPM(l-甲氧基-2-丙醇)/甲乙酮(90/10wt/wt混合物)中制備組合物,組合物在溶劑中的濃度為約15/100wt/wt。將組合物涂覆到平版印刷基材上,基材的一個(gè)實(shí)例由平版印刷級(jí)1050A鋁通過以下過程而制備1)在4(TC下,在氫氧化鈉溶液(24g/l)中脫脂20秒,而后沖洗,2)在30。C下,在乙酸(13g/l)和鹽酸(7g/l)的混合物中電化學(xué)蝕刻40秒,而后沖洗,3)在54。C下,在磷酸(240g/l)中除去蝕刻金屬20秒,而后沖洗,4)在32r下,在硫酸(240g/l)中進(jìn)行陽極化40秒,而后沖洗和5)用含有磷酸二氫鈉(44g/l)和氟化鈉(0.5g/l)的溶液在70。C下處理陽極化基材30秒,而后沖洗。其一個(gè)實(shí)例通過l)用由UraiS.p.A.,Italy提供的來自Mayer的線繞刮條,2號(hào)刮條,制備,并在爐中(型號(hào)600,產(chǎn)自MemmertGmbH&Co.,Germany)ll(TC下干燥3分鐘。干燥后的涂層重量為約1.5gm-2。在涂覆的8小時(shí)內(nèi)對(duì)涂覆的測(cè)試基材測(cè)試其成像性能。對(duì)涂覆的測(cè)試基材用由DainipponScreenMfg.Co,Ltd.,Japan提供的PlateRite4100機(jī)器,用700rpm的速度和約808nm的波長(zhǎng)進(jìn)行成像。在成像后,在由O.V.I.T.,Italy提供的Sirio85顯影沖洗機(jī)中,在可商購的顯影劑GOLDSTAR(KodakPolychromeGraphics的商標(biāo)名)中以85mS/cm的顯影劑活性值立即對(duì)它們進(jìn)行顯影。為了對(duì)比,測(cè)試包括基準(zhǔn)商業(yè)印版ELECTRA(KodakPolychromeGraphics的商標(biāo)名)——舊(12個(gè)月)和新(3個(gè)月)樣品,每個(gè)情況下的組合物都依據(jù)EP825927B。然后對(duì)測(cè)試基材和ELECTRA產(chǎn)品進(jìn)行如下三個(gè)性能的測(cè)試26涂層損失顯影時(shí),使用顯像密度計(jì)(型號(hào)VIPLATE115VIPTRONIC;供應(yīng)商TecnologieGrafiche,Italy)。在版的非成像部分上劃一個(gè)圈,讀取并記錄密度一這被稱為D-初始。曝光和顯影后,重新測(cè)量相同的區(qū)域(D-最終),計(jì)算D-初始與D-最終間的差并記錄一此數(shù)字被表示為A。實(shí)踐中,對(duì)每個(gè)樣品進(jìn)行三次所述測(cè)量,使用平均值以使實(shí)驗(yàn)誤差最小化。版上的清潔基材的密度也被記錄為D-基材。涂層損失百分?jǐn)?shù)現(xiàn)在通過下式給出(D-初始_D-最終)x100=A》(D-初始—D-基材)實(shí)踐中,顯影時(shí)間、溫度或顯影劑濃度可以變化,這個(gè)測(cè)試是顯示涂層對(duì)更具侵蝕性的顯影條件的耐受性如何。實(shí)際值依據(jù)配方組合物,尤其是樹脂混合物的選擇,而在所有情況下都是A。/。越低越好。光學(xué)點(diǎn)由一系列強(qiáng)度曝光(例如808rpm下,以5%的增量從40%光強(qiáng)增至100%光強(qiáng)),這是不同寬度(幾十微米級(jí))的平行線組肉眼顯示具有相同密度的能量。在曝光能量高于此時(shí),較細(xì)的線顯得比光學(xué)點(diǎn)更暗,而在曝光能量低于光學(xué)點(diǎn)時(shí),較寬的線顯得更暗。在這點(diǎn),50%棋盤格讀取大約48%。該值由曝光和處理的版通過肉眼用放大鏡簡(jiǎn)單讀取。澄清點(diǎn)澄清點(diǎn)也由一系列強(qiáng)度曝光試驗(yàn)(見上)讀取,但是在這個(gè)情況下,評(píng)價(jià)的是趨于含有0%點(diǎn)(完全曝光)的區(qū)域。在低能量下,涂層尚未接收足夠的能量以完全曝光,因而保留未顯影涂層的黑暗。在光學(xué)點(diǎn),基材是透明的,透明被定義為具有比清潔基材高O.01密度單位的密度。澄清點(diǎn)是產(chǎn)生<0.01單位的背景密度的最低曝光能量,比光學(xué)點(diǎn)低至少25%光強(qiáng)。這被稱為密度澄清點(diǎn)(DCP)。澄清點(diǎn)在實(shí)踐中上是重要的,以使版能適應(yīng)比通常情況侵蝕性更小的顯影時(shí)間、溫度和顯影劑強(qiáng)度的變化。值越低,版的耐受性越強(qiáng)。一個(gè)可選的、更主觀的方法是,將一滴丙酮滴到100%曝光而后顯影的版上,尋找由于任何的殘留物導(dǎo)致的有色環(huán)。所述視覺澄清點(diǎn)(VCP)是最低的能量,此能量下溶劑導(dǎo)致的環(huán)是看不見的。該方法由于個(gè)人眼睛感受性和"閾值"以及照明而更主觀。理想情況下,澄清點(diǎn)用顯像密度計(jì)進(jìn)行數(shù)字測(cè)定(DCP),然而,在一些情況下,例如在大幅版上或存在交叉網(wǎng)面基材不平整的情況,基材密度的變化可能足夠大以掩蔽殘留涂層或污點(diǎn)的水平。在這些情況下,使用更主觀的視覺澄清點(diǎn)(VCP)方法。結(jié)果如下。樣品光學(xué)點(diǎn)△(%)澄清點(diǎn)(DCP)/%Electra(舊)1005.470Electra(新)906.3050AS0857.145AS11005.280AS292.54.565AS3905.160AS41004.365AS592.54.470AS61004.170AS797.53.667.5AS1095665Electra實(shí)例、AS0和AS1是為了對(duì)比,而不是本發(fā)明的一部分。AS0表明顯影后成像破壞的A。/。上是不可接受的,但澄清點(diǎn)和光學(xué)點(diǎn)很好。當(dāng)我們添加抑制劑AS1以改善對(duì)顯影劑的耐受性時(shí),15%的光學(xué)點(diǎn)能量和35%的澄清點(diǎn)能量損失??梢?,通過在樣品AS2-AS10中使用化合物MS2-MS10,我們得到在成像的可溶性區(qū)域和未成像的耐受顯影劑區(qū)域之間在顯影劑中的溶解率方面優(yōu)越的選擇性;同時(shí)達(dá)到所述差別(或"操作速度")需要的能量基本上不受損害。實(shí)施例組2在實(shí)施例組2中,3-三甲基甲硅烷基丙基-l-磺酸節(jié)基三苯基磷鑰(MS12)和全氟辛基-l-磺酸結(jié)晶紫(MS13)作為可能的DCR改進(jìn)劑被評(píng)價(jià)。這些用DowanolPM和MEK的90:10混合物的15%溶液被再次涂覆,以產(chǎn)生約1.5gm—2的薄膜重量。實(shí)例BS1-BS4在13(TC下干燥3分鐘,而實(shí)例BS5-BS10在ll(TC下干燥3分鐘。28測(cè)試的組合物如下(以重量份表示):組合物BS1BS2BS3BS4BS5BS6BS7BS8BS9BS10EP40502.1742.1742.1742.1742.1912.1912.1912.1912.1912.191FB6360.0400.0400.0400扁000000結(jié)晶紫000G0.04500000S00940.0230,0230.0230.0230.0230.0230.0230.0230.0230.023S02530.0140.0140.0140.0140.0140.0140.0140.0140.0140.014MS100.045000.0230.0230.0230.023.0.0230.023MS12000.0450.09000000MS13000000.0110,0230.0450扁0細(xì)總和2.2512.2962.2962.3412.2962.3072.3192.3412.3642.386成像、顯影和測(cè)試如實(shí)施例組1所述進(jìn)行。BS1、BS2和BS5是對(duì)比例,不是本發(fā)明的實(shí)施例。結(jié)果如下。樣品光學(xué)點(diǎn)/%A(%)澄清點(diǎn)(DCP)/%澄清點(diǎn)(VCP)/%BS1NM8.14550BS2854.15580BS3856.05570BS4956.46080BS5卯5.760>100BS6麗7.3<40<40BS772.56.7<4045BS8806.4<4045BS9806.34560BS10805.84565NM表示不可測(cè)量的。第一實(shí)施例BS1不含鐵抑制劑,具有非常差的顯影劑耐受性,BS2含有MS1作為鑰抑制劑,其不含疏水部分。BS3和BS4分別含有2和3%的MS12代替MS1。我們可以用肉眼觀察到2。/。的MS12水平下的澄清點(diǎn),其比在相同水平下使用MS1時(shí)少需要10%的能量以使背景清晰,而速度不受29損害。BS5是改性結(jié)晶紫錄MS13的參考實(shí)施例,含有約2重量%的固體水平的結(jié)晶紫。BS6-BS10沒有結(jié)晶紫,分別代替有0.5、1.0、2.0、3.0禾卩4.0%的MS13。由于MS13的分子量顯著高于結(jié)晶紫,與BS5著色力相當(dāng)?shù)氖荁SIO。我們可以觀察到對(duì)于相同的顯影劑耐受性(△%),MS10在低15%的能量下清晰并少需要10%的能量以達(dá)到光學(xué)點(diǎn)。實(shí)施例組3在實(shí)施例組3中,在含有DCR改進(jìn)劑并含有作為不溶劑的結(jié)晶紫的組合物與其中用改性成為DCR改進(jìn)劑的結(jié)晶紫(MS14)代替標(biāo)準(zhǔn)結(jié)晶紫的組合物之間進(jìn)行對(duì)比。改性結(jié)晶紫(MS14)具有通常的三(二甲氨基苯基)甲垸結(jié)晶紫陽離子,而用陰離子CF3CF2C(V代替氯離子。測(cè)試的組合物如下(以重量份表示):組分CS1CS2CS3CS4CS5CS6CS7CS8EP405097.496.495.494.497.496.495.494.4S009411111111S02530.60.60.60.60.60.60.60.6cv1240000MS1400001234總和100100100100100100100100CSl-4是為了對(duì)比存在,而不是本發(fā)明的一部分。成像、顯影和測(cè)試如實(shí)施例組1所述進(jìn)行。結(jié)果如下。30<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>NM表示不可盡管只含有未改性的結(jié)晶紫的實(shí)施例CS1-4在3和4%的CV下給出非常好的重量損失值,但是以差的光學(xué)點(diǎn)值和不可測(cè)的澄清點(diǎn)值為代價(jià)的。相反,含有改性的結(jié)晶紫的實(shí)施例CS5-8在這些測(cè)試中的所有性能表現(xiàn)良好。實(shí)施例組4在實(shí)施例組4中,上述一些DCR改進(jìn)劑在受到穩(wěn)定化或"回火"熱處理的組合物中被評(píng)價(jià)。所選的DCR改進(jìn)劑為MS2、MS3、MS4和MS5。MS1也作為對(duì)比被測(cè)試。調(diào)節(jié)DCR改進(jìn)劑的量以給出摩爾當(dāng)量。所使用的組合物如下(以重量份表示)<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>CAHPh為乙酸鄰苯二甲酸纖維素。成像、顯影和測(cè)試如實(shí)施例組1所述進(jìn)行,不同之處是進(jìn)行調(diào)節(jié)熱處理。將平版印刷版堆疊,通過插入紙(未涂布的,紙重40gm勺而彼此分離,用相同的紙包裹,并在55'C和相對(duì)濕度(RH)為40%的調(diào)節(jié)爐中放置96小時(shí)。結(jié)果如下。<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>用DS1作為不含疏水部分的參照鏺,我們能看到,在沒有損害版的靈敏度的情況下在澄清點(diǎn)和顯影劑耐受性(△%)上的顯著改善。實(shí)施例組5在實(shí)施例組5中,不同樣品的△值被評(píng)價(jià)。這些樣品如實(shí)施例組1所述制備,其組合物如下ES1ES2LB74474.0059.50EP352521.4034.40CAHPh1.001.00MS10.000,00MS20.001.50S02540.600.60S00941.001.00CV2.002.00ES2依照本發(fā)明。所述樣品如實(shí)施例組4所述進(jìn)行"回火"熱處理。顯影劑是用RecordgraphS.R.L.ofBologna,Italy提供的在水(98。/。w/w)中含有10-20%w/w偏硅酸鈉和l-3%w/w硅酸鈉的顯影劑SLT900和由AmericanDyeSource,Inc.,Quebec,Canada或DKSHItalyS.R.L.Milan,Italy得到的Lunasperse(商標(biāo)名)(2%w/w)配制的自制顯影劑。Lunasperse被認(rèn)為在水中含有20%w/w的甜菜堿活性物質(zhì),一種單和二垸基乙氧化胺乙酸甜菜堿鹽的混合物。得到的A值如下A%ESI21.27ES25.36實(shí)施例組6在實(shí)施例組6中,上述一些DCR改進(jìn)劑在受到另一種可選的更簡(jiǎn)單的"回火"熱處理的組合物中被評(píng)價(jià),在所述熱處理中在第一階段濕度低—20%RH或者未受控制的濕度(實(shí)踐中通常指低于5。/。RH);隨后在第二33冷卻階段,濕度較高,為30%朋。將涂料組合物以實(shí)施例組1的方式施涂在如實(shí)施例組1所述的基材上,并如實(shí)施例組1所述進(jìn)行干燥。組合物如下(在此稱為FSO):FSOLB74449.00EP352543.卯CAHPh1.00MS11.00MS21.50S02540.60S00941.00CV2.00樣品FS1、FS2和FS3經(jīng)歷如下不同的熱處理方式,用在FS1的情況下的4(TC作為前述"參照溫度"培勝第一階段第二階段FS155°C,RH20%,72小時(shí)冷卻至環(huán)境溫度。40。C和低于40%的RHFS255°C,RH40%,72小時(shí)冷卻至環(huán)境溫度,RH未控制FS355°C,72小時(shí),RH未控制冷卻至環(huán)境溫度,RH未控制對(duì)得到的樣品如實(shí)施例組1所述進(jìn)行成像,并用如實(shí)施例組5所述的顯影劑顯影。樣品得到如下A值。<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>對(duì)FS1和FS2兩個(gè)樣品的結(jié)果在整個(gè)表面上,從一邊到另一邊,都是可接受的。FS3在邊緣行為和點(diǎn)再現(xiàn)上是不可接受的。實(shí)施例組7實(shí)施例組7使用與實(shí)施例組5的樣品ES1和ES2相同的組合物,并使用與實(shí)施例組4相同的制造條件和處理?xiàng)l件,但是使用下述自配的試驗(yàn)顯影劑成分組合物(%w/w)偏硅酸鈉7.7偏硅酸鉀3.9用于A1的螯合劑(五亞乙基六胺八(亞甲基膦酸)的鈉鹽的中性水溶液,250/ow/w活性成分,CAS號(hào)93892-82-1)2.0表面活性劑(脂肪酸酰氨基垸基甜菜堿TEGObetaineL7(商標(biāo)名),30。/。w/w活性成分,CAS號(hào)61789-40-0)0.7表面活性劑(磷酸酯,芳香乙氧基化合物,鉀鹽,50y。w/w活性成分,CAS號(hào)66057-30-5)1.2水至100這被用于與上述提供的不含甜菜堿表面活性劑的顯影劑SLT900對(duì)比。A結(jié)果如下使用SLT900的△%使用試驗(yàn)顯影劑的A。/。GS1(=ES1)37.9817.32GS2(=ES2)50.009.30可見,在該實(shí)施例組中,使用SLT900的A值較高,而當(dāng)使用試驗(yàn)顯影劑時(shí),A值低很多。還能進(jìn)一步發(fā)現(xiàn),當(dāng)使用不含甜菜堿表面活性劑SLT900的顯影劑時(shí),與不含MS2(GS1)的樣品相比,對(duì)含有MS2(GS2)的樣品沒有額外的保護(hù),實(shí)際上,性能較差。當(dāng)使用含甜菜堿的表面活性劑時(shí),涂層通常具有改善的性能,含MS2的配方GS2現(xiàn)在具有比不含MS2的配36方GS1優(yōu)越的性能。在全部上述實(shí)施例組中,所述的結(jié)果都是至少三個(gè)結(jié)果的平均,并且是在印版前體的中心區(qū)域測(cè)量的,除非另外指明。權(quán)利要求1.一種包含聚合物的組合物,所述聚合物含有羥基,所述組合物適用作可IR成像的平版印刷前體的涂層,所述組合物包含一種或多種實(shí)施以下功能的試劑a)吸收波長(zhǎng)大于800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)用作不溶劑,其在顯影期間抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以提高非成像/成像區(qū)域的溶解反差比(DCR);其中實(shí)施功能c)的試劑包含具有疏水和離子特征的部分。2.權(quán)利要求1所述的組合物,其中用作不溶劑的試劑在吸收IR輻射時(shí)不分解。3.權(quán)利要求1或2所述的組合物,其中所述試劑吸收波長(zhǎng)為805-1500nm,優(yōu)選850-1250nm的IR輻射。4.一種涂覆的用于成像的平版印刷前體,其涂層通過在平版印刷基材上施涂前述權(quán)利要求之一所述的組合物而形成。5.—種用于印刷的平印版或用于蝕刻或用于摻雜的電子部件前體,其由對(duì)權(quán)利要求4所述的前體進(jìn)行成像以在涂層中形成潛像并對(duì)圖像顯影而得到,所得到的成像印版或電子部件前體具有期望的殘留涂層的圖案。6.平印版前體在印刷中的用途,或電子部件前體在電子部件制造中的用途,每種情況下都為負(fù)載待成像的涂層的平版印刷基材,所述涂層通過在平版印刷基材上施涂和干燥包含有含羥基的聚合物的液體組合物而形成,所述組合物適用作IR可成像平版印刷前體的涂層,其包含一種或多種實(shí)施以下功能的試劑a)吸收波長(zhǎng)超過800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)用作不溶劑,其抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以提高非成像/成像區(qū)域的溶解比;其中試劑c)包含具有疏水和離子特征的部分;將平版印刷前體經(jīng)受波長(zhǎng)超過800nm的成像用IR輻射,而后在顯影劑中選擇性去除接受輻射的區(qū)域或未接受輻射的區(qū)域;而后進(jìn)行施涂或處理步驟;在平印版前體的情況下,所述施涂或處理步驟是供應(yīng)印刷油墨,所述油墨聚集在去除的區(qū)域或者未去除的區(qū)域;在電子部件前體的情況下,所述施涂或處理步驟是蝕刻或摻雜步驟。7.權(quán)利要求6所述的用途,其中所述處理步驟使用包含甜菜堿表面活性劑的堿性顯影劑水成液。8.含有羥基的聚合物和一種或多種實(shí)施以下功能的試劑在可成像涂層中的用途a)吸收波長(zhǎng)大于800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)用作不溶劑,其在顯影期間抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以提高非成像/成像區(qū)域的溶解比;其中試劑c)包含具有疏水和離子特征的部分。9.一種制造權(quán)利要求4所述的平印版前體的方法,其中作為制造的一部分,使其經(jīng)歷熱處理,所述熱處理包括第一階段和在第一階段后的第二階段,在所述第一階段中使所述前體處于等于或超過參考溫度的溫度和不超過20%的相對(duì)濕度和/或不超過0.025的絕對(duì)濕度下;而在所述第二階段中,使所述前體處于低于參考溫度的溫度和至少30%的相對(duì)濕度和/或至少0.032的絕對(duì)濕度下。10.—種鹽,其陽離子選自疏水垸基、氟化烷基、疏水含硅基團(tuán)和疏水芳基中的至少一種,所述疏水芳基任選被至少l、2或3個(gè)選自氟、垸基、氟化烷基和含硅基團(tuán)的部分取代。11.一種鹽,其陰離子選自疏水烷基、疏水含硅基團(tuán)和疏水芳基中的至少一種,所述疏水芳基任選被至少1、2或3個(gè)選自氟、烷基、氟化烷基和含硅基團(tuán)的部分取代。12.—種磷鐵陽離子和烷基或芳基羧酸根或磺酸根陰離子的鹽,其由于氟、硅、脂肪烷基或芳基部分的存在而具有疏水性。13.—種三芳基甲垸陽離子和羧酸根或磺酸根陰離子的鹽,其由于氟、硅、脂肪烷基或芳基部分的存在而具有疏水性。全文摘要本發(fā)明涉及一種包含聚合物的組合物,所述聚合物含有羥基,所述組合物適用作可IR成像的平印版前體的涂層,其包含一種或多種實(shí)施以下功能的試劑a)吸收波長(zhǎng)大于800nm的IR輻射并因此產(chǎn)生熱量;b)用作不溶劑,其在顯影期間抑制所述涂層的非成像區(qū)域在顯影劑中的溶解,但是允許成像區(qū)域的溶解;和c)提高對(duì)非成像區(qū)域的溶解的抑制和/或成像區(qū)域的溶解,以提高非成像/成像區(qū)域的溶解反差比(DCR);其中實(shí)施功能c)的試劑包含具有疏水和離子特征的部分;所述組合物對(duì)于成像和非成像區(qū)域之間在顯影劑中的溶解上能顯示出優(yōu)越的選擇性,同時(shí)達(dá)到所述差別(或“操作速度”)所需要的能量不受損害。文檔編號(hào)B41C1/10GK101495312SQ200780024803公開日2009年7月29日申請(qǐng)日期2007年7月2日優(yōu)先權(quán)日2006年6月30日發(fā)明者P·A·R·貝內(nèi)特,R·M·阿萊格里尼申請(qǐng)人:海德堡亞洲采購中心私人有限公司